DE4440880A1 - Dünnschichtbestrahlungszentrifuge - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft die homogene Bestrahlung von dünnen Flüssigkeitsschichten, vorzugsweise für die pho­ tochemische Behandlung von schwierigen Abwässern, wie beispielsweise Deponiesickerwässer, Abwässer in der pharmazeutischen Industrie oder Abwässer, die bei der Bodensanierung anfallen. Hierbei werden diese Abwässer mit Oxydationsmitteln wie zum Beispiel Wasserstoffper­ oxyd oder Ozon versetzt und mit UV-Strahlern bestrahlt. Dabei bilden sich OH-Radikale, welche in der Lage sind, auch sehr schwer abbaubare Inhaltsstoffe zu oxydieren oder stufenweise abzubauen. In vielen Fällen ist diese Methode bis heute eine der wenigen praktikablen Verfah­ ren. Man bereitet diese Wässer mit den konventionellen Abwasseraufbereitungsmethoden wie Flocken, Sedimentie­ ren, Flotieren, Strippen, Filtern usw. auf und unter­ zieht die so nicht entfernbaren Restschadstoffe, die dann noch in Lösung sind, einer photochemischen Behand­ lung mittels UV-Strahlen.

Der photochemische Abbau solcher Substanzen gelingt nur bei hohen UV-Dosen. Die UV-Dosis ist das Produkt aus UV-Intensität (W/cm2) und der Bestrahlungsdauer in Se­ kunden. Entweder man bestrahlt mit einer hohen UV-In­ tensität kurz oder mit einer geringeren über einen län­ geren Zeitraum. Hinzukommt jedoch, daß die so zu behan­ delnden Flüssigkeiten im Abwasserbereich meist trübe sind, d. h. daß die UV-Strahlen nicht sehr tief in das zu bestrahlende Medium eindringen. Diese Abwässer haben also eine nur geringe "Eindringtiefe d", worunter man diejenige Schichtdicke versteht, nach deren Durch­ dringung noch 10% der einfallenden UV-Energie vorhan­ den ist.

Der Konstrukteur steht hier vor Schwierigkeiten inso­ fern, als er dünne Schichten erzeugen muß, die er gleichmäßig innerhalb einer bestimmten Zeiteinheit mit UV-Strahlen belichten muß, denn jedes Wasserteilchen muß die gleiche UV-Dosis abbekommen, will man in einem "Durchgang" die UV-Oxydation abschließen. Ideal ist der "Plattenreaktor" nach Fig. 1. Dort fließt eine dünne Wasserschicht 12 von der gleichmäßigen Dicke s im gleichbleibenden Abstand A unter einem flächigen UV- Strahler 13 hindurch mit der Fließrichtung 10, die kon­ stant ist. Einen solchen Flachstrahler gibt es jedoch nicht; er müßte durch ein Gitter aus vielen parallen UV-Strahlern ersetzt werden, das unwirtschaftlich wäre, weil die Hälfte der Energie nach oben abstrahlen wür­ de. Reflektoren sind ebenfalls unwirtschaftlich wegen der Eigenbeschattung der Strahler, des Reflexionswir­ kungsgrades usw. Außerdem kann man eine solche Konfi­ guration nicht in einem Druckgefäß realisieren. Die Ab­ wässer kommen meist unter Druck an und müssen hinter dem Reaktor weitergefördert werden, wozu Druck nötig ist.

Handelt es sich um schwierige Abwässer mit geringer Eindringtiefe, dann versagen die konventionellen UV-Re­ aktoren auch dann, wenn sie gute hydraulische Zwangs­ durchströmungen vorsehen, wie beispielsweise der Et­ agenreaktor (P 43 04 444.1). Dort werden im Reaktorge­ häuse abgeschottete räumliche Einzelbestrahlungszonen realisiert, welche vor allem einen Strömungskurzschluß ausschließen, aber keine Dünnschichtbestrahlung statt­ findet.

Fig. 2 zeigt den Versuch einer Annäherung an den Plat­ tenreaktor. Es handelt sich hiebei um einen sog. "Fall­ filmreaktor". Das zu behandelnde Abwasser fällt über die Kanten 3 aus zwei sich parallel gegenüberliegenden Rinnen 1 und 2 senkrecht in Form von zwei Wasserkaska­ den, die zunächst geschlossene Filme 4 sind, bald aber zu Tropfenschleiern 6 auffächern, d. h. bald die Form von brauchbaren Wasserfilmen mit glatter Oberfläche und gleichmäßiger Dicke verlieren. Die UV-Strahler befinden sich zwischen den beiden Wasserfilmen. Neben dem Nach­ teil der Auffächerung des Filmes besteht noch ein wei­ terer darin, daß das Wasser immer schneller fällt, was man bis zu einem gewissen Grade durch eine engere An­ ordnung der parallelen UV-Strahler im unteren Bereich ausgleichen kann. Daß man mit einer solchen Vorrich­ tung beispielsweise Bestrahlungszeiten von über 2 Se­ kunden nicht realisieren kann, ist augenscheinlich.

Der erfinderische Gedanken ermöglicht es nun, Flüssig­ keiten, wie beispielsweise Abwasser in sehr dünnen, de­ finierten, sprich hinsichtlich ihrer Dicke einstellba­ ren Schichten lange genug zu bestrahlen.

Die Erfindung macht sich dabei zu Nutze, daß sich, ent­ sprechend Fig. 3, eine, in einem um seine waagerechte Achse 3 rotierenden Zylinder 1 befindliche Wassermenge 4 gleichmäßig über die ganze Länge verteilt, wenn sie einerseits durch Bördel 2 am Herausfließen gehindert wird und die Drehzahl ausreicht, um an der Decke eine Zentrifugalbeschleunigung größer 1 g zu herzustellen.

Eine so geartete Wasserschicht von der Form eines dünnwandigen Zylinders zu erzeugen, langsam achsparal­ lel seitwärts zu bewegen und dabei möglichst homogen zu bestrahlen, ist dem Wesen nach der beanspruchte Gegen­ stand der vorliegenden Erfindung.

Fig. 4 und Fig. 5 zeigen die Lösung, Fig. 6 ein Ausfüh­ rungsbeispiel.

In Fig. 4 verfügt ein um seine Achse 3 rotierender Zy­ linder 1 über eine Flüssigkeitszuleitung 5 (vergleich­ bar mit der Einlaufrinne beim Rohrschleuderverfahren), über eine Flüssigkeitsableitevorrichtung 6 mit Alterna­ tive 7 und eine Auffangvorrichtung 8 mit dem Ablauf 9. 6 und 7 sind unterschiedlich: Nach dem Vorschlag 6 be­ sitzt der Zylinder 1 auch auf der Ablaufseite den Bör­ del (2) und davor einen Kranz von gleichmäßig in gerin­ gem Abstand voneinander angeordneten feinen Durchboh­ rungen, nach dem Vorschlag 7 besitzt der Zylinder 1 auf der Ablaufseite ein zugeschäftes rundumlaufendes Wehr, das die Aufstauhöhe der Flüssigkeitsschicht bestimmt und über das schließlich der Ablauf erfolgt. 5 und 8 laufen nicht um. Besitzt der Zylinder 1 eine ausrei­ chende Drehzahl zum Überkopfhalten der Flüssigkeit und wird über 5 Flüssigkeit eingeleitet, dann wird sich dieselbe, vom Bördel zwei nach links ausgehend gleich­ mäßig ausbreiten bis sie am linken Ende des Zylinders ankommt. Im Falle der Ableitevorrichtung nach 6 wird die Flüssigkeit durch die Löcher nach außen geschleu­ dert, von der Auffangvorrichtung S erfaßt und über den Ablauf 9 abgeführt. Es gibt eine Flüssigkeitsaufgabe­ menge (Durchsatz), die genau dem Ablauf durch die Boh­ rungen entspricht, was im wesentlichen vom Durchflußwi­ derstand der Bohrungen, von der Drehzahl und der kine­ matischen Zähigkeit der Flüssigkeit abhängt. Hierzu ge­ hört auch eine bestimmte Wandergeschwindigkeit der Flüssigkeitsschicht von rechts nach links und eine be­ stimmte Dicke. Dreht man bei 5 mehr auf, steigt die Stauhöhe der Flüssigkeitsschicht, dreht man mehr zu, wird sie kleiner, sperrt man bei 5 ab, wird die Flüs­ sigkeit entleert. Eine Harmonisierung der beteiligten Parameter (Durchsatz, Drehzahl, Anzahl der Löcher, Durchmesser der Löcher, Stauhöhe, Wandergeschwindig­ keit, Zähigkeit) ist einfach. Im Falle des Stauwehres 7 verhalten sich die Dinge ähnlich. Es besteht allerdings keine Verstopfungsgefahr wie in den Abzugsbohrungen.

In Fig. 4 fehlt noch die Bestrahlungsvorrichtung, um den erfinderischen Gedanken vollständig wiederzugeben. In Fig. 5 ist die Fig. 4 übernommen, es gelten die vor be­ schriebenen hydraulischen Verhältnisse, nur ist in der Achse 3 der noch fehlende Strahler 11 ergänzt. Die Flüssigkeitsschicht von geringer Dicke wandert im ro­ tierenden Zylinder von dem rechten zum linken Ende und wird dabei unter optimalen Bedingungen bestrahlt. Ver­ glichen mit mit Vorrichtungen nach dem Stand der Tech­ nik kann die Dicke der Flüssigkeitsschicht extrem klein gehalten und die Bestrahlung absolut gleichmäßig über die gesamte Oberfläche der Flüssigkeitsschicht vorgenommen werden, wobei, verglichen mit einem Fall­ filmreaktor ungewöhnlich lange Bestrahlungszeiten ein­ gestellt werden können. Die Vorrichtung nach dem erfin­ derischen Gedanken erfüllt damit komplett die idealen Eigenschaften eines Plattenreaktors nach Fig. 1.

Fig. 6 zeigt beispielhaft als Anwendungsbeispiel eine Dünnschichtbestrahlungszentrifuge, im nachfolgenden mit DBZ abgekürzt, für die photochemische Naßoxydation von sehr schwierigen Abwässern, wie sie beispielsweise in der Pharma- und Kosmetikindustrie, als Sickerwässer in Deponien, bei der Gasrohrreinigung oder in der Galva­ nikindustrie u. a.m. anfallen. Solche Abwässer fallen in kleineren Mengen an, beispielsweise zwischen 0,5 und 30 m³/Tag. Derartige Abwässer werden zunächst soweit mit den konventionellen Aufbereitungsmethoden behandelt, bis nur noch diejenigen Schadstoffe, meist giftige or­ ganische Verbindungen, in Lösung sind, die mit konven­ tionellen Mitteln nicht mehr entsorgt werden können.

Ein Anwendungsbeispiel zeigt Fig. 6. Die Vorrichtung nach Fig. 6 besitzt den Rotationszylinder 1, der aus Aluminium gefertigt sein und eine sehr dünne Innenbe­ schichtung aus transparentem Teflon haben soll. Im Aus­ schnitt 27 ist 28 der Aluminiumzylinder und 29 die Tef­ lon-Innenbeschichtungsbeschichtung. Aluminium hat als behandelte Oberfläche einen sehr hohen Reflexionsgrad für UV-Strahlen von bis zu 89% und leitet die Wärme her­ vorragend ab. Eine dünne Teflonschicht ist weitgehend durchlässig für UV-Strahlen sowie chemisch und gegen Wärme außererordentlich widerstandsfähig. Auf seiner Oberfläche haften Beläge nur schwer und bilden sich da­ her sehr langsam, soweit sie überhaupt entstehen. Alu­ minium allein, ohne die schützende Teflonschicht, wäre chemisch nicht widerstandsfähig genug gegen aggressive Medien. Die Teflonbeschichtung läßt sich überdies gut reinigen. UV-Strahlen, welche die zu behandelnde Abwas­ serschicht 30 durchdrungen haben, gelangen durch die UV-durchlässige Teflonschicht an die Aluminiumoberfläche und werden von dieser zum Teil wieder in die Abwasser­ schicht 30 reflektiert, was den Prozeß und die UV- Strahlerausbeute verbessert.

Der Rotationszylinder 1 ist auf vier Rollen 17 leicht­ gängig fliegend gelagert, die sich an den Lagerböcken 18 und 19 befinden, die Teil der Ständerkonstruktion 24 sein sollen. Der Rotationszylinder 1 liegt frei auf den vier Rollen 17 auf. Diese wiederum laufen in den Füh­ rungsrillen 31.

Der Antrieb erfolgt über Keilriemenscheibe 20, die an 1 befestigt sein soll, den Keilriemen 21, die Motor­ keilriemenscheibe 22 und den elektrischen Antriebsmo­ tor, dessen Drehzahl stufenlos verstellbar sein soll. Der Motor soll ebenfalls am Gehäuse 24 befestigt sein.

Die Vorrichtung nach dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 6 hat ferner die Flüssigkeitszuleitung 5, die ein Fein­ drosselventil 33, einen Anschluß für eine Dosierlei­ tung 32 sowie die schmale Auslauföffnung 34 hat. Die Ausläuföffnung 34 ist nahe der Innenwand so angeordnet und gerichtet, daß durch ihre breite schmale Öffnung die zu behandelnde Flüssigkeit bandförmig, in Drehrich­ tung und mit einer Austrittsgeschwindigkeit nahe der Umfangsgeschwindigkeit, auf den Anfang der Abwasser­ schicht 30 aufgetragen wird. Über den Dosieranschluß 32 kann man beispielsweise mittels einer Dosierpumpe Oxy­ dationsmittel zumischen.

Für die Ableitung des fertig behandelnden Abwassers aus dem Rotationszylinder 1, das im Beispiel ausreichend lange in dünner Schicht bestrahlt worden sein soll, soll die Vorrichtung nach Fig. 6 ein umlaufendes Wehr nach Fig. 4, 7 haben. Sobald der Stauraum am Umfang auf­ gefüllt ist, wird das behandelte Abwasser über das Wehr laufen und in die Auffangvorrichtung 15 gelangen, wo es gesammelt wird und über 9 abläuft. 15 soll auch an an 24 befestigt sein.

Die Wandergeschwindigkeit der Flüssigkeitsschicht wird über das Feindrosselventil 32 geregelt: Öffnen bewirkt größere, Drosseln kleinere Wandergeschwindigkeit, Schließen Stillstand.

In der Rotationsachse 3 befindet sich der UV-Strahler 11, zentral gelagert in einem UV-durchlässigem Hüllrohr 14 aus Quarzglas, das wiederum an den Stützen 15 und 16 des Gehäuses 24 angeordnet sein soll. Der UV-Strahler 11 soll im Anwendungsbeispiel ein leistungsstarker Mit­ teldruckstrahler sein. Diese Strahler haben eine breite spektrale Strahlenflußverteilung im UV-Bereich und sind erfahrungsgemäß für die meisten photochemischen Entsor­ gungsaufgaben geeignet.

Nach Einstellung der Drehzahl zur Erzeugung einer aus­ reichenden Fliehkraft im oberen Teil des Rotationszy­ linders 1, kann durch Öffnen des Ventiles 33 der innere Stauraum des Rotationszylinders gefüllt werden. Nach­ dem sich das Abwasser am Umfang in Wehrhöhe gleichmä­ ßig verteilt hat und damit die Wasserschicht 30 aufge­ baut ist, wird ein mehr oder weniger schneller Abfluß des Abwassers über das Wehr 7 erfolgen und der Wasser­ film 30 dabei langsam von rechts nach links wandern.

Interessant und vorteilhaft sind die Kühleigenschaften der Vorrichtung nach Fig. 6, was den UV-Strahler angeht. UV-Miteldruckstrahler (im engl. Sprachgebiet als UV- Hochdruckstrahler bezeichnet) haben eine Rohrtemperatur von über 600°C und entwickeln auch wegen des relativ schlechten Wirkungsgrades viel Wärme. Verwendet man sie in geschlossenen Reaktoren, in denen das Hüllrohr vom Wasser umgeben ist, muß aus Gründen der Kühlung des Strahlers eine Mindestdurchflußmenge eingehalten werden. In solchen Reaktoren, meist zur Desinfektion größerer Mengen von Trink- oder Produktwasser eingesetzt, werden vergleichsweise sehr viel größere Durchflußmengen als in Reaktoren für die UV-Naßoxydation behandelt. Die Kühlbedingungen für den Strahler sind daher leicht ein­ zuhalten. Anders bei kleineren geschlossenen Reaktoren für die UV-Naßoxydation, die auch eingesetzt werden, wie beispielsweise bei dem vor genannten Etagenreaktor. Bei langsamem Durchfluß durch diese geschlossenen Be­ strahlungsdruckgefäße kann es zu einer beträchtlichen Erwärmung des zu behandelnden Mediums kommen. Die Be­ strahlungszeiten sind daher begrenzt. Anders bei der hier beispielhaft beschriebenden DBZ: Dort brennt der heiße UV-Mitteldruckstrahler in frei beweglicher Umge­ bungsluft und ist nicht eingeschlossen (das Quarzhüll­ rohr ist dabei unwesentlich). Eine wärmeabführende Luftströmung ergibt sich in dem beiderseits offenen ro­ tierenden Zylinder 1 von selbst, nämlich Luftzufürung von beiden Seiten in Achsnähe, Abführung beidseitig in Randnähe. Die abgestrahlte Wärme trifft letzten Endes auf den sich drehenden Aluminiumzylinder 1, der gute Wärmeleitfähigkeiten hat und an seinem Außenumfang durch schnelle Drehung in der ihn frei umgebenden Luft gekühlt wird. Die Teflonschicht ist weitgehend tempera­ turunempfindlich.

In der von rechts nach links wandernden Flüssigkeits­ schicht 30 ist die Dicke derselben nicht ganz einheit­ lich. Speziell bei der Ausführung mit dem Lochkranz an der Ablaufseite, 6 in Fig. 4, ist es von Bedeutung, die Schichtdicke zu kontrollieren. Hierzu besitzt der ro­ tierende Zylinder 1 an der Innenwand die zwei Pegel­ stifte 25 und 26 (oder eine größere Anzahl von noch an­ derer Länge), die im Ausschnitt 24 dargestellt sind. In Verbindung mit einem Stroboskop kann ihre Eintauchtiefe leicht visuell kontrolliert werden. Im Fig. 6 taucht der Pegelstift 25 beispielsweise voll ein, d. h. seine Länge entspricht der augenblicklich vorhandenen Schichttiefe, während der andere Pegelstift 26 zur Einsstellung einer größeren Schichttiefe mittels Drosselventil 33 dienen könnte.

Es ist offensichtlich, daß mit einer Vorrichtung ent­ sprechend Fig. 6 dünne Flüssigkeitsschichten von nahezu einheitlicher Dicke mit einer hohen Bestrahlungsdosis bestrahlt werden können. Bei einem mit ca. 500 U/min rotierenden Zylinder vom Innendurchmesser 300 mm und einer Länge von 1 m, sowie einer eingestellten Schichttiefe von ca. 3 mm für das Medium, ergeben sich ein "Füllvolumen" von ca. 2,8 Liter, bei einer Bestrahlungsdauer von 5 Sekunden hieraus eine Sekundenleistung von ca. 0,56 l/s oder ca. 2 m³/h, das sind im Dauerbetrieb 48 m³/Tag. Mit einem handelsüblichen Mitteldruckstrahler sind hierbei mit Leichtigkeit Bestrahlungsdosen bis zu 300 mJ/cm² zu erreichen.

Die bis heute nach dem Stand der Technik noch nicht realisierbaren optimalen Bedingungen eines Plattenreak­ tors nach Fig. 1 können nach der Lehre der Erfindung erstmals mit Leichtigkeit erfüllt werden.

Claims (24)

1. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten, bestehend aus einem vorzugsweise waagerecht angeord­ neten Rotationshohlkörper, der zylindrisch oder ko­ nisch oder ein anderer achssymmetrischer Rotations­ hohlkörper sein kann, mit einer oder mehreren Flüs­ sigkeitseinleitevorrichtungen zur Beschickung der Oberfläche der Innenwand und einer oder mehreren Flüssigkeitsableitevorrichtungen von der Innenwand nach außen, mit einer oder mehreren Strahlenquellen, vorzugsweise UV-Strahler, die sich innerhalb und/oder außerhalb des Rotationshohlkörpers befinden können, wobei im letzteren Fall der Rotationshohlkörper aus einem strahlendurchlässigem Material besteht, dadurch gekennzeichnet, daß bei geeigneten Drehzahlen durch Regulierung der Zu- und Ablaufverhältnisse auf der inneren Umfangsfläche des rotierenden Rotationshohl­ körpers eine Flüssigkeitsschicht von annähernd gleichbleibender Dicke erzeugt werden kann, welche man durch die genannte Regulierung von Drehzahl, so­ wie der Zu- und Ablaufmenge der Flüssigkeit sowohl stationär halten wie auch abfließen lassen und, wor­ auf es besonders ankommt, bei gleichem Zu- und Ablauf axial bewegen kann, um die so durch den Rotations­ hohlkörper wandernde Flüssigkeit kontinuierlich, in sich einheitlich und mit hoher Strahlendosis bei ex­ trem geringer und durchgehend einheitlicher Flüssig­ keitsschichttiefe zu bestrahlen.

2. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Ro­ tationshohlkörper vorzugsweise aus Aluminium ist.

3. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Rotationshohlkörper vorzugsweise aus einem UV-festen Kunststoff, wie bei­ spielsweise aus Polyethylen oder aus Teflon ist.

4. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Rotationshohlkörpers beschichtet ist.

5. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die innere Oberfläche des Rotationshohlkörpers mit Teflon beschichtet ist.

6. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Ro­ tationshohlkörper aus UV-durchlässigem natürlichem oder synthetischen Quarzglas oder aus einem anderen UV-durchlässigen Material wie beispielsweise Teflon ist, damit auch außerhalb des Rotaionshohlkörpers an­ geordnete Strahler an oder in der Flüssigkeitsschicht an der Innenwand wirksam sind.

7. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Flüssigkeit Abwasser ist, das photochemisch be­ handelt werden soll.

8. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 6 , dadurch gekennzeichnet, daß die Flüssigkeit ein Medium ist, an dem oder in dem eine Photosynthese vorgenommen wird.

9. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Flüssigkeit desinfiziert wird.

10. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Flüssigkeit und/oder darin enthaltene beliebige Stoffe, von welcher Beschaffenheit und Form auch im­ mer, für sich alleine oder mit dieser zusammen behan­ delt, umgewandelt oder anders verändert werden als es im Anspruch 7, 8 und 9 beschrieben ist.

11. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Drehzahl des Rotationshohlkörpers im Betrieb stu­ fenlos verstellt werden kann.

12. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Rotationshohlkörper auf der Innenwand Pegelstifte besitzt, an welchen die Dicke der Flüssigkeitsschicht erkannt werden kann.

13. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen UV-Meßsensor besitzt.

14. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der oder die innerhalb und/oder außerhalb des Rotati­ onshohlkörpers angeordneten Strahler UV-Niederdruck­ strahler sind.

15. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1-13, dadurch gekennzeichnet, daß der oder die innerhalb und/oder außerhalb des Rotations­ hohlkörpers angeordneten Strahler UV-Mitteldruck oder UV-Hochdruckstrahler sind.

16. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der die innerhalb und/oder außerhalb des Rotations­ hohlkörpers angeordneten Strahler UV-Excimerstrahler sind.

17. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der oder die innerhalb und/oder außerhalb des Rotati­ onshohlkörpers angeordnete Bestrahlungsquellen andere als UV-Niederdruck-, UV-Mitteldruck-, UV-Hochdruck- oder UV-Excimerstrahler sind.

18. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb und/oder außerhalb des Rotationshohlkörpers eine Kombination verschiedenartiger Bestrahlungsquel­ len angeordnet ist.

19. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß der UV-Strahler in einem Hüllrohr aus UV-durchlässi­ gem Material, wie beispielsweise aus natürlichem oder synthetischer Quarzglas, angeordnet ist.

20. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten speziell nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß das Hüllrohr des UV-Strahlers eine Reinigungsvor­ richtung, wie beispielsweise eine Wischer- oder Bürstvorrichtung mit oder ohne Flüssigkeits- und/oder Chemikalienunterstützung hat.

21. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß dieselbe chargenmäßig betrieben wird, d. h. nach Fül­ lung und Erreichen einer bestimmten Schichtdicke der Zulauf geschlossen und eine vorgegebene Zeitlang be­ strahlt wird.

22. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Innenfläche des Rotationskörpers nicht glatt son­ dern strukturiert, d. h. beispielsweise mit einer be­ stimmten Oberflächenrauhigkeit oder mit Rippen oder anderen Oberflächenausbildungen versehen ist.

23. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Innenfläche des Rotationskörpers noch mit weite­ ren Auf- und/oder Anbauten versehen ist, welche die Strömung auf der Innenfläche beeinflussen.

24. Dünnschichtbestrahlungszentrifuge für Flüssigkeiten nach Anspruch 1 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß der Rotationskörper eine Luftkühlung für den oder die Strahlenquellen hat.