DE4344998C2

DE4344998C2 - Method for measuring the lateral direction error of an element which can be pivoted in elevation and can be aligned with target objects, in particular a weapon barrel, as a function of the elevation angle, and device for carrying out the method

Info

Publication number: DE4344998C2
Application number: DE19934344998
Authority: DE
Inventors: Peter Dipl Ing Knoke; Gerhard Voelker; Helmut Maenz
Original assignee: Wegmann and Co GmbH
Current assignee: Wegmann and Co GmbH
Priority date: 1993-12-30
Filing date: 1993-12-30
Publication date: 1998-05-28
Anticipated expiration: 2013-12-31
Also published as: DE4344998A1

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Messung des Seitenrichtungsfehlers eines in Elevation schwenkba ren, auf Zielobjekte ausrichtbaren Elements, insbe sondere eines Waffenrohres, in Abhängigkeit vom Ele vationswinkel sowie eine Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.The invention relates to a method for measuring the Lateral direction error of a pivotable in elevation elements that can be aligned with target objects, in particular special a gun barrel, depending on the Ele vationswinkel and a device for implementation this procedure.

Infolge von Bautoleranzen bewegt sich ein in Eleva tion geschwenktes Waffenrohr nicht genau in einer vertikalen Ebene senkrecht zur Elevationsdrehachse, sondern es tritt ein Seitenrichtungs- bzw. Lotab lauffehler auf. Da vor allem bei größeren Schußweiten dieser Seitenrichtungsfehler von erheblicher Be deutung für die Schußgenauigkeit ist, hat es sich als notwendig erwiesen, den Seitenrichtungsfehler eines Waffenrohres in Abhängigkeit vom Elevationswinkel ge nau zu ermitteln, damit er beim Anrichten der Waffe berücksichtigt werden kann.Due to building tolerances, one moves in Eleva tion pivoted gun barrel not exactly in one vertical plane perpendicular to the axis of rotation of the elevation, but a side direction or Lotab occurs running errors on. Because especially with larger firing distances this side direction error of considerable loading is for the accuracy of the shot, it has proven to be proved necessary the page direction error of a Gun barrel depending on the elevation angle to be determined precisely so that he can set up the weapon can be taken into account.

Bei den bisher bekannten Meßverfahren zur Ermittlung des Lotablauffehlers müssen während der Messung nach jeder Änderung des Elevationswinkels Einstellungen am Meßmittel durchgeführt werden, was die Messung außer ordentlich aufwendig gestaltet.In the previously known measurement methods for determination of the solder run-off error must be corrected during the measurement every time the elevation angle changes Measuring means are carried out what the measurement except neatly designed.

Es ist ein Verfahren zur Lotablaufmessung bekannt, bei dem an der Mündung des Waffenrohres ein Meßgerät mit einem elektrischen Pendel so angebracht wird, daß das Meßpendel bei horizontal ausgerichteter Rohr seelenachse um eine Achse parallel zur Rohrseelen achse schwingt. Über ein Gelenk, dessen Achse senk recht zur Rohrseelenachse angeordnet ist, kann das Meßgerät frei schwingen, so daß die Schwingungsebene des Meßpendels vertikal bleibt. Bei der Justierung des Meßgerätes muß diese Achse mittels einer einge bauten Wasserwaage horizontiert werden. Fehler beim Horizontieren wirken sich als Summenfehler, abhängig vom Elevationswinkel direkt auf das Meßergebnis aus. Weiterhin wirken sich Verdrehungen des Waffenrohres während der Elevation ebenfalls direkt auf das Meßer gebnis aus.A method for measuring the solder flow is known, with a measuring device at the mouth of the weapon barrel is attached with an electric pendulum so that the measuring pendulum with the pipe aligned horizontally core axis around an axis parallel to the tube core axis swings. Via a joint with its axis down is arranged right to the tube core axis, that can Swing the meter freely so that the vibration level of the measuring pendulum remains vertical. When adjusting of the measuring device, this axis must be switched on by means of a built spirit level. mistake at Leveling up acts as a sum error, depending directly from the elevation angle to the measurement result. Twisting of the weapon barrel also has an effect also directly on the knife during the elevation result.

Es sind auch Gleichlaufprüfgeräte bekannt, bei denen aber während der Messung nach jeder Änderung des Ele vationswinkels Einstellungen am Meßmittel durchge führt werden müssen.There are also known synchronism testers in which but during the measurement after every change of the ele vationwinkel settings on the measuring equipment must be led.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfah ren zur Messung des Seitenrichtungsfehlers eines in Elevation schwenkbaren, auf Zielobjekte ausrichtbaren Elements, insbesondere eines Waffenrohres, in Abhän gigkeit vom Elevationswinkel sowie eine Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens zu schaffen, mit dem bei geringem apparativem Aufwand eine sehr genaue Messung des Seitenrichtungsfehlers durchgeführt wer den kann, ohne daß während der Messung aufwendige Justierungen und Nachstellungen vorgenommen werden müssen.The invention has for its object a method for measuring the lateral direction error of an in Elevation swiveling, alignable on target objects Elements, especially a gun barrel, in depend the elevation angle and a device to implement the procedure with which a very precise one with little expenditure on equipment Measurement of the lateral direction error carried out that can be done without the need for complex measurements Adjustments and readjustments can be made have to.

Die Lösung dieser Aufgabe geschieht verfahrensgemäß mit den Merkmalen aus dem kennzeichnenden Teil der einander nebengeordneten Patentansprüche 1 und 2. Einrichtungen zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens sind in den Patentan sprüchen 3, 5, 6 sowie 11 beschrieben. Vorteilhafte Weiterbildungen dieser Einrichtungen sind Gegenstand der abhängigen Patentansprüche 4 sowie 7 bis 10.This task is solved according to the method with the characteristics from the characteristic part of the mutually subordinate claims 1 and 2. Facilities for implementation of the inventive method are in the patent Proverbs 3, 5, 6 and 11 described. Advantageous further training these facilities are subject to the dependent Claims 4 and 7 to 10.

Die Erfindung ist in erster Linie auf die Messung des Seitenrichtungsfehlers an einem Waffenrohr ausgerich tet und wird auch in dem weiter unten ausgeführten Ausführungsbeispiel anhand eines Waffenrohres be schrieben. Selbstverständlich sind aber das erfin dungsgemäße Verfahren und die Einrichtung zur Durch führung des Verfahrens auch an anderen, auf Zielob jekte ausrichtbaren Elementen anwendbar, beispiels weise auf optische Zieleinrichtungen, einschließlich Zielbeleuchtungsgeräte sowie Entfernungsmesser bei spielsweise Laserentfernungsmesser und Radargeräte. The invention is primarily based on measuring the Lateral direction error aligned with a gun barrel tet and is also explained in the below Embodiment based on a gun barrel be wrote. But of course they are invented method according to the invention and the device for through conduct of the procedure also on others, on target ob objects alignable elements applicable, for example pointing to optical targets, including Target lighting devices and range finders at for example laser rangefinders and radars.

Ein Grundgedanke der Erfindung besteht darin, einen optischen Meßstrahl parallel zur oder genau in Rich tung der verlängerten Elevationsdrehachse des Waffen rohres so zu führen, daß er exakt in eine Ebene umge lenkt wird, die senkrecht zur Elevationsdrehachse verläuft und in dieser Ebene parallel zur Rohrseelen achse auf ein mit dem Waffenrohr fest verbundenes Auffangelement geführt wird. Dieses Auffangelement ist so ausgebildet und angeordnet, daß mit ihm der Seitenrichtungsfehler in Ab hängigkeit vom Elevationswinkel des Waffenrohres ge messen werden und mit einem Sollwert verglichen wer den kann.A basic idea of the invention is one optical measuring beam parallel to or exactly in Rich the extended axis of rotation of the weapon to guide pipes so that it is exactly in one level is steered perpendicular to the elevation axis of rotation runs and in this plane parallel to the tube core axis on one firmly connected to the weapon barrel Collection element is guided. This catchment element is designed and arranged so that with him the page direction error in Ab dependence on the elevation angle of the barrel be measured and compared with a setpoint who that can.

Es gibt prinzipiell zwei Meßverfahren, die in dieser Weise durchgeführt werden können. In einem Falle sind sowohl das Auffangelement als auch die Vorrichtung zur Aussendung des Meßstrahls als Kollimationsfern rohre ausgebildet und die Ablage des Auftreffpunkts vom Sollwert kann durch direkte Beobachtung ermittelt werden.There are basically two measurement methods in this one Way can be done. In one case both the collecting element and the device for sending the measuring beam as a collimation distance tubes formed and the storage of the impact point from the setpoint can be determined by direct observation will.

Im anderen Fall ist das Auffangelement ein Planspie gel an dem der Meßstrahl reflektiert wird und mit einem Winkelversatz zurück zu der Vorrichtung zur Aussendung des Meßstrahls läuft, die in diesem Falle entweder als Autokollimationsfernrohr ausgebildet ist, mittels dessen die Ablage des Auftreffpunkts vom Sollwert nach üblichen Autokollimationsverfahren festgestellt wird, oder die als Meßkamera ausgebildet ist, was den Vorteil hat, daß an die Meßkamera direkt ein Rechner zur Auswertung der Meßergebnisse ange schlossen werden kann.In the other case, the collecting element is a plane pie gel on which the measuring beam is reflected and with an angular offset back to the device for Transmission of the measuring beam runs in this case either designed as an autocollimation telescope by means of which the point of impact is filed from Setpoint according to usual autocollimation procedures is determined, or which is designed as a measuring camera is what has the advantage that directly to the measuring camera a computer to evaluate the measurement results can be closed.

Die Umlenkvorrichtung mittels der der Meßstrahl genau um 90° umgelenkt wird, kann beispielsweise als an sich bekanntes Pentaprisma ausgebildet sein, das auf der Verlängerung der Elevationsdrehachse angeordnet und mit dem Waffenrohr verbunden ist. Läßt sich das Pentaprisma nicht ohne weiteres in Verlängerung der Elevationsdrehachse anbringen, so kann es auch in der Nähe der Elevationsdrehachse befestigt werden, wobei zwischen das Pentaprisma und die Meßka mera eine optische Schere zum Parallelversatz des Meßstrahles in den Strahlengang eingeschaltet wird. Wenn ein Pentaprisma zu weit von der Rohrseelenachse entfernt angeordnet werden müßte, so daß der als Auf fangelement verwendete Planspiegel zu groß ausfallen würde, kann anstelle des Pentaprismas eine Umlenkvor richtung verwendet werden, die aus einer Kombination von zwei Planspiegeln aufgebaut ist, von denen min destens einer einstellbar ist und die nach bekannten optischen Beziehungen so zueinander ausgerichtet wer den können, daß die geforderte Umlenkung stattfindet. In diesem Falle kann es zweckmäßig sein, wenn auch die Lage des Planspiegels am Waffenrohr einstellbar veränderbar ist.The deflection device by means of which the measuring beam is accurate is deflected by 90 °, for example as well-known pentaprism formed on the the extension of the axis of rotation arranged and connected to the gun barrel. Can that be Pentaprism is not readily extended Attach elevation axis of rotation, so it can also in the Attached near the axis of elevation be, whereby between the pentaprism and the Meßka mera optical scissors for parallel offset of the Measuring beam is switched into the beam path. If a pentaprism is too far from the tube core axis would have to be arranged away, so that the on The flat mirror used for the catch element is too large would, instead of the pentaprism, a redirection direction can be used from a combination is constructed from two plane mirrors, of which min at least one is adjustable and the known optical relationships to each other can that the required redirection takes place. In this case, it may be appropriate, though the position of the plane mirror on the gun barrel adjustable is changeable.

Im folgenden werden anhand der beigefügten Zeichnun gen Ausführungsbeispiele für das erfindungsgemäße Verfahren sowie Einrichtungen zu seiner Durchführung näher erläutert. The following are based on the attached drawings gene exemplary embodiments for the invention Procedure and facilities for its implementation explained in more detail.

In den Zeichnungen zeigen:The drawings show:

Fig. 1 in einer stark schematisierten Darstellung in Aufsicht ein in Elevation verschwenkbares Waf fenrohr mit einer Einrichtung zur Messung des Sei tenrichtungsfehlers; Fig. 1 in a highly schematic representation in supervision a pivotable in elevation Waf fenrohr with a device for measuring the Be tenrichtungsfehl;

Fig. 2 Teile der Einrichtung nach Fig. 1 in etwas detaillierterer Darstellungsweise; Fig. 2 parts of the device of Figure 1 in somewhat more detailed representation.

Fig. 3 in einer Darstellung analog Fig. 1 ein in Elevation verschwenkbares Waffenrohr in Aufsicht mit einer Variante einer Einrichtung zur Messung des Seitenrichtungsfehlers; FIG. 3 in a representation analogous to FIG. 1, a weapon barrel which can be pivoted in elevation, with a variant of a device for measuring the lateral direction error;

Fig. 4 in Aufsicht einen Teil der Einrichtung nach Fig. 3. Fig. 4 in plan view of a part of the device of FIG. 3.

Fig. 4A eine ergänzte und detaillierte Darstellung von Fig. 4. FIG. 4A is an added and detailed illustration of FIG. 4.

In Fig. 1 ist mit W1 ein Waffenrohr angedeutet, das in nicht dargestellter Weise Teil einer schweren Waffe sein kann. Zum besseren Verständnis der Bewe gungsverhältnisse ist ein Achsenkreuz x, y, z einge zeichnet, dessen x-Achse mit der Rohrseelenachse des Waffenrohres W1 zusammenfällt, während die Eleva tionsdrehachse mit der y-Achse zusammenfällt und die z-Achse senkrecht auf der Zeichenebene steht und zu sammen mit der x-Achse die vertikale Ebene aufspannt, in der sich im Idealfall die Rohrseelenachse des Waf fenrohres W1 bei Elevation bewegt. In Fig. 1, a weapon barrel is indicated with W1, which can be part of a heavy weapon in a manner not shown. For a better understanding of the movement conditions, an axis cross x, y, z is shown, whose x-axis coincides with the barrel core axis of the weapon barrel W1, while the Eleva tion rotation axis coincides with the y-axis and the z-axis is perpendicular to the plane of the drawing and together with the x-axis, the vertical plane spans, in which ideally the tube core axis of the weapon barrel W1 moves during elevation.

Am Waffenrohr W1 ist in Verlängerung der Elevations drehachse, also auf der y-Achse des Koordinatensy stems, eine Umlenkvorrichtung P1 befestigt, die wei ter unten näher beschrieben wird. Weiter ist in Ver längerung der Elevationsdrehachse eine Meßkamera MK1 angeordnet derart, daß ihre optische Achse mit der y- Achse zusammenfällt und ein von ihr ausgehender opti scher Meßstrahl M1.1 auf die Umlenkvorrichtung P1 trifft und von dieser um 90° umgelenkt wird in eine Ebene parallel zur Ebene x-z, in welcher er parallel zur Rohrseelenachse des Waffenrohrs W1 weitergeführt wird und schließlich auf einen am Ende des Waffenroh res senkrecht zur Rohrseelenachse angeordneten Plan spiegel S1 auftrifft, an dem er reflektiert wird und wieder zur Umlenkvorrichtung P1 und schließlich zur Meßkamera MK1 zurückläuft.At the gun barrel W1 is an extension of the elevations axis of rotation, i.e. on the y-axis of the coordinate system stems, a deflection device P1 attached, the white ter is described in more detail below. Further in ver Extension of the axis of rotation of a measuring camera MK1 arranged in such a way that their optical axis with the y- Axis coincides and an opti emanating from it shear measuring beam M1.1 on the deflection device P1 hits and is deflected by 90 ° into one Plane parallel to the x-z plane, in which it is parallel continued to the barrel core axis of the gun barrel W1 and finally to one at the end of the gun barrel res plan arranged perpendicular to the tube core axis mirror S1 strikes, at which it is reflected and back to the deflection device P1 and finally to Measuring camera MK1 runs back.

Die genaueren Verhältnisse sind in Fig. 2 darge stellt. Bei der in Fig. 2 dargestellten Ausführungs form ist die Umlenkvorrichtung P1 als an sich bekann tes Pentaprisma ausgebildet, durch welches der Meß strahl M1.1, wie gestrichelt angedeutet, umgelenkt wird und als Meßstrahl M1.2 dem Planspiegel S1 zuge führt wird. Es sei angenommen, daß das Waffenrohr W1 um einen vorgegebenen Elevationswinkel angehoben ist und dabei ein Seitenrichtungsfehler auftritt, der sich in einer Verkippung des Planspiegels S1 und des Pentaprismas P1 in die gestrichelt eingezeichnete Stellung S1' bzw. P1' um den im allgemeinen sehr kleinen Winkel α ausdrückt. Diese Verkippungen haben zur Folge, daß der Meßstrahl M1.2 nicht in sich reflektiert wird, sondern unter einem Winkel 2a als Meßstrahl M1.2', wie teilweise gestrichelt ange deutet, zurückläuft und schließlich nach Umlenkung durch das Pentaprisma P1 als Meßstrahl M1.1' wieder in die Meßkamera MK1 gelangt. Der Winkel α ent spricht dem Justierfehler des Waffenrohres W1 in Seite und die Meßkamera MK1 erfaßt den doppelten Win kel 2a.The more precise ratios are shown in Fig. 2 Darge. In the embodiment shown in FIG. 2, the deflection device P1 is designed as a pentaprism known per se, through which the measuring beam M1.1, as indicated by dashed lines, is deflected and supplied to the plane mirror S1 as a measuring beam M1.2. It is assumed that the weapon barrel W1 is raised by a predetermined elevation angle and a lateral direction error occurs which results in the tilting of the plane mirror S1 and the pentaprism P1 into the position S1 'or P1' shown in broken lines by the generally very small angle expresses α. This tilting have the consequence that the measuring beam M1.2 is not reflected in itself, but at an angle 2 a as a measuring beam M1.2 ', as partly indicated in broken lines, running back, and finally, after being deflected by the pentaprism P1 as measurement beam M1. 1 'gets back into the measuring camera MK1. The angle α speaks to the misalignment of the weapon barrel W1 in side and the measuring camera MK1 detects the double win angle 2 a.

Um die Justierung des Pentaprismas P1 zu erleichtern ist es zweckmäßig, wenn die der Meßkamera MK1 zuge wandte Fläche des Pentaprismas P1 teilweise verspie gelt ist. Beispielsweise kann der mittlere Teil die ser Fläche durchlässig sein, während die Außenberei che verspiegelt sind. Es kann dann das Pentaprisma P1 so justiert werden, daß die der Meßkamera MK1 zuge wandte Fläche genau senkrecht zur optischen Achse der Meßkamera steht. Hierzu wird der durch das Penta prisma P1 hindurchlaufende Strahlengang abgedeckt und mit dem Meßstrahl M1.1, der an den verspiegelten Tei len der Fläche des Pentaprismas P1 reflektiert wird, eine genaue Justierung vorgenommen.To facilitate the adjustment of the pentaprism P1 it is useful if the MK1 measuring camera part of the pentaprism P1 is valid. For example, the middle part be permeable to this area, while the outside area are mirrored. Then the pentaprism P1 be adjusted so that the measuring camera MK1 face exactly perpendicular to the optical axis of the Measuring camera stands. For this, the Penta Prisma P1 covered beam path and with the measuring beam M1.1, which is on the mirrored part len the surface of the pentaprism P1 is reflected, made a precise adjustment.

Wenn man das Waffenrohr W1 eleviert und die Meßkamera MK1 um den gleichen Winkel verdreht, kann man für jede gewünschte Elevation die seitliche Ablage der Waffe von der idealen Elevationsdrehebene x-z meßtechnisch erfassen. Diese Ablage ist der Gleich lauffehler der Waffe in Seite; die Projektion in die Horizontalebene x-y entspricht dem Seitenrichtungs fehler und die Projektion in die vertikale Ebene y-z ergibt den Lotablauffehler. If you raise the weapon barrel W1 and the measuring camera MK1 rotated by the same angle can be used for any desired elevation the lateral storage of the Weapon from the ideal elevation rotation level x-z measure. This filing is the same gun running errors in side; the projection into the Horizontal plane x-y corresponds to the lateral direction error and the projection into the vertical plane y-z results in the solder run error.

Statt die Meßkamera MK1 mit der Elevation (ϕ) des Waffenrohres W1 zu drehen, kann man auch aus den Feh lerwerten der Meßkamera MK1, die horizontal (s_k) und vertikal (h_k) erfaßt werden, durch Koordinatentrans formation die seitliche Ablage α der Rohrseelenachse errechnen und zwar nach der Formel:Instead of rotating the measuring camera MK1 with the elevation (ϕ) of the weapon barrel W1, one can also from the error values of the measuring camera MK1, which are recorded horizontally (s _k ) and vertically (h _k ), by coordinate transformation, the lateral offset α Calculate the tube core axis using the formula:

α = (s_k × cosϕ + h_k × sinϕ) /2α = (s _k × cosϕ + h _k × sinϕ) / 2

Die Datenauswertung wird in einem an die Meßkamera MK1 angeschlossenen Rechner R1 durchgeführt.The data evaluation is sent to the measuring camera MK1 connected computer R1 performed.

In den Fig. 3, 4 und 4A ist eine Variante der Einrichtung nach Fig. 1 und 2 dargestellt, die in einem Fall zur Anwendung kommen kann, wo sich beispielsweise in der Verlängerung der Elevationsdrehachse nicht ohne wei teres ein Pentaprisma anbringen läßt.In Figs. 3, 4 and 4A 1 and 2 is a variant of the device of FIGS., Which can come in a case where application is not allowed to install, for example, in the extension of the elevation rotation axis without wei teres a penta prism.

In diesem Falle wird die Umlenkvorrichtung P2 nur in der Nähe der in der y-Achse liegenden Elevations drehachse am Waffenrohr W2 angeordnet, während die Meßkamera MK2 weiterhin so angeordnet ist, daß ihre optische Achse mit der y-Achse zusammenfällt. Wie aus Fig. 3 zu ersehen, kann der Parallelversatz zwischen der optischen Achse der Meßkamera MK2 und der Ein fallsrichtung in die Umlenkvorrichtung P2 durch eine optische Schere OS, an sich bekannter Bauart, über brückt werden. Diese optische Schere OS ist um eine Achse y' parallel zur y-Achse so verschwenkbar, daß der aus der Meßkamera MK2 austretende Meßstrahl M2.1 durch die optische Schere OS zur Umlenkvorrichtung P2 geführt wird und von dort in der bereits beschrie benen Weise als Meßstrahl M2.2 dem Planspiegel S2 zu geführt und dort reflektiert und wieder zur Meßkamera MK2 zurückgeführt wird, wobei die Meßergebnisse wie derum durch einen an die Meßkamera angeschlossenen Rechner R2 ausgewertet werden können.In this case, the deflection device P2 is arranged only in the vicinity of the axis of rotation lying in the y-axis on the weapon barrel W2, while the measuring camera MK2 is further arranged such that its optical axis coincides with the y-axis. As can be seen from FIG. 3, the parallel offset between the optical axis of the measuring camera MK2 and the direction of fall into the deflection device P2 can be bridged by optical scissors OS, of a type known per se. These optical scissors OS can be pivoted about an axis y 'parallel to the y-axis so that the measuring beam M2.1 emerging from the measuring camera MK2 is guided through the optical scissors OS to the deflection device P2 and from there in the manner already described as a measuring beam M2.2 led to the plane mirror S2 and reflected there and returned to the measurement camera MK2, the measurement results being able to be evaluated by a computer R2 connected to the measurement camera.

Die Umlenkvorrichtung P2 kann entweder wiederum ein Pentaprisma sein oder es kann auch eine andere Um lenkvorrichtung eingesetzt werden. Dies kann dann vorteilhaft sein, wenn ein Pentaprisma soweit von der Rohrseelenachse entfernt angeordnet werden müßte, daß der Planspiegel S2 zu groß ausfallen würde. In einem solchen Falle kann die Umlenkvorrichtung P2 so ausge bildet sein wie in Fig. 4 und 4A als Umlenkvorrichtung P2' dargestellt. Bei dieser Umlenkvorrichtung sind auf einer Grundplatte G1 zwei Planspiegel S3 und S4 ange ordnet. Der Planspiegel S3 ist fest mit der Grund platte G1 verbunden, während sich der Planspiegel S4 auf einer zweiten Platte G2 befindet, die um eine Achse z' parallel zur z-Achse in Richtung des Pfeils A schwenkbar ist. Wie in Fig. 4A angedeutet, können die beiden Spiegel durch Verschwenken des Spiegels S4 z. B. in die gestrichelt eingezeichnete Stellung S4' mittels nicht dargestellter Antriebsvorrichtungen so eingestellt werden, daß sich beispielsweise der in Fig. 4 gestrichelt angedeutete Strahlenverlauf vom Meßstrahl M2.1' zum Meßstrahl M2.2' ergibt. Wenn bei dieser Umlenkvorrichtung der Planspiegel S3 den Strahl um 135° ablenkt, kann man durch den zweiten einstellbaren Spiegel S4 eine weitere Ablenkung in Richtung M2.2'' um zum Beispiel 120° bis 150° erreichen. Somit läßt sich insgesamt eine Strahlumlenkung um 255° bis 285° bzw. um 75° bis 105° (Winkel β) einstellen. In diesem Falle muß auch der Planspiegel S2 (siehe Fig. 4A) an der Mündung des Waffenrohres W2 um die Achse z'' ver schwenkbar am Waffenrohr W2 angeordnet sein, so daß er um ± 15° verstellt und damit an die Einstellung der Umlenkvorrichtung P2' angepaßt werden kann (Winkel β'). Vor Be ginn der Messung wird zunächst die Umlenkvorrichtung P2' so eingestellt, daß der von der Meßkamera kom mende Meßstrahl den Planspiegel S2 trifft. An schließend wird der Planspiegel S2 so justiert, daß der reflektierte Strahl über die Umlenkvorrichtung P2' wieder in die Meßkamera MK2 gelangt und dort den Fehlerwert 0 ergibt. Voraussetzung ist, daß die Rohr seelenachse in der Ausgangsposition senkrecht zur Elevationsdrehachse ausgerichtet ist. Dieser Ein richtvorgang ist für gleiche zu vermessende Anlagen nur einmal zu Beginn der Meßreihen durchzuführen.The deflection device P2 can either in turn be a pentaprism or it can also be used to another deflection device. This can be advantageous if a pentaprism would have to be arranged so far from the tube core axis that the plane mirror S2 would be too large. In such a case, the deflection device P2 can be formed as shown in FIGS . 4 and 4A as the deflection device P2 '. In this deflection device, two plane mirrors S3 and S4 are arranged on a base plate G1. The plane mirror S3 is firmly connected to the base plate G1, while the plane mirror S4 is on a second plate G2, which is pivotable about an axis z 'parallel to the z-axis in the direction of arrow A. As indicated in Fig. 4A, the two mirrors by pivoting the mirror S4 z. B. in the dashed position S4 'by means of drive devices, not shown, so that, for example, the beam path indicated in FIG. 4 results from the measuring beam M2.1' to the measuring beam M2.2 '. If in this deflection device the plane mirror S3 deflects the beam by 135 °, the second adjustable mirror S4 can be used to achieve a further deflection in the direction of M2.2 '' by, for example, 120 ° to 150 °. This means that beam deflection can be adjusted by 255 ° to 285 ° or by 75 ° to 105 ° (angle β). In this case, the plane mirror S2 (see Fig. 4A) at the mouth of the weapon barrel W2 about the axis z '' ver arranged on the gun barrel W2 so that it is adjusted by ± 15 ° and thus to the setting of the deflection device P2 'can be adjusted (angle β'). Before the start of the measurement, the deflection device P2 'is first set so that the measuring beam coming from the measuring camera hits the plane mirror S2. Then the plane mirror S2 is adjusted in such a way that the reflected beam returns via the deflection device P2 'into the measuring camera MK2 and there results in the error value 0. The prerequisite is that the tube core axis is aligned perpendicular to the axis of rotation in the starting position. This A straightening process is only to be carried out once for the same systems to be measured at the beginning of the series of measurements.

Es wird darauf hingewiesen, daß in den anhand der Fig. 1 bis 4A dargestellten Ausführungsbeispielen bei spielsweise die Meßkamera MK1 bzw. MK2 auch durch ein Autokollimationsfernrohr ersetzt werden kann. Weiter hin ist es auch möglich, sowohl die Meßkameras MK1 bzw. MK2 als auch die Planspiegel S1 bzw. S2 jeweils durch Kollimationsfernrohre zu ersetzen.It is pointed out that in the exemplary embodiments illustrated with reference to FIGS . 1 to 4A, the measuring camera MK1 or MK2 can also be replaced by an autocollimation telescope. Furthermore, it is also possible to replace both the measuring cameras MK1 and MK2 and the plane mirrors S1 and S2 with collimation telescopes.

Claims

1. A method for measuring the lateral direction error of a pivotable in elevation on target objects element, in particular a weapon tube depending on the elevation angle, characterized in that an optical measuring beam (M1.1, M2.1) parallel to or on the extension of the Elevation axis of rotation (y) is guided in the direction of the element (W1, W2) in such a way that it meets a deflection device (P1, P2) firmly connected to the element, through which it deflects into a plane perpendicular to the axis of rotation (Y) and is forwarded in the direction of the mouth of the element (W1, W2) in such a way that it (M1.2, M2.2) is arranged on an element (W1, W2) which is fixed at a predetermined distance from the elevation axis of rotation (y) optical Auffangele element (S1, S2) meets, by means of which the position of the point of incidence of the measuring beam depending on the elevation angle of the element (W1, W2) is measured and compared with a target value.

2. Procedure for measuring the lateral direction error one in elevation swiveling on target objects alignable element, in particular a weapon tubes, depending on the elevation angle, there characterized in that an optical measuring beam (M1.1, M2.1) parallel to or on the extension tion of the axis of rotation (y) in the direction of the element (W1, W2) is guided such that it to a deflection firmly connected to the element device (P1, P2) through which it enters a plane perpendicular to the axis of rotation of the elevation (y) redirected and towards the mouth of the Ele ment (W1, W2) is forwarded such that it (M1.2, M2.2) on a fixed element (W1, W2) a predetermined distance from the elevation axis of rotation (y) arranged plane mirror (S1, S2) where he reflects and about the deflection device (P1, P2) with an angular offset to Starting direction is returned and the win offset depending on the elevation angle of the element (W1, W2) measured and with a target worth is compared.

3. Establishment to carry out the procedure after Claim 1 characterized by a device (MK1, MK2) for emitting a measuring beam (M1.1, M2.1), its optical axis with the elevations axis of rotation (y) of the element (W1, W2) coincides, as well as a deflection firmly connected to the element device (P1, P2) for deflecting the measuring beam in a plane perpendicular to the axis of rotation of the elevation (y) towards the mouth of the element (W1, W2) as well as a fixed on the element in a pre given distance from the elevation axis of rotation arranged optical catch element (S1, S2) for measuring the position of the point of impact of the measuring beam as a function of the elevation win element (W1, W2).

4. Device according to claim 3, characterized net that both the device for sending the Measuring beam as well as the optical collecting element are designed as collimation telescopes.

5. Facility to carry out the procedure Claim 2, characterized by a device (MK1, MK2) for emitting a measuring beam (M1.1, M2.1), which is trained as an autocollimation telescope is its optical axis with the elevations axis of rotation (y) of the element (W1, W2) coincides, and a deflection firmly connected to the element device (P1, P2) for deflecting the measuring beam in a plane perpendicular to the axis of rotation of the elevation (y) towards the mouth of the element (W1, W2), as well as one on the element (W1, W2) in one predetermined distance from the axis of rotation of the elevation (y) and in a plane perpendicular to the longitudinal center axis of the element arranged plane mirror, above which the measuring beam to the autocollimation telescope is returned.

6. Facility to carry out the procedure Claim 2 characterized by a device (MK1, MK2) for emitting a measuring beam (M1.1, M2.1) which is designed as a measuring camera, the op table axis with the elevation axis of rotation (y) of the Elements (W1, W2) matches and one with the Element permanently connected deflection device (P1, P2) to deflect the measuring beam in one plane right to the elevation axis of rotation (y) in the direction of the mouth of the element (W1, W2), and an am Element (W1, W2) fixed in a given Ab stood from the elevation axis of rotation (y) and in one Plane perpendicular to the longitudinal central axis of the element arranged plane mirror (S1, S2), over which the measuring beam (M1.2, M2.2) to the measuring camera (MK1, MK2) is returned.

7. Device according to claim 6, characterized net that the measuring camera (MK1, MK2) to a computer (R1, R2) to evaluate the measurement results is closed.

8. Device according to claim 6 or 7, characterized ge indicates that the measuring camera (MK1, MK2) together with the element (W1, W2) around the same Chen elevation angle is pivotally arranged.

9. Device according to one of claims 3 to 8, there characterized in that the deflection device (P1) than on the extension of the elevations axis of rotation (y) arranged pentaprism is.

10. Device according to one of claims 3 to 8, there characterized in that the deflection device (P2) as indicated in the vicinity of the elevation axis of rotation ordered pentaprism is formed and for Pa parallel offset of the measuring beam (M2.1) between the Device (MK2) for sending a measuring beam and the pentaprism (P2) an optical scissors (OS) is switched on in the beam path.

11. Device for measuring the lateral direction error one in elevation, on target objects alignable element, in particular a weapon tubes, depending on the elevation angle, ge characterized by a device for transmission of a measuring beam (M2.1 ') as a measuring camera (MK2) is formed, the optical axis with the Ele vations rotation axis of the element (W2) matches and a deflection firmly connected to the element device for deflecting the measuring beam in Rich towards the mouth of the element (W2) by one Angle <90 °, which as an angle mirror with drehinva huge and adjustable deflection angle from two plane mirrors adjustable relative to each other (S3, S4) is constructed, as well as one on the element in one predetermined distance from the axis of rotation of the elevation (Y) arranged plane mirror (S2) by one Axis (z '') perpendicular to the direction of the longitudinal center axis of the element (W2) and the direction of the ele vations rotation axis (Y) is adjustable pivotable and via which the measuring beam (M2.2 ', M2.2' ') for Measuring camera (MK2) is returned.