DE60106838T2

DE60106838T2 - Solvent mixture for use in the removal of high purity precursors

Info

Publication number: DE60106838T2
Application number: DE60106838T
Authority: DE
Inventors: Robert Sam Zorich; Xinjian Lei; David James Silva; Cynthia Lee Trent
Original assignee: Air Products and Chemicals Inc
Current assignee: Air Products and Chemicals Inc
Priority date: 2000-09-29
Filing date: 2001-09-28
Publication date: 2005-04-14
Anticipated expiration: 2021-09-29
Also published as: JP2002219432A; KR100408736B1; ATE281510T1; EP1193309B1; EP1193309A1; TW486392B; KR20020025820A; DE60106838D1

Abstract

The present invention is a process for cleaning a manifold which delivers high purity source chemical from a high purity source chemical container to a point of use after delivery of the high purity source chemical through the manifold is discontinued, comprising; evacuating the manifold by connection to a source of vacuum, terminating the evacuation, introducing at least one solvent for the high purity source chemical into the manifold from at least one source of the at least one solvent, dissolving any residual high purity source chemical in the manifold into the at least one solvent, venting a resulting mixture of residual high purity source chemical and solvent from the manifold, purging such as by pressurizing the manifold by connection to a source of preferably elevated pressure inert gas and terminating the purging i.e. pressurizing, before reintroducing high purity source chemical into the manifold.

Description

Hintergrund der Erfindungbackground the invention

Die vorliegende Erfindung betrifft das Gebiet der Zuführung von Prozesschemikalien in der Elektronikindustrie und andere Anwendungen, bei denen Chemikalien in hoher Reinheit zugeführt werden müssen. Genauer geht es bei der Erfindung um Lösungsmittelmischungen und Verfahren zur Reinigung von Leitungen für die Zuführung von Prozesschemikalien, Behälter dafür und damit zusammenhängende Apparate, insbesondere während des Austauschs von Prozesschemikalien oder Behältern für Prozesschemikalien in solchen Zuführleitungen für Prozesschemikalien.The The present invention relates to the field of delivery of Process chemicals in the electronics industry and other applications, where chemicals must be supplied in high purity. More accurate Is it in the invention to solvent mixtures and method for cleaning lines for the supply of process chemicals, container for that and related Apparatus, in particular during the exchange of process chemicals or containers for process chemicals in such supply lines for process chemicals.

Die Evakuierung und Gasspülung von Leitungen für Prozesschemikalien ist dafür eingesetzt worden, um rückständige Prozesschemikalien aus Zuführleitungen zu entfernen. Sowohl ein Abziehen im Vakuum als auch eine Spülung mit Inertgas sind erfolgreich, wenn es darum geht, stark flüchtige Chemikalien rasch zu entfernen, sind aber bei Chemikalien von geringer Flüchtigkeit nicht effektiv. Die Sicherheit ist bei der Extraktion hochtoxischer Materialien ein Problem.The Evacuation and gas flushing of wires for Process chemicals are for it been used to back process chemicals from supply lines to remove. Both a vacuum stripping and a rinse with Inert gas is successful when it comes to highly volatile chemicals but are of low volatility for chemicals not effective. Safety is highly toxic during extraction Materials a problem.

Die Verwendung von Lösungsmitteln zur Entfernung rückständiger Chemikalien ist nicht neu. Es wurden schon verschiedene Patente beantragt, in denen es um die Reinigung von Systemen unter Verwendung von Lösungsmitteln geht. Diese werden hiermit durch Bezugnahme ausdrücklich in ihrem vollen Umfang in diese Anmeldung aufgenommen:

US-A-5,045,117 beschreibt ein Verfahren und einen Apparat zur Reinigung gedruckter Drahtanordnungen mit einem Lösungsmittel und durch die Wirkung eines Vakuums.
US-A5,115,576 offenbart einen Apparat und ein Verfahren zur Reinigung von Halbleiterwafern unter Verwendung eines Lösungsmittels aus Isopropylalkohol.

The use of solvents to remove residual chemicals is not new. Several patents have been filed to clean systems using solvents. These are hereby expressly incorporated into this application by reference in their entirety.

US-A-5,045,117 describes a method and apparatus for cleaning printed wire assemblies with a solvent and by the action of a vacuum.
US-A-5,115,576 discloses an apparatus and method for cleaning semiconductor wafers using a solvent of isopropyl alcohol.

Weitere Patente bezüglich der Reinigung mit Lösungsmitteln umfassen: US-A 5,744,436; US-A 5,605,647; US-A 5,494,601; US-A 5,560,861; US-A 4,578,209; US-A 5,135,676; US-A 5,607,912; US-A 5,762,817; US-A 5,352,375; US-A 5,827,454; US-A 5,275,669; US-A 5,750,488; US-A 5,444,102; US-A 6,042,749; US-A 5,531,916; US-A 5,118,359; US-A 5,298,083; US-A 5,304,322. US-A 5,562,861; US-A 5,685,915; US-A 5,695,688; US-A 5,716,549; EP 0 710 715A1 ; JP 73 16 595A2 ; JP 80 34 996A2 ; JP 81 202 98A2 , US-A-5,484,480; US-A-5,827,454.Other solvent purification patents include: US-A 5,744,436; US-A 5,605,647; US-A 5,494,601; US-A 5,560,861; US-A 4,578,209; US-A 5,135,676; US-A 5,607,912; US-A 5,762,817; US-A 5,352,375; US-A 5,827,454; US-A 5,275,669; US-A 5,750,488; US-A 5,444,102; US-A 6,042,749; US-A 5,531,916; US-A 5,118,359; US-A 5,298,083; US-A 5,304,322. US-A 5,562,861; US-A 5,685,915; US-A 5,695,688; US-A 5,716,549; EP 0 710 715A1 ; JP 73 16 595A2 ; JP 80 34 996 A2 ; JP 81 202 98A2 US-A-5,484,480; US-A-5,827,454.

Die Erfindung löst die Probleme des Standes der Technik bei der Reinigung von Prozessleitungen oder -rohren durch die neuartige Verwendung einer Lösungsmittelmischung, insbesondere einer Perfluorhexan/Heptan-Mischung, die für maximale Reinigungseffizienz sorgt, dabei aber nur minimale Auswirkungen auf die Umwelt hat, bei der Reinigung der Innenwände von Rohrleitungen eines chemischen Zuführsystems, die ultrarein sein müssen. In diesem Fall ist der hochreine Vorläufer in einer Zuführleitung verblieben und muss entfernt werden. In bestimmten Fällen ist die Flüchtigkeit des Vorläufers zu gering, als dass er mit den klassischen Vakuumspültechniken entfernt werden könnte. Die Parameter der Erfindung und der daraus zu ziehende Nutzen bei der Beseitigung der Mängel des Standes der Technik sind im folgenden im Einzelnen aufgeführt.The Invention solves the problems of the prior art in the cleaning of process lines or tubes by the novel use of a solvent mixture, in particular a perfluorohexane / heptane mixture for maximum cleaning efficiency but has minimal impact on the environment, when cleaning the interior walls of pipelines of a chemical delivery system that may be ultra-pure have to. In this case, the high purity precursor remains in a feed line and must be removed. In certain cases, the volatility of the precursor too low, as he does with the classic vacuum flushing techniques could be removed. The parameters of the invention and the benefits to be derived therefrom the elimination of defects The prior art is detailed below.

Kurze Zusammenfassung der ErfindungShort Summary the invention

Bei der Erfindung handelt es sich um ein Verfahren zur Reinigung eines Verteilerstücks bzw. Sammelrohrs, das eine hochreine Quellenchemikalie aus einem Behälter für hochreine Quellenchemikalien zu einem Verwendungspunkt übermittelt, nachdem die Zufuhr der hochreinen Quellenchemikalie durch das Sammelrohr abgestellt wurde. Es umfasst das Evakuieren des Verteilerstücks bzw. Sammelrohrs durch Verbinden mit einer Vakuumquelle, das Beenden der Evakuierung, das Einführen von mindestens einem Lösungsmittel für die hochreine Quellenchemikalie in das Verteilerstück bzw. Sammelrohr aus mindestens einer Quelle des mindestens einen Lösungsmittels, das Lösen aller Rückstände der hochreinen Quellenchemikalie im Verteilerstück bzw. Sammelrohr in dem mindestens einen Lösungsmittel und das Ablassen des resultierenden Gemischs aus der rückständigen hochreinen Quellenchemikalie aus dem Verteilerstück bzw. Sammelrohr. Nach dem Ablassen des Lösungsmittels wird das Verfahren fortgesetzt, indem das Verteilerstück bzw. Sammelrohr durch Anschließen an eine Inertgasquelle gespült und das Spülen dann beendet wird.at the invention is a process for the purification of a manifold or collection tube, which is a high-purity source chemical from a container for high purity Sources chemicals to a point of use after the feed the highly pure source chemical is turned off by the manifold has been. It includes the evacuation of the manifold or manifold through Connect with a vacuum source, stop the evacuation, the Introduce of at least one solvent for the highly pure source chemical into the manifold or manifold from at least a source of the at least one solvent, dissolving all Residues of the high purity Source chemical in distributor or collecting tube in the at least one solvent and the draining the resulting mixture of the residual high purity source chemical from the manifold or manifold. After draining the solvent, the procedure continued by the manifold or manifold by connecting to a Flushed inert gas source and the rinse then it ends.

Alternativ können bei der Erfindung die vorherige Evakuierung sowie das Spülen oder die Erhöhung des Drucks vermieden und die rückständige Chemikalie vor dem Spülen mit Lösungsmittel einfach aus dem Verteilerstück bzw. Sammelrohr abgelassen werden. In diesem Fall ist die Erfindung ein Verfahren zur Reinigung eines Verteilerstücks bzw. Sammelrohrs, das eine hochreine Quellenchemikalie aus einem Behälter für hochreine Quellenchemikalien an einen Verwendungspunkt leitet, nachdem die Abgabe der hochreinen Quellenchemikalie durch das Verteilerstück bzw. Sammelrohr abgestellt wurde, und umfasst: das Ablassen des Verteilerstücks bzw. Sammelrohrs durch Anschließen an ein Ablassstück, Einführen mindestens eines Lösungsmittel für die hochreine Quellenchemikalie in das Verteilerstück bzw. Sammelrohr aus mindestens einer Quelle des mindestens einen Lösungsmittels, das Lösen der eventuell noch vorhandenen hochreinen Quellenchemikalie im Verteilerstück bzw. Sammelrohr in dem mindestens einen Lösungsmittel und das Ablassen des resultierenden Gemischs aus der rückständigen hochreinen Quellenchemikalie und dem Lösungsmittel aus dem Verteilerstück bzw. Sammelrohr.Alternatively, in the invention, the prior evacuation, as well as the purging or increase in pressure, can be avoided and the residual chemical simply purged from the manifold prior to flushing with solvent. In this case, the invention is a method for cleaning a header pipe that directs a high purity source chemical from a high purity source chemical tank to a point of use after the discharge of the high purity source chemical has been shut off by the header and comprises: the Discharging the manifold by connecting to a drain, introducing at least one solvent for the high purity source chemical into the manifold from at least one source of the at least one solvent, dissolving any remaining high purity source chemical in the manifold in the header at least one solvent and draining the resulting mixture of the residual high purity source chemical and the solvent from the header.

Vorzugsweise ist das mindestens eine Lösungsmittel eine Mischung von Lösungsmitteln, und ein Lösungsmittel macht die hochreine Quellenchemikalie unentflammbar. Optimalerweise ist das mindestens eine Lösungsmittel eine Mischung von Lösungsmitteln, und ein Lösungsmittel macht die hochreine Quellenchemikalie ungefährlich.Preferably this is at least one solvent a mixture of solvents, and a solvent makes the high purity source chemical unflammable. optimally, this is at least one solvent a mixture of solvents, and a solvent makes the high purity source chemical harmless.

Die hochreine Chemikalie wird aus der Gruppe ausgewählt, die besteht aus: Tantalpentaethoxid (TAETO), tetrakis(Diethylamino)titan (TDEAT), tetrakis(Dimethylamino)titan (TDMAT), Tetramethylcyclotetrasiloxan (TMCTS), Kupferhexafluoracetylacetonat-Trimethylvinylsilan (Cu(hfac)TMVS), Tetraethylorthosilicat (TEOS), Trimethylborat (TMB), Triethylborat (TEB), Trimethylphosphit (TMPi), Triethylphosphat (TEPO), Bis-tert-butylaminosilan (BTBAS), Tantaltetraethoxiddimethylaminoethoxid (TAT-DMAE), t-Butylimidotrisdiethylamidotantal (TBTDET), Triethylarsenit (TEOA), Polyarylenethern und deren Gemischen.The high purity chemical is selected from the group consisting of: tantalum pentaethoxide (TAETO), tetrakis (diethylamino) titanium (TDEAT), tetrakis (dimethylamino) titanium (TDMAT), tetramethylcyclotetrasiloxane (TMCTS), copper hexafluoroacetylacetonate-trimethylvinylsilane (Cu (hfac) TMVS), tetraethyl orthosilicate (TEOS), trimethylborate (TMB), Triethyl borate (TEB), trimethyl phosphite (TMPi), triethyl phosphate (TEPO), bis-tert-butylaminosilane (BTBAS), tantalum tetra ethoxide dimethylaminoethoxide (TAT-DMAE), t-butylimidotrisdiethylamidotantal (TBTDET), triethylarsenite (TEOA), Polyarylene ethers and their mixtures.

Das mindestens eine Lösungsmittel ist ein Fluorkohlenstoff oder eine Mischung aus einem fluorkohlenstoffhaltigen Lösungsmittel und einem Kohlenwasserstofflösungsmittel.The at least one solvent is a fluorocarbon or a mixture of a fluorocarbon-containing solvent and a hydrocarbon solvent.

Detaillierte Beschreibung der ErfindungDetailed description the invention

Die Erfindung umfasst ein Verfahren zur Verwendung einer Familie hochreiner Lösungsmittel mit geringen Auswirkungen auf die Umwelt, die in einem Lösungsmittelspülprozess eingesetzt werden, bei dem die Innenfläche hochreiner Prozessleitungen einen Rückstand eines Vorläufers von ultrahoher Reinheit und niedrigem Dampfdruck für die chemische Dampfabscheidung (CVD) und andere Halbleiterherstellungsprozesse enthält.The Invention includes a method of using a family of high purity solvent with little impact on the environment, in a solvent flushing process be used, in which the inner surface of high-purity process lines a residue a precursor of ultra-high purity and low vapor pressure for chemical vapor deposition (CVD) and other semiconductor manufacturing processes.

Die Erfindung kann in einem Apparat gemäß US-A-5,964,230 vom 12. Oktober 1999 eingesetzt werden, das an die Inhaberin des vorliegenden Patents abgetreten wurde.The The invention may be used in an apparatus according to US-A-5,964,230 dated 12th October 1999 to the proprietor of the present patent was ceded.

Die Schwierigkeit in der Halbleiterindustrie besteht darin, dass Vorläuferchemikalien mit besonders geringem Dampfdruck mit einer standardmäßigen Vakuumzyklusspülung nicht aus dem Inneren hochreiner Prozessleitungssysteme entfernt werden können. Die Konsequenzen dieser unvollständige Entfernung stellen ein Sicherheitsrisiko für den Betreiber dar. Außerdem kann die Reaktivität des Vorläufers mit Luft und Feuchtigkeit zur Bildung von Partikeln und damit zur Kontaminierung oder noch heftigeren Reaktionen führen. Die Lösungsmittel, die diese Materialien am besten lösen, sind im Allgemeinen Kohlenwasserstoffe und/oder Fluorchlorkohlenstoffe (FCKs), die entflammbar oder toxisch sind, korrodierend wirken, reaktiv sind oder die Umwelt belasten. Bei Ethanol bestehen aufgrund nationaler und internationaler Vorschriften außerdem Beschränkungen für den Versand. Da diese Vorläufermaterialien im allgemeinen empfindlich gegenüber Luft und/oder Feuchtigkeit sind, sollten praktisch nahezu 100 % von den Innenwänden der Prozessleitungen entfernt werden.The Difficulty in the semiconductor industry is that precursor chemicals with very low vapor pressure with a standard vacuum cycle flush can be removed from the interior of high-purity process piping systems. The Consequences of this incomplete removal pose a security risk for the operator. In addition can the reactivity of the precursor with air and moisture to form particles and thus to Contamination or even more severe reactions. The solvents that these materials solve best, are generally hydrocarbons and / or chlorofluorocarbons (FCKs), which are flammable or toxic, corrosive, reactive or pollute the environment. For ethanol exist due to national and international regulations also restrictions on shipping. Because these precursor materials generally sensitive to Air and / or moisture should be virtually close to 100% of the inner walls the process lines are removed.

Für die Zwecke der Erfindung sind gefährliche Prozesschemikalien oder Quellenchemikalien solche Chemikalien, die die Vorgaben von Regierungsbehörden wie z.B. der U.S. Umweltschutzbehörde, wie im Barclays California Code of Regulations, Titel 22, Absatz 66261.30-66261-33 beispielhaft angeführt, erfüllen.For the purpose The invention is dangerous Process chemicals or source chemicals such chemicals the requirements of government agencies such as. U.S. Pat. Environmental Protection Agency, as in Barclays California Code of Regulations, Title 22, paragraph 66261.30-66261-33 cited by way of example.

In den letzten Jahren wurden zahlreiche Reinigungslösungsmittel für die Verwendung bei Anwendungen identifiziert, bei denen Rückstände von verschiedenen Gegenständen, die so unterschiedlich wie gedruckte Schaltkreise und Getriebefluids für Automobile sind, entfernt werden müssen. In diesen Fällen handelt es sich bei den Materialien, die entfernt werden, um Abfallprodukte und nicht um ultrareine Vorläufer, die sich innerhalb der Leitungen für Prozesschemikalien befinden, welche ebenfalls ultrarein bleiben müssen.In In recent years, numerous cleaning solvents have been used identified in applications where residues of various objects, the as different as printed circuits and transmission fluids for automobiles are, must be removed. In these cases The materials that are removed are waste products and not ultra-pure precursors, which are located inside the lines for process chemicals, which also have to remain ultra-pure.

Es sind zwar schon viele Kombinationen ausprobiert worden, doch die Erfinder haben in der aktuellen Literatur noch keine Kombination aus diesem Verfahren und einem Lösungsmittel oder einer Lösungsmittelmischung gefunden. Bei der Erfindung geht es um die Verwendung gemischter Lösungsmittel sowie reiner Lösungsmittel, die die von der Halbleiterindustrie einzuhaltenden Vorschriften in Bezug auf Sicherheit sowie Verfahrens- und Umweltschutz erfüllen und den Bebauungsvorschriften entsprechen. Das mindestens eine Lösungsmittel ist ein Fluorkohlenstoff oder eine Mischung aus einem fluorkohlenstoffhaltigen Lösungsmittel und einem Kohlenwasserstofflösungsmittel. Die Mischungen enthalten bevorzugt Perfluorkohlenstoffe als Trägerlösungsmittel und in einigen Fällen auch als primäre Lösungsmittel sowie Kohlenwasserstofflösungsmittel mit geeigneten Werten für Löslichkeit sowie Dampfdruck und Flammpunkten.It Although many combinations have been tried, but the Inventors still have no combination in the current literature from this process and a solvent or a solvent mixture found. The invention involves the use of mixed solvent as well as pure solvent, the regulations to be followed by the semiconductor industry in terms of safety, process and environmental protection, and comply with the building regulations. The at least one solvent is a fluorocarbon or a mixture of a fluorocarbon-containing solvent and a hydrocarbon solvent. The mixtures preferably contain perfluorocarbons as the carrier solvent and in some cases also as primary solvent and hydrocarbon solvents with suitable values for solubility as well as vapor pressure and flashpoints.

In einer bevorzugten Ausführungsform, in der der Lösungsmittelspülapparat von US-A-5,964,230 verwendet wird, wird der Großteil des Vorläufers der Prozesschemikalie mit einem Inertgas (Helium, Stickstoff Argon oder einem anderen geeigneten Inertgas) aus dem Bereich der Zuführleitung gespült, in dem der Spülvorgang erforderlich ist, so dass nur der Vorläufer der Prozesschemikalie an den Wänden der Rohre zurückbleibt.In a preferred embodiment, in the solvent flushing apparatus is used by the US-A-5,964,230, the majority of the precursor of the Process chemical with an inert gas (helium, nitrogen argon or another suitable inert gas) from the area of the supply line rinsed, in which the rinsing process is required, leaving only the precursor of the process chemical on the walls the tubes remains behind.

Ein Vakuum wird an den Innenbereich des Lösungsmittelspülapparates, der gespült werden soll, angelegt.One Vacuum is applied to the interior of the solvent flushing apparatus, the rinsed should be created.

Ein Lösungsmittel, das in der Masse aus einem Träger wie Perfluorhexan oder einem ähnlichen Material und einem Kohlenwasserstofflösungsmittel wie Hexan oder Heptan besteht, oder ein ungemischtes Lösungsmittel aus einem einzigen Material wird unter Druck in die Spülregion eingespritzt. Es wird darauf hingewiesen, dass ein reines solvatisierendes Material, das die Sicherheits- und Umweltschutzkriterien erfüllt und außerdem die leichte Lösung des Vorläufers ermöglicht, ein akzeptables Lösungsmittel für diese Anwendung ist.One Solvent, that in bulk from a carrier such as perfluorohexane or a similar material and a hydrocarbon solvent such as Hexane or heptane, or a non-mixed solvent from a single material is pressurized into the rinse region injected. It should be noted that a pure solvating material, that meets the safety and environmental criteria and Furthermore the easy solution of the precursor allows an acceptable solvent for this Application is.

Das kontaminierte Lösungsmittel wird dann zu einem Auffanggefäß, das ggfs. Kohlenstoff oder ein anderes absorbierendes Medium enthalten kann, oder zu einem Ablassstutzen in ein Beruhigungssystem geleitet. Die Wahl der absorbierenden Medien hängt unmittelbar mit der Entflammbarkeit, Reaktivität, Toxizität und der korrodierenden Wirkung der Vorläufer und des Lösungsmittelgemischs zusammen und sollte durch Tests bestimmt werden.The contaminated solvents then becomes a collecting vessel, if necessary. May contain carbon or other absorbing medium, or directed to a drain port in a calming system. The vote the absorbent media hangs directly with the flammability, reactivity, toxicity and corrosive effect the precursor and the solvent mixture together and should be determined by tests.

Die Wäsche des Inneren der Rohrleitung mit Lösungsmittel wird wiederholt, bis alle Spuren des Vorläufers entfernt sind. Die Wäsche mit dem Lösungsmittel wird im folgenden näher beschrieben.The Laundry the interior of the pipeline with solvent is repeated, until all traces of the precursor are removed. The laundry with the solvent will be closer in the following described.

Die Prozesschemikalien oder hochreinen Quellenchemikalien werden aus folgender Gruppe ausgewählt: Tantalpentaethoxid (TAETO), tetrakis(Diethylamino)titan (TDEAT), tetrakis(Dimethylamino)titan (TDMAT), Kupferhexafluoracetylacetonat-Trimethylvinylsilan (Cu(hfac)TMVS), Tetraethylorthosilicat (TEOS), Tetramethylcyclotetrasiloxan (TMCTS), Trimethylborat (TMB), Triethylborat (TEB), Trimethylphosphit (TMPi) und Triethylphosphat (TEPO), Bis-tert-butylaminosilan (BTBAS), Tantaltetraethoxiddimethylaminoethoxid (TAT-DMAE), t-Butylimidotrisdiethylamidotantal (TBTDET), Triethylarsenit (TEOA) und Gemische davon.The Process chemicals or high-purity source chemicals are out selected from the following group: Tantalum pentaethoxide (TAETO), tetrakis (diethylamino) titanium (TDEAT), tetrakis (dimethylamino) titanium (TDMAT), copper hexafluoroacetylacetonate-trimethylvinylsilane (Cu (hfac) TMVS), tetraethyl orthosilicate (TEOS), tetramethylcyclotetrasiloxane (TMCTS), Trimethyl borate (TMB), triethyl borate (TEB), trimethyl phosphite (TMPi) and triethyl phosphate (TEPO), bis-tert-butylaminosilane (BTBAS), tantalum tetraethoxide dimethylaminoethoxide (TAT-DMAE), t-butylimidotrisdiethylamidotantal (TBTDET), triethylarsenite (TEOA) and mixtures thereof.

Kohlenwasserstoffe sind beliebte primäre Lösungsmittel, wie z.B. solche, die von Erdöl und pflanzlichen Grundstoffen abgeleitet sind; Alkohole, Glycol; Glycolether; Ester; Aldehyde; Ketone; Ether; halogenierte Kohlenwasserstoffe; Stickstoffverbindungen; Schwefelverbindungen; Silikonverbindungen; normales Heptan; 2- und 3-Methylhexan; 2,3- und 3,3-Dimethylpentan; 2,4- und 2,2-Dimethylhexan; Dimethylcyclopentan; Methylcyclohexan und Ethylpentan. Andere Kohlenwasserstoffe wie n-Pentan; 2-Methylbutan; 2,2-Dimethylpropan; n-Hexan; 3-Methylpentan; 2,2-Dimethylbutan; 2,3-Dimethylbutan; n-Heptan; 2-Methylhexan; 3-Methylhexan; 2,3-Dimethylpentan; 2,4-Dimethylpentan; n-Octan; 2,2,3-Trimethylpentan; 2,2,4-Trimethylpentan; Cyclopentan; Cyclohexan; Methylcyclohexan und Ethylcyclohexan; chlorierte Kohlenwasserstoffe wie Dichlormethan cis-1,2-Dichlorethylen können in Erwägung gezogen werden.hydrocarbons are popular primary solvents, such as. those of petroleum and vegetable commodities are derived; Alcohols, glycol; glycol ethers; esters; aldehydes; ketones; ether; halogenated hydrocarbons; Nitrogen compounds; Sulfur compounds; Silicone compounds; normal heptane; 2- and 3-methylhexane; 2,3- and 3,3-dimethylpentane; 2,4- and 2,2-dimethylhexane; methylcyclopentane; Methylcyclohexane and ethylpentane. Other hydrocarbons like n-pentane; 2-methylbutane; 2,2-dimethyl propane; n-hexane; 3-methylpentane; 2,2-dimethylbutane; 2,3-dimethylbutane; n-heptane; 2-methylhexane; 3-methylhexane; 2,3-dimethylpentane; 2,4-dimethylpentane; n-octane; 2,2,3-trimethylpentane; 2,2,4-trimethylpentane; Cyclopentane; cyclohexane; Methylcyclohexane and ethylcyclohexane; chlorinated Hydrocarbons such as dichloromethane cis-1,2-dichloroethylene can be used in Consideration become.

Ebenfalls denkbar sind aromatische, carboxylische, halogenierte, Stickstoff und Sauerstoff enthaltende Lösungsmittel wie trans-l,2-Dichlorethylen; Trichlorethylen und Tetrachlorethylen; Ketone wie Aceton; Methylethylketon; Methylbutylketon und Methylisobutylketon; Ether wie Diethylether; Methylcellosolve; Tetrahydrofuran und 1,4-Dioxan; Chlorfluorkohlenwasserstoffe wie 2,2-Dichlor-1,1,1-trifluorethan und 1,1-Dichlor-1-fluorethan und Ester wie Methylacetat; Ethylacetat; Propylacetat und Butylacetat; Nitroverbindungen wie Nitromethan; Nitro ethan; Nitropropan und Nitrobenzol; Amine wie Diethylamin; Triethylamin; i-Propylamin; n-Butylamin und i-Butylamin; Phenol wie Phenol; o-Cresol; m-Cresol; p-Cresol; Thymol; p-t-Butylphenol; t-Butylcatechol; Catechol; Isoeugenol; o-Methoxyphenol; Bisphenol A; Isoamylsalicylat; Benzylsalicylat; Methylsalicylat und 2,6-Di-t-butyl-p-cresol; und Triazole, wie z.B. 2-(2'-Hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazol; 2-(2'-Hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl)-5-chlorbenzotriazol; 1,2,3-Benzotriazol und 1-[(N,N-bis-2-Ethylhexyl)aminomethyl]-benzotriazol; Alkohole, ausgewählt aus der Gruppe 1-Butanol; 2-Butanol; Ethanol; 2-Methyl-1-propanol; 2-Methyl-2-propanol; 1-Pentanol; 2-Pentanol; 1-Propanol und 2-Propanol; Ester; Kohlenwasserstoffe, ausgewählt aus der Gruppe Cyclopropan; Cecan; 2,3-Dimethylpentan; 2,4-Dimethylpentan; 2,2-Dimethylpropan; Heptan; Isobutan; Limonen; 2-Methylbutan; 3-Methylhexan; 3-Methylpentan; Nonan; Octan; Pentan; Pinen; Propan; Terpentin und Undecan.Also conceivable are aromatic, carboxylic, halogenated, nitrogen and oxygen-containing solvents such as trans-1, 2-dichloroethylene; Trichlorethylene and tetrachlorethylene; Ketones such as acetone; methyl ethyl ketone; Methyl butyl ketone and methyl isobutyl ketone; Ethers, such as diethyl ether; methyl; Tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; Chlorofluorocarbons such as 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane and 1,1-dichloro-1-fluoroethane and esters such as methyl acetate; ethyl acetate; Propyl acetate and butyl acetate; Nitro compounds such as nitromethane; Nitro ethane; Nitropropane and nitrobenzene; Amines such as diethylamine; triethylamine; i-propylamine; n-butylamine and i-butylamine; Phenol, such as phenol; o-cresol; m-cresol; p-cresol; thymol; p-t-butylphenol; t-butylcatechol; catechol; isoeugenol; o-methoxyphenol; Bisphenol A; isoamyl; benzyl; Methyl salicylate and 2,6-di-t-butyl-p-cresol; and triazoles, e.g. 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole; 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole; 1,2,3-benzotriazole and 1 - [(N, N-bis-2-ethylhexyl) aminomethyl] benzotriazole; alcohols, selected from the group 1-butanol; 2-butanol; ethanol; 2-methyl-1-propanol; 2-methyl-2-propanol; 1-pentanol; 2-pentanol; 1-propanol and 2-propanol; esters; Hydrocarbons selected from the group cyclopropane; Cecan; 2,3-dimethylpentane; 2,4-dimethylpentane; 2,2-dimethyl propane; heptane; isobutane; limonene; 2-methylbutane; 3-methylhexane; 3-methylpentane; nonane; octane; pentane; pinene; Propane; Turpentine and undecane.

Lösungsmittel, die besonders nützlich zum Einmischen sind, weil sie die Entflammbarkeit oder gefährliche Bedingungen verhindern, umfassen Perfluorkohlenstoffe wie Decafluorbutan; Dodecafluorpentan; Hexafluorcyclopropan; Hexafluorethan; Octafluorcyclobutan; Octafluorpropan; Tetradecafluorhexan und Tetrafluormethan; 1,1,1,2,2-Pentafluorbutan; 1,1,1,2,2-Pentafluorpentan; 2-Methyl-3,3,4,4,4-pentafluorbutan; 2-Trifluormethyl-1,1,1,2-tetrafluorbutan; 1,1,1,2,2,3,3-Heptafluorpentan; 1,1,1,2,2,3,3-Heptafluorhexan; 2-Trifluormethyl-1,1,1,2-tetrafluorpentan; 4-Methyl-1,1,1,2,2,3,3-heptafluorpentan; 3-Methyl-2-trifluormethyl-1,1,1,2-tetrafluorbutan; 1,1,1,2,2,3,3,4,4-Nonafluorhexan; 2-Trifluormethyl-1,1,1,2,3,3-hexafluorpentan; 2,2-(bis)Trifluormethyl-1,1,1-trifluorbutan; 1,1,1,2,2,3-Hexafluor-3-trifluormethylpentan; 1,1,1,2,2,3,3,4,4-Nonafluorheptan; 5-Methyl-1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluorhexan; 2-Trifluormethyl-1,1,1,2,3,3-hexafluorhexan; 4-Methyl-2-trifluormethyl-1,1,1,2,3,3-hexafluorpentan; 2,2-Trifluormethyl-1,1,1-trifluorpentan; 3-Methyl-2,2-trifluormethyl-1,1,1-Trifluorbutan; 1,1,1,2,2,3-Hexafluor-3-trifluormethylhexan; 1,1,1,2,2,3-Hexafluor-3-trifluormethyl-4-methylpentan; 2-Trifluormethyl-2-fluorpropan; 2-Methyl-1,1,1,2-tetrafluorbutan; 3-Methyl-1,1,1,2,2,3-hexafluorpentan; 4-Methyl-1,1,1,2,2,3,3,4-octafluorhexan; 3-Methyl-2-trifluormethyl-1,1,1,2,3-pentafluorpentan; 2-Methyl-1,1,1,3,3,4,4,4-octafluorbutan; 3-Methyl-1,1,1,2,2,4,4,5,5,5-decafluorpentan; 2-Methyl-1,1,1,3,3,4,4,5,5,5-decafluorpentan; 3-Trifluormethyl-1,1,1,2,2-pentafluorpentan; 3-Pentafluorethyl-1,1,1,2,2-pentafluorpentan; 4-Trifluormethyl-1,1,1,2,2,3,3-heptafluorhexan; 2-Methyl-2-trifluormethyl-1,1,1-trifluorpropan; 2-Methyl-2-trifluormethyl-3,3,4,4,4-pentafluorbutan; 2-Methyl-2-trifluormethyl-1,1,1-trifluorbutan; 3,3-Dimethyl-1,1,1,2,2,4,4,5,5,5-decafluorpentan; 3-Methyl-3- trifluormethyl-1,1,1,2,2-pentafluorpentan; 3,3-bis(Trifluormethyl)pentan; 2,2-Dimethyl-1,1,1,3,3,4,4,5,5,5-decafluorpentan und 2-Methyl-2-trifluormethyl-1,1,1-trifluorpentan.Solvents that are particularly useful for incorporation because they prevent flammability or hazardous conditions include perfluorocarbons such as decafluorobutane; dodecafluoropentane; hexafluorocyclopropane; hexafluoroethane; octafluorocyclobutane; octafluoropropane; Tetradecafluorohexane and tetrafluoromethane; 1,1,1,2,2-pentafluorobutane; 1,1,1,2,2-pentafluoropentane; 2-methyl-3,3,4,4,4-pentafluorobutane; 2-trifluoromethyl-1,1,1,2-tetrafluorobutane; 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoropentane; 1,1,1,2,2,3,3-heptafluorohexane; 2-trifluoromethyl-1,1,1,2-tetrafluoro pentane; 4-methyl-1,1,1,2,2,3,3-heptafluoropentane; 3-methyl-2-trifluoromethyl-1,1,1,2-tetrafluorobutane; 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluorohexane; 2-trifluoromethyl-1,1,1,2,3,3-hexafluoropentane; 2,2- (bis) trifluoromethyl-1,1,1-trifluorobutane; 1,1,1,2,2,3-hexafluoro-3-trifluoromethylpentane; 1,1,1,2,2,3,3,4,4-Nonafluorheptan; 5-methyl-1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluorohexane; 2-trifluoromethyl-1,1,1,2,3,3-hexafluorhexan; 4-methyl-2-trifluoromethyl-1,1,1,2,3,3-hexafluoropentane; 2,2-trifluoromethyl-1,1,1-trifluoropentane; 3-methyl-2,2-trifluoromethyl-1,1,1-trifluorobutane; 1,1,1,2,2,3-hexafluoro-3-trifluormethylhexan; 1,1,1,2,2,3-hexafluoro-3-trifluoromethyl-4-methyl pentane; 2-trifluoromethyl-2-fluoropropane; 2-methyl-1,1,1,2-tetrafluorobutane; 3-methyl-1,1,1,2,2,3-hexafluoropentane; 4-methyl-1,1,1,2,2,3,3,4-octafluorohexane; 3-methyl-2-trifluoromethyl-1,1,1,2,3-pentafluoropentane; 2-methyl-1,1,1,3,3,4,4,4-octafluorobutane; 3-methyl-1,1,1,2,2,4,4,5,5,5-decafluoropentane; 2-methyl-1,1,1,3,3,4,4,5,5,5-decafluoropentane; 3-trifluoromethyl-1,1,1,2,2-pentafluoropentane; 3-pentafluoroethyl-1,1,1,2,2-pentafluoropentane; 4-trifluoromethyl-1,1,1,2,2,3,3-heptafluorohexane; 2-methyl-2-trifluoromethyl-1,1,1-trifluoropropane; 2-methyl-2-trifluoromethyl-3,3,4,4,4-pentafluorobutane; 2-methyl-2-trifluoromethyl-1,1,1-trifluorobutane; 3,3-dimethyl-1,1,1,2,2,4,4,5,5,5-decafluoropentane; 3-methyl-3-trifluoromethyl-1,1,1,2,2-pentafluoropentane; 3,3-bis (trifluoromethyl) pentane; 2,2-dimethyl-1,1,1,3,3,4,4,5,5,5-decafluoropentane and 2-methyl-2-trifluoromethyl-1,1,1-trifluoropentane.

Es wird ferner darauf hingewiesen, dass Prozesschemikalien, die reaktiv sind, aber lösliche Nebenprodukte zur Verfügung stellen, ebenfalls für die Erfindung geeignet sind und dass der Begriff Lösungsmittel in der Erfindung auch unter die breite Definition eines "Lösungsmittels" für Zwecke der Erfindung fällt. Zu dieser Kategorie reaktiver "Lösungsmittel" gehören Säuren, Basen und reaktive Lösungsmittel. Spezifische Beispiele sind die Verwendung von Ethanol mit TDEAT, wobei Titanethoxid erzeugt wird. Es ist in Ethanol löslich, so dass eine vollständige Entfernung sichergestellt ist. Salpetersäureverbindungen können dazu verwendet werden, Nebenprodukte der Kupferoxidation zu verwenden, während HF-Lösungen zum Einsatz kommen können, um Nebenprodukte der Oxidation wie Titanoxid oder Tantaloxid zu entfernen. Solche reaktiven "Lösungsmittel" der Quellenchemikalien gelten allgemein als Menge der Quellenchemikaliensäuren oder -basen, die in Kombination als Lösungsmittel für die hochreine Quellenchemikalie wirken oder mit der hochreinen Quellenchemikalie reagieren können, um hochlösliche Nebenprodukte zu erzeugen. Diese Gruppe kann HF, HNO₃, HCl, H₂SO₄, NaOH, KOH und verschiedene andere oxidierende und/oder reduzierende Mittel sowie organische Säuren und alkalische Substanzen, die sich für die Umsetzung oder Entfernung des Vorläufermaterials eignen, umfassen.It is further noted that process chemicals that are reactive but provide soluble by-products are also suitable for the invention and that the term solvent in the invention also falls within the broad definition of a "solvent" for purposes of the invention. This category of reactive "solvents" includes acids, bases, and reactive solvents. Specific examples are the use of ethanol with TDEAT to produce titanium ethoxide. It is soluble in ethanol so that complete removal is ensured. Nitric acid compounds can be used to utilize by-products of copper oxidation, while HF solutions can be used to remove by-products of oxidation such as titanium oxide or tantalum oxide. Such reactive "solvents" of the source chemicals are generally considered to be the amount of source chemical acids or bases which, in combination, act as solvents for the high purity source chemical or can react with the high purity source chemical to produce highly soluble by-products. This group can include HF, HNO ₃ , HCl, H ₂ SO ₄ , NaOH, KOH and various other oxidizing and / or reducing agents as well as organic acids and alkalis suitable for the reaction or removal of the precursor material.

Außerdem kann das Lösungsmittel die hochreine Chemikalie inert oder zumindest unentflammbar machen, wenn sie im Verteilerstück bzw. Sammelrohr miteinander vermischt werden. In dieser Klasse Lösungsmittel wären verschiedene fluorierte und perfluorierte organische oder kohlenwasserstoffhaltige Flüssigkeiten eingeschlossen. Perfluorkohlenwasserstoffe wie Perfluorhexan, Perfluorheptan und Gemische davon sind beispielhaft für solche Lösungsmittel. Außerdem können inerte Verbindungen wie Vakuumpumpenöle und/oder ähnliche Kohlenwasserstoff- oder Fluorkohlenstofföle verwendet werden.In addition, can the solvent make the high-purity chemical inert or at least non-flammable, if they are in the manifold or collecting tube are mixed together. Solvent in this class would be different fluorinated and perfluorinated organic or hydrocarbon liquids locked in. Perfluorocarbons such as perfluorohexane, perfluoroheptane and Mixtures of these are exemplary of such solvents. In addition, inert Compounds such as vacuum pump oils and / or similar Hydrocarbon or fluorocarbon oils are used.

Perfluorhexan wird als ein Massenträgerlösungsmittel vorgeschlagen. Darin sollten Wasser und gelöster Sauerstoff minimal gehalten werden. Die Entfernung von Wasser und Sauerstoff aus Perfluorkohlenstofflösungsmitteln ist bekannt und wird hier nicht beansprucht. Alternativ können in diesem Zusammenhang verschiedene Perfluorkohlenstoffverbindungen verwendet werden, solange sie die allgemeinen Kriterien erfüllen – sie dürfen nicht entflammbar oder müssen leicht unentflamm bar gemacht werden können, sie müssen mit dem primären Lösungsmittel mischbar sein und dürfen nicht mit dem Vorläufer reagieren. Sie müssen auf einfache Weise gewonnen und zurückgeführt werden können und dürfen keine Bedrohung für die Umwelt darstellen.perfluorohexane is used as a bulk carrier solvent proposed. It should minimize water and dissolved oxygen become. The removal of water and oxygen from perfluorocarbon solvents is known and is not claimed here. Alternatively, in In this context, various perfluorocarbon compounds used as long as they meet the general criteria - they are not allowed flammable or need they can be made with the primary solvent be mixable and allowed not with the precursor react. You need to can be easily recovered and returned and allowed to no threat to represent the environment.

Das primäre Lösungsmittel muss als direkte Funktion seiner Fähigkeit zur Absorption oder Solvatisierung des fraglichen Vorläufers, seiner Flüchtigkeit, die größer als die zugeführte Vakuumkapazität sein muss, und seines Flammpunktes, der so hoch wie möglich sein muss, gewählt werden. Diese Bedingungen können von Vorläufer zu Vorläufer schwanken, so dass verschiedene primäre Lösungsmittel erforderlich sind, damit das Verfahren funktioniert. Beispielsweise verwenden TDMAT und TDEAT Hexan oder Heptan als primäre Lösungsmittel. Kupfer-CVD-Vorläufer wie Cu(hfac)tmvs verwenden Trimethylvinylsilan (TMVS) als primäres Lösungsmittel. Die Lösungsmaterialien können so gewählt werden, dass eine Vielzahl von Vorläufern entfernt wird, einschließlich, aber nicht unbedingt beschränkt auf Tantalvorläufer wie TAETO und TBTDET; Titanvorläufer wie TDEAT und TDMAT; Kupfervorläufer, darunter Cu(hfac)tmvs und alle anderen kupferhaltigen Vorläufer, in denen die Olefingruppe als Lösungsmittel verwendet werden kann; Barium/Strontium/Titan-Vorläufer (BST-Vorläufer), die typischerweise von fester Beschaffenheit sind und verschiedene Lösungsmittel als Vorläuferträger verwenden, wobei Beispiele für die Vorläufer Ba(thd)_X, Sr(thd)_x und Ti(thd)_X umfassen. Arsenhaltige Verbindungen wie TEASAT und TEOA können mit diesen Techniken ebenfalls aus dem Inneren von Rohrleitungen für hochreine Prozesse gespült werden. Germanium, Hafnium, Niob, Strontium und andere damit zusammenhängende flüssige Vorläufer können ebenfalls mit dieser Technik mit geeigneten Solvatisierungsmitteln entfernt werden, je nach der genauen Verbindung, die zum Einsatz kommt.The primary solvent must be selected as a direct function of its ability to absorb or solvate the precursor in question, its volatility, which must be greater than the vacuum capacity supplied, and its flashpoint, which must be as high as possible. These conditions may vary from precursor to precursor so that several primary solvents are required for the process to work. For example, TDMAT and TDEAT use hexane or heptane as primary solvents. Copper CVD precursors such as Cu (hfac) tmvs use trimethylvinylsilane (TMVS) as the primary solvent. The solvent materials can be chosen to remove a variety of precursors, including but not necessarily limited to tantalum precursors such as TAETO and TBTDET; Titanium precursors such as TDEAT and TDMAT; Copper precursors, including Cu (hfac) tmvs and all other copper-containing precursors in which the olefin group can be used as a solvent; Barium / strontium / titanium precursors (BST precursors) which are typically solid in structure and use various solvents as precursor supports, examples of the precursors comprising Ba (thd) _X , Sr (thd) _x and Ti (thd) _X. Arsenic compounds such as TEASAT and TEOA can also be flushed from the inside of pipelines for high purity processes using these techniques. Germanium, hafnium, niobium, strontium and other related liquid precursors can also be removed by this technique with suitable solvating agents, depending on the exact compound used.

Häufig ist das primäre Lösungsmittel ein Bestandteil des Vorläufermoleküls. Andere Vorläufer können Alkohol als primäres Lösungsmittel verwenden, z.B. Ethanol, Isopropanol oder Methanol. In allen Fällen sind die wichtigsten Eigenschaften die Vorläuferlöslichkeit sowie die fehlende Reaktivität des Lösungsmittels mit dem Vorläufer oder Trägerlösungsmittel. Die primären Lösungsmittel, die mit TDMAT verwendet werden, sind z.B. Hexan und Heptan.Frequently the primary one solvent a component of the precursor molecule. Other Precursors can be alcohol as primary solvent use, e.g. Ethanol, isopropanol or methanol. In all cases the most important properties are the precursor solubility as well as the missing Reactivity of the solvent with the precursor or carrier solvent. The primary Solvent, used with TDMAT are e.g. Hexane and heptane.

Die Betriebsgrenzen des Lösungsmittels werden von den Siede- und Flammpunkten des Lösungsmittelgemischs und von der Viskosität und Phase des Vorläufers bestimmt. Temperaturen von bis zu 80°C sowie hinab bis zu etwa 0°C sind akzep tabel, je nach Lösungsmittel und Vorläufer. Der Druckbereich für das Spülgas oder die Lösungsmittelzuführung beträgt vorzugsweise 34,5 bis 483 kPa (5 bis 70 psig), obwohl auch die Abgabe nicht unter Druck gesetzten Inertgases in Frage kommt. Deshalb gilt für die Zwecke der Erfindung, dass das Spülen die Zugabe von subatmosphärischem, atmosphärischen und superatmosphärischem Inertgas unter Einsatz von Vakuum im Verteilerstück bzw. Sammelrohr oder unter Einsatz einer Quelle für Inertgas mit erhöhtem Druck einschließt. Die Druckbeaufschlagung umfasst auch die Verwendung einer Inertgasquelle mit erhöhtem Druck, wobei der Druck zumindest vom evakuierten Zustand ansteigt und vorzugsweise superatmosphärisch wird. Das erforderliche Vakuum muss unter dem des Dampfdrucks der beiden Lösungsmittel liegen, damit eine vollständige Entfernung sichergestellt ist.The Operating limits of the solvent from the boiling and flash points of the solvent mixture and from the viscosity and phase of the precursor certainly. Temperatures of up to 80 ° C and down to about 0 ° C are acceptable, depending on the solvent and precursors. The pressure range for the purge gas or the solvent feed is preferably 34.5 to 483 kPa (5 to 70 psig), although the delivery is not under pressure set inert gas in question. That is why for the purposes the invention that the rinsing the Addition of subatmospheric, atmospheric and super-atmospheric Inert gas using vacuum in the manifold or manifold or under Use of a source for Inert gas with elevated Pressure includes. The pressurization also includes the use of an inert gas source with elevated Pressure, wherein the pressure increases at least from the evacuated state and preferably superatmospheric becomes. The required vacuum must be below that of the vapor pressure of the both solvents lie, thus a complete removal is ensured.

Der Bereich der Mischungen beträgt vorzugsweise 1 bis 20 Gew.-% des primären Lösungsmittels im zweiten oder fluorhaltigen Lösungsmittel und die Wahl der Mischung basiert auf deren Entflammbarkeitspotential, der Löslichkeit des Vorläufers im Lösungsmittel und der Anzahl von Zyklen, die der Apparat durchführt. In der bevorzugten Ausführungsform beträgt die gewählte Menge des primären Lösungsmittels – Heptan – 10 Gew.-%; der Rest ist Perfluorhexan.Of the Range of mixtures is preferably 1 to 20 wt .-% of the primary solvent in the second or fluorine-containing solvents and the choice of mixture is based on its flammability potential, the solubility of the precursor in the solvent and the number of cycles that the apparatus performs. In the preferred embodiment is the chosen one Amount of the primary solvent - heptane - 10% by weight; the rest is perfluorohexane.

Beim Einsatz des Lösungsmittelreinigungsverfahrens zusammen mit der traditionellen Evakuierung und dem Spülen mit unter Druck gesetztem Inertgas werden im ersten Durchgang etwa 65 bis 95 % der Vorläufers der Quellenchemikalie entfernt. Nahezu der gesamte Rest wird nach dem zweiten Zyklus entfernt, so dass nur eine kleine Menge übrigbleibt. Nach dem dritten Schritt des Spülen mit dem Lösungsmittel ist der gesamte Vorläufer entfernt. In einigen Fällen werden noch weitere Spülungen durchgeführt, um den Abschluss des Prozesses zu bestätigen. Dies gilt auch in Fällen, wo ein Lösungsmittel mit geringerer Konzentration verwendet wird.At the Use of the solvent cleaning process along with the traditional evacuation and rinsing with pressurized inert gas becomes about 65 in the first pass up to 95% of the precursor removed from the source chemical. Almost all the rest is going down removed the second cycle so that only a small amount remains. To the third step of rinsing with the solvent is the entire precursor away. In some cases will be more rinses carried out, to confirm the completion of the process. This also applies in cases where a solvent with lower concentration is used.

Die Erfindung umfasst ein Verfahren zur Reinigung eines Verteilerstücks bzw. Sammelrohrs, das hochreine Quellenchemikalien aus einem Behälter für hochreine Quellenchemikalien an einen Verwendungspunkt leitet, nachdem die Zufuhr der hochreinen Quellenchemikalie durch das Verteilerstück bzw. Sammelrohr abgestellt wurde. Es umfasst das Evakuieren des Verteilerstücks bzw. Sammelrohrs durch Verbinden mit einer Vakuumquelle, das Beenden der Evakuierung, das Einführen von mindestens einem Lösungsmittel für die hochreine Quellenchemikalie in das Verteilerstück bzw. Sammelrohr aus mindestens einer Quelle des mindestens einen Lösungsmittels, das Lösen aller Rückstände der hochreinen Quellenchemikalie im Verteilerstück bzw. Sammelrohr in dem mindestens einen Lösungsmittel und das Ablassen des resultierenden Gemischs aus der rückständigen hochreinen Quellenchemikalie und dem Lösungsmittel aus dem Verteilerstück bzw. Sammelrohr. Vorzugsweise wird nach dem Ablassen des Lösungsmittels das Verfahren fortgesetzt, indem man das Verteilerstück bzw. Sammelrohr durch Anschließen an eine Inertgasquelle (vorzugsweise mit erhöhtem Druck) unter Druck setzt, spült und das Spülen dann beendet bzw. den Druck erhöht.The Invention comprises a method for cleaning a distributor or Collecting pipe containing high purity source chemicals from a container for high purity Directs source chemicals to a point of use after the Supplying the high purity source chemical through the manifold was turned off. It includes the evacuation of the distributor or Manifold by connecting to a vacuum source, stopping the evacuation, the introduction of at least one solvent for the high purity source chemical in the manifold or manifold of at least one Source of the at least one solvent that Solve all Residues of the highly pure source chemical in the manifold or manifold in the at least a solvent and draining the resulting mixture of the residual high purity Source chemical and the solvent from the manifold or manifold. Preferably, after draining the solvent the process continues, by the distributor piece or Collecting pipe by connecting pressurized to an inert gas source (preferably at elevated pressure), washes and the rinse then stops or increases the pressure.

Vorzugsweise werden das Evakuieren, Einleiten, Ablassen und Spülen oder vorzugsweise die Druckbeaufschlagung in einer zyklischen Reihe von Wiederholungen durchgeführt, in denen die Verfahrensschritte mehrmals in der entsprechenen Reihenfolge wiederholt werden, um Sauberkeit zu gewährleisten. Die Erfinder haben durch Experimente herausgefunden, dass die Verfahrensschritte dreimal wiederholt werden sollten. Vorzugsweise schließt sich an die zyklische Reihe von Wiederholungen eine Evakuierung und ein Spülschritt an; vorzugsweise wird das Verteilerstück bzw. Sammelrohr unter Druck gesetzt, ehe erneut die Prozesschemikalie oder der hochreine Quellenvorläufer in das Verteilerstück oder Rohr eingeleitet wird. In den meisten Fällen sollte die Evakuierung und das Spülen bzw. die Druckbeaufschlagung im Verteilerstück bzw. Sammelrohr mit dessen Evakuierung beendet werden. Das Evakuierungsniveau sollte unter dem Dampfdruck der Lösungsmittelmischung liegen.Preferably will be evacuating, discharging, draining and rinsing or preferably the pressurization in a cyclic series of repetitions carried out, in which the process steps several times in the appropriate order be repeated to ensure cleanliness. The inventors have through experiments found that the process steps repeated three times should be. Preferably, the cyclic series closes repetitions an evacuation and a rinse step; preferably the distributor or collecting pipe pressurized, before again the process chemical or the high purity source precursor into the manifold or pipe is initiated. In most cases, the evacuation should and the rinse or the pressurization in the manifold or manifold with the Evacuation will be stopped. The evacuation level should be below the vapor pressure of the solvent mixture lie.

Alternativ kann man durch die Erfindung die vorherige Evakuierung vermeiden und die restliche Chemikalie vor dem Spülen mit Lösungsmittel einfach aus dem Verteilerstück bzw. Sammelrohr ablassen. In diesem Fall ist die Erfindung ein Verfahren zur Reinigung eines Verteilerstücks bzw. Sammelrohrs, das eine hochreine Quellenchemikalie aus einem Behälter für hochreine Quellenchemikalien an den Verwendungspunkt führt, und zwar nachdem die Zufuhr der hochreinen Quellenchemikalie durch das Verteilerstück bzw. Sammelrohr abgestellt wurde. Es umfasst das Ablassen des Verteilerstücks bzw. Sammelrohrs durch Anschluss an einen Auslass, das Einführen mindestens eines Lösungsmittels für die hochreine Quellenchemikalie in das Verteilerstück bzw. Sammelrohr aus mindestens einer Quelle des mindestens einen Lösungsmittels, das Lösen der eventuell noch übrigen hochreinen Quellenchemikalie im Verteilerstück bzw. Sammelrohr in dem mindestens einen Lösungsmittel und das Ablassen des resultierenden Gemischs aus der rückständigen hochreinen Quellenchemikalie und dem Lösungsmittel aus dem Verteilerstück bzw. Sammelrohr.Alternatively, one can avoid the prior evacuation by the invention and simply drain the residual chemical from the manifold prior to flushing with solvent. In this case, the invention is a method for cleaning a header pipe which carries a high purity source chemical from a high purity source chemical tank to the point of use after the supply of the high purity source chemical has been shut off by the header. It involves draining the manifold by connecting it to an outlet, the inlet at least one solvent for the high purity source chemical into the manifold from at least one source of the at least one solvent; dissolving any remaining high purity source chemical in the manifold in the at least one solvent and venting the resulting mixture of the residual high purity source chemical and the solvent from the manifold.

In der bevorzugten Ausführungsform besteht die Lösungsmittelmischung aus etwa 1 bis 20 Gew.-% Heptan und ansonsten aus Perfluorhexan. Stärker bevorzugt beträgt der Anteil etwa 10 Gew.-% Heptan und ansonsten Perfluorhexan.In the preferred embodiment the solvent mixture exists from about 1 to 20 wt% heptane and otherwise from perfluorohexane. More preferred is the proportion about 10 wt .-% heptane and otherwise perfluorohexane.

Die Erfindung bietet einen signifikanten Vorteil bei der Verwendung hochreiner Chemikalien in einem Zufuhrsystem, z.B. in der Elektronikindustrie. Die Erhaltung der hohen Reinheit der Quellenchemikalie erfordert nicht nur die Reinheit der Quellenchemikalie, sondern auch die des Zufuhrsystems, durch das die Chemikalie abgegeben wird. Traditionell wurden in der Industrie mehrere Zyklen aus Vakuum und Spülen mit einem unter Druck gesetzten Inertgas eingesetzt, um das Zufuhrsystem sauber zu halten. Jedoch reicht diese zyklische Reinigung bei Chemikalien geringer Flüchtigkeit nicht aus. Daher sind Lösungsmittel für solche Chemikalien von geringer Flüchtigkeit gefragt. Die Erfindung stellt ein einzigartiges Verfahren zur Bereitstellung und Entsorgung solcher Lösungsmittel zur Verfügung, ohne dass dadurch die traditionelle Art und Weise, in der Fachleute in der Herstellung elektronischer Bauteile solchen Quellenchemikalien verwenden, beeinträchtigt wird. Dadurch wird im Wesentlichen ein nahtloses Verfahren zur Verfügung gestellt, mit dem selbst bei problematischen Quellenchemikalien wie Chemikalien geringer Flüchtigkeit für äußerste Sauberkeit gesorgt wird. Damit wird ein schon lange bestehendes Problem gelöst, nämlich die Erhaltung der Reinheit von Quellenchemikalien in den Verfahrensleitungen sowie der Austausch von Behältern für solche Quellenchemikalien und die folgende Verwendung anderer Quellenchemikalien im gleichen Zufuhrsystem.The Invention offers a significant advantage in use high purity chemicals in a delivery system, e.g. in the electronics industry. The Preserving the high purity of the source chemical does not require only the purity of the source chemical, but also that of the delivery system, through which the chemical is released. Traditionally, in the industry several cycles of vacuum and flushing with a pressurized Inert gas used to keep the feed system clean. however This cyclic cleaning is sufficient for chemicals with low volatility not from. Therefore, solvents are for such Low volatility chemicals asked. The invention provides a unique method of providing and disposal of such solvents to disposal, without doing so the traditional way in which professionals in the manufacture of electronic components such source chemicals use, impaired becomes. This essentially provides a seamless process, even with problematic source chemicals like chemicals low volatility for utmost cleanliness is taken care of. This solves a long-standing problem, namely the Maintaining the purity of source chemicals in the process lines as well as the exchange of containers for such Source chemicals and the subsequent use of other source chemicals in the same feed system.

Die Erfindung wurde anhand verschiedener bevorzugten Ausführungsformen dargestellt, doch ihr ganzer Umfang ist den folgenden Ansprüchen zu entnehmen.3The Invention has been based on various preferred embodiments but their full scope is to the following claims entnehmen.3

Claims

Procedure for cleaning a manifold or collection tube, which is a high-purity source chemical from a container for high purity source chemicals transmitted to a point of use, after interruption of delivery of the high purity source chemical through the manifold or collection tube, wherein the high purity source chemical is selected from the group consisting of tantalum pentaethoxide (TAETO), tetrakis (diethylamino) titanium (TDEAT), tetrakis (dimethylamino) titanium (TDMAT), tetramethylcyclotetrasiloxane (TMCTS), Copper hexafluoroacetylacetonate-trimethylvinylsilane (Cu (hfac) TMVS), Tetraethyl orthosilicate (TEOS), trimethyl borate (TMB), triethyl borate (TEB), trimethyl phosphite (TMPi), triethyl phosphate (TEPO), bis-t-butylaminosilane (BTBAS), tantalum tetraethoxydimethylaminoethoxide (TAT-DMAE), t-butylimidotrisdiethylamidotantal (TBTDET), triethylarsenite (TEOA), polyarylene ethers and mixtures the same, comprising evacuating the manifold by connecting to a vacuum source, stopping the evacuation, Introduce of at least one solvent for the highly pure source chemical into the manifold or manifold from at least a source of the at least one solvent, dissolving all Residues of the high purity Source chemical in distributor or collecting tube in the at least one solvent, omitting the resulting mixture of the residual high purity source chemical and the solvent from the manifold or manifold, rinse of the distributor by connection with an inert gas source, wherein the at least a solvent a fluorocarbon or a mixture of a fluorocarbon-containing solvent and a hydrocarbon solvent is.

The method of claim 1, wherein said evacuating, Introduce, To solve, Omission and rinsing is performed in a cyclic series of repetitions.

The method of claim 2, wherein the cyclic series of repetitions an evacuation and purging of the manifold follows.

The method of claim 3, wherein said evacuating and flooding the manifold is terminated with the evacuation of the manifold.

The method of claim 1, wherein the fluorocarbon Perfluorocarbon is.

The method of claim 1 for cleaning a manifold conveying a high purity source chemical from a high purity source chemical tank to a point of use after adjusting the delivery of the high purity source chemical through the manifold, comprising evacuating the manifold by the connection to a vacuum source, terminating evacuation, introducing a solvent mixture of perfluorohexane and heptane to dissolve the high purity source chemical into the manifold from a source of the solvent mixture dissolving all the residues of the high purity source chemical in the manifold in said solvent mixture, venting a resulting mixture of the residual high purity source chemical and the solvent from the manifold, and purging the manifold by connection to an inert gas source.

The method of claim 6, wherein the solvent mixture in the relationship from approximate 1 to 20 wt .-% heptane, with the remainder of perfluorohexane.

The method of claim 6, wherein said solvent mixture in relation to from approximate 10 wt .-% heptane, with residual amount of perfluorohexane.

Procedure for cleaning a manifold or collection tube, which is a high-purity source chemical from a container for one transmitting high purity source chemical to a point of use, after the termination of the transmission of the high purity source chemical through the manifold, wherein the high purity source chemical is selected from the group consisting of tantalum pentaethoxide (TAETO), tetrakis (diethylamino) titanium (TDEAT), Tetrakis (dimethylamino) titanium (TDMAT), tetramethylcyclotetrasiloxane (TMCTS), copper hexafluoroacetylacetonate-trimethylvinylsilane (Cu (hfac) TMVS), Tetraethyl orthosilicate (TEOS), trimethyl borate (TMB), triethyl borate (TEB), trimethyl phosphite (TMPi), triethyl phosphate (TEPO), bis-t-butylaminosilane (BTBAS), tantalum tetraethoxydimethylaminoethoxide (TAT-DMAE), t-butylimidotrisdiethylamidotantal (TBTDET), triethylarsenite (TEOA), polyarylene ethers and mixtures the same, comprising the emptying of the distributor or Manifold by connection to an outlet, introducing at least one solvent for the high purity Source chemical into the manifold from at least one source the at least one solvent, Solve all Residues of highly pure Source chemical in distributor in the at least one solvent and omitting the mixture of residual high purity Source chemical and solvent from the manifold, wherein the at least one solvent a fluorocarbon or a mixture of a fluorocarbon containing solvent and a hydrocarbon solvent is.

The method of claim 9, wherein the fluorocarbon is a perfluorocarbon.