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Hintergrund der Erfindung
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Im
Allgemeinen betrifft die Erfindung die Entfernung von Verunreinigungen,
die in Fluidströmen enthalten
sind. Genauer betrifft die Erfindung Adsorptionsmittel zur Entfernung
von Wasser und/oder anderen sauerstoffhaltigen Verunreinigungen
aus ammoniakhaltigen Fluidströmen
sowie Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung.
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Ammoniak
(NH3) von ultrahoher Reinheit (ultra-high
purity = UHP) wird in unterschiedlichen Anwendungen verbreitet eingesetzt.
Zum Beispiel kann UHP-Ammoniak in der Halbleiterindustrie zur Herstellung
von Siliciumnitridsperrschichten in integrierten Schaltkreisen (integrated
circuits = IC) eingesetzt werden. Man nimmt an, dass die Siliciumnitridschichten
die Migration von Metall während
der IC-Verarbeitung verhindern. Außerdem wird UHP-Ammoniak zur Herstellung
von Metallnitriden wie Galliumnitrid, Aluminiumnitrid und Indiumnitrid
verwendet, die in Licht aussendenden Dioden (light emitting diodes
= LEDs) und Laserdioden zum Einsatz kommen. Diese Metallnitride
haben die Fähigkeit,
Licht über
einen weiten Bereich des Spektrums auszusenden. Mit der Blaulichtfähigkeit
können
Hersteller von LEDs diese Vorrichtungen jetzt in jedem beliebigen
Licht des Spektrums herstellen. Außerdem sind Laserdioden Schlüsselkomponenten
für optische
Speichermedien, siehe z.B. P. Kung und M. Razeghi, Opto-electronics
Review, 8(3) 201–239
(2000).
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Die
elektrischen Eigenschaften von Vorrichtungen wie IC-Vorrichtungen
und LEDs hängen
stark von der Menge der Verunreinigungen in den Nitridschichten
ab, was wiederum direkt mit der Reinheit des bei der Herstellung
als Quelle verwendeten Ammoniaks zusammenhängt. Daher ist normalerweise ein
Reinigungssystem erforderlich, um Verunreinigungen im Ammoniak zu
entfernen. Diese Reinigung erfolgt oft dadurch, dass man einen Strom
von gasförmigem
oder flüssigem
Ammoniak durch eine Reinigungsvorrichtung leitet. Ein Hauptziel
der Reinigungsvorrichtung sind sauerstoffhaltige Verunreinigungen.
Spurenmengen sauerstoffhaltiger Verunreinigungen in Ammoniak wie
Wasser (H2O), Sauerstoff (O2),
Kohlenmonoxid (CO) und Kohlendioxid (CO2) können sich
nachteilig auf die Produktionsausbeuten bei der Herstellung von
Halbleitern oder anderen elektronischen Vorrichtungen sowie die
Leistung des Endprodukts auswirken.
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Unter
den sauerstoffhaltigen Verunreinigungen kann Wasser am kompliziertesten
zu entfernen sein. Wasser hat wegen seiner ähnlichen physikalischen und
chemischen Eigenschaften, z.B. Molekülgröße und Wasserstoffbindungen,
eine hohe Affinität für Ammoniak.
Bei der Herstellung von Halbleitern und anderen elektronischen Vorrichtungen
gilt Ammoniak mit einer Wasserkonzentration auf dem ppm-Niveau als
inakzeptabel. Um eine zufriedenstellende Leistung der hergestellten
Vorrichtung sicherzustellen, muss der Wassergehalt im Ammoniak auf das
ppb-Niveau, d.h. weniger als 100 ppb (Teile pro Milliarde) oder
darunter verringert werden. Die derzeitigen Trocknungsverfahren
und Materialien können
bestimmte Einschränkungen
bei der Entfernung von Wasser und anderen sauerstoffhaltigen Spezies bis
auf das ppb-Niveau haben.
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Ammoniak
wurde traditionell als Zylindergas zugeführt, weil die Verbrauchsgeschwindigkeit
von Ammoniak in diesen Verfahren relativ niedrig war. In jüngerer Zeit
hat jedoch das rasche Wachstum auf dem LED-Markt die Verwendung
von Ammoniak erhöht,
so dass es nicht mehr wirtschaftlich ist, Ammoniak auf diese Weise
zuzuführen
oder zu verwenden. Deshalb schwenkt die Elektronikindustrie auf
Systeme für
die "Massenzufuhr" um, bei denen große Lagergefäße dazu
verwendet werden, Ammoniak zuzuführen.
Bei Verwendung dieses Systems wäre
die Reinigung des Ammoniaks in Lagergefäß vorzuziehen. Dies stellt
neue Anforderungen an das Ammoniakreinigungssystem. In diesem Zusammenhang muss
die Reinigungsvorrichtung Ammoniak bei relativ hohen Strömungsgeschwindigkeiten
bewältigen und
reinigen können.
Außerdem
sollten Reinigungsvorrichtungen für Massenzufuhrsysteme eine
längere
Lebensdauer haben als Reinigungsvorrichtungen am Gebrauchspunkt.
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Reinigungssysteme
für die
Massenzufuhr zur Entfernung von Verunreinigungen aus Ammoniak umfassen
typischerweise ein Reinigungsbett mit Sorptionsmedien, Fängern oder
Adsorptionsmitteln. Diese Reinigungsbetten sind meistens relativ
groß und
die darin enthaltenen Adsorptionsmittel sind vergleichsweise teuer.
Um die Betriebskosten und die Größe des Systems
zu verringern und die Trenneffizienz zu verbessern, sollte das Adsorptionsmittel
eines oder mehrere der folgenden Kriterien erfüllen. Erstens sollte das Adsorptionsmittel über eine
relativ schnelle Sorptionskinetik verfügen, da die Effizienz einer
Reinigungsvorrichtung direkt mit der Sorptionsgeschwindigkeit der
Verunreinigung auf dem Medium zusammenhängt. Schnellere Sorptionsgeschwindigkeiten
lassen die Verwendung kleinerer Sorptionsbetten zu, wodurch die
Reinigungseffizienz bei niedrigeren Kosten steigt. Zweitens sollte
das Adsorptionsmittel eine relative hohe Sorptionskapazität haben,
weil die Größe der Reinigungsvorrichtung
direkt mit der Sorptionskapazität
des Adsorptionsmittels zusammenhängt.
Daher werden Adsorptionsmittel mit hoher Kapazität gebraucht, um die Gesamtgröße der Reinigungsvorrichtung
und die Kosten zu verringern. Außerdem ist eine relativ hohe
Adsorptionskapazität im
relevanten Partialdruckbereich des Wassers bis zu 0,886 Pa (6,65 × 10–3 Torr)
notwendig, um das Verunreinigungsniveau im Ammoniak auf das ppb-Niveau
zu senken. Drittens sollte das Adsorptionsmittel in Ammoniak stabil
sein, um die Bildung von während der
Reinigung erzeugten gasförmigen
oder flüchtigen Nebenprodukten
zu verhindern. Viertens sollte das Adsorptionsmittel bei den für die Reinigung
erforderlichen Temperaturen nicht flüchtig sein. Schließlich ist
das Adsorptionsmittel bevorzugt regenerierbar.
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Im
Stand der Technik gibt es verschiedene physikalische und chemische
Adsorptionsverfahren zur Entfernung von Wasser und anderen sauerstoffhaltigen
Verunreinigungen aus Ammoniak. Ein chemisches Adsorptionsverfahren
zur Entfernung von Wasser aus Aminoniak beinhaltet Metalloxidadsorptionsmittel.
Beispielsweise offenbart das Japanische Patent 97-142 833 die Entfernung
von Wasser aus Ammoniak durch In-Kontakt-Bringen des Gases mit einem
Adsorptionsmittel, das BaO oder ein BaO als Hauptkomponente enthaltendes
Gemisch umfasst, wobei Wasser durch eine chemische Reaktion mit dem
Metalloxid entfernt wird. Weil die Hauptbeschränkung für den Stofftransport durch
das Reaktionsprodukt bedingt ist, kann dieser Ansatz den Nachteil
geringer Adsorptionskinetik haben.
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Ein
weiteres chemisches Adsorptionsverfahren ist in
EP 0 484 301 B1 und
0 470 936 B1 offenbart.
Diese Patente beschreiben die Verwendung von hydrierten Gettermetalllegierungen
aus unterschiedlichen Mengen an Zirconium (Zr), Vanadium (V) und Eisen
(Fe) mit einer bevorzugten Zusammensetzung von 70 % Zr, 24,6 % V
und 5,4 % Fe. Diese Adsorptionsmittel aus einer hydrierten Gettermetalllegierung sind
aus verschiedenen Gründen
unpraktisch für
die Massenreinigung von Ammoniak. Die Herstellung dieser Legierungen
umfasst mehrere Schritte vor dem Gebrauch: Die Legierungen müssen durch
Erwärmen
auf erhöhte
Temperaturen um 350°C
in einem reduzierenden Gasstrom aktiviert werden, und die Legierungen
müssen
hydriert oder in einem Wasserstoffstrom behandelt werden. Außerdem benötigen die
Legierungen eine Betriebstemperatur von mehr als 100°C, um richtig
zu funktionieren.
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Ein
weiteres chemisches Verfahren mit einem Adsorptionsmittel ist in
US-A-6,241,955 offenbart. Das Patent '955 offenbart ein Adsorptionsmittel, bei
dem es sich um ein festes Substrat aus einem reduzierten Metalloxid
mit einer Oberfläche
von 100 m2/g oder mehr handelt. Ein Oxid
wie Mangan- oder Molybdänoxid
ist teilweise an H2 oder einem anderen Mittel
reduziert, um aktive Sorptionsstellen herzustellen. Man nimmt an,
dass die gasförmigen
Kontaminanten durch eine Kombination aus einer Reaktion mit aktiven
Metallstellen und Adsorption auf der Substratoberfläche entfernt
werden.
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Ein
weiteres Beispiel für
ein chemisches Adsorptionsverfahren ist in der Europäischen Patentanmeldung
EP 1 176 120 offenbart.
Die Anmeldung '120
beschreibt die Entfernung von Wasser und anderen Verunreinigungen
aus Ammoniak durch In-Kontakt-Bringen des Am moniaks mit einem Adsorptionsmittel,
das Manganoxid und/oder Nickeloxid als aktiven Inhaltsstoff auf
einem porösen
Träger
enthält.
Das Adsorptionsmittel wird durch die Verringerung des Wasserstoffgehalts
des Metalloxids bei Temperaturen von mehr als 500°C für Mangan
und bis zu 350°C
für Nickel
hergestellt. Außerdem
kann der Ammoniak durch ein Bett von synthetischem Zeolith geleitet
werden.
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D4
(US-5,776,850) betrifft Zeolithkristalle, die mit Natriumchlorit,
Essigsäure,
Citronensäure, Chlor,
Natriumsulfat und Natriumbisulfit imprägniert sind. Die imprägnierten
Zeolithkristalle werden zum Filtrieren von Kontaminanten aus Fluid
verwendet.
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Weitere
Beispiele für
chemische Adsorptionsmittel des Standes der Technik bestehen aus
einem Radikalfänger,
der auf einem organischen Träger
abgeschieden ist. Beispielsweise offenbart US-A-4,761,395 einen
Radikalfänger
aus einem metallischen Carbanion oder Anion auf einem organometallischen
Träger.
Die aktiven Radikalfängerstellen werden
durch die Reaktion zwischen einem protonierten Carbanion und einem
organischen Entprotonierungsmittel hergestellt. Die größte Sorte
bei der Nutzung dieses Ansatzes ist die Gefahr, dass Kohlenwasserstoffverunreinigungen
in den gereinigten Gasstrom freigesetzt werden, wenn das organische Entprotonierungsmittel
nicht vollständig
aus dem Träger
entfernt wird oder wenn das protonierte Carbanion ein organisches
Material ist.
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Eine
Kohlenwasserstoffverunreinigung kann selbst bei sehr geringen Mengen
schädlich
für Halbleitervorrichtungen
sein. Ein weiteres Beispiel für
einen Radikalfänger
auf einem organischen Träger
ist in US-A-5,531,971 zu finden. Das Patent '971 offenbart einen Radikalfänger aus
einem pyrolysierten Metall, der auf einem polymeren oder makro-vernetzten
Polymerträger
abgeschieden ist. Die pyrolysierten Metalle werden aus der Gruppe
IA des Periodensystems ausgewählt.
Ein mögliches
Problem bei diesem Ansatz besteht darin, dass der Radikalfänger Metallteilchen
in den gereinigten Gasstrom freisetzen kann. Außerdem kann die Reaktion zwischen
freiem Alkylmetall und Wasser gasförmiges H2 freisetzen. Die
Einführung
neuer Verunreinigungen aus einem der in den Patenten '395 oder '971 beschriebenen Adsorptionsmittel,
nämlich
Kohlenwasserstoffe, Metallteilchen und gasförmiges H2,
ist unannehmbar bei der Herstellung von Halbleitern, LEDs oder anderen elektronischen
Vorrichtungen.
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Weitere
Beispiele für
chemische Adsorptionsverfahren des Standes der Technik umfassen Metallfänger, die
auf einem anorganischen Träger abgeschieden
sind. In diesem Zusammenhang beschreibt die veröffentlichte Anmeldung WO 00/23174 einen
Radikalfänger,
der ein aktives Mittel auf einem anorganischen Träger wie
einem Zeolith-, Aluminiumoxid- oder Siliciumdioxidmaterial umfasst.
Das aktive Mittel wird durch Pyrolyse eines adsorbierten Hydrids
bei erhöhter
Temperatur hergestellt. Wegen der begrenzten Anzahl funktioneller Gruppen
auf der Oberfläche
eines anorganischen Trägers
und der ungünstigen
Pyrolysereaktion kann die Menge aktiver Stellen begrenzt sein.
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Ein
weiteres Beispiel eines Adsorptionsverfahrens des Standes der Technik
ist die Verwendung von CaSO4 allein, um
Wasser aus Ammoniak zu entfernen. Ein Nachteil dieses Ansatzes ist
die geringe erreichbare Effizienz bei der Wasserentfernung aufgrund
seiner begrenzten Oberfläche.
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Die
in den vorstehend erwähnten
chemischen Adsorptionsverfahren verwendeten Mittel sind typischerweise
nicht regenerierbar, weil die Reaktion zwischen der aktiven Phase
des Metallfängers
und Wasser praktisch unumkehrbar ist. Um dies zu beheben, kann man
sich der physikalischen Adsorption auf Molekularsieben bedienen,
um Wasser aus Ammoniak zu entfernen. Dieses Verfahren kann jedoch wegen
der thermodynamischen Eigenschaften von Ammoniak und Wasser ineffizient
sein. Da ihre thermodynamischen Eigenschaften ähnlich sind, können Ammoniak
und Wasser um die Adsorptionsstellen auf dem Material konkurrieren.
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Demnach
besteht Bedarf in der Technik, neue Adsorptionsmittel zur Verfügung zu
stellen, um Ammoniak bis auf das ppb-Niveau zu reinigen. In der Technik
besteht auch Bedarf an regenerierbaren Adsorptionsmitteln, die über relativ
hohe Sorptionskapazität
und im Vergleich schnellere Sorptionskinetik verfügen. Ferner
besteht in der Technik Bedarf an der Bereitstellung von Adsorptionsmitteln,
die bei Umgebungstemperaturen effektiv arbeiten. Außerdem besteht
in der Technik Bedarf an Adsorptionsmitteln, die die Einführung zusätzlicher
Kontaminanten in Ammoniak während
des Reinigungsprozesses vermeiden. Darüber hinaus besteht in der Technik
Bedarf an Verfahren zur Herstellung von Adsorptionsmitteln, die weniger
Verfahrensschritte für
die Herstellung benötigen
und niedrigere Aktivierungstemperaturen haben.
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Kurze Zusammenfassung der
Erfindung
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Die
Erfindung deckt einen Teil des Bedarfs, wenn nicht den gesamten
Bedarf in der Technik, indem sie Adsorptionsmittel für die Entfernung
von Wasser und/oder andere sauerstoffhaltigen Verunreinigungen aus
einem Ammoniak enthaltenden Fluid zur Verfügung stellt. Bei der Erfindung
geht es teilweise um ein Adsorptionsmittel, umfassend ein Substrat mit
einer Vielzahl von Poren und einer Oberfläche im Bereich von 100 bis
2.500 m2/g; und eine Verbindung, die zumindest
in einem Teil des Substrats verteilt ist. Die Verbindung umfasst
mindestens ein Kation aus der Gruppe, bestehend aus Caesium(I),
Barium(II), Mangan(II), Indium(III) und Zirconium(IV) oder Kombinationen
davon, das ionisch mit einem Anion aus der Gruppe, bestehend aus
Sulfid, Sulfat und Sulfat assoziiert ist.
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In
einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung
eines Adsorptionsmittels zur Entfernung von Wasser aus Ammoniak
zur Verfügung
gestellt, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst: Bereitstellen
eines Gemischs, umfassend mindestens ein Kation, das ausgewählt ist aus
der Gruppe, bestehend aus Caesium(I), Barium(II), Mangan(II), Indium(III)
und Zirconium(IV) oder Kombinationen davon, das ionisch mit einem
Anion aus der Gruppe, bestehend aus Sulfid, Sulfat und Sulfat assoziiert
ist; Imprägnieren
eines porösen Substrats
mit dem Gemisch, um einen Adsorptionsmittelvorläufer zu bilden; und Erwärmen des
Adsorptionsmittelvorläufers
auf eine oder mehrere Temperaturen von mindestens 100°C oder mehr,
um das Adsorptionsmittel herzustellen. Bei bestimmten Ausführungsformen
umfasst das Gemisch außerdem
ein Lösungsmittel.
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In
einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung
eines Adsorptionsmittels zur Verfügung gestellt, das mindestens
ein mit mindestens einem Anion ionisch assoziiertes Kation umfasst.
Das Verfahren umfasst folgende Schritte: Bereitstellen eines Verbindungsvorläufers, umfassend
mindestens ein Kation, das ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend
aus Caesium(I), Barium(II), Mangan(II), Indium(III) und Zirconium(IV)
oder Kombinationen davon; Abscheiden des Verbindungsvorläufers auf
mindestens einen Teil eines porösen
Substrats, um einen Adsorptionsmittelvorläufer zu bilden; und Erwärmen des
Adsorptionsmittelvorläufers
auf eine Temperatur von mindestens 100°C oder mehr in einer Gasatmosphäre, um ein
Anion aus der aus Sulfid, Sulfat oder Sulfat bestehenden Gruppe
zur Verfügung
zu stellen; und Umsetzen des mindestens einen Kations und des mindestens
einen Anions unter Temperaturbedingungen, die zur Herstellung des
Adsorptionsmittels ausreichen.
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Unter
einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zur Entfernung
von Wasser aus einem Ammoniak und Wasser umfassenden Fluid zur Verfügung gestellt,
wobei das im Fluid enthaltene Wasser einen Partialdruck im Bereich
von 9,8 × 10–9 kPa
(10–9 atm)
bis 0,088 kPa (9 × 10–4 atm)
hat, durch Leiten des Fluids über
ein Adsorptionsmittel, umfassend 1 bis 80 % einer Verbindung, die
auf einem porösen
Substrat geträgert
ist, bei Temperaturen im Bereich von –40 bis 70°C. Die Verbindung umfasst mindestens
ein Kation, ausgewählt
aus der Gruppe, bestehend aus Caesium(I), Barium(II), Mangan(II),
Indium(III) und Zirconium(IV) oder Kombinationen davon, das ionisch
mit einem Anion aus der Gruppe, bestehend aus Sulfid, Sulfat und
Sulfat assoziiert ist.
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Diese
und andere Aspekte der Erfindung gehen aus der folgenden detaillierten
Beschreibung hervor.
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Kurze Beschreibung verschiedener
Ansichten der Zeichnungen
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1 zeigt
ein Beispiel eines Apparates, der eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adsorptionsmittels
enthält.
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2 zeigt
eine Darstellung des prozentualen Gewichtsverlusts gegenüber der
Temperatur einer Ausführungsform
des erfindungsgemäßen Adsorptionsmittels.
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Detaillierte Beschreibung
der Erfindung
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Bei
der Erfindung geht es um Adsorptionsmittel zur Entfernung von Wasser
und/oder anderen sauerstoffhaltigen Verunreinigungen aus gasförmigem oder
flüssigem
Ammoniak bis auf ein ppb-Niveau oder darunter sowie Verfahren zu
ihrer Herstellung und ihrem Gebrauch. Bei bestimmten bevorzugten
Ausführungsformen
besteht das Adsorptionsmittel aus einer innerhalb eines Substrats
angeordneten Verbindung. Die Verbindung kann vorzugsweise mit Wasser
und/oder anderen sauerstoffhaltigen Verunreinigungen reagieren,
um bei Umgebungstemperaturen oder darunter ein stabiles Hydrat zu
bilden. Das Substrat wird dazu verwendet, die Oberfläche der Verbindung
zu vergrößern und
damit die Adsorptionskapazität
des Adsorptionsmittels zu erhöhen.
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Die
erfindungsgemäßen Adsorptionsmittel werden
vorzugsweise dazu verwendet, sauerstoffhaltige Verunreinigungen
wie Wasser und/oder Sauerstoff oder Kohlendioxid aus einem Ammoniak
enthaltenden Fluidstrom zu entfernen oder ihren Gehalt zu verringern.
Der hier verwendete Begriff "Fluid" bezeichnet sowohl
flüssige
als auch gasförmige
Formen eines Substrats. Bei einigen Ausführungsformen der Erfindung
kann das Fluid noch andere Hydridfluids neben Ammoniak bzw. zusätzlich dazu
umfassen. Einige Beispiele dieser Fluids umfassen, sind aber nicht
beschränkt
auf PH3, AsH3, B2H6, SiH4 und Si2H6 und Niedrigalkylderivate
von Ammoniak der Formel RaNHb,
in der a und b Zahlen im Bereich von 0 bis 3 sind und die Summe
von a plus b gleich 3 ist, sowie Gemische davon.
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Die
erfindungsgemäße Verbindung
umfasst mindestens ein einwertiges, zweiwertiges, dreiwertiges oder
vierwertiges Kation oder Kombinationen davon. Geeignete Kationen
sind das einwertige Kation Caesium(I), die zweiwertigen Kationen
Barium(II) und Mangan(II), das dreiwertige Kation Indium(III) und
das vierwertige Kation Zirconium(IV). Bei bestimmten bevorzugten
Ausführungsformen
umfasst das Kation mindestens ein Kation aus der aus Caesium und
Zirconium bestehenden Gruppe.
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Das
Kation wird ionisch mit einem Anion assoziiert, um die Verbindung
herzustellen. Beispielhafte Anionen umfassen beliebige aus der Gruppe,
bestehend aus Sulfiden (S2–), Sulfaten (SO3 2–) oder Sulfaten (SO4 2–). Die Anionen können in
Form einer Säure
in das Kation eingeführt
werden, um ein Salz zu bilden. In diesem Zusammenhang kann die Verbindung
ein Salz mit einem Kation höherer
Wertigkeit und ein Anion von Schwefelsäure sein. Einige Säurequellen
für die
Anionen umfassen Hydroschwefelsäure,
schwefelige Säure
oder Schwefelsäure,
sind aber nicht darauf beschränkt.
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Bei
bestimmten bevorzugten Ausführungsformen
umfasst die Verbindung ein anorganisches Salz. Bei bevorzugten Ausführungsformen
kann die Verbindung Zirconiumsulfat oder Caesiumsulfat sein.
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Die
als erfindungsgemäße Adsorptionsmittel geeigneten
Verbindungen weisen vorzugsweise eine oder alle der folgenden Eigenschaften
auf. Erstens kann die Verbindung bei dem Wasserpartialdruck von 0,886
Pa (6,65 × 10–3 Torr)
hygroskop sein. Zweitens hat die Verbindung geringe Flüchtigkeit
innerhalb eines Fluidstroms, der Ammoniak und Wasser und/oder andere
sauerstoffhaltige Verunreinigungen umfasst. Drittens kann die Verbindung
eine geringe Tendenz zur Bildung von Koordinationsverbindungen mit
Ammoniak haben oder ist im Wesentlichen nicht reaktiv mit Ammoniak.
Schließlich
ist die Verbindung vorzugsweise in Wasser oder einem anderen Lösungsmittel
löslich.
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Wie
bereits erwähnt,
umfassen die erfindungsgemäßen Adsorptionsmittel
eine Verbindung, die zumindest in einem Teil des Substrats angeordnet ist.
Das Substrat umfasst ein Material, das im zu reinigenden Fluid stabil
ist, wie z.B. Aluminiumoxid, Aktivkohle, Zeolithe oder andere ähnliche
Materialien. Vorzugsweise besteht das Substrat aus einem anorganischen
Material, um die Freisetzung von Kohlenwasserstoffverbindungen in
das gereinigte Fluid zu vermeiden. Bei bestimmten bevorzugten Ausführungsformen
umfasst das Substrat Aluminiumoxid.
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Die
für die
erfindungsgemäßen Adsorptionsmittel
verwendeten Substrate verfügen über eine Vielzahl
von Poren und ein relativ hohe spezifische Oberfläche. Die
durchschnittliche Porengröße innerhalb
des Substrats liegt im Bereich von etwa 8 bis etwa 500 Å. Die Oberfläche des
Substrats liegt im Bereich von etwa 100 bis etwa 2.500 m2/g, vorzugsweise etwa 100 bis etwa 1.500
m2/g und stärker bevorzugt etwa 100 bis
etwa 1.200 m2/g.
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Die
erfindungsgemäßen Substrate
sind vorzugsweise bei den Temperaturen, bei denen das Adsorptionsmittel
verwendet wird, wärmestabil,
um die Struktur des Trägers
aufrechtzuerhal ten. Das Substrat ist bei Temperaturen von etwa 150°C oder mehr wärmestabil,
stärker
bevorzugt bei Temperaturen von etwa 300°C oder mehr.
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In
den erfindungsgemäßen Adsorptionsmitteln
wird die Verbindung in mindestens einem Teil des Substrats abgeschieden.
Die Verbindung kann in Form von Teilchen im Substrat oder Agglomeraten
im Substrat, als Film oder Plattierung, der bzw. die auf oder in
das Substrat abgeschieden wird, angeordnet sein oder sich lokal
in den Poren des Substrats befinden. Der Anteil der im Substrat
angeordneten Verbindung nach Gewichtsprozent kann im Bereich von
1 bis 80 %, vorzugsweise 2 bis 50 %, stärker bevorzugt etwa 5 bis etwa
30 % liegen.
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Das
Adsorptionsmittel kann auf viele unterschiedliche Arten hergestellt
werden. Bei bestimmten Ausführuugsformen
wird das Adsorptionsmittel dadurch hergestellt, dass man das Substrat
der Einwirkung eines Gemischs aussetzt, das die Verbindung oder
Verbindungsvorläufer
enthält.
Das Gemisch kann außerdem
ein Lösungsmittel
enthalten. In Ausführungsformen,
wo ein Lösungsmittel
verwendet wird, reagiert das gewählte
Lösungsmittel
vorzugsweise nicht mit dem Substrat. Geeignete Lösungsmittel umfassen Wasser,
Kohlenwasserstoffe (z.B. Pentan oder Hexan), Halogenkohlenstoffe
(z.B. Freon 113), Ether (z.B. Ethylether (Et2O)
oder Tetrahydrofuran (THF)), Nitrile (z.B. CH3CN)
oder aromatische Verbindungen (z.B. Benzotrifluorid), sind aber nicht
darauf beschränkt.
Die Verbindung wird dem Gemisch bei Raumtemperatur oder höher zugesetzt, um
sie darin im Wesentlichen zu lösen.
Die Temperatur für
die Lösung
schwankt je nach dem Siedepunkt des Lösungsmittels. In diesem Zusammenhang muss
die Konzentration der Verbindung innerhalb des Gemischs auf einen
Wert unterhalb der Löslichkeitsgrenze
bei der angewandten Lösungstemperatur
eingestellt werden. Bei bestimmten Ausführungsformen kann das hydratisierte
Salz der Verbindung dem Gemisch zugesetzt werden, um die Lösungswärme zu verringern.
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Das
die Verbindung umfassende Gemisch wird in mindestens einen Teil
des porösen
Substrats imprägniert,
um den Adsorptionsmittelvorläufer
zu bilden. Dieser Schritt wird vorzugsweise bei der gleichen Temperatur
wie zur Herstellung des Gemischs durchgeführt. Der Imprägnierungsschritt
kann in einer Vielzahl unterschiedlicher Verfahren erfolgen, darunter
Einweichen des Substratmaterials im Gemisch, das Verfahren einsetzender
Nässe oder
Vakuumimprägnierung.
Bei dem Verfahren einsetzender Nässe
reicht das Volumen des Gemischs, das über das Substratmaterial gegossen
wird, aus, um dessen Poren zu füllen,
ohne dass ein stehendes Gemisch vorliegt. In anderen Worten, die
Menge des Gemischs entspricht ungefähr dem Porenvolumen des Substratmaterials,
das imprägniert
werden soll. Das gewählte
Verfahren hängt
von verschiedenen Faktoren wie dem Sättigungsgrad des Gemischs,
der Viskosität
des Gemischs, der Wahl des Substrats und der Affinität zwischen
dem Gemisch und dem po rösen
Substrat ab. Bei Ausführungsformen,
wo das Lösungsmittel
das Substrat nicht benetzt, kann das Vakuumimprägnierungsverfahren verwendet
werden.
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Bei
bestimmten Ausführungsformen
der Erfindung kann das imprägnierte
Substrat bzw. der Adsorptionsmittelvorläufer getrocknet werden. Beispielsweise
wird der Adsorptionsmittelvorläufer
getrocknet, um bei Ausführungsformen,
wo ein Lösungsmittel
dem Gemisch zugesetzt wird, das überschüssige Lösungsmittel
zu entfernen. Der Trocknungsschritt kann bei Raumtemperatur und
Umgebungsatmosphäre
durchgeführt
werden, um offene Kanäle
innerhalb des Substrats zu schaffen. Alternativ kann der Trocknungsschritt
unter Einsatz eines Vakuums durchgeführt werden, um die Geschwindigkeit
und Effizienz des Trocknungsverfahrens zu erhöhen. Bei einer weiteren Ausführungsform
der Erfindung kann der Trocknungsschritt in den Aktivierungs- oder
Erwärmungsschritt
inkorporiert werden, indem man auf eine oder mehrere Temperaturen
erwärmt, ehe
man die Aktivierungstemperatur des Adsorptionsmittels erreicht.
Beispielsweise kann der Trocknungsschritt allmählich in Rampen oder in Form
einer Temperaturerhöhung
vor Erreichen der Aktivierungstemperatur durchgeführt werden
oder ein kontrolliertes Einweichen bei einer oder mehreren Temperaturen
unterhalb der Aktivierungstemperatur sein.
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Beim
Aktivierungsschritt wird der Adsorptionsmittelvorläufer auf
eine oder mehrere Temperaturen über
100°C erwärmt. Vorzugsweise
wird der Erwärmungsschritt
auf eine oder mehrere Temperaturen im Bereich zwischen 100 bis etwa
1000°C,
bevorzugt etwa 100 bis etwa 600°C
und stärker
bevorzugt etwa 100 bis etwa 400°C
durchgeführt.
Die Aktivierungstemperatur des Adsorptionsmittelvorläufers kann
durch thermische gravimetrische Analyse (TGA) oder auf andere Weise
bestimmt werden. Das Erwärmen
kann unter Vakuum oder in einer inerten Atmosphäre wie N2 oder
He erfolgen. Die Atmosphäre
für den
Aktivierungsschritt kann schwanken, je nach der Zusammensetzung
der Verbindung und/oder des Substrats. Beispielsweise wird der Aktivierungsschritt
in Ausführungsformen,
wo das Adsorptionsmittel ein Ammoniumsulfat (NH4)2SO4 auf ein Substrat
abgeschieden umfasst, vorzugsweise unter einer NH3-Atmosphäre durchgeführt, um
die Zersetzung von (NH4)2SO4 zu NH4HSO4 zu verhindern.
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Bei
anderen Ausführungsformen
der Erfindung wird das Adsorptionsmittel durch ein Verfahren der
thermischen Abscheidung ausgebildet. Dieses Verfahren kann für Ausführungsformen
geeignet sein, bei denen die Verbindung in Wasser oder anderen Lösungsmitteln
unlöslich
ist. Bei diesen Ausführungsformen
wird ein Verbindungsvorläufer,
der mindestens eines der gleichen Kationen wie das Kation in der
Verbindung enthält,
auf mindestens einen Teil des porösen Substrats abgeschieden.
Der Verbindungsvorläufer
umfasst mindestens ein Kation aus der Gruppe Caesium(I), Barium(II),
Mangan(II), Indium(III) oder Zirconium(IV). Das den Ver bindungsvorläufer enthaltende
Substrat wird in einer Atmosphäre, die
mindestens ein Anion enthält,
das das gleiche wie das Anion in der Verbindung ist, auf eine oder
mehrere Temperaturen von mindestens 100°C oder mehr erwärmt. Bei
bestimmten bevorzugten Ausführungsformen
umfasst die Atmosphäre
ein schwefelhaltiges Gas. Die Verbindung wird auf mindestens einem
Teil des Substrats aus der Reaktion des mindestens einen Kations
aus dem Verbindungsvorläufer
und dem das mindestens eine Anion enthaltenden Gas gebildet.
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Die
erfindungsgemäßen Adsorptionsmittel werden
typischerweise in einem Reinigungsapparat verwendet. 1 zeigt
ein Beispiel einer Ausführungsform
des Reinigungsapparates 10, der das erfindungsgemäße Adsorptionsmittel
enthält.
Der Apparat 10 besteht aus einem Fluideinlass 20,
einer Kammer 30 und einem Fluidauslass 40. Die
Kammer 30 enthält
ein Adsorptionsmittel 50, das je nach Verwendung in Form
von Teilchen, Pellets, Stäbchen, Brocken,
Bienenwaben, Scheiben, Blöcken,
Sätteln oder
einer beliebigen anderen Form vorliegen kann. Das Adsorptionsmittel 50 besteht
aus einer Verbindung, die in mindestens einem Teil des Substrats
wie hier beschrieben angeordnet ist. Der Apparat 10 hat außerdem das
Einlassventil 60 und das Auslassventil 70, die
in Fluidverbindung mit dem Fluideinlass 10 und dem Fluidauslass 40 sind.
Das Einlassventil 60 und das Auslassventil 70 werden
dazu verwendet, den Fluidstrom zu regeln, der durch den Apparat 10 geleitet
wird. Bei bestimmten bevorzugten Ausführungsformen können die
Einlass- und Auslassventile 60 und 70 an eine
zentrale Prozessoreinheit angeschlossen werden, die den Betrieb
beider Ventile steuern kann. Beispielsweise können die Ventile 60 und 70 sich
sequentiell oder nicht sequentiell öffnen und schließen, um
einen vollen Fluidstrom, gepulsten Fluidstrom oder dazwischenliegende
Varianten zu erzeugen.
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Man
nimmt an, dass die erfindungsgemäßen Adsorptionsmittel
mit dem Wasser und/oder anderen sauerstoffhaltigen Verunreinigungen
innerhalb des Fluidstroms reagieren, um bei Temperaturen im Bereich
zwischen etwa –40
bis etwa 70°C
ein stabiles Hydrat zu bilden. Die Adsorptionsmittel können regeneriert
oder wiederverwendet werden, weil die gebildeten Hydrate bei einer
erhöhten
Temperatur oder der Aktivierungstemperatur des Adsorptionsmittels dissoziiert
werden können.
Die erfindungsgemäßen Adsorptionsmittel
verringern die Menge an Wasser in dem eintretenden Fluidstrom auf
unter 100 ppb, vorzugsweise unter 10 ppb und stärker bevorzugt unter etwa 1
ppb.
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Die
Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele detaillierter
erläutert,
wobei sie selbstverständlich
nicht darauf beschränkt
ist.
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Beispiele
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Beispiel 1
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Herstellung eines Adsorptionsmittels
aus Caesiumsulfat und Aluminiumoxid
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Eine
auf ein anorganisches Al2O3-Substrat abgeschiedene
Adsorptionsmittelprobe aus Cs2SO4 wurde in folgenden Schritten hergestellt:
Lösen von 40
g Cs2SO4 in 50 cc
destilliertem Wasser; Zugabe von 10 g Alcan AA-300 Al2O3 in die vorstehende Lösung; Dekantieren der Lösung nach
dem Mischen und Trocknen der Probe bei Raumtemperatur über Nacht.
Die Probe enthielt 38 Gew.-% Cs2SO4. Die Wasserisotherme der Probe wurde durch
das gravimetrische Mikrogleichgewicht gemessen. Die Probe wurde
unter einem Heliumstrom 12 Stunden bei 350°C aktiviert; dann wurde ein
Heliumstrom mit einer vorgegebenen Wassermenge über die Probe geleitet, bis
das Gleichgewicht erreicht war. Bei einem Wasserpartialdruck von
0,031 Pa (0,00023) Torr hatte die Probe eine Wasserkapazität von 0,123
mMol/g.
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Beispiel 2
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Herstellung eines Adsorptionsmittels
aus Zirconiumsulfat und Aluminiumoxid
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Eine
auf ein anorganisches Al2O3-Substrat abgeschiedene
Adsorptionsmittelprobe aus Zr(SO4)2 wurde in folgenden Schritten hergestellt:
Zugabe von 10,2 g Alcan AA-300 Al2O3 in eine Lösung von 10 g Zr(SO4)2, die in 18 cc
destilliertem Wasser gelöst
war; und Trocknen des imprägnierten
Al2O3 bei Raumtemperatur über Nacht.
Die Probe enthielt 25 Gew.-% Zr(SO4)2. Eine
thermogravimetrische Analyse (TGA) wurde durchgeführt, um
die Wasserkapazität
und Aktivierungstemperatur der Probe zu messen. Die Bedingungen
für die
TGA waren wie folgt: 91,576 mg der Probe wurden in die TGA-Anlage
gelegt und dann mit 10°C/min
unter 100 cc/min N2-Strom auf 800°C erwärmt. Die
Gewichtsveränderung
der Probe ist in 2 zu sehen. Wie 2 zeigt,
beträgt
der Gewichtsverlust etwa 9 %, und es ist kein SO2 zwischen
110°C und
350°C zu
beobachten. Da kein SO2 zu beobachten ist,
ist der Gewichtsverlust auf die Entfernung von Wasser zurückzuführen. Diese
Ergebnisse zeigen ferner, dass die Probe bei einer oder mehreren
Temperaturen unter 350°C
aktiviert werden kann und eine Kapazität von etwa 5 mMol/g für stark
adsorbiertes Wasser hat. Diese wird auf folgende Weise bestimmt:
1
g Wasser = 1/18 Mol Wasser = 1.000/18 mMol Wasser
9 % Gewichtsverlust
= 0,09 g pro g Adsorptionsmittel entferntes Wasser
0,09 × 100/18
mMol entferntes Wasser = 5 mMol entferntes Wasser pro g Adsorptionsmittel.