DE492992T1 - Magnetron-zerstaeubungsvorrichtung. - Google Patents
Magnetron-zerstaeubungsvorrichtung.Info
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Claims (23)
1. Magnetronzerstäubungsvorrichtung mit
einer Kühlkammer,
einer Kühlkammer,
einer wärmeleitenden Targetplatte, die eine Vorder- und eine Rückseite aufweist, wobei die Vorderseite der Targetplatte ein Zerstäubertarget aufnehmen kann und die Rückseite
der Targetplatte einen Teil einer Wand der Kühlkammer bildet,
einer Magneteinrichtung, die in der Kühlkammer angebracht ist, um einen Magneten quer über die Rückseite der
Targetplatte laufen zu lassen,
einer Kühleinrichtung, die in der Kühlkammer angebracht ist, um einen Körper quer über die Rückseite der Targetplatte
koordiniert mit der Magneteinrichtung laufen zu lassen, wobei der Körper Öffnungen aufweist, die in Richtung auf die
Rückseite der Targetplatte gerichtet und in der Nähe der Rückseite der Targetplatte angeordnet sind, um darauf Kühlflüssigkeitsströme
auszustoßen, und einem Kühlkammerabfluß.
2. Magnetronzerstäubungsvorrichtung mit
einer Kühlkammer,
einer Kühlkammer,
einer wärmeleitenden Targetplatte, die eine Vorderseite und eine Rückseite aufweist, wobei die Vorderseite der Targetplatte
ein Zerstäubertarget aufnehmen kann und die Rückseite der Targetplatte einen Teil einer Wand der Kühlkammer
bildet,
einer Magneteinrichtung, die in der Kühlkammer angebracht ist, um eine Oberfläche eines Körpers quer über die
Rückseite der Targetplatte laufen zu lassen,
einer Kühleinrichtung, die in der Kühlkammer angebracht ist, um eine Oberfläche eines Körpers quer über die Rückseite
der Targetplatte koordiniert mit der Magneteinrichtung laufen zu lassen, wobei die Oberfläche der Rückseite der
Q ? Q Ci
Targetplatte gegenüberliegt und parallel zur und in der Nähe der Rückseite der Targetplatte gehalten ist, sowie Öffnungen
aufweist, um eine Kühlflüssigkeit vom Körper direkt in ein Volumen zwischen der Oberfläche und der Rückseite der Targetplatte
einzuführen, und
einen Kühlkammerabfluß.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die
Magneteinrichtung und die Kühleinrichtung einteilig ausgebildet sind und bei der der Körper den Magneten umfaßt.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, 2 oder 3 mit
einem Kühlkanal, der im Körper angeordnet ist,
einem Kühlkanaleinlaß und
einem Kühlkanal, der im Körper angeordnet ist,
einem Kühlkanaleinlaß und
einer Einrichtung zum Liefern der Kühlflüssigkeit unter Druck zum Kühlkanaleinlaß, wobei die Öffnungen mehrere Düsen
umfassen, die mit dem Kühlkanal verbunden sind, um die Kühlflüssigkeit vom Kühlkanal auszugeben.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, bei der der Kühlkanal einen darin angebrachten Streuring aufweist, wobei der
Streuring so angeordnet ist, daß er die Kühlflüssigkeit unter Druck, die durch den Kühlkanaleinlaß eingeführt wird, unterbricht, und die Kühlflüssigkeit zu den Düsen unter gleichmäßigem Druck verteilt.
Streuring so angeordnet ist, daß er die Kühlflüssigkeit unter Druck, die durch den Kühlkanaleinlaß eingeführt wird, unterbricht, und die Kühlflüssigkeit zu den Düsen unter gleichmäßigem Druck verteilt.
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der der Kühlkanalabfluß ein Abfluß mit vernachlässigbarem
Staudruck ist.
7. Kühlbare Zerstäubungstargetplattenvorrichtung mit
einer Kühlkammer,
einer Kühlkammer,
einer Targetplatte, die eine Vorderseite zur Aufnahme eines Zerstäubungstargets und eine Rückseite aufweist, die
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einen Teil einer Wand der Kühlkammer bildet,
einer drehbaren Antriebswelle mit einem hohlen Abschnitt,
einer Einlaßeinrichtung zum drehbaren Halten der Antriebswelle und zum Leiten und dichten Abschließen einer
Kühlflüssigkeit, die von einem Einlaßanschluß zum hohlen Abschnitt der Antriebswelle fließt,
einer Auslaßeinrichtung zum Ableiten der Kühlflüssigkeit vom hohlen Abschnitt der Antriebswelle, wobei die Auslaßeinrichtung
funktionell durch die Antriebswelle gehalten ist, und
einem Gehäuse, das funktionell mit der Antriebswelle gekoppelt ist, um eine planare Oberfläche quer über die
Rückseite der Targetplatte laufen zu lassen, wobei das Gehäuse einen Kühlkanal umfaßt, der mit der Auslaßeinrichtung
gekoppelt ist, um ein Kühlfluid unter Druck vom hohlen Abschnitt der Antriebswelle zu empfangen, und das Gehäuse
darin angeordnete Düsen aufweist, um einen Strom des Kühlfluides vom Kanal so zu lenken, daß er auf die Rückseite der
Targetplatte trifft.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse und die Auslaßeinrichtung mit der Antriebswelle
drehbar sind.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8 mit einem Kühlkammerauslaßanschlußstück,
wobei die Kühlflüssigkeit, die von den Düsen ausgegeben wird, sich in der Kühlkammer mit
einem im wesentlichen minimalen Staudruck sammelt und zum Kühlkammerauslaßanschlußstück geleitet wird.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, bei der das Kühlkammerauslaßanschlußstück
im Gravitationsfeld höher als die Targetplatte angeordnet ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 7, 8, 9 oder 10, bei der
die Einlaßeinrichtung ein Drehgelenk mit einem Gelenkkörper
umfaßt, der
einen Kuhlflusssigkeitsaufnahmeteil in der Mitte in
Längsrichtung der Körpers, wobei der Einlaßanschluß der Einlaßeinrichtung in den Kuhlflussigkeitsaufnahmeteil mündet,
einen Dichtungsteil neben jedem Ende des Kühlflüssigkeitsaufnahmeteils
und
einen Lagerteil neben jedem Dichtungsteil und dem Kuhlflussigkeitsaufnahmeteil
gegenüber aufweist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, bei der der Dichtungsteil einen elastischen Ring umfaßt, der einen U-förmigen
Querschnitt hat und in einem Dichtungskanal angeordnet ist, der die Antriebswelle umgibt, wobei die offene Seite
der U-förmigen Querschnittsform dem Kuhlflussigkeitsaufnahmeteil
zugewandt ist, eine Seite der U-förmigen Querschnittsform an einer Seite der Antriebswelle anliegt, eine
zweite Seite der U-förmigen Querschnittsform an einer Seite des Dichtungskanals anliegt und das Basisende der U-förmigen
Querschnitsform an einer Dichtungsscheibe anliegt.
13. Vorrichtung nach Anspruch 11 oder 12, bei der ein
Teil der Antriebswelle vom Kuhlflussigkeitsaufnahmeteil und
vom Dichtungsteil des Drehgelenkes umschlossen ist und quer gebohrte Löcher aufweist, die darin vorgesehen sind, um
einen Kanal für die Kühlflüssigkeit zu schaffen, damit diese vom Kuhlflussigkeitsaufnahmeteil des Drehgelenks in den hohlen
Abschnitt der Antriebswelle fließt.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 13, bei
der die Auslaßeinrichtung
einen Antriebswellenendblock mit einem Auslaßanschluß
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ein flexibles Rohr aufweist, das an einem Ende mit dem
Auslaßanschluß des Antriebswellenendblockes und am anderen Ende mit dem Kühlkanal verbunden ist.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, bei der die Auslaßeinrichtung
durch die Antriebswelle so gehalten ist, daß der Kühlkanal bezüglich der Antriebswelle schwingen kann, und
bei der das flexible Rohr die Schwingbewegung aufnimmt, während es eine Fluidverbindung zwischen dem Auslaßanschluß
des Antriebswellenendblockes und dem Wasserkanal beibehält.
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 15, bei der der Kühlkanal einen Streuring enthält, der für eine
Verteilung des Kühlflüssigkeitsdruckes um den Kühlkanal herum sorgt, um den Druck der Kühlflüssigkeit, die die Düsen
erreicht, gleichzumachen.
17. Magnetgehäuseeinheit zum Entlanglaufen hinter der Targethalteplatte einer Planarmagnetronzerstäubungsvorrichtung
mit
einem Haltekörper, der mit einer Oberfläche hinter der Targethalteplatte entlanglaufen kann,
einer Magnetbahn, die im Haltekörper angeordnet ist,
einer Fluidleitung, die im Haltekörper angeordnet ist, um Kühlfluid unter Druck aufzunehmen,
einem Fluidkanal, der im Haltekörper vorgesehen ist, wobei der Fluidkanal mit der Fluidleitung verbunden ist, und
mehreren Öffnungen vom Kanal zur Haltekörperlauffläche.
18. Verfahren zum Kühlen einer Targetplatte in einer Magnetronzerstäubungsvorrichtung mit einer Magneteinrichtung,
die in einer Kühlkammer bewegbar ist, wobei die Targetplatte wärmeleitend ist und eine Vorderseite und eine
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Rückseite aufweist, die Vorderseite der Targetplatte ein Zerstäubertarget aufnehmen kann und die Rückseite der Targetplatte
einen Teil einer Wand der Kühlkammer bildet, wobei die Kühlkammer eine Kühlflüssigkeit enthält und die Magneteinrichtung
quer über die Rückseite der Targetplatte laufengelassen wird, welches Verfahren die Schritte umfaßt:
Laufenlassen eines Körpers quer zur Rückseite der Targetplatte koordiniert mit der Magneteinrichtung,
Ausgeben der Kühlflüssigkeit vom Körper derart, daß sie auf die Rückseite der Targetplatte trifft, und
Abführen der Kühlflüssigkeit von der Kühlkammer.
19. Verfahren zum Kühlen einer Targetplatte in einer Magnetronzerstäubungsvorrichtung mit einer Magneteinrichtung,
die in einer Kühlkammer bewegbar ist, wobei die Targetplatte wärmeleitend ist und eine Vorderseite und eine
Rückseite aufweist, die Vorderseite der Targetplatte ein Zerstäubertarget aufnehmen kann und die Rückseite der Targetplatte
einen Teil einer Wand der Kühlkammer bildet, und wobei die Kühlkammer eine Kühlflüssigkeit enthält und die
Magneteinrichtung quer über die Rückseite der Targetplatte laufengelassen wird, welches Verfahren die Schritte umfaßt:
Laufenlassen einer Oberfläche eines Körpers quer über die Rückseite der Targetplatte koordiniert mit der Magneteinrichtung,
wobei die Oberfläche der Rückseite der Targetplatte gegenüberliegt und parallel zu der Rückseite der
Targetplatte gehalten wird,
Ausgeben der Kühlflüssigkeit vom Körper direkt in ein Volumen zwischen der Oberfläche und der Rückseite der Targetplatte
und
Abführen der Kühlflüssigkeit von der Kühlkammer.
20. Verfahren nach Anspruch 18 oder 19, bei dem der Körper die Magneteinrichtung umfaßt.
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21. Verfahren nach Anspruch 18, 19 oder 20, bei dem Kühlflüssigkeit unter Druck einem Kühlkanal im Körper geliefert
wird und beim Abführen die Kühlflüssigkeit vom Kühlkanal über mehrere Düsen im Körper abgeführt wird.
22. Verfahren nach Anspruch 21, bei dem eine Kühlflüssigkeit in den Kühlkanal unter einem bestimmten Einlaßdruck
eingeführt wird und der Einlaßdruck gleichmäßig über den Kühlkanal verteilt wird.
23. Verfahren nach Anspruch 21 oder 22, bei dem beim Abführen die Kühlflüssigkeit vom Kühlkanal mit einem vernachlässigbaren
Staudruck abgeführt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US07/631,578 US5171415A (en) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | Cooling method and apparatus for magnetron sputtering |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE492992T1 true DE492992T1 (de) | 1993-03-18 |
Family
ID=24531820
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE199191311811T Pending DE492992T1 (de) | 1990-12-21 | 1991-12-19 | Magnetron-zerstaeubungsvorrichtung. |
DE69117473T Expired - Fee Related DE69117473T2 (de) | 1990-12-21 | 1991-12-19 | Magnetron-Zerstäubungsvorrichtung |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69117473T Expired - Fee Related DE69117473T2 (de) | 1990-12-21 | 1991-12-19 | Magnetron-Zerstäubungsvorrichtung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5171415A (de) |
EP (1) | EP0492992B1 (de) |
JP (1) | JPH05148643A (de) |
DE (2) | DE492992T1 (de) |
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- 1990-12-21 US US07/631,578 patent/US5171415A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-12-18 JP JP3353867A patent/JPH05148643A/ja active Pending
- 1991-12-19 DE DE199191311811T patent/DE492992T1/de active Pending
- 1991-12-19 DE DE69117473T patent/DE69117473T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-12-19 EP EP91311811A patent/EP0492992B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05148643A (ja) | 1993-06-15 |
DE69117473T2 (de) | 1996-10-24 |
EP0492992A3 (en) | 1992-08-05 |
EP0492992B1 (de) | 1996-02-28 |
DE69117473D1 (de) | 1996-04-04 |
EP0492992A2 (de) | 1992-07-01 |
US5171415A (en) | 1992-12-15 |
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