DE4446230A1 - Anordnung zur Filterung von Ionen - Google Patents
Anordnung zur Filterung von IonenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Filterung von Ionen gemäß der
Gattung der Patentansprüche und ist insbesondere zur Ionenimplantation
und bei ionenstrahlgestützten Schichtprozessen sowie als Massenspek
trometer verwendbar.
Massenseparierte Ionenstrahlen für ionenstrahlgestützte Schichtprozesse
sind im wesentlichen in zwei Anwendungsgebieten bekannt. Zum ersten
werden massenseparierte Ionenstrahlen im Hoch- oder Ultrahochvakuum
(10-5 bis 10-8 mbar) in Ionenimplantationsanlagen verwendet (Ryssel H.,
Ruge, I.; "Ionenimplantation", Geest & Portig, [1978]); die Ionen werden
bei Energien von ca. 10 keV bis über 1 MeV fortgeleitet. Ionen
strahlströme bis etwa 10 mA (Amemiya, K., Tokiguchi, K.; Sakudo, N., J.
Vac. Sci. & Technol. A, Vol. 9, [1991], 307-311) werden erreicht, der
Strahldurchmesser beträgt auf dem Substrat max. ca. 100 mm
(Banneberg, J.G.; Saris, F.W.; Nucl. Instr. & Meth., B, Vol. B 37-38,
[1989], 398-402). Größere Flächen werden durch Wobbeln des Ionen
strahls bearbeitet. Weil die Massenseparation fast ausschließlich in
Sektorfeldmagneten durchgeführt wird, kann der Ionenstrahldurchmesser
an dieser Stelle aus physikalischen Gründen kaum über 20 mm erhöht
werden. Dafür ist die Massenauflösung oft kleiner als eine Masseeinheit,
so daß die Trennung von Isotopen kein Problem darstellt. Eine Untertei
lung des Ionenstrahls in Teilionenstrahlen zur Erhöhung der Stromdichte
ist aufgrund der Wirkungsweise der Massenseparation im Sektorfeld
magneten nicht möglich. Werden sehr große Ströme und Strahldurch
messer in Implantationsanlagen benötigt, wie das bspw. für die Hart
stoffimplantation an Maschinenteilen der Fall ist, wird auf die Massen
separation gänzlich verzichtet, was den Bereich der verwendbaren Aus
gangsgase stark einschränkt (Langguth, K.; Kluge, A.; Ryssel, H.; Nucl.
Instr. & Meth. B, Vol. B 59-60, [1991], 718-211 Fujihana, T.; Sekiguchi,
A., Okabe, Y. et. al., Surface & Coatings Techn. Vol. 51, [1992], 19-23).
Zum zweiten werden massenseparierte Ionenstrahlsysteme für Ionen
ströme im µA-Bereich im Ultrahochvakuum verwendet, z. B. für
Dotierungszwecke (Deguchi, M.; Yoshida, A.; et. al.; Jap. J. of Appl.
Phys. Vol. 29, [1990], 1493-1496/Maruno, S.; Morishita, Y.; Isu, T.; J.
of Electronic Materials Vol. 17, [1988], 21-24) und Ionenfeinstrahl
anwendungen (Melngailis, J.; Nucl. Instr. & Meth. B80/81 [1993], 1271-
1280). Sie bestehen aus einer Ionenquelle eines beliebigen Typs und
einem ausgeprägten, differentiell gepumpten System, in dem der Ionen
strahl (Durchmesser max. 10 mm) i.a. durch ein Wien-Filter als Massen
separator geführt wird. Durch mehrstufige differentiell gepumpte Systeme
kann der Einsatz im Ultrahochvakuum bis 10-10 mbar möglich gemacht
werden (Tokuyama, T.; et. al.; Nucl. Instr. & Meth. 182/183 [1981], 241-
250). Zur Bearbeitung größerer Substratflächen können eine Strahlaufwei
tung und ein Ablenksystem verwendet werden.
Die vorstehend genannten Ionenstrahlsysteme mit Massenseparation
zeichnen sich dadurch aus, daß eine hohe Massenauflösung bei kleinen
oder mittleren Ionenströmen und Bearbeitungsflächen erbracht wird.
Weiterhin ist es bekannt, hohe Ionenströme auf großen Substratflächen
ohne jede Massenseparation aus Ionenquellen, wie bspw. Kaufmann-,
Hochfrequenz- oder ECR-Ionenquellen (Brown, I. G.; "The Physics and
Technology of Ion Sources", John Wiley & Sons, [1988]), mittels Gitter
extraktion zu erzeugen. Dabei wird ein Ionenstrahl über ein Extraktions
system aus i.d.R. zwei Lochgittern auf Ionenenergie bis max. 30 keV
extrahiert (Korzec, D.; Engemann, J.; J. Vac. Sci. Technol. B 7(6) [1989]
1448-1453). Durch die Teilung des Ionenstrahls in eine Vielzahl von
Teilstrahlen von 1 bis 5 mm Durchmesser sind die in den Teilstrahlen
enthaltenen Raumladungen klein, und die Raumladungsbegrenzung setzt
erst bei hohen Stromdichten ein. Es werden Gesamtstrahldurchmesser bis
ca. 400 mm und Ionenströme über 100 mA hiermit erreicht. Jedoch
werden die Einsatzmöglichkeiten derartiger Ionenquellen vor allem beim
Einsatz organischer Ausgangsgase (Precursor) aufgrund der fehlenden
Massenseparation und des hohen Neutralgasanfalls in der Vakuum
prozeßkammer (ca. 10-4 mbar) stark eingeengt (Cuomo, J. J., Rossnagel,
S. M., Kaufmann H. R., "Handbook of Ion Beam Processing Tech
nology", Noyes Publications, [1989]).
Auch sind Hochfrequenz-Laufzeit-Massenspektrometer bekannt (Benett,
W.H.; J. of Appl. Physics, Vol. 21, [1950], 143-149/Cannon, W.W.;
Testerman, M. K.; Journal of Appl. Phys. Vol. 27, [1956], 1283-1286),
die als kleine und billige Massenspektrometer z. B. zur Gasanalyse ver
wendet werden (Iwamoto, J. et. al.; Rev. of the Radio Res. Lab. Vol. 28,
[1982]/Ezhov, V.F.; Knyaz′kov, V.A.; et. al. Instr. & Exp. Techniques
Vol. 36, [1993], 429-433). Sie filtern Ionenströme im pA- und nA-Be
reich. In einer Anordnung bestehend aus 11 bis 15 i.d.R. äquidistanten
Maschengittern. Ältere Hochfrequenz-Laufzeit-Massenspektrometer
(Benett-Typ) ersetzen einen Teil der Gitter durch einen definierten Ab
stand. Nur die Ionen, die im Maschengittersystem genügend Energie auf
genommen haben, können ein letztes, auf Gegenpotential befindliches
Gitter durchdringen. Es wird damit ein Ionenstrahl bei Strömen gefiltert,
die klein gegen die Raumladungsbegrenzung sind.
Bekannt ist ferner die Beschleunigung von Ionen in Linearbeschleunigern,
die Ionen bis auf Energien über 50 MeV beschleunigen (E.Creutz in: S.
Flügge; "Encyclopedia of Physics, Vol. XLIV, Nuclear Instrumentation
I", Springer Verlag New York [1959], 340-389). In ihnen wird ein Lauf
zeitsystem verwendet, dessen Elemente so gestaltet sind, daß immer ein
minimaler Wandkontakt der Ionen gesichert ist (Odera, M.; in Schriber
S.O., 1976 Proton Linear Accelerator Coufer., Chalk River, Ont. Canada,
Atomic Energy of Canada [1976], 62-66). Andernfalls würden störende
Verunreinigungen infolge von Sputtereffekten im Ionenstrahl auftreten.
Eine Massenfilterung findet zwar prinzipiell im Linearbeschleuniger statt,
wird aber aufgrund der eben geschilderten Nebeneffekte unterbunden,
indem ein bereits massenreiner Strahl in das Beschleunigersystem einge
führt wird. Bei den leistungsfähigen Geräten dieser Art werden die
Beschleunigungsspannungen über stehende Wellen in einem Hohlraum
resonator erzeugt oder mittels Wanderwellen vor allem Elektronen
beschleunigt. Bei einem derartigen Linearbeschleuniger sind ein Kanal
oder einige Kanäle für die Ionen vorgesehen, deren Elemente entspre
chend der Geschwindigkeitszunahme gestaffelt sind. Er dient grundsätz
lich der Beschleunigung von Ionen auf hohe Energien. Daß diese
Beschleunigung massenselektiv ist, beeinflußt zwar die Reinheit des
Ionenstrahls günstig, wird aber nicht zur Massenfilterung ausgenutzt.
Auch sind Ionenlinearbeschleuniger bekannt, bei denen der Strahl in ver
hältnismäßig wenige (bis 16) Teilstrahlen zerlegt wird (Urbanus, W.H.;
et.al.; Nucl. Instr. & Meth. Vol. B37 [1989], 508-511) und in die Lauf
zeitelemente statische Quadrupolsysteme zur Strahlführung integriert sind
(Weis, T.; Klein, H.; Schempp, A.; Nucl. Instr. & Meth. B24-25 [1987],
787-790). Dynamisch betriebene, führende Quadrupolsysteme sind aller
dings unbekannt.
Zur Massenseparation von Ionen sind die bekannten Linearbeschleuniger
weniger geeignet, weil sie einen oder nur wenige Ionenkanäle aufweisen,
groß und aufwendig sind und hohe Ionenenergien erzeugen.
Die weiterhin bekannten Quadrupolmassenspektrometer werden zwar in
Niederenergiebereichen betrieben, und zwar regelmäßig nur für einen
Strahl mit niedriger Stromdichte. Für Bearbeitungs- oder Implantations
vorgänge sind diese Massenspektrometer jedoch nicht verwendbar.
Schließlich ist es bekannt, mit massenseparierten Ionenstrahlen bei relativ
niedrigen Temperaturen epitaktische Schichten herzustellen. Dazu bedient
man sich angepaßter Sektorfeld-Massenspektrometer bei Strömen im µA-
Bereich. Der Strahldurchmesser und damit der Probendurchmesser liegt
allerdings unter 10 mm. MBE- und andere Schichtabscheideverfahren im
mittleren bis hohen Ultrahochvakuum werden mit Ionenstrahlverfähren
kombiniert, um Dotierungen in eine Schicht einzubringen oder ionen
strahlgestützte Schichtabscheidung durchzuführen. Allerdings fehlen, um
effektiv arbeiten zu können, großflächige Ionenstrahlsysteme (Shimuzu,
S.; Tsukakashi, O.; et.al; J. Vac. Sci & Technol. B 3 [1985], 554-559/
Chason, E.; Bedrossian, P.; et.al.; Appl. Phys. Lett. Vol. 57, [1990], 1793-
1795).
Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine Anordnung zur Ionenfilterung
und Massentrennung zu schaffen, die für Stromdichten nahe der Raum
ladungsbegrenzung bei Ionenenergien kleiner als 5 keV geeignet ist und
eine großflächige Ionenstrahleinwirkung auf Empfänger bzw. Substrate im
Hoch- bzw. Ultrahochvakuum ermöglicht. Es soll insbesondere ein hoher
Ionendurchsatz erreicht und nicht massengerechte Ionen komplett abge
führt und/oder neutralisiert werden.
Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe durch die kennzeichnenden
Merkmale des ersten Patentanspruchs gelöst. Aufgrund der Unterteilung
in Ionenteilstrahlen können in den Kanälen höhere Ionenströme bei ver
gleichsweise niedrigen Ionenenergien transportiert werden. Der
Gesamtstrahldurchmesser (Gesamtstrahlquerschnitt), die Summe der
Durchmesser bzw. Querabmessungen der einzelnen Kanäle, hat eine
physikalisch bedingte Obergrenze bei etwa 400 mm.
Die Filterung von Ionen unterschiedlicher Masse (m/e-Verhältnis) erfolgt
im wesentlichen dadurch, daß die Ionen zuerst sämtlich auf die gleiche
Energie W₀ beschleunigt werden. Die Ionengeschwindigkeiten
wobei m die Ionenmasse ist, sind damit massenabhängig. In
den Kanälen wird zwischen den einzelnen Elementen den Ionen definiert
Energie durch ein HF-Feld zugeführt, die nur von den Ionen maximal auf
genommen werden kann, die aufgrund ihrer Geschwindigkeiten in einer
Halbwelle gerade ein Element durchfliegen. Weiterhin werden durch
Gleichspannungspotentiale alle Ionen zusätzlich im wesentlichen abge
bremst, so daß Ionen, die asynchron zur Änderung des HF-Feldes fliegen,
sehr schnell zum Stillstand an den Kanalwänden kommen und ausgefiltert
sind. In Abhängigkeit von den so entstehenden Raumladungen ist es sinn
voll, die Querabmessungen der Kanäle mit zunehmender Länge größer
oder kleiner zu gestalten. Für die Herstellung der erfindungsgemäßen
Anordnung ist es aber von Vorteil, wenn die Kanäle untereinander und
über ihre gesamte Länge gleiche Durchmesser, vorzugsweise 0,5 bis
5 mm, haben. Die Längen der Kanalabschnitte, die jeweils aus einem
kanalformenden Element und einem Abstand zwischen zwei kanal
formenden Elementen bestehen, sind im wesentlichen gleich dem Kanal
durchmesser; vorzugsweise sind sie größer als der Kanaldurchmesser. Die
Abstände können zu den Elementen proportional sein.
Eine erste günstige Ausführungsform der erfindungsgemäßen Anordnung
ergibt sich, wenn die kanalformenden Elemente durchgehende Aus
nehmungen, bspw. Bohrungen in einer Platte sind, und im Ionenfilter
mehrere, vorzugsweise sieben bis fünfzehn Platten unterschiedlicher
Dicke nacheinander angeordnet sind. Je nach dem Herstellungsverfahren
und Verwendungszweck können die Ausnehmungen eine zylindrischen,
konischen oder quadratischen Querschnitt aufweisen. Die Ausnehmungen
können in der Nähe der Plattenoberflächen mit ebenflächigen oder
gekrümmtflächigen Fasen versehen sein. Sie können auch die Form von
zwei mit ihren kleineren Deckflächen aneinanderstoßenden Kegel
stumpfen haben. Durch die schrägen Flächen der Ausnehmungen kommt
es zu einer günstigen Feldgestaltung in den Kanälen und zu einer Mini
mierung des Absputterns an den Ausnehmungsrändern. Diese Ausfüh
rungsform wird im folgenden als Lochfilter bezeichnet.
Während beim Lochfilter jedes Element nur mit einem Potential auf die
Ionen wirken kann, ergibt sich eine zweite günstige Ausführungsform
(Spaltfilter), wenn in jedem Element ein zweites elektrisches Feld quer
zur Ionenflugrichtung in bestimmter Weise wirkt.
Vorteilhaft bestehen die Kanäle im wesentlichen aus konzentrisch zur
geometrischen Achse der Anordnung ausgebildeten Ringspalten, bei
denen in radialer Richtung zwischen elektrisch leitfähigen Blechen
(Schalen) Spalte zum Ionendurchtritt mit Spalten ohne Ionendurchtritt, die
mit einem nichtleitenden Material ausgefüllt sein können, miteinander
abwechseln. Zur Einhaltung der Dicke der Spaltkanäle sind in radialer
Richtung Abstandshalter vorgesehen, die die Bleche reproduzierbar
haltern. Vorteilhaft sind die Kanalabschnitte in den Elementen in axialer
Richtung gekrümmt ausgebildet, so daß die Filterwirkung begünstigt wird.
Die Krümmung der aufeinanderfolgenden Abschnitte eines Kanals hängt
von der Wechselwirkung zwischen den beschleunigenden und abbrem
senden elektrischen Feldern in Ionenflugrichtung ab und hat eine alter
nierende Krümmungsrichtung. Zur Anpassung des Ionenstroms von der
geraden in die um eine Achse gewendelte Bewegung der Ionen sind der
Eintritts- und der Austrittsquerschnitt jedes Kanals senkrecht zur
Flugrichtung der auszufilternden Ionen und zur geometrischen Achse der
Anordnung gerichtet. Es ist also am Beginn und am Ende des Kanals je
ein Anpaßstück vorgesehen, das nur die Hälfte seiner vorbestimmten
Länge hat.
Der Spaltfilter kann auch aus linearen plattenkondensatorähnlichen
Elementen aufgebaut sein, so daß Kanäle mit rechteckigem Querschnitt
entstehen. Im Gegensatz zum obigen Ringspaltfilter ergibt sich eine hin
sichtlich der Filterung günstige Ausführungsform, wenn die Krümmung
aller Kanalabschnitte gleiche Richtung haben.
Schließlich ergibt sich eine dritte günstige, als Quadrupolfilter bezeich
nete Lösungsvariante, wenn an Stelle von einem Querfeld zwei senkrecht
zueinander stehende Querfelder verwendet werden. Hierzu besteht jedes
kanalbildende Element aus vier Bauteilen, die ein Quadrupolfeld quer zur
Ionenstrahlachse bilden. Die Bauteile können aus Stäben oder Platten
bestehen, die gerade oder vorzugsweise hyperbelförmig in Querrichtung
gekrümmt sind. Bei plattenförmiger Ausbildung können diese Bauteile
kammförmig ineinander greifen und in Richtung senkrecht zum Ionen
strahl ein alternierendes Quadrupolfeld erzeugen.
Unabhängig davon, ob es sich um ein erfindungsgemäßes Lochplatten-,
Ringspalt- oder Quadrupolfilter handelt, muß die Lage der Öffnungen im
Extraktionssystem der Lage der Öffnungen im Filter entsprechen. Eine
Anpassung der Form der Löcher im Extraktionssystem an die Kanalform
ist empfehlenswert.
Bei allen Ausführungsformen wird zwischen die Elemente in axialer
Richtung ein HF-Feld angelegt, das die Ionenbeschleunigung bewirkt.
Alle ungeraden Elemente liegen hochfrequenzmäßig auf Masse, die
dazwischen befindlichen Elemente an einer HF-Beschleunigungs
spannung. Diese Spannung wird über ein elektrisches Netzwerk so zuge
führt, daß alle Elemente weiterhin mit einem definierten Gleich
spannungspotential versehen sind.
Möglich ist auch eine HF-Beschaltung, bei der die axiale HF-Beschleuni
gungsspannung symmetrisch zugeführt wird, d. h. sowohl die ungerad
zahligen als auch die geradzahlige Elemente werden mit einem symmetri
schen Ausgang des die HF-Spannung bereitstellenden Netzwerkes (HF-
Übertrager) verbunden und die erforderlichen Gleichspannungspotentiale
zugeführt.
Spalt- und Quadrupolfelder erfordern neben dieser Beschaltung, die im
wesentlichen den axialen Potentialverlauf im Filter festlegt, noch eine
zweite phasenverschobene HF-Spannung gleicher Frequenz aber ver
schiedener Amplitude. Eine günstige Ausfürungsform ergibt sich, wenn
die Phasenverschiebung ± 90° beträgt. Diese HF-Spannung muß zum
jeweiligen axialen Gleich- und HF-Potential des Elementes symmetrisch
addiert werden.
Anstelle der Gleichspannungen einschließlich der Spannungen am
Extraktionssystem können auch Rechteckspannungen mit einem einstell
baren Tastverhältnis verwendet werden, deren Frequenzen klein gegen die
verwendete Hochfrequenz (20 bis 100 kHz) ist. Dadurch wird verhindert,
daß beim Filtern von schichtbildenden Ionen (z. B. polymerisierende
organische Fragmente) isolierende Schichten im Filter den Potential
verlauf stören.
Beide HF-Spannungen sollen sinusförmigen Verlauf haben. Zur Steige
rung des Massentrennvermögens ist es vorteilhaft, HF-Rechteckspan
nungen mit einstellbarem Tastverhältnis zu verwenden.
Vorteilhaft ist es, die Elemente in axialer Richtung mit einem Gleich
spannungspotentialverlauf zu belegen, um die Filterwirkung zu erhöhen.
Eine vorteilhafte erfindungsgemäße Lösung ergibt sich, wenn hierdurch
eine die Ionen bremsende Potentialbarriere von der maximalen Größe
über die Elemente verteilt entsteht. Neben der bremsenden
Wirkung hat dieser Gleichspannungspotentialverlauf die Aufgabe, den
Teilionenstrahl im Kanal zu führen, um eine hohe Ionentransmission zu
erreichen. Aus ionenoptischen Gründen sind auch andere Potential
barrieren vorteilhaft, z. B. ein moduliert ansteigender Potentialverlauf.
Nach dem Durchlaufen der Elemente des Laufzeitsystems haben die
Ionen i.d.R. eine Ionenenergie, die für bestimmte Anwendungen zu
niedrig ist. Es ist günstig, den Ionenstrahl noch durch ein nachfolgendes
Nachbeschleunigungselement auf eine dem Anwendungszweck angepaßte
Ionenenergie zu bringen.
Vorteilhaft sind die Kanäle mit mindestens zwei Ummantelungen ver
sehen, die ein differentiell gepumptes System zur angepaßten Vakuum
erzeugung ermöglichen. In den aufeinanderfolgenden Kanalabschnitten
werden also Vakua mit geringer werdenden Drücken erzeugt, um insbe
sondere den Neutralgasdruck im Rezipienten zu senken.
Die erfindungsgemäße Lösung kann neben ihrer Anwendung als groß
flächiger Breitbandmassenseperator für Schichtprozesse auch als Massen
spektrometer verwendet werden. Vorteilhaft ist es, hierzu das Nach
beschleunigungselement durch ein den Ionenstrahl registrierendes Gerät
(bspw. Faradayaufhänger) zu ersetzen und den Ionenstrom in Abhängig
keit von der angelegten Frequenz als Massenspektrum des in die Ionen
quelle eingelassenen Gases zu messen. Dabei ist es empfehlenswert,
diesen Austausch an einem großflächigem Filter mit einer ausreichenden
Anzahl von Kanälen, z. B. nur an ein bis drei Kanälen durchzuführen, um
eine insitu-Kontrolle des zu filternden Massenspektrums zu ermöglichen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand der schematischen Zeichnungen
näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 den grundsätzlichen Aufbau einer erfindungsgemäßen
Anordnung in Verbindung mit einer Vakuumerzeugung,
Fig. 2 ein Blockschema zur Steuerung der erfindungsgemäßen
Anordnung,
Fig. 3 das Laufzeitsystem der Anordnung gemäß Fig. 1 mit
einem Netzwerk zur Einstellung beliebiger Gleichspan
nungspotentialverläufe,
Fig. 4 einen Querschnitt eines ersten Ausführungsbeispiels einer
erfindungsgemäßen Anordnung mit Lochfiltern,
Fig. 5 einen Kanal gemäß Fig. 4 in vergrößerter Darstellung im
Längsschnitt mit gleichverteiltem Gegenpotential und
Nachbeschleunigung,
Fig. 6a bis d günstige Gestaltungsformen für die Löcher eines
Lochfilters,
Fig. 7 den zentralen Teil eines Querschnitts durch ein zweites,
als Ringspaltfilter ausgebildetes Ausführungsbeispiel,
Fig. 8 einen Teil eines Längsschnitts durch das zweite Ausfüh
rungsbeispiel gemäß Fig. 7 ohne Gegenpotential,
Fig. 9 einen Längsschnitt eines dritten, auf Quadrupolwir
kungen beruhenden Ausführungsbeispiels mit Gegen
potentialbarriere an einem Element und Nachbeschleuni
gung,
Fig. 10 einen Querschnitt durch Fig. 9 entlang der Linie C-C,
Fig. 11 eine gekrümmte Ausführungsform der ein Quadrupol
element formenden Platten und
Fig. 12 eine Ineinanderschachtelung von Quadropolelemente
formenden Platten.
In Fig. 1 ist eine Anordnung 1 zur Filterung von Ionen dargestellt, die im
umfassenden Fall nacheinander eine Ionenquelle 2 mit einem Gaseinlaß 3,
ein Extraktionssystem 4, ein Laufzeitsystem 5 und einen Nachbeschleu
niger 6 aufweist. Die Ionenquelle 2 kann in bekannter Weise ausgebildet
sein (Kaufmann-, HF- oder ECR-Ionenquelle) und wird mit einem ge
eigneten Gas 12 gespeist, aus dem Ionen in der Ionenquelle 2 erzeugt
werden. Das Extraktionssystem 4 ist hinsichtlich seiner Gestaltung vom
Laufzeitsystem 5 abhängig. Es besteht aus einem Screen- und einem
Acceleratorgitter, die die Ionen aus dem Plasma der Ionenquelle extrahie
ren, auf eine vorgegebenen Energie W₀ beschleunigen und die Elektronen
aus dem Plasma zurückhalten. Das Extraktionssystem 4 bestimmt in
hohem Maße den Durchsatz des Ionensystems. Das Laufzeitsystem 5 be
steht aus einzelnen, noch zu beschreibenden Abschnitten 51, 52, 53, 54,
55, 56 die über die gesamte Länge des Laufzeitsystems reichende, zu
einer Achse X-X im wesentlichen parallele Kanäle formen und deren
Anzahl von der für den Anwendungsfall erforderlichen Beschleunigung
und/oder Massenauflösung anhängt. Hinreichende Ergebnisse werden mit
fünf bis neun, maximale Ergebnisse mit fünfzehn Abschnitten erreicht,
wobei jeder Abschnitt aus einem kanalformenden Element und einem
Abstand besteht. Der Nachbeschleuniger 6 bringt die Ionen auf eine dem
Anwendungsfall angemessene Ionenenergie, bevor sie als Ionenstrahl 9
die erfindungsgemäße Anordnung verlassen.
Das Laufzeitsystem 5 einschließlich des Extraktionssystems 4 und des
Nachbeschleunigers 6 ist von Vakuumkammern 7, 8, umgeben, von denen
die der Ionenquelle 2 am nächsten liegende Kammer 7 das geringere
Vakuum (10-4 bis 10-5 mbar) und die dem austretenden Ionenstrahl 9 am
nächsten liegende Kammer 8 das höhere Vakuum (10-5 bis 10-7 mbar)
aufweist. Jede Kammer wird durch ein Pumpensystem in Richtung der
Pfeile 10, 11 evakuiert.
In Fig. 2 ist die Anordnung 1 zur Filterung von Ionen mit einem HF-
Netzwerk 13 und einem Steuerteil 14 für die Ionenquelle 2 versehen.
Außerdem sind eine Quelle 15 die Spannungsversorgung des in Fig. 1
erwähnten Screen- und Acceleratorgitters, die im Extraktionssystem 4
zusammengefaßt sind, eine Quelle 16 für eine HF-Spannung Ua zur
Beschleunigung der Ionen im Laufzeitsystem 5, eine Quelle 17 für die
Lieferung einer HF-Querspannung Uq, die im Zusammenhang mit Ring
spalt- oder Quadrupolanordnungen zur Anwendung kommt, eine oder
mehrere Gleichspannungsquellen 18 zur Erzeugung des Potentialverlaufs
und der Potentialbarriere im Laufzeitsystem und eine Quelle 19 für eine
Spannung UN, die der Nachbeschleunigung der Ionen dient, bevor diese
die Filteranordnung verlassen, vorgesehen. Zwischen den Quellen 16 und
17 einerseits und dem HF-Netzwerk 13 andererseits sind zur abgeschirm
ten Übertragung der HF-Spannungen Koaxialkabel 20, 21 für 50 bis 75 Ω
vorgesehen. Im übrigen sind zur Verbindung der Quellen 14, 15, 18, 19
mit dem Ionenfilter 1 und dem HF-Netzgerät 13 einfache Kabel 22 erfor
derlich. Nicht alle genannten Spannungsquellen müssen vorhanden sein.
Bestimmend hierfür sind Verwendungszweck und Aufbau der Filter
anordnung 1.
Die Quelle 17 wird, wie bereits oben angedeutet, nur für Ringspalt- und
Quadrupolanordnungen benötigt. Die Quelle 18 kann in den Fällen, in
denen nur eine geringe Massenauflösung benötigt wird, weggelassen
werden. Dies trifft im wesentlichen auf die Ringspalt- und Quadrupolfilter
zu, die aufgrund ihrer modulierten Querfelder bereits eine ausreichende
Massenfilterung erzeugen können. Die Nachbeschleunigungsquelle 19
kann bei Anwendung mit niedriger Ionenenergie ebenfalls entfallen.
In Fig. 3 sind einzelne Abschnitte 51 bis 58 des Laufzeitsystems 5 ent
lang der Achse X-X dargestellt, von denen jeder eine Länge kj, ein kanal
formendes Element Ej der Länge lj und einen Abstand sj aufweist. Der
erste Abschnitt 51 hat die Länge kl, den Abstand s₁ und ein Element E₁
der Länge l₁. Analoges gilt für die folgenden (n-1) Abschnitte.
Ein aus dem Extraktionssystem 4 kommendes Ion 23 tritt mit einer Ener
gie W₀ in das Laufzeitsystem 5 ein. In den Abständen si zwischen den
Elementen E₁ wirkt auf das Ion 23 die axiale HF-Beschleunigungs
spannung Ua sowie die zwischen den Elementen E₁ angelegte Gleich
spannung ΔUgj, die bei positivem Vorzeichen beschleunigend, bei negati
vem Vorzeichen dagegen abbremsend wirkt. Nach Durchlaufen des j-ten
Elements wird die Ionenenergie maximal
und nach Verlassen des Filters maximal
Die Ionen, die synchron mit der von seiner Frequenz abhängigen Ände
rung des HF-Feldes fliegen, können maximal obige Energien erreichen,
alle asynchron fliegenden Ionen haben geringere Energien, bzw. kommen
zum Stillstand. Das Gegenfeld aus den Spannungen ΔUgj wird als brem
sendes Feld verwendet. Wenn die gesamte HF-Beschleunigung (n · e · Ua)
größer als das gesamte Bremspotential
ist, nimmt die Ener
gie der synchron fliegenden Ionen im Filter 5 zu, andernfalls nimmt sie ab.
Vorteilhaft ist es, ein in der Summe bremsendes Feld zu verwenden und
die HF-Beschleunigung und das Gegenfeld so einzustellen, daß die Ener
gie nach dem Verlassen des Laufzeitsystems (Wn) noch größer als Null
und kleiner als etwa W₀/3 ist.
Je nachdem ob die Energie der Ionen im Filter zu- oder abnehmen soll,
müssen die Kanalabschnitte länger oder kurzer werden. Ein entscheiden
des Merkmal der erfindungsgemäßen Lösung ist daher die Dimensionie
rung der Kanalabmessungen in Abhängigkeit von den angelegten
Spannungen. Bezeichnet man mit Usj = Ua + ΔUgj die in der Summe im
Abstand sj wirkende Beschleunigungsspannung, so kann die Länge eines
Elements Ej durch
berechnet werden. Dabei sind m die Ionenmasse, f die Frequenz der HF-
Spannung und e die Elementarladung. Die Abmessung des zugehörigen
Spaltes ergibt sich zu sj = ks · lj, wobei ks (= 0 bis ca. 1) einen vorzu
gebenden Faktor darstellt. Die Länge des gesamten Kanalabschnittes
beträgt dann kj = sj + lj.
Eine vorteilhafte und schaltungsmäßig einfach zu realisierende erfin
dungsgemäße Lösung ergibt sich, wenn das Gegenpotential als abbrem
sendes Feld auf alle Elemente gleichmäßig verteilt wird, d. h. wenn ΔUgj
≡ ΔUg ist. Mit Einführung der Kenngrößen Freiflugkanallänge k₀ und
Staffelungsparameter K gilt
wobei Us = Ua + ΔUg. Die Elementlänge beträgt
Die Spaltlänge beträgt wieder
sj = ks · lj (6)
und die Frequenz ergibt sich in Abhängigkeit von der Masse zu
k₀ ist die Strecke, die ein mit W₀ fliegendes Ion in einer Halbwelle
zurücklegt.
Mit dem Laufzeitsystem 5 ist ein elektrisches Netzwerk 24 zur Addition
der nur an die geradzahligen Elemente Ej angelegten HF-Spannung Ua und
der an alle Elemente Ej angelegten Gleichspannungen ΔUgj verbunden.
Die Kondensatoren C₁ dienen der potentialfreien Einkopplung der Hoch
frequenz, die Widerstände R und die Kondensatoren C₂ halten die Hoch
frequenz von den Gleichspannungsnetzteilen fern.
In Fig. 4 ist ein Querschnitt durch ein Laufzeitsystem dargestellt, das aus
hintereinander angeordneten Lochfiltern 25 besteht, bei dem ein Ionen
strahldurchmesser 26 wirksam ist und die Elemente Ej der Abschnitte 51
bis 58 (Fig. 3) durch rasterartig angeordnete Bohrungen 27 realisiert sind.
Die entsprechenden Bohrungen der hintereinander angeordneten Loch
filter 25 formen jeweils einen Kanal (Fig. 5), in dem ein Ionenteilstrahl
geführt wird.
In Fig. 5 ist ein Kanal 30 mit einer Achse X-X und einem Durchmesser
d dargestellt, der von einem aus einem Screengitter 41 und einem
Acceleratorgitter 42 bestehenden Extraktionssystem 4, einem Laufzeit
filter 5 mit einzelnen Abschnitten 51 bis 56 und einem Nachbeschleuniger
6 gebildet wird. Dabei wirkt das Acceleratorgitter 42 sowohl als Teil des
Extraktionssystems 4 als auch als Element des Laufzeitsystems 5. Diese
Lösung ist vorteilhaft, weil dadurch die Gesamtzahl der Lochgitter in der
Filteranordnung verringert und Ionenstrahlverluste minimiert werden. Ein
Plasma in der Ionenquelle 1 sendet Ionen aus, die auf ein Substrat oder
einen Empfänger 29 auftreffen. In diesem Ausführungsbeispiel wird ein
gleichmäßig verteiltes Gegenfeld verwendet. Damit ergibt sich ein negati
ver Staffelungsparameter K, und die Länge der Elemente lj nimmt in
Strahlrichtung ab. Ebenso werden die Längsabmessungen der Ladungs
wolken mit den synchron fliegenden Ionen 28 kleiner, während sie den
Kanal 30 passieren; jedoch sind diese Ladungswolken 28 nicht länger als
die von ihnen jeweils passierten Abschnittselemente E₁ bis E₆. Zwischen
dem Plasma 2 und dem Screengitter 41 besteht eine Spannung Us von 0
bis 100 V, durch die die Ionen aus dem Plasma 2 herausgezogen werden.
Zwischen dem Screengitter 41 und dem Acceleratorgitter 42 besteht eine
Spannung Uacc von 100 bis 1000 V, durch die die Ionen auf eine Energie
W₀ gebracht und beschleunigt werden. Das Gegenfeld wird in diesem
Ausführungsbeispiel nur an einer Spannungsquelle Ug und den im Wider
standsnetzwerk 24 befindlichen Widerstandsteilerketten gebildet. Die
Addition der Beschleunigungsspannung erfolgt über R-C-Glieder (R und
C₁). Die Nachbeschleunigung der Ionen erfolgt über die Nachbeschleuni
gungsspannung UN, die am Nachbeschleuniger 6 anliegt.
Die Anordnung, insbesondere die Filterabmessungen und die Frequenz
der Beschleunigungsspannungen sind so getroffen, daß wenn sich eine
Ladungswolke 28 im feldfreien Raum des Laufzeitsystems 5, im Durch
tritt eines Elementes Ej befindet, ein Phasenwechsel stattfindet, weshalb
ein Betreiben des Laufzeitsystems mit Rechteckimpulsen von Vorteil ist.
Das Laufzeitsystem 5 durchläuft also ein gepulster Strom; nur Ionen, die
zu einer bestimmten Phasenlage aus dem Extraktionssystem kommen,
werden weiter beschleunigt.
Im Laufzeitsystem 5 werden durch die einzelnen Kanäle 30 die Teil
strahlen ionenoptisch geführt, so daß durch die entsprechende Dimensio
nierung die Verluste an Ionen klein gehalten werden können. Im Laufzeit
system 5 wirkt eine durch den Gleichpotentialverlauf erzeugte Fokussie
rung, die der raumladungsbedingten Expansion der Ionenstrahlung ent
gegen wirkt und eine Führung der Ionen über die erforderliche Länge
gewährleistet. Da während des Phasenwechsels der HF-Spannung Ua sich
die separierten Ionen in einem HF-Element befinden, die Längen der die
Kanäle passierenden Ionenwolken etwa mit den Elementenlängen über
einstimmen, ergibt sich eine gegenüber dem Stand der Technik bei HF-
Laufzeitmassenspektrometern bedeutende Erhöhung der Transparenz. Im
Gegensatz zur äquidistanten Anordnung bei bekannten HF-Massen
spektrometern ergeben sich erfindungsgemäße Abmessungen im Laufzeit
system 5, die ein Optimum bzgl. der Transparenz und Massenauflösung
ermöglichen.
In den Fig. 6a bis 6d sind im Querschnitt unterschiedliche Ausbil
dungen für die Wandungen der Bohrungen bzw. Löcher 27 im jeweiligen
Lochfilter 25 vorgesehen. Sie können abgerundet oder eckig, zylindrisch
(Fig. 6a), konisch (Fig. 6b), doppelkonisch (Fig. 6c) oder zylindrisch mit
Fasen (Fig. 6d) ausgebildet sein. Eine im Querschnitt ballige Ausbildung
ist ebenfalls möglich. Die zur Achse X-X nicht parallelflächige Form der
Ausbildung der Wandung verhindert bzw. reduziert ein Absputtern von
Wandungsmaterial.
Als Wandungsmaterial werden Substanzen mit niedrigen Sputter
koeffizienten, z. B. Graphit, oder Materialien verwendet, die falls sie
abgesputtert und im Strahl transportiert werden, keine störenden Effekte
auf dem Substrat hervorrufen, bspw. Silizium für die Ionenimplantation
von Silizium.
In Fig. 7 ist ein Teil eines Ringspaltfilters 33 im Querschnitt dargestellt.
Dabei sind aus elektrisch leitfähigen Blechen bestehende zylindrische
Schalen 34, 37 in etwa gleichen radialen Abständen voneinander vorge
sehen, wobei sich zwischen den Schalen abwechselnd ein Ringkanal 35
für die Ionenstrahlen und ein Ringkanal 36 für die Aufnahme eines nicht
leitfähigen Materials befindet. Die innere der Schalen 34 schließt einen
Kern aus nicht leitfähigem Material ein. Der Halterung und elektrischen
Verbindung der Schalen 34, 37, die sich jeweils auf der selben Seite des
nicht leitfähigen Materials befinden, dienen elektrisch leitfähige Ver
bindungselemente 38, 39, die die entsprechenden Schalen 34, 37 an die
jeweiligen Spannungsquellen anschließen.
Die Fig. 8 zeigt einen Teillängsschnitt zu Fig. 7 entlang der dort einge
zeichneten Linie B-B. Der grundsätzliche Aufbau und die grundsätzliche
Wirkungsweise wurde bereits zu den Fig. 1 und 3 beschrieben. Es
wird ein Laufzeitsystem 5 ohne Gegenpotential verwendet; d. h., die
Ionenenergie, die nach Verlassen des Extraktionssystems 4 W₀ beträgt,
wird in den nachfolgenden Elementen E₁ bis E₅ weiter erhöht. Demzu
folge ergibt sich eine Staffelung nach Formel (5) mit einem positiven
Staffelungsparameter K nach Formel (4).
Während bei der erfindungsgemäßen Lösung mit dem Lochfilter (Fig.
4, 5, 6) ein bestimmter Gegenfeldpotentialverlauf als wesentliches Merk
mal erzeugt wird, kann mit dem Ringspaltfilter vorteilhaft auch ohne
Gegenfeldpotential, wie in Fig. 8 dargestellt, gearbeitet werden. Dies ist
möglich, weil aufgrund des nur für die Synchronionen mitlaufenden
zusätzlichen Querfeldes bereits eine ausreichende Massenseparation
erreicht wird.
Der Ionenquelle 2 ist das aus dem Screengitter 41 und dem Accelerator
gitter 42 bestehende Extraktionssystem 4 nachgeordnet, das hinsichtlich
seiner geometrischen Form dem nachfolgenden, aus Abschnitten 331 bis
335 bestehenden Ringspaltfilter 33 angepaßt ist. Diese Abschnitte weisen
alternierend gekrümmte Elemente E₁ bis E₅ auf, die die Ringkanäle 35, 36
der Fig. 7 bilden, die von den Schalen 34, 37 begrenzt sind und deren
axiale Krümmung mit zunehmender Entfernung vom Extraktionssystem 4
abnimmt. Der Krümmungsradius der Elemente E₁ bis E₅ ist abhängig von
der Ionenenergie der synchron fliegenden Ionen und wird in ähnlicher
Weise berechnet wie die bereits aufgezeigte axiale Staffelung der Ele
mente durch Formel (3). Der innere Kanal 36 und die weiteren Ring
kanäle 36 sind mit einem nicht leitfähigen Material gefüllt und ent
sprechen den Teilen des Extraktionssystems 4, die für Ionen nicht durch
lässig sind. Die Ringkanäle 35 sind den für Ionen durchlässigen Teilen
des Extraktionssystems 4 zugeordnet und leiten die zu filternden Ionen
teilstrahlen zu einem nicht dargestellten Empfänger oder Substrat. Die
Ringkanäle 35 sind so geformt, daß ihre dem Acceleratorgitter 42 zuge
wandten Eintrittsflächen 31 und ihre empfängerseitigen Austrittsflächen
32, die zugleich Querschnittsflächen sind, zueinander und zum Accelera
torgitter 42 im wesentlichen parallel sowie zur geometrischen Achse X-X
des Ringspaltfilters 33 senkrecht gerichtet sind. Demzufolge haben die
Elemente E₁ und E₅ nur die Hälfte ihrer berechneten Längen lj. Die
einzelnen Abschnitte 331 bis 335 enthalten Abstände sj zwischen den
Elementen E₁ bis E₅, deren Größen proportional zur Elementenlänge
sj = ks · lj gestaltet sind.
Zwischen der Ionenquelle 2 und dem Screengitter 41 besteht die elektri
sche Spannung Us und zwischen dem Screengitter 41 und dem Accelera
torgitter 42 die elektrische Spannung Uacc, durch die die Ionen mit einer
Anfangsenergie W₀ in das Ringspaltfilter (Laufzeitfilter) 33 gelangen.
Außerdem ist ein Netzwerk 43 vorgesehen, in dem die HF-Spannung Uq
symmetrisch zur axialen HF-Spannung Ua addiert wird. Die die Elemente
E₁, E₃, E₅ einerseits begrenzenden Schalen 34 sind über Verbindungs
elemente 381 und Leitungen 383 mit einem Ausgang 431 und die die
Elemente E₁, E₃, E₅ andererseits begrenzenden Schalen 37 sind über
Verbindungselemente 382 und Leitungen 384 mit einem zweiten Ausgang
432 des Netzwerkes 43 verbunden. Die die Elemente E₂, E₄ einerseits
begrenzenden Schalen 34 sind über Verbindungselemente 391 und
Leitungen 393 mit einem dritten Ausgang 433 und die die Elemente E₂, E₄
andererseits begrenzenden Schalen 37 sind über Verbindungselemente
392 und Leitungen 394 mit einem vierten Ausgang 434 des Netzwerkes
43 verbunden. Ua und Uq werden vom Steuerteil nach Fig. 2 von bspw.
zwei nicht dargestellten synchronisierten Generatoren mit einer Phasen
verschiebung von ± 90° geliefert.
Eine Gleichspannung U₁ erzeugt eine negative Vorspannung des gesam
ten Filters 33 bzgl. Masse von ca. -75 bis -150 V und ermöglicht den
Betrieb mit einem nicht dargestellten Neutralisator, damit nichtleitende
Substrate mit einem durch Elektronen neutralisierten Ionenstrahl bearbei
tet werden können.
Eine dritte vorteilhafte erfindungsgemäße Lösung ergibt sich, wenn die
kanalbildenden Elemente zwei in lateraler Richtung modulierte Querfelder
aufweisen, die die Form eines Quadrupolfeldes bilden und so geschaltet
sind, daß für die synchron fliegende Ionenwolke sich ein alternierendes
Stauchen und Strecken in je einer der Querrichtungen ergibt, wodurch
auch hohe Raumladungen noch über die gesamte Kanallänge geführt
werden können. Asynchron fliegende Ionenwolken werden dagegen auf
die Kanalwände geführt.
Im Gegensatz zum Ringspaltfilter 33 (Fig. 8), der ohne Gegenpotential
betrieben werden kann, weil die Bann der Synchronionen in axialer
Richtung gekrümmt ist, wird der Quadrupolfilter vorteilhaft mit Gegen
potential betrieben. Fig. 9 zeigt einen Quadrupolfilter, bei dem die
Gegenpotentialbarriere auf das Element E₄ konzentriert ist. Das Element
E₄ enthält die Gegenpotentialbarriere. Im Netzwerk 43 werden dazu Uq
und die Gegenspannung addiert und die Platten 441 bis 444 des Elemen
tes E₄ mit den Ausgängen 435 und 436 verbunden. Das Element E₅ dient
der Nachbeschleunigung und ist mit den Ausgängen 437 und 438 des
Netzwerkes 43 verbunden, auf die die Summe aus HF-Querspannung Uq
und Nachbeschleunigungsspannung UN geführt wird.
Der in Fig. 9 dargestellte Filter hat ein Lautzeitsystem aus fünf Abschnit
ten (Acceleratorgitter und E₁ bis E₄). Die Massenauflösung kann gestei
gert werden, indem größere ungeradzahlige Anzahlen von Elementen im
Laufzeitsystem verwendet werden.
In Fig. 10 ist ein Querschnitt entlang der Linie C-C in Fig. 9 dargestellt,
der die den Kanal 44 formenden Quadrupolplatten 441 bis 444, ihre
Polungen +,- und ihre Anschlußleitungen 385 bis 388 erkennen läßt. Die
gepunkteten Linien 45 innerhalb des Kanals 44 sind Feldlinien.
In Fig. 11 ist ein Kanalquerschnitt dargestellt, dessen Quadrupolplatten
441 bis 444 eine gekrümmte, den Feldlinien 45 angepaßte Innenform
aufweisen und dadurch den Filterungsvorgang unterstützen.
In Fig. 12 ist ein Querschnitt eines mit Quadrupolplatten versehenen
geradzahligen Laufzeitsystemelements (E₂) dargestellt, die rasterartig
ineinandergeschachtelt sind, und zwar sind die in der Zeichnung senkrecht
gerichteten Platten 442, 444 mit einem ersten Anschluß 386 und die
waagerecht gerichteten Platten 441, 443 mit einem zweiten Anschluß 385
verbunden. Bei einem ungeradzahligen Element (E₁, E₃) werden die
Quadrupolplatten 442, 444 an die Anschlüsse 387 und die Quadrupol
platten 441, 443 an die Anschlüsse 388 gelegt. Bei den geradzahligen
Elementen E₂ werden die Quadrupolplatten 442, 444 an die Anschlüsse
386 und die Quadrupolplatte 441, 443 an die Anschlüsse 385 gelegt.
Dadurch ist es möglich, die nebeneinanderliegenden Elemente Ej eines
jeden Abschnittes des Laufzeitsystems 5 (Fig. 9) technologisch günstig
herzustellen.
Alle in der Beschreibung, den nachfolgenden Ansprüchen und der Zeich
nung dargestellten Merkmale können sowohl einzeln als auch in beliebi
ger Kombination miteinander erfindungswesentlich sein.
Bezugszeichenliste
1 - Anordnung zur Filterung von Ionen
2 - Ionenquelle
3 - Gaseinlaß
4 - Extraktionssystem
5 - Laufzeitsystem
6 - Nachbeschleuniger
7, 8 - Vakuumkammern
9 - Ionenstrahl
10, 11 - Pfeile
12 - Gas
13, 24, 43 - Netzwerke
14 - Steuerteil
15 - Quelle für die Spannungsversorgung
16 - Quelle für die HF-Spannung Ua
17 - Quelle für die HF-Querspannung Uq
18 - Gleichspannungsquelle(n)
19 - Quelle für die Spannung UN
20, 21 - Koaxialkabel
22 - einfache Kabel
23 - Ion
25 - Lochfilter
26 - Ionenstrahldurchmesser
27 - Bohrungen
28 - Ionenwolke
29 - Empfänger
30, 44 - Kanäle
31 - Eintrittsfläche
32 - Austrittsfläche
33 - Ringspaltfilter
34, 37 - Schalen
35, 36 - Ringkanäle
38, 39 - Verbindungselemente
41 - Screengitter
42 - Acceleratorgitter
45 - gepunktete Linien
51 bis 58, 331 bis 335 - Abschnitte
381, 382, 391, 392 - Verbindungselemente
383, 384, 393, 394 - Leitungen
385 bis 388 - Anschlußleitungen
431 bis 438 - Ausgänge
441 bis 444 - Platten (Quadrupolplatten)
Ej - Elemente
kj - Länge eines Kanalabschnittes
lj - Länge eines Elementes
sj - Abstände
X-X - Achse
C₁, C₂ - Kondensatoren
R - Widerstände
Ua - axiale HF-Beschleunigungsspannung
Uacc - Acceleratorspannung
Ugj, ΔUgj - Gleichspannungen
UN - Nachbeschleunigungsspannung
Us - Screengitterspannung
Ul - Gleichspannung am gesamten Filter
Ug - Gegenfeldgleichspannung
2 - Ionenquelle
3 - Gaseinlaß
4 - Extraktionssystem
5 - Laufzeitsystem
6 - Nachbeschleuniger
7, 8 - Vakuumkammern
9 - Ionenstrahl
10, 11 - Pfeile
12 - Gas
13, 24, 43 - Netzwerke
14 - Steuerteil
15 - Quelle für die Spannungsversorgung
16 - Quelle für die HF-Spannung Ua
17 - Quelle für die HF-Querspannung Uq
18 - Gleichspannungsquelle(n)
19 - Quelle für die Spannung UN
20, 21 - Koaxialkabel
22 - einfache Kabel
23 - Ion
25 - Lochfilter
26 - Ionenstrahldurchmesser
27 - Bohrungen
28 - Ionenwolke
29 - Empfänger
30, 44 - Kanäle
31 - Eintrittsfläche
32 - Austrittsfläche
33 - Ringspaltfilter
34, 37 - Schalen
35, 36 - Ringkanäle
38, 39 - Verbindungselemente
41 - Screengitter
42 - Acceleratorgitter
45 - gepunktete Linien
51 bis 58, 331 bis 335 - Abschnitte
381, 382, 391, 392 - Verbindungselemente
383, 384, 393, 394 - Leitungen
385 bis 388 - Anschlußleitungen
431 bis 438 - Ausgänge
441 bis 444 - Platten (Quadrupolplatten)
Ej - Elemente
kj - Länge eines Kanalabschnittes
lj - Länge eines Elementes
sj - Abstände
X-X - Achse
C₁, C₂ - Kondensatoren
R - Widerstände
Ua - axiale HF-Beschleunigungsspannung
Uacc - Acceleratorspannung
Ugj, ΔUgj - Gleichspannungen
UN - Nachbeschleunigungsspannung
Us - Screengitterspannung
Ul - Gleichspannung am gesamten Filter
Ug - Gegenfeldgleichspannung
Claims (38)
1. Anordnung zur Filterung von Ionen eines bestimmten Massenbereichs
aus einem Ionenstrom, der von einer Ionenquelle ausgeht und durch ein
Extraktionssystem geführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß
- - der Ionenstrom durch parallel zueinander geführte Kanäle geführt wird, die in einzelne Abschnitte unterteilt sind und innerhalb der Abschnitte aus kanalformenden Elementen sowie zwischen diesen Elementen befindlichen Abständen bestehen, die mindestens 5% der jeweiligen Kanalquerabmessungen betragen,
- - an die Elemente mindestens eine Hochfrequenzspannung und eine dieser Hochfrequenzspannung überlagerte Gleichspannung angelegt sind und
- - die Längen der Elemente und die Abstände auf die angelegten Spannungen abgestimmt sind.
2. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kanäle untereinander und über ihre gesamte Länge gleiche
Querabmessungen aufweisen.
3. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Querabmessungen der Kanäle mit zunehmender Kanallänge
größer oder kleiner werden.
4. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Längen der Kanalabschnitte im wesentlichen
gleich den, vorzugsweise größer als die Kanalquerabmessungen sind.
5. Anordnung zur Filterung gemäß der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kanäle in jedem Abschnitt durch Ausneh
mungen einer Platte gebildet sind.
6. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ausnehmungen zylindrisch ausgebildet sind.
7. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ausnehmungen kegelstumpfförmig ausgebildet sind.
8. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ausnehmungen doppelkegelstumpfförmig gestaltet sind, deren
kleinere Kegelstumpfbegrenzungsflächen sich im Inneren der Ausneh
mungen befinden.
9. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ausnehmungen quadratischen Querschnitt haben.
10. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß die Ränder der Ausnehmungen mit Fasen ver
sehen sind.
11. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß jedes Element aus zwei Platten besteht, die ein
elektrisches Feld quer zur Ionenflugrichtung bilden.
12. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 11, dadurch gekennzeich
net, daß die Platten in radialer Richtung ringförmig gestaltet und
ineinander geschachtelt sind.
13. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 11, dadurch gekennzeich
net, daß ebene Ablenkplatten quer zum Ionenstrahl und parallel
zueinander angeordnet sind.
14. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 11, dadurch gekennzeich
net, daß die Kanäle in den Abschnitten in axialer Richtung gekrümmt
sind.
15. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 14, dadurch gekennzeich
net, daß die Kanäle in axialer Richtung eine alternierende
Krümmungsrichtung aufweisen.
16. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 13 und 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kanäle eine gleichsinnige Krümmung auf
weisen.
17. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 11 bis 16,
dadurch gekennzeichnet, daß der Eintritts- und Austrittsquerschnitt
jedes Kanals senkrecht zur Flugrichtung der auszufilternden Ionen
gerichtet ist.
18. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß jedes Element aus vier Bauteilen besteht, die ein
Quadrupolfeld quer zur Ionenflugrichtung bilden.
19. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 18, dadurch gekennzeich
net, daß die Bauteile als Stäbe ausgebildet sind.
20. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 18, dadurch gekennzeich
net, daß die Bauteile als Platten ausgebildet sind.
21. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 19 oder 20, dadurch
gekennzeichnet, daß die Bauteile gekrümmt ausgebildet sind.
22. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 21, dadurch gekennzeich
net, daß die Bauteile hyperbelförmig quer zur Ionenflugrichtung
gekrümmt sind.
23. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 18 bis 22,
dadurch gekennzeichnet, daß die Bauteile kammartig ineinander
greifen und in Richtung senkrecht zum Ionenstrahl ein alternierendes
Quadrupolfeld erzeugen.
24. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, 11 oder
18, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen die Elemente ein HF-Feld
in im wesentlicher axialer Richtung gelegt ist.
25. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 24, dadurch gekennzeich
net, daß in abwechselnder Reihenfolge über eine Potentialklemm
schaltung je ein Element an Masse und ein Element an die HF-
Spannung angeschlossen ist.
26. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, 11 oder
18 und 24, dadurch gekennzeichnet, daß an die Elemente zusätzlich
zum axialen HF-Feld ein vorgegebenes Gleichspannungspotential
gelegt ist.
27. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 26, dadurch gekennzeich
net, daß der Gleichspannungspotentialverlauf an den Elementen in
vorgebbarer Weise ansteigend oder abfallend ist.
28. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 26, dadurch gekennzeich
net, daß der Gleichspannungspotentialverlauf von Element zu Element
moduliert ist.
29. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, 11 oder
18, dadurch gekennzeichnet, daß an die spaltbildenden oder
quadrupolerzeugenden Elemente eine zweite HF-Spannung angelegt
ist, die bezüglich der ersten HF-Spannung eine abweichende Ampli
tude und Phasenlage bei gleicher Frequenz hat, wobei das elektrische
Feld der zweiten HF-Spannung im wesentlichen in lateraler Richtung
wirkt.
30. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 24 bis 29,
dadurch gekennzeichnet, daß die lateral wirkende HF-Spannung
symmetrisch zu den axial angelegten Gleichspannungen und HF-
Spannungen addiert und an die Spalt- bzw. Quadrupolelemente gelegt
ist.
31. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 24 und 26, dadurch
gekennzeichnet, daß anstelle der Gleichspannungen einschließlich der
Spannungen am Extraktionssystem Rechteckspannungen min einstell
barem Tastverhältnis verwendet werden, deren Frequenz klein gegen
die verwendete Hochfrequenz ist.
32. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 24 und 26, dadurch
gekennzeichnet, daß die verwendeten HF-Spannungen sinusförmig
oder rechteckförmig mit einstellbarem Tastverhältnis sind.
33. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, 11 oder
18, dadurch gekennzeichnet, daß durch den insgesamt in einem Kanal
in axialer Richtung bestehenden Gleichspannungspotentialverlauf ein
ionenbremsendes Gegenfeld von maxal W₀/e + n · Ua erzeugt wird,
wobei W₀ die Energie der Ionen nach dem Extraktionssystem, n die
Anzahl der Elemente und Ua die Amplitude der HF-Beschleunigungs
spannung bedeuten.
34. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 33, dadurch gekennzeich
net, daß das Gegenfeld gleichmäßig auf alle Elemente verteilt ist.
35. Anordnung zur Filterung gemäß Anspruch 33, dadurch gekennzeich
net, daß das Gegenfeld auf einen Teil der Elemente verteilt ist.
36. Anordnung zur Filterung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß Mittel zur Nachbeschleunigung oder Nach
fokussierung des Ionenstrahls vorgesehen sind.
37. Anordnung zur Filterung gemäß einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Kanäle mit mindestens zwei
Ummantelungen versehen sind, die einer unterschiedlichen Vakuum
erzeugung entsprechend den Kanalabschnitten dienen.
38. Anordnung zur Filterung gemäß einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Frequenz der HF-Spannung über
einen, einem bestimmten Massenbereich entsprechenden Bereich
geregelt wird und daß der den Filter verlassende Ionenstrahl auf ein
den Ionenstrom registrierendes Gerät geleitet und dort gemessen wird.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944446230 DE4446230A1 (de) | 1994-12-23 | 1994-12-23 | Anordnung zur Filterung von Ionen |
DE9422275U DE9422275U1 (de) | 1994-12-23 | 1994-12-23 | Anordnung zur Filterung von Ionen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944446230 DE4446230A1 (de) | 1994-12-23 | 1994-12-23 | Anordnung zur Filterung von Ionen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4446230A1 true DE4446230A1 (de) | 1996-07-04 |
Family
ID=6536870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19944446230 Ceased DE4446230A1 (de) | 1994-12-23 | 1994-12-23 | Anordnung zur Filterung von Ionen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4446230A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004093123A2 (en) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Beckman Coulter, Inc. | Mass analyzer capable of parallel processing one or more analytes |
-
1994
- 1994-12-23 DE DE19944446230 patent/DE4446230A1/de not_active Ceased
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Title |
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"Nucl.Instr. and Methods in Physics Research" B 24/25 (1987) 787-790 * |
"Nucl.Instr. and Methods in Physics Research" B 37/38 (1988) 398-402 u. 508-511 * |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004093123A2 (en) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Beckman Coulter, Inc. | Mass analyzer capable of parallel processing one or more analytes |
WO2004093124A2 (en) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Beckman Coulter, Inc. | Mass analyser allowing parallel processing one or more analytes |
WO2004093124A3 (en) * | 2003-03-31 | 2005-08-04 | Beckman Coulter Inc | Mass analyser allowing parallel processing one or more analytes |
US7057167B2 (en) | 2003-03-31 | 2006-06-06 | Beckman Coulter, Inc. | Mass analyzer allowing parallel processing one or more analytes |
WO2004093123A3 (en) * | 2003-03-31 | 2007-02-08 | Beckman Coulter Inc | Mass analyzer capable of parallel processing one or more analytes |
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