DE4401671A1 - Verfahren zur Verringerung der Löslichkeit von Kupferionen aus Gegenständen aus Kupfer oder Kupferlegierungen sowie Kupferrohr bzw. Kupferblech mit verringerter Kupferlöslichkeit - Google Patents

Verfahren zur Verringerung der Löslichkeit von Kupferionen aus Gegenständen aus Kupfer oder Kupferlegierungen sowie Kupferrohr bzw. Kupferblech mit verringerter Kupferlöslichkeit

Info

Publication number
DE4401671A1
DE4401671A1 DE19944401671 DE4401671A DE4401671A1 DE 4401671 A1 DE4401671 A1 DE 4401671A1 DE 19944401671 DE19944401671 DE 19944401671 DE 4401671 A DE4401671 A DE 4401671A DE 4401671 A1 DE4401671 A1 DE 4401671A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
copper
coating
aggressive
objects
solubility
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19944401671
Other languages
English (en)
Other versions
DE4401671B4 (de
Inventor
Ulrich Dr Reiter
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KME Special Products GmbH and Co KG
Original Assignee
KM Kabelmetal AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KM Kabelmetal AG filed Critical KM Kabelmetal AG
Priority to DE19944401671 priority Critical patent/DE4401671B4/de
Publication of DE4401671A1 publication Critical patent/DE4401671A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4401671B4 publication Critical patent/DE4401671B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1229Composition of the substrate
    • C23C18/1241Metallic substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208Oxides, e.g. ceramics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1212Zeolites, glasses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1254Sol or sol-gel processing

Description

Die Erfindung betrifft einerseits ein Verfahren zur Verrin­ gerung der Löslichkeit von Kupferionen aus insbesondere mit aggressiven Wässern oder anderen spezifisch für Kupfer ag­ gressiven Medien, insbesondere Wässer mit einem pH-Wert klei­ ner als 7, in Kontakt gelangenden Gegenständen aus Kupfer oder Kupferlegierungen.
Andererseits richtet sich die Erfindung auf ein Kupferrohr sowie ein Kupferblech mit verringerter Kupferlöslichkeit.
Es ist bekannt, daß sich die Löslichkeit von Kupferionen bei Kontakt einer Kupferfläche mit fallendem pH-Wert und steigen­ dem Gehalt an freier Kohlensäure im (Trink-)Wasser erhöht. Dabei kann es beispielsweise im Trinkwasserbereich geschehen, daß der von der WHO (Weltgesundheitsorganisation) festgelegte Grenzwert von 3 mg Cu/l überschritten wird. In diesem Zusam­ menhang hat man schon Kupfergegenstände mit Beschichtungen aus Kunststoffen oder metallischen Beschichtungen versehen, um den direkten Kontakt zwischen dem Kupfergegenstand und saurem Wasser bzw. den für Kupfer aggressiven Medien zu ver­ meiden.
Ein Nachteil dieser Maßnahmen ist darin zu sehen, daß die Flexibilität von Kupferrohren und Kupferblechen zwangsläufig eingeschränkt wird. Darüber hinaus müssen zur Verbindung von Kupferrohren sowie Kupferblechen untereinander oder mit an­ deren Gegenständen spezielle Techniken angewandt werden. Schließlich ist unter dem Gesichtspunkt des verstärkten Um­ weltschutzes noch die Recycling-Problematik zu beachten, wenn derart beschichtete Kupferrohre oder Kupferbleche wieder ein­ geschmolzen werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einerseits ein Ver­ fahren zur Verringerung der Löslichkeit von Kupferionen aus Kupfergegenständen zu schaffen, bei welchem eine erhebliche Reduzierung der Schwierigkeiten bei der Handhabung und Verar­ beitung von Kupfergegenständen erreicht wird und andererseits Kupferrohre bzw. Kupferbleche bereitzustellen, die bei ver­ ringerter Löslichkeit von Kupferionen einfach zu handhaben und zu verarbeiten sind.
Was den das Verfahren betreffenden Teil dieser Aufgabe an­ langt, so wird dessen Lösung in den im Kennzeichen des Pa­ tentanspruchs 1 aufgeführten Merkmalen gesehen.
Die Erfindung macht sich dazu die Kenntnisse der Nanotechno­ logie zunutze (VDI-Nachrichten, Nr. 47, 26. Nov. 1993). Hier ist es nämlich gelungen, sogenannte nanostrukturierte Gläser und Keramikwerkstoffe (Ormocere = organically modified ceramics) zu gewinnen. Beim Sol-Gel-Prozeß werden durch Hy­ drolyse und Kondensation von Alkoxiden, vorwiegend des Sili­ ziums, Aluminiums, Titans und Zirkons kollodiale Beschich­ tungslösungen hergestellt. Bei dem Prozeß wird ein anorgani­ sches Netzwerk aufgebaut, z. B. können über entsprechend modi­ fizierte Kieselsäureester zusätzlich organische Gruppen ein­ gebaut werden, mit deren Hilfe das Eigenschaftsprofil gezielt beeinflußt werden kann.
Die geringe Größe der Partikelteilchen dieser Werkstoffe er­ laubt es, sie bei extrem geringen Schichtdicken dennoch so dicht nebeneinander zu packen, daß Kupferionen gar nicht oder nur noch in einem stark verringerten Umfang durch eine solche Beschichtung treten können. Dieser Sachverhalt führt dann zu der vorteilhaften Eigenschaft, daß nunmehr Kupfergegenstände auch dort eingesetzt werden können, wo dies wegen Gefährdung der Gesundheit von Mensch, Tier und Pflanze bislang nicht möglich war. In bevorzugter Anwendung gilt das für Kupfer­ rohre im Trinkwasser- und Industriebereich sowie auch bei kupfernen Bedachungsflächen, bei denen in Verbindung mit sau­ rem Regen bislang eine erhebliche Abgabe von Kupfer in den Erdboden nicht verhindert werden konnte. Das Einsatzspektrum von Kupferrohren und Kupferblechen wird damit unter Beachtung des Umweltschutzes erheblich umfangreicher.
Darüber hinaus wird durch die erfindungsgemäße Beschichtung auch die Korrosionsbeständigkeit von Kupfergegenständen in aggressiven Medien verbessert.
Sowohl der Charakter der Nanokomposite als auch die äußerst geringe Schichtdicke erlauben es ferner, Kupferrohre und Kup­ ferbleche weitgehend problemlos biegen und auch die einfache Löttechnik als Verbindungsmethode heranziehen zu können.
Schließlich liegt ein wesentlicher Vorteil der Erfindung noch darin, daß geringe Schichtdicken neben einem minimalen Mate­ rialverbrauch auch zu reduzierten Recycling-Problemen führen, da nur unbedeutende und außerdem unkritische Stoffmengen aus der Schmelze abgeschieden werden müssen.
Nanokomposite aus keramischen oder glasartigen Werkstoffen gemäß Patentanspruch 2 überwinden auch die Nachteile der be­ kannten glasartigen oder keramischen Beschichtungen. Solche Beschichtungen konnten zwar den direkten Kontakt zwischen Kupfer und für Kupfer aggressive Medien vermeiden, waren jedoch bei Kupferrohren und Kupferblechen aufgrund der hohen erforderlichen Aufbringungstemperaturen, die oberhalb des Schmelzpunkts von Kupfer (1083°C) liegen, nicht zu reali­ sieren.
In diesem Zusammenhang sieht die Erfindung dann entsprechend den Merkmalen des Patentanspruchs 3 vor, daß die Nanokompo­ site mit Temperaturen zwischen 100°C und 400°C aufgebracht werden. Hiermit sind keine oder nur geringe Gefügeänderungen des Kupfers verbunden und damit beispielsweise kein Verlust an Festigkeit zu erwarten.
Besonders dünne Schichtdicken werden entsprechend Patentan­ spruch 4 bei Teilchenabständen unter 0,5 nm im Bereich zwi­ schen etwa 0,5 µm und 3 µm erzeugt. Dadurch wird eine dichte deckende Schicht erreicht. Es ist kein Abplatzen der Schicht beim Biegen oder sonstigen Umformen möglich. Desweiteren kann die rationelle und bei der Verarbeitung bisher gebräuchliche Verbindungstechnik durch Löten angewandt werden.
Um eine einwandfreie Haftung der Nanokomposite an den zu be­ schichtenden Oberflächen zu erreichen, ist es entsprechend Patentanspruch 5 zweckmäßig, daß die Oberflächen vor dem Be­ schichten entfettet werden.
Gestrahlte Oberflächen oder oxidierte Kupferoberflächen (Cu₂O) gemäß den Merkmalen des Patentanspruchs 6 verhalten sich besonders vorteilhaft.
Ein wirtschaftliches Aufbringen der Beschichtung kann mit den Merkmalen des Patentanspruchs 7 erreicht werden. Zum Beispiel werden Cu-Bleche im Batch-Verfahren in einem Tauchbecken be­ netzt bzw. in einem kontinuierlichen Verfahren durch ein solches geführt.
Zweckmäßig schließt sich nach Patentanspruch 8 an das Tauchen eine Aushärtung unter Wärmeeinwirkung im Durchlaufverfahren an. Die Aushärtung kann z. B. in einem Durchlaufofen erfolgen, wobei sich dann die Ofenatmosphäre über den O₂-Anteil, das Inertgas etc. genau steuern läßt. Durch eine solche Steuerung der Ofenatmosphäre werden die Eigenschaften der Schicht zu­ sätzlich positiv beeinflußt.
Eine weitere Möglichkeit zum Aufbringen einer Beschichtung wird in den Merkmalen des Patentanspruchs 9 gesehen. Für die Innenbeschichtung von Rohren kann die Beschichtungslösung über ein geeignetes System durch die Rohre gepumpt und mit Luft ausgeblasen werden. Durch das Ausblasen kann die Schichtdicke eingestellt werden.
Für die Innenbeschichtung von Kupferrohren kann entsprechend Patentanspruch 10 das sogenannte "fill and rinse"-Verfahren angewendet werden. Bei diesem Verfahren ("fill and rinse" ist ein gebräuchlicher Fachausdruck für dieses Batch-Verfahren) werden Rohre in etwa senkrechter Position mit der Beschich­ tungslösung gefüllt. Die Lösung wird über eine Öffnung mit definiertem Querschnitt mit konstanter Abflußgeschwindigkeit abgelassen. Über die Viskosität der Beschichtungslösung und den Ablaßquerschnitt wird die Schichtdicke festgelegt.
Bei internen Versuchen hat sich herausgestellt, daß besonders gute Ergebnisse bei einer Aufbringung der Beschichtung unter Druck zu erwarten sind (Patentanspruch 11). Durch das Auf­ bringen der Beschichtung unter Druck, was insbesondere tech­ nisch bei der Innenbeschichtung von Rohren nach Anspruch 9 oder 10 denkbar ist, werden verbesserte Eigenschaften (Haf­ tung, gleichmäßige Bedeckung) der Schicht erreicht.
Eine Lösung des gegenständlichen Teils der Aufgabe wird er­ findungsgemäß in den Merkmalen des Patentanspruchs 12 er­ blickt. Danach ist die innere Oberfläche mit einer dünnen Beschichtung aus nach der Sol-Gel-Methode gewonnenen Nano­ kompositen versehen.
Eine weitere Lösung des gegenständlichen Teils der Aufgabe besteht nach der Erfindung in den Merkmalen des Patentan­ spruchs 13. In diesem Fall ist mindestens eine Flachseite eines Kupferblechs mit einer dünnen Beschichtung aus nach der Sol-Gel-Methode gewonnenen Nanokompositen versehen.
Eine vorteilhafte Weiterbildung der Gestaltung eines Kup­ ferrohrs oder eines Kupferblechs mit verringerter Kupfer­ löslichkeit besteht in den Merkmalen des Patentanspruchs 14, wo die Schichtdicken zwischen etwa 0,5 µm bis 3 µm bei Teil­ chenabständen unter 0,5 nm betragen.

Claims (14)

1. Verfahren zur Verringerung der Löslichkeit von Kupfer­ ionen aus insbesondere mit aggressiven Wässern oder an­ deren spezifisch für Kupfer aggressiven Medien, insbe­ sondere Wässer mit einem pH-Wert kleiner als 7, in Kon­ takt gelangenden Gegenständen aus Kupfer oder Kupferle­ gierungen, dadurch gekennzeichnet, daß die mit aggressi­ ven Wässern oder anderen spezifisch für Kupfer aggressi­ ven Medien, insbesondere Wässer mit einem pH-Wert klei­ ner als 7, in Kontakt kommenden Oberflächen der Kupfer­ gegenstände mit einer Beschichtung aus nach der Sol-Gel- Methode gewonnenen Nanokompositen versehen werden.
2. Verfahren nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Nanokomposite aus keramischen oder glasartigen Werkstoffen gebildet werden.
3. Verfahren nach Patentanspruch 1 oder 2, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Nanokomposite mit Temperaturen zwi­ schen 100°C und 400°C aufgebracht werden.
4. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß bei Teilchenabständen unter 0,5 nm Schichtdicken zwischen 0,5 µm und 3 µm erzeugt werden.
5. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberflächen vor dem Beschichten entfettet werden.
6. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberflächen gestrahlt oder oxi­ diert werden.
7. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung durch Tauchen er­ zeugt wird.
8. Verfahren nach Patentanspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Tauchen eine Aushärtung unter Wärmeeinwir­ kung im Durchlaufverfahren durchgeführt wird.
9. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung durch Spülen er­ zeugt wird.
10. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung nach der "fill and rinse"-Methode erzeugt wird.
11. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 bis 10, da­ durch gekennzeichnet, daß die Beschichtung unter Druck aufgebracht wird.
12. Kupferrohr mit verringerter Kupferlöslichkeit, dadurch gekennzeichnet, daß die innere Oberfläche mit einer Be­ schichtung aus nach der Sol-Gel-Methode gewonnenen Na­ nokompositen versehen ist.
13. Kupferblech mit verringerter Kupferlöslichkeit, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine Flachseite mit einer Beschichtung aus nach der Sol-Gel-Methode gewonnenen Na­ nokompositen versehen ist.
14. Kupferrohr bzw. Kupferblech nach Patentanspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß bei Teilchenabständen unter 0,5 nm die Schichtdicke 0,5 µm bis 3 µm beträgt.
DE19944401671 1994-01-21 1994-01-21 Verfahren zur Verringerung der Löslichkeit von Kupferionen aus Rohren aus Kupfer oder Kupferlegierungen sowie Kupferrohr mit verringerter Kupferlöslichkeit Expired - Fee Related DE4401671B4 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19944401671 DE4401671B4 (de) 1994-01-21 1994-01-21 Verfahren zur Verringerung der Löslichkeit von Kupferionen aus Rohren aus Kupfer oder Kupferlegierungen sowie Kupferrohr mit verringerter Kupferlöslichkeit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19944401671 DE4401671B4 (de) 1994-01-21 1994-01-21 Verfahren zur Verringerung der Löslichkeit von Kupferionen aus Rohren aus Kupfer oder Kupferlegierungen sowie Kupferrohr mit verringerter Kupferlöslichkeit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4401671A1 true DE4401671A1 (de) 1995-07-27
DE4401671B4 DE4401671B4 (de) 2006-05-04

Family

ID=6508370

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19944401671 Expired - Fee Related DE4401671B4 (de) 1994-01-21 1994-01-21 Verfahren zur Verringerung der Löslichkeit von Kupferionen aus Rohren aus Kupfer oder Kupferlegierungen sowie Kupferrohr mit verringerter Kupferlöslichkeit

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE4401671B4 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998022648A2 (de) * 1996-11-15 1998-05-28 Institut Für Neue Materialien Gem. Gmbh Verbundwerkstoffe
DE10013865A1 (de) * 2000-03-21 2001-10-04 Siemens Ag Verfahren zur Verminderung der Korrosion eines Bauteils einer kerntechnischen Anlage und Bauteil einer kerntechnischen Anlage

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE754786A (fr) * 1969-08-13 1971-01-18 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Procede pour la preparation de matieres a plusieurs composants,transparentes en particulier vitreuses
JPH0634956B2 (ja) * 1987-08-06 1994-05-11 セントラル硝子株式会社 薄膜のコ−ティング方法およびその装置
DE3932865A1 (de) * 1989-10-02 1991-04-11 Akin Okan Gegen korrosion geschuetztes metallrohr
GB9210476D0 (en) * 1992-05-15 1992-07-01 S D Investments Ltd Method of ceramic coating

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998022648A2 (de) * 1996-11-15 1998-05-28 Institut Für Neue Materialien Gem. Gmbh Verbundwerkstoffe
WO1998022648A3 (de) * 1996-11-15 1998-08-13 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Verbundwerkstoffe
DE10013865A1 (de) * 2000-03-21 2001-10-04 Siemens Ag Verfahren zur Verminderung der Korrosion eines Bauteils einer kerntechnischen Anlage und Bauteil einer kerntechnischen Anlage
US6898259B2 (en) 2000-03-21 2005-05-24 Framatome Anp Gmbh Process for reducing the corrosion of a component of a nuclear facility, and component of a nuclear facility

Also Published As

Publication number Publication date
DE4401671B4 (de) 2006-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1272442B1 (de) Glas-, keramik- und metall-substrate mit selbstreinigender oberfläche, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung
EP1249467A1 (de) Selbstreinigende Oberflächen durch hydrophobe Strukturen und Verfahren zu deren Herstellung
EP2683843A1 (de) Stahlflachprodukt und verfahren zum herstellen eines stahlflachprodukts
DE60220706T2 (de) Verfahren zum beschichten einer metalloberfläche
EP1610911B1 (de) Wärmetauscher und verfahren zur oberflächenbehandlung eines solchen
EP1659106B1 (de) Keramischer Formkörper mit photokatalytisch-aktiver Beschichtung und Verfahren zur Herstellung desselben
DE69918232T2 (de) Produkte mit einer photokatalytischen Schicht und Verfahren zur Herstellung von photokatalytischen Schichten
EP1910008B1 (de) Gegenstand mit einer zu verlötenden Oberfläche
EP3218142A1 (de) Verbundwerkstoff, verbundwerkstoffprodukt, verfahren zu deren herstellung und verwendungen dafür
DE4401671A1 (de) Verfahren zur Verringerung der Löslichkeit von Kupferionen aus Gegenständen aus Kupfer oder Kupferlegierungen sowie Kupferrohr bzw. Kupferblech mit verringerter Kupferlöslichkeit
WO2018134302A1 (de) Verwendung von sio2-beschichtungen in wasserführenden kühlsystemen
DE10127494A1 (de) Funktionelle anorganische Bornitrid Schichten
EP0128514A2 (de) Verfahren zur Behandlung von Wärmeaustaucherflächen
DE19523498A1 (de) Karosserieverbundteil und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102005006903B4 (de) Verfahren zum Beschichten von Glasflächen und Oberfläche eines Glasgegenstandes
EP1920850A2 (de) Verfahren zum Schutz von patinierten Oberflächen von Kupferprodukten sowie patiniertes Kupferprodukt
EP0627496A2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Metallsubstraten, insbesondere Stahl- oder Aluminiumblechen in Bandform
DE3931047C2 (de)
DE102007008427B4 (de) Wärmedämmformkörper und Verfahren zur Herstellung eines Wärmedämmformkörpers
DE2044528A1 (en) Spraying of glass or basalt - onto surfaces
EP0590594B1 (de) Behandlung von Metalloberflächen zur Verbesserung der Haftung und deren Korrosionseigenschaften
DE19937325B4 (de) Verfahren zur Hydrophobierung von Oberflächen grobkeramischer Dachziegel und grobkeramischer Dachziegel mit einer ein Kapillargefüge aufweisenden hydrophobierten Oberfläche
EP1001105A2 (de) Wärmereflektierende Schicht, Verfahren zur Herstellung einer wärmereflektierenden Beschichtung und deren Verwendung
DE3212508C2 (de)
BE1029023B1 (de) Zweistufige Isolation von warme Gase führenden Anlageteilen

Legal Events

Date Code Title Description
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: KM EUROPA METAL AG, 49074 OSNABRUECK, DE

8110 Request for examination paragraph 44
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: KME GERMANY AG, 49074 OSNABRUECK, DE

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: KME GERMANY AG & CO. KG, 49074 OSNABRUECK, DE

R082 Change of representative

Representative=s name: PIETRZYKOWSKI, ANJA, DE

R081 Change of applicant/patentee

Owner name: KME GERMANY GMBH & CO. KG, DE

Effective date: 20130122

Free format text: FORMER OWNER: KME GERMANY AG & CO. KG, 49074 OSNABRUECK, DE

R082 Change of representative

Representative=s name: PIETRZYKOWSKI, ANJA, DE

Effective date: 20130122

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20130801