DE68921737T2 - Laminierte Glaskonstruktion. - Google Patents

Laminierte Glaskonstruktion.

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Description

  • Die Erfindung betrifft eine Laminatglaskonstruktion, spezieller betrifft sie eine Laminatglaskonstruktion, bei der eine Eintrübung unterdrückt wird, wie sie im Verlauf der Zeit auftritt. Laminatglasanordnungen werden in großem Umfang für Fenster und Sonnendächer für Kraftfahrzeuge, Fenster für Flugzeuge, Schiffe und Gebäude usw. als sogenanntes Sicherheitsglas verwendet, da beim Zerbrechen der Glasscheibe keine Glasstücke herausgeschleudert werden und da die Durchschlagfestigkeit hoch ist. Derzeit werden Laminatglasanordnungen in großem Umfang für Windschutzscheiben von Kraftfahrzeugen verwendet, und zwar wegen des Gesichtspunkts des Gewährleistens von Sicherheit. Es wurde auch ein Typ Laminatglas vorgeschlagen, bei dem die Verbindungsflächenseite mit einem transparenten, leitenden Film beschichtet ist, damit das Laminatglas sowohl Beschlagentfernungsfunktion als auch Reflexionsfunktion für Sonnenstrahlung aufweist. Als transparenter, leitender Film wird ein einschichtiger Metallfilm wie ein Au-Film oder ein Ag-Film, ein einschichtiger Metalloxidfilm wie ein ITO-Film oder ein SnO&sub2;- Film oder ein mehrschichtiger Film, bei dem ein Ag-Film zwischen dielektrische Filme oder Metalloxide wie ITO (Indium- Zinnoxid), TiOx, SnOx, ZnOx eingebettet ist, verwendet. Da ein einschichtiger Metallfilm und ein einschichtiger Metalloxidfilm Nachteile hinsichtlich der Farbtöne, der Beständigkeit und des elektrischen Widerstands haben, wird in großem Umfang ein mehrschichtiger Film verwendet, bei dem der Ag- Film zwischen die Metalloxidfilme aus dielektrischen Substanzen wie ZnO eingebettet ist. Laminatglaskonstruktionen, die Funktionsschichten (wie in Infrarotstrahlung reflektierende Schichten) zwischen den Scheiben und damit angrenzend an einen verklebenden Kunststoffilm aufweisen, wurden im Stand der Technik vorgeschlagen. EP-A-0 077 672 schlägt eine Kombination Glas/PVB/TiO&sub2;/PET/Au/TiO&sub2;/PVB/Glas vor.
  • US-A-3,849,244 offenbart die Kombination Glas/PVB/ZnS/Au/ZnS/ThF&sub4;/Glas.
  • EP-A-0 281 894 schlägt die Kombination Glas/Insn/Ag/Insn/Ta&sub2;O&sub5; (oder TiO&sub2; oder eine Mischung)/Glas vor.
  • EP-A-0 303 109 und EP-A-0 308 578 schlagen die Kombination Glas/(SiO&sub2;, Ta&sub2;O&sub5;, ZrO&sub2;)/Ni/Ag/Ni/(SiO&sub2;, Ta&sub2;O&sub5;, ZrO&sub2;)/PVB/Glas vor.
  • GB-A-2 057 355 schlägt die Kombination Glas/PVB/Wolfranoxid/Ag/Wolframoxid/Kunststoff/Glas vor.
  • Fig. 3 zeigt ein Beispiel für eine herkömmliche Laminatglaskonstruktion, in der ein transparenter, leitender Film durch einen Mehrschichtfilm gebildet wird, mit einem Ag-Film zwischen dielektrischen Filmen, um Beschlagentfernungsfunktion und Peflexionsfunktion für Sonnenstrahlung zu ergeben.
  • Das vorstehend genannte Laminatglas verfügt über eine Kunststoffzwischenschicht 13 aus Polyvinylbutyral (PVB) an der Verbindungsfläche zwischen der Glasscheibe 11, die an der Außenseite eines Fahrzeugs anzubringen ist, und einer an der Innenseite anzubringendenden Glasscheibe 12, und ein Ag-Film 16 ist zwischen dielektrische Filme 15, 17 wie ZnOx-Filme als dielektrische Substanz eingebettet, die zwischen der Glasscheibe 11 an der Außenseite des Fahrzeugs und der Kunststoffzwischenschicht 13 angeordnet sind, wodurch ein transparenter, leitender Film 14 in Form eines dreischichtigen Films zwischen die Glasscheibe 11 und die Kunststoffzwischenschicht 13 eingefügt ist, um die Funktionen der Beschlagentfernung und der Reflexion von Sonnenstrahlung auszuführen. Die dielektrischen Filme 15, 17 dienen dazu, die Durchlässigkeit für sichtbares Licht durch einen optischen Interferenzeffekt mit dem Metallfilm 16 zu erhöhen.
  • Als Kunststoffzwischenschicht 13 können PVB (Polyvinylbutyral), EVA (Ethylen-Vinylacetat-Copolymer), Urethan oder dergleichen verwendet werden. Insbesondere wurde PVB allgemein für Laminatglasanordnungen für Fahrzeuge verwendet, die besondere Sicherheit erfordern, da es ausgezeichnete Durchschlagfestigkeit aufweist und es für lange Zeit chemisch und optisch stabil ist. In diesem Fall wird ein PVB-Film, der eine vorgegebene Menge an Wasserdampf enthält, verwendet, um ausgezeichnete Durchschlagfestigkeit zu schaffen.
  • Bei einer herkömmlichen Laminatglaskonstruktion, wie sie in Fig. 3 dargestellt ist, ist es möglich, zur Beschlagentfernungsfunktion dadurch zu kommen, daß der transparente, leitende Film 14, der an der Verklebungsfläche angeordnet ist, durch Zuführen eines elektrischen Stroms beheizt wird. Ferner kann, da der transparente, leitende Film 14 selbst Reflexionsfunktion für Sonnenstrahlung aufweist, die Kühlbelastung einer Klimaanlage verringert werden, so daß er wirksam dazu dient, Energie einzusparen.
  • Jedoch hat sich herausgestellt, daß teilweise ein Eintrübungseffekt mit dem Verstreichen einer langen Zeitspanne entstand, wenn ein Laminatglas dadurch hergestellt wird, daß der vorstehend angegebene transparente, leitende Film 14 aus einem mehrschichtigen Film, der einen Ag-Film 16 zwischen dielektrischen Filmen 15, 17 aus einem Metalloxid enthält, angeordnet wird.
  • Die Erfinder zu dieser Anmeldung haben herausgefunden, daß die Eintrübung auf Grund einer photochemischen Reduktion der die Zwischenschicht kontaktierenden Schicht auftrat, und die Erfindung wurde auf Grundlage der vorstehend genannten Erkenntnis erzielt. Genauer gesagt ist der Eintrübungseffekt dann vermeidbar, wenn eine Schicht mit einer Energielücke von 4 eV (Elektronenvolt) oder mehr als Schicht verwendet wird, die in Kontakt mit der Zwischenschicht steht.
  • Gemäß der Erfindung ist eine Laminatglaskonstruktion geschaffen, die in Anspruch 1 definiert ist und folgendes aufweist:
  • - mindestens einer Glasscheibe;
  • - einer Kunststoffschicht, die auf der Verbindungsfläche der Glasscheibe angeordnet ist; und
  • - einer Funktionsschicht aus einschichtigen oder mehrschichtigen Filmen auf der Verbindungsfläche der mindestens einen Glasscheibe zur Kunststoffschicht hin, wobei die Funktionsschicht über einen Film mit einer Energielücke von 4 Elektronenvolt oder mehr verfügt, die in Kontakt mit der Kunststoffschicht steht.
  • Eine vollständigere Würdigung der Erfindung und vieler der zugehörigen Vorteile derselben wird unter Bezugnahme auf die folgende detaillierte Beschreibung erhalten, wenn diese in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen betrachtet wird, in denen:
  • Fig. 1 und 2 jeweils vergrößerte Teillängsschnitte von Ausführungsbeispielen einer erfindungsgemäßen Laminatglaskonstruktion sind;
  • Fig. 3 ein vergrößerter Teillängsschnitt einer herkömmlichen Laminatglaskonstruktion ist und
  • Fig. 4a und 4b jeweilige Diagramme sind, die Versuchsergebnisse durch ESCA für die Oberflächenzustände eines ZnO-Films und eines TiO&sub2;-Films zeigen, die jeweils in Kontakt mit einer Zwischenschicht stehen, und zwar vor und nach der Einstrahlung von Ultraviolettstrahlung über 1000 Stunden und 100 Stunden.
  • In den Figuren, in denen dieselben Bezugszahlen dieselben oder entsprechende Teile bezeichnen, und insbesondere in deren Fig. 1, ist ein vergrößerter Längsschnitt eines Ausführungsbeispiels einer erfindungsgemäßen Laminatglaskonstruktion dargestellt. In Fig. 1 verfügt ein Laminatglas über mehrere, z. B. zwei Glasscheiben 1, 2, eine Kunststoffzwischenschicht 3, die an der Verklebefläche der Glasscheiben 1, 2 angeordnet ist und eine Funktionsschicht 4, die aus einem oder mehreren Filmen besteht, die an der Verklebefläche z. B. der Glasscheibe, die an der Außenseite eines Fahrzeugs liegt, angebracht sind, wobei der Funktionsfilm 4 einen Film mit einer Energielücke von 4 eV oder mehr als Schicht 8 in Kontakt mit der Kunststoffzwischenschicht 3 enthält.
  • Als Funktionsschicht 4 bei der Erfindung können verschiedene Filme mit verschiedenen Arten von Funktionen verwendet werden, wie einer optischen Funktion, bei der Licht in einem vorgegebenen Wellenlängenbereich selektiv reflektiert, abgeblockt oder durchgestrahlt wird, eine elektrische Funktion wie elektrische Heizfunktion zum Schmelzen von Schnee und zur Beschlagentfernung, eine elektromagnetische Abschirmfunktion oder Antennenfunktion zum Empfangen der Strahlung elektromagnetischer Wellen, eine Photovoltagefunktion wie die einer Solarzelle, eine elektrische Lichtsteuerfunktion wie die einer Lichtsteuerung durch einen Flüssigkristall oder ein elektrochromes Material usw.
  • Fig. 1 zeigt ein Beispiel für die Funktionsschicht 4, bei der ein Metallfilm 6 aus Ag oder Au oder dergleichen zwischen dielektrische Filme 5, 7 eingebettet ist, wie solche aus ZnO, SnO&sub2; oder dergleichen, um einen mehrschichtigen Film zu bilden, und ein Film 8 mit einer Energielücke von 4 eV oder mehr an der Verklebungsfläche des mehrschichtigen Films mit einer Zwischenschicht 3 ausgebildet ist. Der Funktionsfilm 4 verfügt über Reflexionsfunktion für Sonnenstrahlung und über elektrisch leitende Funktion auf Grund des Metalls wie Ag, Au oder dergleichen. Die elektrischen Filme 5, 7 dienen dazu, die Durchlässigkeit der Funktionsschicht insgesamt im Sichtbaren durch einen optischen Interferenzeffekt mit dem Metallfilm 6 zu erhöhen.
  • Der Grund, daß eine Schicht mit einer Energielücke von 4 eV oder mehr in Kontakt mit der Zwischenschicht verwendet wird, ist der folgende.
  • Die Erfinder dieser Anmeldung haben herausgefunden, daß ZnO, TiO&sub2;, SnOx, ITO usw., die als dielektrische Schicht 15 verwendet wurden, wie in Fig. 4 dargestellt, eine Energielücke (Eg) von weniger als 4 eV aufweisen. Der Wellenlängenbereich von Sonnenstrahlung an der Erde beträgt ungefähr 310 nm - 2 um, was einer Energiemenge von 4 eV - 0,06 eV entspricht. Es konnte bestätigt werden, daß dann, wenn ein Film mit einer Energielücke (Eg) unter 4 eV, z. B. ein ZnO-Film (Eg = 2,47 eV) in Kontakt mit der Zwischenschicht steht, ultraviolettes (UV) Licht absorbiert, das eine Energie aufweist, die Eg entspricht, weswegen photoinduzierte Reduktion (Zn²&spplus; T Zn) beim Vorliegen von Wasserdampf auftritt, wie er in der Zwischenschicht enthalten ist.
  • Fig. 4a zeigt ein durch ESCA gewonnenes Meßergebnis, das den Oberflächenzustand eines ZnO-Films zeigt, der von einer Zwischenschicht kontaktiert wird, und zwar vor und nach einer Einstrahlung ultravioletten Lichts über 1000 Stunden. Es zeigt sich, daß nach der UV-Einstrahlung ein Reduktionsprodukt von ZnO vorliegt.
  • Fig. 4b zeigt das durch ESCA gewonnene Meßergebnis für einen TiO&sub2;-Film (Eg = 3,27 eV) (der herkömmlicherweise als dielektrischer Film anstelle eines ZnO-Films verwendet wird), der in Kontakt mit einer Zwischenschicht steht, und zwar vor und nach einer Einstrahlung von UV-Licht über 100 Stunden. Es stellt sich heraus, daß auf dieselbe Weise wie bei Fig. 4a ein Reduktionsprodukt von TiO&sub2; vorliegt.
  • Es konnte auch bestätigt werden, daß eine Reduktion bei anderen Typen dielektrischer Filme mit einer Energielücke von weniger als 4 eV auftrat, z. B. bei CrOx (Eg < 1), SnO&sub2;,ITO oder dergleichen, die als dielektrischer Film 15 verwendet wurden, wie in Fig. 3 dargestellt.
  • Die Reduktion scheint auf Grund einer photochemischen Reaktion wie folgt aufzutreten: Reaktion (1) (Wasserdampf in der Zwischenschicht)
  • Wenn eine Metallschicht 16 wie eine solche aus Ag, das leicht oxidiert wird, vorliegt, wie z. B. in Fig. 3 dargestellt, durchdringt Sauerstoff, der bei der vorstehend genannten Reaktion (1) erzeugt wird, den dielektrischen Film 15, wodurch er die Metallschicht 16 erreicht und das Metall dieser Metallschicht oxidiert, wodurch Trübung auf Grund von Lichtstreuung durch das oxidierte Metall auftritt. Zum Beispiel ist zu berücksichtigen, daß Ag oxidiert wird und Silberoxid bildet, das Licht streut, weswegen Eintrübung auftritt.
  • Demgemäß tritt dann, wenn eine Schicht, die die Zwischenschicht kontaktiert, eine Energielücke von 4 eV oder mehr aufweist, keine Reaktion auf und demgemäß findet keine Oxidation des Metalls statt, das an der entgegengesetzten Seite liegt.
  • Der Wert der Energielücke bei der Erfindung wird wie folgt erhalten. Ein Film mit einer Dicke von ungefähr 1 um wird auf Quarzglas ausgebildet und die Reflektivität und Transmission werden gemessen, um dadurch die Wellenlängenabhängigkeit eines Absorptionskoeffizienten zu erhalten.
  • Aus dem vorstehend angegebenen Grund ist es erforderlich, daß die die Zwischenschicht kontaktierende Schicht 8 eine Energielücke von 4 eV oder mehr aufweist. Beispiele für eine solche Schicht 8 sind Schichten mit einem Oxid mit mindestens einem Element, das aus der Zr, Ti, Hf, Sn, Ta und In ausgewählten Gruppe ausgewählt ist und mindestens einem Element, das aus der aus B und Si bestehenden Gruppe ausgewählt ist, z. B. ein Zirconium und Silicium enthaltendes Oxid ZrSixOy (Eg = 5,6 eV, wenn x = 2), ein Zirconium und Bor enthaltendes Oxid ZrBxOy (Eg = 5,2 eV, wenn x = 2), SiOx (Eg = 8 eV), ein Zirconium, Bor, Silicium enthaltendes Oxid ZrBxSiyOz oder ein Film, der aus einem der folgenden Materialien besteht: Ta&sub2;O&sub5; (Eg = 4,2 eV), NiO (Eg = 4,2 eV), Ga&sub2;O&sub3; (Eg = 4,6 eV), Sb&sub2;O&sub3; (Eg = 4,1 eV), MgF&sub2; (Eg = 5,9 eV), LiF (Eg = 11,3 eV), CaF&sub2; (Eg 8,3 ev), LaF&sub3; (Eg = 5,6 eV), CeF&sub3; (Eg = 4,1 eV) oder dergleichen, sowie ein Film, der im wesentlichen aus SiO&sub2; besteht, dem Zusätze aus Ti, Ta, Hf, Mo, W, Nb, Sn, La, Cr oder dergleichen zugesetzt sind.
  • In SiOx-Filmen besteht für den Wert x keine spezielle Beschränkung. Wenn jedoch x ungefähr 2 ist, kann ein dichter amorpher Film erhalten werden, der eine gute Sperrwirkung gegen Wasserdampf und Sauerstoff aus der Zwischenschicht zeigt. Demgemäß werden vorzugsweise und speziell SiOx-Filme verwendet, bei denen x ungefähr den Wert 2 hat. Wenn ein SiOx-Film mit Hilfe eines Si-Targets oder eines SiO&sub2;-Targets hergestellt wird, ist es erforderlich, ein HF-Sputterverfahren zu verwenden, da derartige Targets keine wesentliche elektrische Leitfähigkeit aufweisen. Jedoch hat ein solches HF-Sputterverfahren geringe Filmbildungsgeschwindigkeit und die Produktionsausbeute ist nicht gut. Ferner ist HF-Sputtern zum Herstellen eines gleichmäßigen Films für eine große Oberfläche nicht geeignet.
  • Andererseits sind Filme vorteilhaft, die im wesentlichen aus einem Oxid bestehen, das zumindestens ein Element enthält, das aus der aus Zr, Ti, Hf, Sn, Ta und In bestehenden Gruppe ausgewählt ist und mindestens ein Element enthält, das aus der aus B und Si bestehenden Gruppe ausgewählt ist, z. B. Filme mit ZrSixOy, ZrBxOy oder ZrSixByOz, da diese Filme amorph sind, wodurch Korngrenzen verschwinden und hervorragende Sperrwirkung zum Absperren von Wasserdampf und Sauerstoff gegenüber der Zwischenschicht erzielt werden kann, und sie sind auch dahingehend von Vorteil, daß ein Gleichstrom- Sputterverfahren verwendet werden kann.
  • Für den Aufbau von ZrBxOy-Filmen besteht keine spezielle Beschränkung solange die Filme eine Energielücke von 4 eV oder mehr aufweisen. Jedoch besteht die Tendenz, daß die Widerstandsfähigkeit gegen Feuchtigkeit abnimmt, wenn das Atomverhältnis x von Bor zu Zirconium größer als 3 ist, d.h. x > 3. Wenn dagegen x &ge; 0,05 ist, sind die Filme amorph, wodurch Korngrenzen verschwinden. Demgemäß ist es in Anbetracht einer weiteren Verbesserung der Sperrfunktion (zum Absperren von Wasserdampf und Sauerstoff gegenüber der Zwischenschicht) bevorzugt, eine Festlegung auf 0,05 &le; x &le; 3 vorzunehmen. Wenn dagegen das Atomverhältnis y von Sauerstoff zu Zirconium zu groß ist, wird die Filmstruktur grob, d.h., daß ein poröser Film entsteht. Wenn das Atomverhältnis zu klein ist, wird der Film metallisch und die Durchlässigkeit verschlechtert sich. Demgemäß ist es bevorzugt, den Bereich 2 &le; y &le; 6,5 festzulegen.
  • Auf ähnliche Weise besteht für die Zusammensetzung von ZrSixOy-Filmen keine spezielle Beschränkung, solange die Filme eine Energielücke von 4 eV oder mehr aufweisen. Wenn in diesem Fall das Atomverhältnis x von Silicium zu Zirconium im Bereich von x &ge; 0 05 liegt, sind die Filme amorph, wodurch Korngrenzen verschwinden und die Dichtheit erhöht ist, d.h., daß eine weitere Verbesserung der Sperrfunktion erzielbar ist. Unter Berücksichtigung der Tatsache, daß dann wenn x &le; 19 ist, Stabilität gegen Glimmentladung bei Verwendung eines Gleichstrom-Sputterverfahrens erzielt werden kann, ist es bevorzugt, den Bereich 0,05 &le; x &le; 19 festzulegen.
  • Das Atomverhältnis y von Sauerstoff zu Zirconium liegt vorzugsweise im Bereich von 2,1 &le; y &le; 40, und zwar aus demselben Grund wie bei ZrBxOy-Filmen.
  • Für die Zusammensetzung von ZrBxSiyOz-Filmen besteht keine Beschränkung, insbesondere aus denselben Gründen wie vorstehend angegeben, solange der Film eine Energielücke von 4 eV oder mehr hat. Jedoch ist es bevorzugt, daß die Atomverhältnisse x, y und z von Bor, Silicium und Sauerstoff zu Zirconium jeweils im Bereich 0,05 &le; x + y &le; 19 liegen (wobei x + y - 3 &ge; 0 und x - 3y + 1 &ge; 0 ausgeschlossen sind). Dies, da dann, wenn 0 05 &le; x + y gilt, der Film amorph ist, so daß Korngrenzen verschwinden und die Dichtheit verbessert ist, wodurch die Sperrwirkung weiter verbessert werden kann, und wenn x + y &le; 19 ist, kann stabile Filmausbildung durch ein Gleichstrom-Sputterverfahren erzielt werden. Wenn der Film als Zusammensetzungssystem aus ZrO&sub2;, B&sub2;O&sub3; und SiO&sub2; angesehen wird, ist B&sub2;O&sub3; hinsichtlich der Beständigkeit gegen Chemikalien schlecht. Demgemäß ist es nicht bevorzugt, eine Zusammensetzung zu verwenden, die eine solche Menge von B&sub2;O&sub3; enthält, daß ZrO&sub2; < 25 Mol-% und SiO&sub2; < 25 Mol-% gelten, mit B&sub2;O&sub3; als Rest im Film (d.h., wenn Zr:B:Si(Atomverhältnis) in einem ZrBxSiyOz-Film 1:x:y, 1/(1 + x + y) < 0,25 und y/(1 + x + y) < 0,25 gelten, anders gesagt, mit x + y - 3 > 0 und x - 3y + 1 > 0), da dann die Beständigkeit gegen Chemikalien schlecht ist. Das Atomverhältnis z von Sauerstoff zu Zirconium liegt vorzugsweise im Bereich 2 < z < 40, und zwar aus demselben Grund wie für den ZrBxOy-Film.
  • Es ist auch bevorzugt, als Schicht mit einer Energielücke von 4 eV oder mehr einen Film zu verwenden, der hauptsächlich aus SiO&sub2; besteht und dem Ti, Ta, Hf, Mo, W, Nb, Sn, La, Cr oder dergleichen zugesetzt sind, da ein solcher Film amorph ist und durch ein Gleichstrom-Sputterverfahren hergestellt werden kann. Für die Menge des Zusatzelements besteht keine spezielle Beschränkung, solange der Film eine Energielücke von 4 eV oder mehr aufweist. Jedoch ist es bevorzugter, daß die Menge des im Film enthaltenen Zusatzelements mindestens 4 Atom-% bezogen auf die Gesamtmenge an Si und die Zusatzstoffe beträgt, da stabiles Gleichstrom-Sputtern ausgeführt werden kann, wenn ein Target aus einer solchen Legierung verwendet wird.
  • Es ist auch bevorzugt, einen Tantaloxid(Ta&sub2;O&sub5;)-Film zu verwenden, der ebenfalls amorph ist und einen dichten Film bildet, wobei er eine Sperre gegen Wasserdampf und Sauerstoff von der Zwischenschicht her bildet. Ein Ta&sub2;O&sub5;-Film kann durch ein Gleichstrom-Sputterverfahren hergestellt werden, jedoch ist es mehr oder weniger schwierig, eine stabile Entladung mit hoher Abscheidungsrate durch Gleichstromsputtern zu erhalten. Demgemäß ist ein Ta&sub2;O&sub5;-Film im Hinblick hierauf nachteilig.
  • Für die Schicht (Eg &ge; 4 eV) ist auch ein NiO-Film bevorzugt, der unter Verwendung eines Ni-Targets durch Gleichstromsputtern hergestellt werden kann. Jedoch kann, da Ni ein magnetisches Material ist, Magnetron-Gleichstromsputtern, das das weitest verbreitete Sputterverfahren mit hoher Filmbildungsrate ist, nicht verwendet werden, und es bestehen Nachteile hinsichtlich der Produktivität.
  • Andere Materialien für die Schicht (Eg &ge; 4 eV) wie Ga&sub2;O&sub3;, Sb&sub2;O&sub3;, MgF&sub2;, LiF, CaF&sub2;, LaF&sub3;, CeF&sub3; sind teuer und es ist bevorzugt, sie durch Dampfabscheidung im Vakuum herzustellen.
  • Der Schicht 8, die mit der Zwischenschicht in Kontakt steht, können andere Komponenten zugesetzt werden, um optische Eigenschaften einzustellen, um Stabilität zum Zeitpunkt der Filmbildung zu erzielen, um die Filmbildungsgeschwindlgkeit zu verbessern usw. Einem aus ZrBxOy, ZrSiOy oder ZrBxSiyOz bestehenden Film kann ein gewünschter Brechungsindex dadurch verliehen werden, daß die Filmzusammensetzung eingestellt wird, da der Brechungsindex des Films von 2,1 auf 1,5 verringert wird, wenn die Menge von B oder Si zu ZrOx erhöht wird. Auf ähnliche Weise kann ein gewünschter Brechungsindex dadurch erzielt werden, daß ein Film verwendet wird, der hauptsächlich aus SiO&sub2; besteht und dem Zusatzstoffe Ti, Ta, Hf oder dergleichen zugesetzt sind, wobei die Menge der Zusatzstoffe eingestellt wird.
  • Es ist bevorzugt, daß die Schicht 8 mit Eg &ge; 4 eV, die die Zwischenschicht kontaktiert, eine Dicke von 10 Å oder mehr aufweist. Wenn sie dünner als dies ist, wird ein inselförmiger und kein gleichmäßiger Film gebildet. Demgemäß entsteht ein Abschnitt, in dem kein Film 8 ausgebildet ist.
  • Als Film mit der Funktion gemäß der Erfindung existieren z. B. die folgenden Funktionsschichten, obwohl die Schichten hierauf nicht beschränkt sind.
  • Als Beispiel für eine Funktionsschicht mit einem transparenten Film einschließlich einer Metallschicht zeigt Fig. 1 eine Funktionsschicht mit folgendem Aufbau: (Glas/)dielektrischer Film 7/Metall 6/dielektrischer Film 5/Film 8 (Eg ) 4 eV) (/Zwischenschicht). Ag, Au, Pd, Cu, Pt oder dergleichen oder eine Legierung aus diesen Elementen, z. B. eine Legierung Ag-Pd kann für das Metall 6 verwendet werden. Als dielektrische Filme 5, 7 können ZnO, TiO&sub2;, SnO&sub2;, ZnO dotiert mit Al oder SnO&sub2; dotiert mit F oder Sb oder ITO (zinndotiertes Indiumoxid) verwendet werden. Die Funktionsschicht mit der vorstehend angegebenen Konstruktion kann, da die Metallschicht eine transparente, leitende Schicht ist, die transparent ist und elektrische Leitfähigkeit aufweist, bei einer elektrisch beheizten Scheibe oder einer Windschutzscheibe dadurch verwendet werden, daß eine elektrische Heizeinrichtung wie eine Busleitung oder dergleichen angebracht wird, die z. B. durch Aufdrucken eines leitenden Materials hergestellt wird. Da die Metallschicht über Abschirmeigenschaft gegen Sonnenstrahlung wie auch über Transparenz verfügt, kann sie als abschirmende Scheibe gegen Wärmestrahlung verwendet werden, wenn keine elektrische Heizeinrichtung an ihr angebracht ist. Wie vorstehend beschrieben, dienen die dielektrischen Filme, die die Metallschicht 6 einbetten, dazu, das Transmissionsvermögen im Sichtbaren unter Verwendung optischer Interferenz zu verbessern.
  • Fig. 2 ist ein Längsschnitt, der ein anderes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Laminatglaskonstruktion zeigt, bei der ein dünner Solarzellenfilm als Funktionsschicht verwendet ist. Genauer gesagt, sind ein Sperrfilm 21 gegen Alkaliionen, der aus SiO&sub2;, Al&sub2;O&sub3; oder dergleichen besteht, eine erste transparente Elektrode 22 aus SnO&sub2;, ITO oder dergleichen, ein photovoltaischer Film 23 wie ein amorpher Siliciumfilm und eine Rückseitenelektrode (ein transparenter, leitender Film) 26, der Reihe nach in dieser Reihenfolge auf einer Glasscheibe 1 an der Außenseite eines Fahrzeugs angebracht, wobei ein Film 8 mit Eg &ge; 4 eV zwischengefügt wird, wenn die Glasscheibe 1 und die Glasscheibe 2 an der Innenseite mit einer dazwischenliegenden Kunststoffzwischenschicht 3 aufeinanderlaminiert werden. So besteht die Funktionsschicht 4 aus den mehrschichtigen Filmen 21 - 26 und 8.
  • Der transparente, leitende Film 26 als Rückseitenelektrode kann aus zwei oder drei oder noch mehr Schichten bestehen, wie einem Metallfilm 24 und einem anderen Film 25, oder er kann nur aus einer Schicht aus dem Metallfilm 24 bestehen, oder er kann nur aus einer Schicht aus transparentem, leitendem Material wie ITO, SnO&sub2; mit F oder Sb dotiert, usw. bestehen.
  • Der Metallfilm 24 kann eine Schicht aus Ag, Au, Pd oder Al oder ein Legierungsfilm aus mindestens zwei verschiedenen Arten dieser Materialien sein. Ferner kann der andere Film ein dielektrischer Film wie ein solcher aus ZnO, ZnS, TiO&sub2;, ITO, SnO&sub2; oder dergleichen sein, oder ein Film, der aus einem halbleitenden Material wie Si oder dergleichen besteht.
  • Ferner kann die Funktionsschicht 4 die folgende Konstruktion aufweisen: (Glas/) dielektrischer Film/Metall/dielektrischer Film (Eg ) 4 eV) (/Zwischenschicht), wobei der dielektrische Film 5, wie in Fig. 1 dargestellt, durch eine Schicht mit Eg &ge; 4 eV gebildet wird. Zum Beispiel kann der Aufbau der folgende sein: (Glas/) Zrsixoy/Ag/Zrsixoy (/Zwischenschicht) . Es ist nicht immer erforderlich, einen Film mit Eg &ge; 4 eV für den dielektrischen Film zu verwenden, der die Glasscheibe kontaktiert.
  • Ferner werden als andere Beispiele für die Konstruktion der Funktionsschicht 4 die folgenden Konstruktionen vorgeschlagen: (Glas/) absorbierender Film/Film 8 (Eg &ge; 4 eV) (/Zwischenschicht) oder (Glas/) dielektrischer Film/absorbierender Film/dielektrischer Film/Schicht 8 (Eg &ge; 4 eV) (/Zwischenschicht), um die Abschirmfunktion gegen Sonnenstrahlung des absorbierenden Films zu verwenden. Als absorbierender Film kann ein Film verwendet werden, der aus einem Nitrid, einem Borid, einem Carbid oder einer Mischung derselben besteht. Der dielektrische Film dient dazu, die Durchlässigkeit im Sichtbaren durch optische Interferenz zu erhöhen, wobei es sich um denselben dielektrischen Film handeln kann, wie er unter Bezugnahme auf Fig. 1 beschrieben wurde. Konkrete Beispiele sind: (Glas/) TiN/ZrBxOy (/Zwischenschicht) oder (Glas/) TiO&sub2;/TiN/TiO&sub2;/ZrBxOy (/Zwischenschicht). Der absorbierende Film kann die Durchlässigkeit im Sichtbaren durch Oxidation erhöhen (z. B. wird TiN teilweise in TiO&sub2; umgewandelt). Jedoch kann gemäß der Erfindung die Oxidation eines solchen absorbierenden Films verhindert werden.
  • Als andere Beispiele für den Funktionsfilm 4, bei dem ein transparenter, leitender Film ohne irgendeine Metallschicht verwendet wird, können die folgenden angegeben werden: (Glas/) transparenter, leitender Film/Film 8 (Eg &ge; 4 eV) (/Zwischenschicht) oder (Glas/) Sperrfilm gegen Alkaliionen/transparenter, leitender Film/Film 8 (Eg &ge; 4 eV) (/Zwischenschicht). Als transparenter, leitender Film existieren ITO (zinndotiertes Indiumoxid), SnO&sub2; dotiert mit F oder Sb oder ZnO dotiert mit Al. Für den Sperrfilm gegen Alkaliionen existieren SiO&sub2; oder Al&sub2;O&sub3;. Der Sperrfilm gegen Alkaliionen dient dazu, die Diffusion von Alkaliionen vom Glas in den transparenten, leitenden Film zu verhindern, was den Widerstand des leitenden Films erhöhen würde. Ein Laminatglas, an dem ein solcher transparenter, leitender Film ausgebildet ist, kann als Abschirmglas gegen elektromagnetische Strahlung oder als Glasantenne verwendet werden.
  • Bei der Laminatglaskonstruktion mit den vorstehend angegebenen Filmen kann eine andere Art von Film zwischen benachbarte Filme oder zwischen einen Film und eine Glasscheibe eingefügt werden, um die Hafteigenschaften zu verbessern und die optischen Eigenschaften einzustellen.
  • Als Filmbildungsverfahren für den Funktionsfilm 4 kann ein Sprühverfahren, ein Vakuum-Dampfabscheideverfahren, ein Gleichstrom-Sputterverfahren oder ein chemisches Dampfabscheideverfahren verwendet werden. Angesichts der Produktivität und einer gleichmäßigen Dicke für eine großflächige Beschichtung ist es jedoch bevorzugt, Filme durch ein Gleichstrom-Sputterverfahren herzustellen.
  • Beim Herstellen eines Laminatglases mit einem solchen Funktionsfilm und mit gekrümmter Oberfläche können Glasscheiben so geformt werden, daß sie die gewünschte Form einnehmen, bevor die Filme auf einer der Glasscheiben ausgebildet werden, oder die Filme können zuvor auf einer Glasscheibe ausgebildet werden und dann werden die Glasscheiben so geformt, daß sie die gewünschte Form aufweisen.
  • Bei der Erfindung können für die Glasscheiben 1, 2 Normalglasscheiben, Aluminiumsilikat-Glasscheiben, Borsilikat- Glasscheiben, Lithium-Aluminiumsilikat-Glasscheiben oder dergleichen verwendet werden, obwohl die Erfindung nicht hierauf beschränkt ist. Es ist insbesondere bevorzugt, Normalglasscheiben zu verwenden, da sie zu geringen Kosten verfügbar sind. Ferner kann eine Sonnenstrahlung absorbierende Glasscheibe mit Ni, Cr, Co, Fe, Se oder dergleichen als Zusatzstoffen verwendet werden.
  • Als Kunststoffzwischenschicht 3, wie sie zum Verkleben der Glasscheiben 1, 2 verwendet wird, kann PVB (Polyvinylbutyral), EVA (Ethylen-Vinylacetat-Copolymer), Urethan oder dergleichen verwendet werden. Wenn jedoch ein Laminatglas für ein Fahrzeug herzustellen ist, ist es bevorzugt, PVB zu verwenden, das ausgezeichnete Widerstandsfähigkeit gegen Durchdringung und gute Beständigkeit hat.
  • Die Beschreibung erfolgte für Laminatglaskonstruktionen, bei denen zwei Glasscheiben verwendet werden. Jedoch kann die Erfindung auch auf Laminatglaskonstruktionen angewandt werden, bei denen drei oder mehr Glasscheiben verwendet werden. Wenn eine solche Laminatglaskonstruktion für ein Fahrzeug verwendet wird, ist es bevorzugt, daß die Funktionsschicht 4 an der Verklebungsfläche der Glasscheibe angeordnet ist, die ganz außen liegt.
  • Da der Film 8 mit Eg &ge; 4 eV an der Kontaktfläche mit der Zwischenschicht 3 im Laminatglas mit dem oben angegebenen Aufbau gemäß der Erfindung ausgebildet ist, kann Eintrübung wirkungsvoll dann verhindert werden, wenn ein Material, das durch Oxidation eingetrübt wird, in der Funktionsschicht enthalten ist.
  • Wenn die Funktionsschicht ein Material beinhaltet, das ein Anwachsen der Transmission im Sichtbaren durch Oxidation fördert, wie ein absorbierender Film, kann ein solches Anwachsen der Transmission gemäß der Erfindung verhindert werden.
  • Als anderer Vorteil gegenüber den vorstehend genannten Vorteilen der Erfindung hat sich herausgestellt, daß die Haftfestigkeit zwischen der Funktionsschicht 4 und der Zwischenschicht 3 über lange Zeit keine Änderung erfährt, da die erfindungsgemäße Laminatglaskonstruktion einen solchen Aufbau aufweist, daß die Schicht 8 mit Eg &ge; 4 eV in Kontakt mit der Zwischenschicht steht. Der Grund scheint der folgende zu sein. ZnO mit Eg < 4 eV sei als Beispiel verwendet. Wasserstoffatome an der Oberfläche der Zwischenschicht und Sauerstoffatome im ZnO werden gemäß der Beziehung Zn-O H-O (Zwischenschicht) mit Wasserstoffbindefestigkeit zwischen ZnO und der Zwischenschicht wie einem pVB-Film gebunden. Wenn jedoch die Zn-O-Bindung durch die Reduktion von ZnO auf Grund von Wasserdampf und Ultraviolettstrahlung zerbrochen wird, wie in der oben angegebenen Reaktion, besteht die Möglichkeit, daß die oben angegebene Wasserstoffbindung nicht zur Bindungsfestigkeit zur Zwischenschicht beiträgt.
  • Als anderes Beispiel sei ITO (zinndotiertes Indiumoxid) genannt. In diesem Fall wird angenommen, daß es zu einer Wasserstoffbindung in der Beziehung In-O H-O (Zwischenschicht) kommt, die zerbrochen wird, wenn Indium reduziert wird und die In-O-Bindung aufgetrennt wird, wodurch die Wasserstoffbindung nicht zur Bindungsfestigkeit beiträgt.
  • Die vorstehend angegebene Erläuterung kann auf den Fall der Verwendung von SnO&sub2; oder anderer Materialien mit Eg < 4 eV angewandt werden. Bei der Erfindung wird jedoch, da ein Film mit einer Energielücke von Eg &ge; 4 eV als Schicht verwendet wird, die die Zwischenschicht kontaktiert, dieser Film durch ultraviolettes Licht nicht reduziert, so daß keine Änderung hervorgerufen wird. Demgemäß wird angenommen, daß die Bindungsfestigkeit für lange Zeit beibehalten werden kann.
  • Die erfindungsgemäße Laminatglaskonstruktion kann auf eine zweischichtige Laminatkonstruktion mit einer Glasscheibe und einer Kunststoffschicht angewandt werden, d.h. Glas/Funktionsschicht/Kunststoffschicht, wobei die Funktionsschicht über einen Film (Eg &ge; 4 ev) verfügt, der in Kontakt mit der Kunststoffschicht steht. Die Kunststoffschicht kann ein einschichtiger Kunststoffilm aus demselben Material sein, wie es vorstehend für die Zwischenschicht genannt wurde, oder es kann ein mehrschichtiger Kunststoffilm sein, z. B.: (Glas/Funktionsschicht/) Energie absorbierende Schicht/selbstausheilende Schicht. Diese Energie absorbierende Schicht und die selbstausheilende Schicht können z. B. aus verschiedenen Urethanarten bestehen. Die Energie absorbierende Schicht wird dazu verwendet, Stöße im Fall eines Unfalls zu absorbieren und es ist bevorzugt, daß sie eine bestimmte Menge an Wasserdampf enthält, um für eine gute Durchschlagfestigkeit zu sorgen. Die selbstausheilende Schicht kann durch einen Kunststoffilm wie einen Polyethylenterephtalat-Film oder einen Nylonfilm ersetzt werden.
  • Nun wird die Erfindung im einzelnen unter Bezugnahme auf Beispiele und Vergleichsbeispiele beschrieben.
    • VERGLEICHSBEISPIELE
  • Es wurden verschiedene Arten von Funktionsschichten auf Glasscheiben durch ein Sputterverfahren hergestellt und es wurden Laminatglaskonstruktionen dadurch hergestellt, daß ein Verbinden mit anderen Glasscheiben erfolgte, mit dazwischenliegenden PVB-Filmen. Die so hergestellten Laminatglaskonstruktionen wurden einer Einstrahlung mit ultraviolettem Licht über 100 Stunden unterzogen. Tablelle 1 zeigt Filmstrukturen für die Funktionsschichten des Laminatglases und gibt das Aussehen nach der Einstrahlung an. Tabelle 1 Probe Nr. Filmstruktur (die Zahlenwerte in der Tabelle zeigen die Filmdicke Å) Aussehen nach UV-Bestrahlung für 100 Stunden Beispiel keine Änderung Tabelle 1 (Fortsetzung) Probe Nr. Filmstruktur (die Zahlenwerte in der Tabelle zeigen die Filmdicke Å) Aussehen nach UV-Bestrahlung für 100 Stunden Vergleichsbeispiel eingetrübt
  • Die Markierung * in Tabelle 1 kennzeichnet die Energielücke (Eg) der Schicht, die in Kontakt mit PVB steht.
  • Wie es aus Tabelle 1 deutlich ist, wurde dann keine Änderung des Aussehens festgestellt, wenn die Energielücke Eg der mit der Zwischenschicht in Kontakt stehenden Schicht 4 eV oder mehr war. Dagegen stellte sich Eintrübung dann heraus, wenn eine Schicht mit einer Energielücke gemäß der Beziehung Eg < 4 eV in Kontakt mit der Zwischenschicht stand.
  • Ferner bestand bei den Beispielen 1 - 10 (Probennummern 1 - 10) keine wesentliche Änderung gegenüber der anfänglichen Haftfestigkeit, selbst wenn ultraviolettes Licht für 1000 Stunden eingestrahlt wurde. Dagegen stellte sich bei den Vergleichsbeispielen 11 - 14 (Pobennummern 11 - 14) nach 1000 Stunden Einstrahlung ultravioletten Lichts eine kleine Änderung in der Haftfestigkeit heraus.
  • Wie vorstehend beschrieben, wird bei einer erfindungsgemäßen Laminatglaskonstruktion, bei der eine Funktionsschicht zwischen einer Zwischenschicht und einer Glasscheibe ausgebildet ist, ein Film mit Eg &ge; 4 eV für die Schicht verwendet, die die Zwischenschicht kontaktiert. Demgemäß kann ein solcher Film nicht durch ultraviolettes Licht und Wasserdampf reduziert werden, wie er in der Zwischenschicht enthalten ist. Ferner können Eintrübung und eine Erhöhung des Transmissionsvermögens selbst dann vermieden werden, wenn die Funktionsschicht ein Metall beinhaltet, das auf Grund von Oxidation Eintrübung hervorruft, und einen absorbierenden Film, der ein Anwachsen des Transmissionsvermögens hervorruft. Demgemäß kann eine stabile Laminatglaskonstrlktion ohne jede Änderung des Aussehens für eine lange Zeitspanne geschaffen werden.
  • Ferner besteht bei der erfindungsgemäßen Laminatglaskonstruktion keine Änderung der Haftfestigkeit für eine lange Zeitspanne und sie ist zuverlässig.
  • Die erfindungsgemäße Laminatglaskonstruktion realisiert ein Laminatglas mit einer Funktionsschicht mit verschiedenen Funktionen mit Zuverlässigkeit für eine lange Zeitspanne. Ferner kann sie vorzugsweise nicht nur für Gebäude, sondern auch für Fahrzeuge verwendet werden, bei denen eine höhere Zuverlässigkeit erforderlich ist.

Claims (15)

1. Laminatglaskonstruktion mit:
- mindestens einer Glasscheibe;
- einer Kunststoffschicht, die auf der Verbindungsfläche der Glasscheibe angeordnet ist; und
- einer Funktionsschicht aus einschichtigen oder mehrschichtigen Filmen auf der Verbindungsfläche der mindestens einen Glasscheibe zur Kunststoffschicht hin, wobei die Funktionsschicht über einen Film mit einer Energielücke von 4 Elektronenvolt oder mehr verfügt, die in Kontakt mit der Kunststoffschicht steht, wobei der Film mit einer Energielücke von 4 Elektronenvolt oder mehr im wesentlichen aus folgendem besteht:
(i) einem Anteil, der aus folgendem ausgewählt ist: der Gruppe mit NiO, Ga&sub2;O&sub3;, Sb&sub2;O&sub3;, MgF&sub2;, LiF, CaF&sub2;, LaF&sub3;, CeF&sub3;, oder
(ii) SiO&sub2; mit mindestens einem Zusatz, der aus der aus Ti, Hf, Mo, W, Nb, La und Cr bestehenden Gruppe ausgewählt ist, oder
(iii) einem Oxid, das B und mindestens ein Element enthält, das aus der aus Zr, Ti, Hf, Sn, Ta und In bestehenden Gruppe ausgewählt ist, oder
(iv) einem Oxid, das B und Si und mindestens ein Element enthält, das aus der aus Zr, Ti, Hf, Sn, Ta und In bestehenden Gruppe ausgewählt ist, oder
(v) einem Oxid, das Zr und Si (ZrSixOy) enthält, wobei das Atomverhältnis x von Si zu Zr 0,05 &le; x &le; 19 ist und das Atomverhältnis y von O zu Zr 2,1 &le; y &le; 40 ist.
2. Laminatglaskonstruktion nach Anspruch 1, bei der der Film mit einer Energielücke von 4 Elektronenvolt oder mehr im wesentlichen aus einem Oxid besteht, das Zr und B (ZrBxOy) enthält, wobei das Atomverhältnis x von B zu Zr 0,05 &le; x &le; 3 ist und das Atomverhältnis y von O zu Zr 2 &le; y &le; 6,5 ist.
3. Laminatglaskonstruktion nach Anspruch 1, bei der der Film mit einer Energielücke von 4 Elektronenvolt oder mehr im wesentlichen aus einem Oxid besteht, das Zr, B und Si (ZrBxSiyOz) enthält, wobei das Atomverhältnis x von B zu Zr, das Atomverhältnis y von Si zu Zr und das Atomverhältnis Z von O zu Zr 0,05 &le; x + y &le; 19 (mit der Ausnahme x + y - 3 ) 0 und x - 3y + 1 > 0) und 2 < z < 40 sind.
4. Laminatglaskonstruktion nach einem der Ansprüche 1 - 3, bei der die Funktionsschicht einen einschichtigen oder mehrschichtigen transparenten, leitenden Film mit einer Metallschicht und der Schicht mit der Energielücke von 4 Elektronenvolt oder mehr enthält, die in Kontakt mit der Kunststoffschicht steht.
5. Laminatglaskonstruktion nach einem der Ansprüche 1 - 3, bei der die Funktionsschicht einen einschichtigen oder mehrschichtigen Abschirmfilm gegen Wärmestrahlung mit einer Metallschicht und der Schicht mit einer Energielücke von 4 Elektronenvolt oder mehr enthält, die in Kontakt mit der Kunststoffschicht steht.
6. Laminatglaskonstruktion nach einem der Ansprüche 4 oder 5, bei der der transparente, leitende Film einen mehrschichtigen Film in folgender Reihenfolge enthält: dielektrischer Film/Metallfilm/dielektrischer Film.
7. Laminatglaskonstruktion nach Anspruch 6, bei der der transparente, leitende Film einen mehrschichtigen Film mit den drei Schichten ZnO/Ag/ZnO enthält.
8. Laminatglaskonstruktion nach Anspruch 6, bei der der transparente, leitende Film einen mehrschichtigen Film mit den drei Schichten SnO&sub2;/Ag/SnO&sub2; enthält.
9. Laminatglaskonstruktion nach einem der Ansprüche 1 - 3, bei der die Funktionsschicht einen dünnen Solarzellenfilm mit einer ersten transparenten Elektrode, einer photovoltaischen Halbleiterschicht und einer zweiten transparenten Elektrode mit Metallschicht und die Schicht mit einer Energielücke von 4 Elektronenvolt oder mehr beinhaltet, die in Kontakt mit der Kunststoffschicht steht.
10. Laminatglaskonstruktion nach einem der Ansprüche 1 - 3, bei der die Funktionsschicht eine Abschirmungsschicht gegen Sonnenstrahlung und die Schicht mit eine Energielücke von 4 Elektronenvolt oder mehr aufweist, die in Kontakt mit der Kunststoffschicht steht.
11. Laminatglaskonstruktion nach Anspruch 10, bei der die Abschirmungsschicht gegen Sonnenstrahlung im wesentlichen aus mindestens einer solchen besteht, die aus der aus Nitriden, Boriden und Carbiden bestehenden Gruppe ausgewählt ist.
12. Laminatglaskonstruktion nach einem der Ansprüche 1 - 3, bei der die Funktionsschicht einen transparenten, leitenden Film ohne Metallschicht sowie die Schicht mit einer Energielücke von 4 Elektronenvolt oder mehr enthält, die in Kontakt mit der Kunststoffschicht steht.
13. Laminatglaskonstruktion nach einem der Ansprüche 1 - 3, bei der die Schicht, die die Kunststoffschicht kontaktiert, amorph ist.
14. Laminatglaskonstruktion nach einem der Ansprüche 1 - 13, bei der die Dicke des Films, der die Kunststoffschicht kontaktiert, 1 nm (10 Å) oder mehr ist.
15. Laminatglaskonstruktion nach einem der Ansprüche 1 - 14, bei der die Kunststoffschicht aus Polyvinylbutyral besteht.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022109693A1 (de) 2022-04-21 2023-10-26 Webasto SE Fahrzeugscheibe, umfassend Solarzellenanordnung

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0499950B1 (de) * 1991-02-14 1999-10-27 Asahi Glass Company Ltd. Laminierte Glaskonstruktion
DE69233396T2 (de) * 1991-12-26 2005-01-13 Atofina Chemicals, Inc. Beschichtungszusammensetzung für Glas
US5356718A (en) * 1993-02-16 1994-10-18 Ppg Industries, Inc. Coating apparatus, method of coating glass, compounds and compositions for coating glasss and coated glass substrates
GB9417112D0 (en) * 1994-08-24 1994-10-12 Glaverbel Coated substrate and process for its formation
DE10019888B4 (de) * 2000-04-20 2011-06-16 Schott Ag Transparente elektronische Bauelementanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung
US7081301B2 (en) * 2003-10-14 2006-07-25 Guardian Industries Corp. Coated article with and oxide of silicon zirconium or zirconium yttrium oxide in overcoat, and/or niobium nitrude in ir reflecting layer
US7372610B2 (en) 2005-02-23 2008-05-13 Sage Electrochromics, Inc. Electrochromic devices and methods
EP1818694A1 (de) 2006-02-14 2007-08-15 DSMIP Assets B.V. Bilderrahmen mit anti-reflexbeschichteter Glasplatte
CN108460743A (zh) * 2018-03-19 2018-08-28 西安因诺航空科技有限公司 一种基于暗通道的无人机航拍图像去雾算法
CN112180648B (zh) * 2019-07-03 2022-04-08 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 光学薄膜结构、其制备方法以及应用
CN112028499B (zh) * 2020-08-21 2023-01-24 河南理工大学 以CuAg合金为缓冲层的可室温制备的非晶态透明导电复合薄膜及其制备方法和应用
CN113249724B (zh) * 2021-05-11 2022-06-21 中山大学 一种金属膜上沉积二氧化硅膜的方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2109995C3 (de) * 1971-03-03 1975-03-27 Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth Wärmereflektierende Verbundsicherheitsglasscheibe mit verbesserter Splitterhaftung bei Stoßbeanspruchung sowie Verfahren zu ihrer Herstellung
JPS5632352A (en) * 1979-08-28 1981-04-01 Honda Motor Co Ltd Heat ray reflecting laminated glass for car
DE3271844D1 (en) * 1981-10-19 1986-07-31 Teijin Ltd Selectively light transmitting film and preformed laminar structure
DE3716860A1 (de) * 1987-03-13 1988-09-22 Flachglas Ag Verfahren zum herstellen einer vorgespannten und/oder gebogenen glasscheibe mit silberschicht, danach hergestellte glasscheibe sowie deren verwendung
ES2031964T3 (es) * 1987-08-08 1993-01-01 Leybold Aktiengesellschaft Procedimiento para la fabricacion de cristales con un elevado comportamiento de transmision en el intervalo espectral visible y con un elevado comportamiento de reflexion para la radiacion calorifica, asi como cristales fabricados mediante el procedimiento.
DE3728478A1 (de) * 1987-08-26 1989-03-09 Leybold Ag Verfahren zum herstellen von scheiben mit hohem transmissionsverhalten im sichtbaren spektralbereich und mit hohem reflexionsverhalten fuer waermestrahlung sowie durch das verfahren hergestellte scheiben

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022109693A1 (de) 2022-04-21 2023-10-26 Webasto SE Fahrzeugscheibe, umfassend Solarzellenanordnung

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Publication number Publication date
DE68921737D1 (de) 1995-04-20
EP0386341A1 (de) 1990-09-12
EP0386341B1 (de) 1995-03-15

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