DE627909C - Verfahren zum Herstellen von Gaumenplatten - Google Patents

Verfahren zum Herstellen von Gaumenplatten

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DE627909C
DE627909C DEG87912D DEG0087912D DE627909C DE 627909 C DE627909 C DE 627909C DE G87912 D DEG87912 D DE G87912D DE G0087912 D DEG0087912 D DE G0087912D DE 627909 C DE627909 C DE 627909C
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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61CDENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C13/00Dental prostheses; Making same

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Description

  • Verfahren zum Herstellen von Gaumenplatten Es werden schon Gaumenplatten auf galvanoplastischem Wege und auch unter Verwendung des Metallspritzverfahrens hergestellt.
  • Bei Verwendung der Galvanoplastik wird eine Metallschicht auf einer Elektrode niedergeschlagen, die einen Positivabdruck des Gaumens bildet. Diese Elektrode wird gewöhnlich dadurch erhalten, daß man zuerst ein Gips- oder Wachsnegativ des Gaumens herstellt und von diesem Negativ mittels eines Gipsabgusses ein Positiv bildet, welches als Elektrode dienen soll. Da dieselbe elektrisch leitend sein muß, wird dem Gips entweder Graphit in Pulverform beigefügt oder es wird auf die Gipsform ein Metallüberzug, z. B. einü dünne Metallfolie, aufgebracht. Die Beimischung von Graphit ergibt den Nachteil, daß die Oberfläche der Elektrode nicht vollständig homogen ist und neben leitenden Graphitteilchen nichtleitende Gipsteilchen aufweist, wodurch der galvanische Niederschlag unregelmäßig wird. Durch Auftragen eines Metallüberzuges wird die Oberfläche der Elektrode wohl vollständig leitend, aber es ist unmöglich, einen Metallüberzug von überall genau gleichförmiger Wandstärke aufzutragen oder eine ganz genaue Wiedergabe aller Einzelheiten der positiven Form. zu erhalten, so daß eine solche Elektrode kein genaues Positiv mehr bildet. Auch besitzen Elektroden aus Gips den Nachteil, eine etwas hohe Temperatur nicht ertragen zu können, während die Behandlung im-galvanischen Bad mit Edelmetallen am besten bei einer Arbeitstemperatur von etwa 8o° C vor sich geht, was aber mit einer Gips enthaltenden Elektrode nicht möglich ist.
  • Die Verwendung des Metallspritzverfahrens geschah bis jetzt in der Weise, daß auf eine der Kieferform nachgebildete Matrize eine Edelmetallfolie aufgepreßt wird, auf welche dann eine große Anzahl dünner Metallschichten aufgespritzt werden. Das gespritzte Stück selbst bildet dann die Gaumenplatte. Mittels des Spritzverfahrens hergestellte Metallplatten ergeben aber sehr minderwertige Gaumenplatten, da eine gespritzte Metallschicht stets spröde und nicht überall von genau gleichförmiger Dicke ist.
  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren, mittels welchem es gelingt, Gaumenplatten zu erhalten, -die alle Einzelheiten des negativen Abdruckes des Gaumens mit vollkommener Genauigkeit wiedergeben. Es wird dies dadurch erreicht, daß auf einen negativen Abdruck des Ober- bzw. Unterkiefers ein Metallüberzug aufgespritzt und auf diesen überzug als Elektrode in einem galvanoplastischen Bad auf seiner Fläche, die mit der negativen Form in Berührung war, eine Metallschicht elektrolytisch niedergeschlagen wird, welche nach Trennung von der Elektrode die Gaumenplatte bildet. -Die gespritzte Metallschicht wird also als Kathode im galvanoplastischen Bad verwendet. Eine solche- gespritzte Kathode besitzt keine Leitfehler, ist unempfindlich gegeit Temperatureinflüsse und gegenüber dem warmen und sauren Bad auf unbegrenzte Zeit widerstandsfähig. Die mit der negativen-Form in Berührung gewesene Fläche der gespritzten Schicht bildet eine genaue Wiedergabe selbst der kleinsten Einzelheiten des Abdruckes, und der auf dieser Fläche erhaltene galvanische Niederschlag bildet daher eine Gaumenplatte, die sich dem Gaumen vollständig anschmiegt.
  • Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann beispielsweise vorgegangen werden, wie an Hand der Zeichnung nachstehend erklärt ist Man stellt mittels einer plastischen Masse, z. B. Gips oder Wachs, einen negativen Abdruck i desjenigen Teiles der-Mundhöhle her, für den man eine Prothese haben will. Dann -#vird mit Hilfe einer Spritzpistole zerstäubtes Metall zu einer Schicht 2 auf den Abdruck gespritzt (Fig. i), welche Schicht einen positiven Abdruck darstellt, den man vom negativen Abdruck i trennt. Dieser Abdruck ist in Fig. 2 dargestellt. Er wird mit seiner rechten Seite (Fig. 2) auf einen leitenden Träger gelegt und dann als Elektrode in einem galvanoplastischen Bad benutzt. Es wird beispielsweise ein Nickel-oder Goldbad benutzt, so daß sich eine entsprechende Metallschicht auf den Abdruck 2 niederschlägt. Diese Schicht bildet eine genaue Wiedergabe des negativen Abdrucks und paßt genau an den Teil der Mundhöhle, von dem der Abdruck hergestellt wurde; sie bildet daher die zur Verwendung gelangende Gaumenplatte, nachdem sie von Teil 2 getrennt wurde. -

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH: Verfahren zum Herstellen von Gaumenplatten auf galvanoplastischem Wege, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem negativenAbdruck (i) des Ober-bzw.Unterkiefers ein Metallüberzug (2) aufgespritzt und auf diesen überzug (2) als Elektrode in einem galvanoplastischen Bad auf seiner Fläche, die mit dem negativen Abdruck in Berührung war, eine Metallschicht elektrolytisch niedergeschlagen wird, welche nach #7rennung von der Elektrode die Gaumenplatte bildet.
DEG87912D 1933-04-25 1934-04-22 Verfahren zum Herstellen von Gaumenplatten Expired DE627909C (de)

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