DE4340864C2 - Apparatus and method for manufacturing of optoelectronic devices - Google Patents

Apparatus and method for manufacturing of optoelectronic devices

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DE4340864C2
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Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen von optoelektronischen Bauelementen nach dem Oberbegriff der Ansprü che 1 und 2. The invention relates to an apparatus and a method for manufacturing of optoelectronic devices according to the preamble of Ansprü che 1 and 2. FIG.

Aus der Patentschrift US 52 21 641 ist ein Verfahren zur Herstellung von licht emittierenden Dioden (LED) bekannt, bei dem mit einem spiegelnden Metall beschichtete Drahtabschnitte verwendet werden. From the patent US 52 21 641 a process for the production of light emitting diodes (LED) is known to be used in the coated with a reflective metal wire sections. Um jeweils ein Paar mit einander verbundene Anschlußbeinchen zu erhalten, wird bei der Herstel lung erst jeder Drahtabschnitt U-förmig gebogen, um dann das freie Ende eines der beiden Anschlußbeinchen derart zu verformen, daß eine tassen förmige Aufnahme entsteht und daß diese mit einem Halbleiterbauelement bestückt werden kann. To respectively receive a pair of interconnected leads that will only be bent each wire section is U-shaped, in order then to deform the free end of one of the two connecting legs such that a mugs shaped receptacle is formed and that this equipped with a semiconductor device development in herstel can be. Bevor die noch zwischen den beiden Anschlußbein chen bestehende Verbindung abgeschnitten wird, muß das in die tassenför mige Aufnahme eingesetzte Halbleiterbauelement mittels eines Bonddrah tes mit dem anderen Anschlußbeinchen verbunden und die jeweils freien Enden der beiden Anschlußbeinchen mit einem transparenten oder halb durchsichtigen Harz unter Verwendung von Abstandsstücke aufweisenden Gußformen eingehüllt werden. Before the existing connection is still chen between the two connecting leg is cut, the semiconductor device used in the tassenför-shaped recording must be connected by means of a Bonddrah tes with the other connecting legs and the respective free ends of the two connecting legs with a transparent or semi-transparent resin using spacers having molds are encased.

Anhand der Fig. 3, 4 und 5 soll eine konventionelle Vergießvorrichtung erklärt werden und wie ein bereits mit einem Halbleiterkörper bestückter und kontaktierter Gitterstreifen auf konventionelle Art und Weise in einen Vergußwerkstoff eingetaucht wird. Referring to Figs. 3, 4 and 5 a conventional grouting device to be explained and is immersed as an already stocked with a semiconductor body and contacted grating strips in a conventional way into a potting agent.

Fig. 5 zeigt eine Vergießvorrichtung 11 , bestehend aus üblicherweise 54 Ka vitäten 6 , die durch eine aus Metall bestehende Bandage, dem sogenannten Exsert 8 , zusammengehalten werden und so die Gießleiste 2 ergeben. Fig. 5 shows a grouting device 11, usually consisting of 54 Ka vitäten 6 which are held together by a metal-made drum, the so-called exsert 8 and thus give the Gießleiste. 2 In die Kavitäten 6 wird ein Vergußwerkstoff 9 eingefüllt, dessen Zusammensetzung ua Einfluß auf den Frequenzbereich der hindurchtretenden Strahlung und ihrer optischen Fokussierung hat. In the cavities 6, a potting agent is charged 9, the composition of which, inter alia, has influence on the frequency range of the radiation passing through it and its optical focusing. Mindestens zwei Tiefenanschläge 5 be stimmen durch ihre Höhe die Eintauchtiefe eines Gitterstreifens 1 in den Vergußwerkstoff 9 , indem Verbindungsstege 12 des Gitterstreifens 1 auf den Tiefenanschlägen 5 der Gießleiste 2 aufsitzen. At least two depth stops 5 be agree by their height, the immersion depth of a grating strip 1 in the potting agent 9 by connecting webs 12 of the grid strip mount 1 to the depth stops 5 of the Gießleiste. 2

In Fig. 4 wird dargestellt, wie der Gitterstreifen 1 zuerst unter einem be stimmten Winkel in den Vergußwerk stoff 9 einzutauchen ist, damit die Luft aus der trich terförmigen Öffnung des Reflektors 10 entweichen kann. In FIG. 4 is shown how the grating strips 1 in the first material under a Vergußwerk be voted angle 9 is immersed, so that the air can escape from the trich terförmigen opening of the reflector 10. Es muß gewährleistet sein, daß das gesamte vom Reflek tor 10 umschlossene Volumen keine eingeschlossenen Luftblasen enthält und vollständig mit dem Vergußwerk stoff 9 ausgefüllt ist. It must be ensured that the entire volume enclosed by the reflectors gate 10 does not contain any trapped air bubbles and fully material with the Vergußwerk is filled. 9 Danach muß der Gitterstreifen 1 aufgerichtet, in die Haltenut 7 eingeführt und entlang dieser abgesenkt werden. Thereafter, the grating strips must upright 1, inserted in the holding groove 7 and lowered therealong.

Fig. 3 zeigt den in den Vergußwerkstoff 9 eingetauch ten Gitterstreifen 1 , wobei der Reflektor 10 mittels der Haltenut 7 und des Tiefenanschlags 5 eine genau be stimmte Position innerhalb der Kavität 6 einnimmt. Fig. 3 shows the turned-dip th in the potting agent 9 grating strips 1, wherein the reflector 10 by means of the retaining groove 7 and the depth stop 5 assumes a precisely be agreed position within the cavity. 6

Das Gelingen der geschilderten Tätigkeit - das Eintau chen eines Gitterstreifens in einen Vergußwerkstoff, der sich in Kavitäten befindet - hängt erheblich von der Erfahrung und Geschicklichkeit, häufig sogar von der Tagesform desjenigen Personals ab, das diese Arbeit ausführt. The success of the described activity - the immerse chen of a grid strip into a potting agent, which is located in cavities - depends greatly on the experience and skill, often even on the day of that form of personnel who perform this work. Ausgeschlossen ist dennoch nicht, daß der in die Kavitäten eingegossene Vergußwerkstoff störende Luftblasen enthält, beispielsweise in Ecken oder Kan ten, die nur sehr schlecht entdeckt und entfernt werden können und deshalb das Bauelement häufig unbrauchbar machen. Excluded is not yet that of the cast in the cavities potting agent contains disturbing air bubbles th example in corners or channels, which can be very poorly detected and removed, and therefore make the device often unusable.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrich tung und ein Verfahren anzugeben, um den Herstellprozeß für optoelektronische Bauteile zu vereinfachen und um ihn auch innerhalb einer automatisierten Fertigungs linie ausführen zu können. The invention has for its object to provide a Vorrich processing and a method to simplify the manufacturing process for optoelectronic components and to be able to carry it out line also within an automated manufacturing.

Die Aufgabe wird durch die kennzeichnenden Merkmale der Ansprüche 1 und 2 gelöst. The object is solved by the characterizing features of claims 1 and 2. FIG.

Um die Entstehung von Lufteinschlüssen beim Fügevorgang auszuschließen und eventuell bereits bestehende Luft blasen im Vergußwerkstoff zu beseitigen, findet das Eintauchen des mit einem Halbleiterkörper bestückten und kontaktierten Gitterstreifens in den Vergußwerk stoff in einem evakuierten Rezipienten statt. To rule out the formation of air bubbles during the joining process and possibly existing air blow to eliminate the potting agent, is the immersion of the grid strip equipped with a semiconductor body and contacted the Vergußwerk material held in an evacuated recipient. Die hier für vorbereitende Tätigkeit besteht lediglich darin, die Kavitäten mit Vergußwerkstoff zu befüllen und den Gitterstreifen in eine neuartige Vergießvorrichtung einzuhängen. The here is for preparatory work merely to fill the cavities with potting agent and mount the grating strips in a novel grouting device. Eine solche Vergießvorrichtung besteht aus mehreren an eine Gießleiste angebrachte Stützen, die wie ein erhobener Finger von der Gießleiste abstehen. Such grouting device consists of a number attached to a Gießleiste supports, which protrude like a raised finger from the Gießleiste. Für eine Gießleiste mit 54 Kavitäten sind beispielswei se neun Stützen vorzusehen, die derart anzuordnen sind, daß am jeweiligen seitlichen Ende der Gießleiste nach drei Kavitäten und dazwischen nach jeweils sechs Kavi täten eine Stütze an die Gießleiste angebracht ist. For Gießleiste with 54 cavities se nine supports are beispielswei provided, which are to be arranged such that at each lateral end of the Gießleiste after three cavities and between each six Kavi activities a support to the Gießleiste is attached. An ihrem oberen Ende weist eine solche Stütze eine sog. Raststelle auf, womit eine Aussparung gemeint ist, die beispielsweise mittels eines Fräswerkzeuges hergestellt werden kann und dazu dient, einen Gitterstreifen aufzu nehmen und so lange sicher zu halten, bis er manuell oder mit Hilfe einer mechanischen Vorrichtung aus die ser Raststelle entnommen wird. At its upper end, such a support a so-called. Latching point on, whereby a recess is meant, which can be produced for example by means of a milling tool and serving to take aufzu a grating strips and so long as to securely hold, until it is manually or with the aid of a mechanical device of the ser latching point is removed.

Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen ins besondere darin, daß die recht zeitaufwendigen und kom pliziert durchzuführenden Arbeitsschritte des Eintau chens des Gitterstreifens in den Vergußwerkstoff we sentlich vereinfacht werden. The advantages achieved with the invention consist in particular in the fact that the very time-consuming and com plicated to be performed operations of Chen immerse the mesh strip in the potting agent we are sentlich simplified. Dadurch verkürzt sich die für den Fügevorgang erforderliche Arbeitszeit auf unge fähr die Hälfte. This required for the joining process working is reduced to unge ferry half. Hinzu kommt, daß mögliche Ursachen für Beschädigungen, beispielsweise das Beschädigen oder Ab reißen der Bonddrähte, dadurch entfallen. In addition, possible sources of damage, such as damaging or tearing from the bond wires, are thereby eliminated.

Durch den in dem Rezipienten erzeugten Unterdruck wird nicht nur das durch den Fügevorgang verursachte Entste hen von Blasen im Gießkörper verhindert, sondern sogar das Volumen von bereits bestehenden Blasen im Verguß werkstoff soweit reduziert, daß sie den Strahlengang nur noch unmerklich beeinflussen. By the pressure generated in the recipient vacuum not only caused by the joining process Entste hen of bubbles in the casting body is prevented, but also the volume of existing bubbles in the potting material reduced to the extent that it only imperceptibly influence the beam path. Qualitätsmindernde Schönheitsfehler entfallen, da beispielsweise kleine Löcher in Ecken und entlang von Kanten des Gießkörpers, die recht häufig bei vieleckigen Gießkörpern auftreten, durch das Vakuum volumenmäßig soweit reduziert werden, daß sie kaum noch wahrnehmbar sind. Quality-reducing blemishes omitted, since, for example, small holes in corners and along edges of the casting body, which quite often occur in polygonal cast articles, by the vacuum will be in terms of volume reduced to the extent that they are barely perceptible. Insgesamt ergibt sich durch wegfallende Tätigkeiten und bessere Qualität der hergestellten optoelektronischen Bauteile, eine we sentlich höhere Effizienz des Herstellprozesses. Overall, thanks to the absence activities and better quality of optoelectronic components produced, one we sentlich higher efficiency of the manufacturing process.

Die Erfindung wird anhand von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit den Fig. 1 bis 7 erläutert. The invention is illustrated with reference to embodiments in conjunction with Figs. 1 to 7. Es zei gen: Show it:

Fig. 1 eine neuartige Vergießvorrichtung, bestehend aus einer Gießleiste mit daran angebrachten Stützen, die Tiefenanschläge aufweisen und einem Gitterstreifen, der in einen Verguß werkstoff eingetaucht ist, Have FIG. 1, a novel grouting device, consisting of a Gießleiste with attached posts, the depth stops and a grating strip of material in a casting is immersed,

Fig. 2 die perspektivische Darstellung einer neuar tigen Gießleiste mit Stützen, die eine Rast stelle und einen Tiefenanschlag aufweisen, Fig. 2 is a perspective view of a neuar term Gießleiste with supports, which constitutes a detent and have a depth stop,

Fig. 3 die Seitenansicht einer Vergießvorrichtung nach dem Stand der Technik mit einem senk recht in einen Vergußwerkstoff eingetauchten Gitterstreifen, Fig. 3 is a side view of a grouting device according to the prior art submerged with a perpendicular rather in a potting agent grating strips,

Fig. 4 die Seitenansicht einer Vergießvorrichtung nach dem Stand der Technik und eines Gitter streifens beim Eintauchen in einen Verguß werkstoff, Fig. 4 is a side view of a grouting device according to the prior art and a grid strip when immersed in a potting material,

Fig. 5 die Vorderansicht einer Vergießvorrichtung nach dem Stand der Technik, bestehend aus ei ner Gießleiste mit Tiefenanschlägen und einem in einen Vergußwerkstoff eingetauchten Git terstreifen, Fig. 5 shows the front view of a grouting device according to the prior art, consisting of egg ner Gießleiste terstreifen with depth stops and immersed in a potting agent Git,

Fig. 6 die neuartige Vergießvorrichtung nach Fig. 1, wobei der Gitterstreifen in der Raststelle der Stütze gehalten wird und Fig. 6, the novel grouting device according to Fig. 1, wherein the mesh strip is held in the locking position of the support and

Fig. 7 die Seitenansichten je einer rechtsseitigen Stütze ( Fig. 7a), einer Stütze mit Tiefenan schlag ( Fig. 7b), einer linksseitigen Stütze ( Fig. 7c) und zweier sich gegenüberstehender Stützen einschließlich eines in der Vorfüge position gehaltenen Gitterstreifens ( Fig. 7d). Fig. 7, the side views each of a right-side support (Fig. 7a), a support with Tiefenan impact (Fig. 7b), a left side support (Fig. 7c) and of opposite supports including a position held in the Vorfüge grid strip (Fig two. 7d).

Fig. 1 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer Vergießvor richtung 11 , bestehend aus einem Gitterstreifen 1 , der bereits in einen Vergußwerkstoff 9 eingetaucht ist, und einer Gießleiste 2 . Fig. 1 shows an embodiment of a Vergießvor device 11 consisting of a grid strap 1, which is already immersed in a potting material 9, and a Gießleiste. 2 Die Gießleiste 2 , in Fig. 2 zudem perspektivisch dargestellt, besteht aus üblicherweise 54 Kavitäten 6 , die mittels einer aus Metall bestehen den Bandage, dem Exsert 8 , zusammengehalten werden. The Gießleiste 2, also shown in perspective in Fig. 2 consists of usually 54 cavities 6, which are held together by means of a metal composed of the bandage, the exsert. 8 In den Kavitäten 6 befindet sich der Vergußwerkstoff 9 , der aufgrund seiner Zusammensetzung beispielsweise nur für die Strahlung einer bestimmten Frequenz durchlässig ist. In the cavities 6, the potting agent 9, which is transparent, for example, only for the radiation of a certain frequency due to its composition is. Im allgemeinen bestehen die Kavitäten 6 aus einem temperaturfesten Kunststoff, der bei einer Aushärtetem peratur des Vergußwerkstoffs 9 von 140°C noch formsta bil bleibt. In general, the cavities 6 made of a temperature-resistant plastic that of 140 ° C remains formsta bil at a temperature of Aushärtetem Vergußwerkstoffs 9 consist.

An die Gießleiste 2 sind besonders geformte Stützen 3 angebracht, die an ihrem oberen Ende eine stufenförmige Aussparung aufweisen, die sogenannte Raststelle 4 . Specially shaped supports 3 are attached to the Gießleiste 2 having at its upper end a step-like recess, the so-called latching location. 4 Sie dient zum Halten des Gitterstreifens 1 ( Fig. 1) in ei ner sogenannten Vorfügeposition, bevor der Gitterstrei fen 1 in den Vergußwerkstoff 9 eingetaucht wird. It serves to hold the grid strip 1 (Fig. 1) into a so-called ner Vorfügeposition before the Gitterstrei fen is immersed in the potting agent 9 1. Zu sätzlich kann eine Stütze 3 in Verlängerung der Quer strebe 15 einen Tiefenanschlag 5 aufweisen, womit die Position eines Reflektors 10 im Vergußwerkstoff 9 fest gelegt wird, indem ein Verbindungssteg 12 , der sich zwischen benachbarten Anschlußbeinchenpaaren 14 befin det, auf der Oberseite der Tiefenanschläge 5 aufsitzt. To additionally a support 3 in the extension of the cross may strut 15 having a depth stop 5, with which the position of a reflector 10 in the potting agent 9 is placed firmly by a connecting web 12 which befin between adjacent Anschlußbeinchenpaaren 14 det, on top of the depth stops 5 seated.

Grundsätzlich gibt es zwei Möglichkeiten, die Stützen 3 entlang der Gießleiste 8 anzuordnen. There are basically two ways to arrange the supports 3 along Gießleiste 8th Zum einen, daß sich jeweils zwei Stützen 3 spiegelbildlich gegenüber stehen und zum anderen, daß die Stützen 3 entlang der Gießleiste 8 wechselständig nach beispielsweise sechs Kavitäten 6 auf der linken und rechten Seite angebracht sind. On the one hand, that in each case two supports 3, are mirror-inverted relative to the other and in that the supports 3 are mounted along the Gießleiste 8 alternate to for example six cavities 6 on the left and right sides. Da die Stützen 3 vorzugsweise wie die Kavitäten 6 aus einem temperaturstabilen Kunststoff bestehen, emp fiehlt es sich, Stützen 3 und Kavitäten 6 durch ein Spritzgußverfahren und in einem Arbeitsgang zu ferti gen. Since the supports 3 are preferably such as the cavities 6 made from a thermally stable plastic, it is appropriate to, gene supports 3 and cavities 6 by injection molding and in one operation to ferti.

Pro Gießleiste 2 sind vorteilhaft zwei Stützen 3 mit einem Tiefenanschlag 5 versehen, um eine gleichmäßige Eintauchtiefe des Gitterstreifens 1 in den Vergußwerk stoff 9 zu gewährleisten. Advantageously two supports 3 are provided with a depth stop 5, a uniform penetration depth of the grid strip 1 in the Vergußwerk material to ensure 9 per Gießleiste. 2 Eine weitere Aufgabe der Stützen 3 ist das Zentrieren der Reflektoren 10 des Gitterstreifens 1 in den Kavitäten 6 in seitlicher Richtung mit Hilfe der Verbindungsstege 12 . A further object of the supports 3, the centering of the reflectors 10 of the grid strip 1 into the cavities 6 in the lateral direction by means of the connecting webs 12th Dazu ragen zwei Verbindungsstege 12 seitlich über das jeweilige Anschlußbeinchenpaar 14 soweit hinaus, daß der dazwi schen verbleibende Abstand nur geringfügig größer als die Dicke der Stützen 3 ist. By projecting two connecting webs 12 laterally across the respective Anschlußbeinchenpaar 14 so far out that the section between them remaining distance is only slightly greater than the thickness of the supports. 3 Dadurch hat der Gitter streifen 1 nur noch einen sehr begrenzten Spielraum in seitlicher Richtung. Thereby, the grid has strip-1, only a very limited room in the lateral direction. Damit sich der Gitterstreifen 1 leicht in den Vergußwerkstoff 9 eintauchen läßt und sich nicht mit den Tiefenanschlägen 5 verkantet, sind die über das Anschlußbeinchenpaar hinausragenden Teile 16 der Verbindungsstege 12 derart geformt, daß sich nach unten jeweils eine trichterförmige Öffnung ergibt. Thus, the grating strips 1 can slightly penetrate into the potting material 9 and do not tilted with depth stops 5 which projects beyond the Anschlußbeinchenpaar parts 16 of the connecting webs 12 are shaped such that in each case results in a funnel-shaped opening downwardly.

Fig. 6 zeigt das gleiche Ausführungsbeispiel wie Fig. 1 mit dem Unterschied, daß der Gitterstreifen 1 noch nicht in den Vergußwerkstoff 9 eingetaucht ist, sondern in der Vorfügeposition gehalten wird. Fig. 6 shows the same embodiment as FIG. 1 with the difference that the grating strips is not immersed in the potting agent 9 1, but is held in the Vorfügeposition. Dieses Halten in der Vorfügeposition wird zum einen dadurch erreicht, daß die über die Anschlußbeinchen 14 a bzw. 14 b hinaus ragenden Teile 16 der Verbindungsstege 12 auf einer Verdickung 15 derjenigen Stützen 3 aufsitzen, die nicht über einen Tiefenanschlag 5 verfügen ( Fig. 7a, 7c). This holding in the Vorfügeposition is firstly achieved in that via the connecting pins 14 a and 14 b protruding parts 16 of the connecting webs 12 rest on a thickened portion 15 that supports 3 that does not have a depth stop 5 have (Fig. 7a, 7c). Zum anderen wird der Gitterstreifen 1 dadurch in der Vorfügeposition gehalten, indem der Transportsteg 13 des Gitterstreifens 1 in der stufenförmigen und leicht abgeschrägten Raststelle 4 der Stützen 3 aufsitzt. Secondly, the grating strips 1 is thereby held in the Vorfügeposition by the transport web 13 of the grid strip 1 is seated in the step-shaped and slightly tapered latching point 4 of the supports. 3

Um den in der Vorfügeposition befindlichen Gitterstrei fen 1 in den Vergußwerkstoff 9 einzutauchen, genügt es, den Gitterstreifen 1 an zwei Stellen seines Transport stegs 13 , die vorzugsweise in der Nähe seines Anfangs und Endes liegen, gleichmäßig nach unten zu drucken, wobei die flexiblen Stützen 3 nach außen ausweichen. To fen 1 in the potting agent 9 immerse the Gitterstrei located in the Vorfügeposition, simply the grating strips 1 at two points of its transport web 13, which are preferably in the vicinity of its beginning and end, to print down evenly, the flexible supports avoid outward. 3

In den Fig. 7a bis 7c sind Ausführungsbeispiele ver schiedener Stützen 3 im Profil dargestellt. In FIGS. 7a to 7c embodiments ver VARIOUS supports 3 are shown in profile. Allen drei Ausführungsbeispielen gemeinsam ist die sich am oberen Ende befindende Raststelle 4 als stufenförmige, leicht abgeschrägte Aussparung. Common to all three embodiments, which are currently looking Dende at the upper end locking point 4 as step-shaped, slightly tapered recess. Etwas unterhalb der Mitte be sitzt die Stütze 3 der Fig. 7b den Tiefenanschlag 5 . Slightly below the center of 3 sitting be the support of FIG. 7b, the depth stop. 5 Bei den Stützen 3 der Fig. 7a und 7c ist statt dessen die Querstrebe 15 eingezeichnet. With the supports 3 of Fig. 7a and 7c, instead, the cross-brace 15 is located. Des weiteren handelt es sich bei der Fig. 7c lediglich um die spiegelbild liche Ausführung der Stütze 3 der Fig. 7a. Furthermore, it is in Fig. 7c merely the mirror image Liche embodiment of the support 3 of Fig. 7a.

Fig. 7d zeigt einen Gitterstreifen 1 , der von zwei sich gegenüberstehenden Stützen 3 in der Vorfügeposi tion gehalten wird, zu erkennen daran, daß der Gitter streifen 1 in der Raststelle 4 der Stütze 3 gehalten wird und der Reflektor 10 sich oberhalb des Vergußwerk stoffes 9 und den Kavitäten 6 befindet. Fig. 7d shows a grating strip 1 is held by two opposing posts 3 in the Vorfügeposi tion to recognize the fact that the grating strips 1 in the locking point 4 of the support 3 is maintained and the reflector 10 located above the Vergußwerk substance 9 and is the cavities. 6

Die beschriebene Vorrichtung und das beschriebene Ver fahren finden ihre Verwendung hauptsächlich bei der Herstellung von lichtemittierenden Dioden (LEDs) und Detektoren. The drive device described and the described Ver find their use mainly in the preparation of light emitting diodes (LEDs) and detectors. Das Aushärten des Vergußwerkstoffes erfolgt in einem Ofen bei einer Temperatur von 140°C und einer Dauer von 48 min. The curing of the Vergußwerkstoffes takes place in an oven at a temperature of 140 ° C and a duration of 48 min. Nach dem Entfernen der ausgehärteten Gießkörper aus den Kavitäten, dem Entformen, erfolgt das sog. Freischneiden, womit man das Trennen der durch den Gitterstreifen verbundenen Bauelemente und das Zu rechtschneiden der jeweiligen Anschlußbeinchen auf die richtige Länge bezeichnet. After removing the cured molded body from the cavities, the demold which is performed so-called. Clearing, which is called the separation of the connected components by the grating strips and to the right of the respective connecting legs cut to the correct length.

Claims (2)

1. Vergießvorrichtung zum Herstellen von optoelektroni schen Bauelementen, bestehend aus 1. grouting device for producing optoelectronic rule components, consisting of
  • a) einer Gießleiste ( 2 ) mit Kavitäten ( 6 ) und minde stens zwei an ihrer Oberseite angebrachten Stützen ( 3 ), die an ihrer Oberseite eine Raststelle ( 4 ) und in ihrer Mitte einen Tiefenanschlag ( 5 ) oder einen Quersteg ( 15 ) aufweisen, a) a Gießleiste (2) with cavities (6) and minde least two attached at its top supports (3) having a locking location (at its top 4) and in its center a depth stop (5) or a crosspiece (15) .
  • b) einem Gitterstreifen (I) mit einem Transportsteg ( 13 ), mit paarweise angeordneten Anschlußbeinchen ( 14 a, 14 b), deren oberes Ende mit dem Transport steg ( 13 ) verbunden ist, wobei jeweils ein An schlußbeinchen ( 14 a) eines Anschlußbeinchenpaares einen Reflektor ( 10 ) mit einem Halbleiterkörper aufweist, mit Verbindungsstegen ( 12 ), die die An schlußbeinchen ( 14 a, 14 b) eines Anschlußbeinchen paares miteinander verbinden, wobei der Transport steg ( 13 ) derart in die Raststelle ( 4 ) der Stützen ( 3 ) eingehängt ist, daß die Halbleiterkörper noch nicht in die Kavitäten ( 6 ) eintauchen und die Ver bindungsstege ( 12 ) erst dann auf den Tiefenan schlägen ( 5 ) der Stützen ( 3 ) aufsitzen, wenn die Halbleiterkörper des Gitterstreifens ( 1 ) in die Kavitäten ( 6 ) eintauchen. b) is a grid strip (I) with a transport web (13), with paired connecting legs (14 a, 14 b), the upper end with the transport web (13), wherein in each case one to schlußbeinchen (14 a) of a Anschlußbeinchenpaares a reflector (10) having a semiconductor body, with connecting webs (12) connecting the at schlußbeinchen (14 a, 14 b) of a terminal legs pair with each other, wherein the transport web ((13) in such a way in the locking point (4) of the supports 3) is mounted, in that the semiconductor body not yet (in the cavities 6) immersed and the Ver bond bridges (12) only on the Tiefenan punches (5) of the supports (3) are seated, when the semiconductor body of the grid strip (1) in the cavities dip (6).
2. Verfahren zum Herstellen von optoelektronischen Bau elementen, bei dem bereits bestück te und kontaktierte Gitterstreifen ( 1 ) vergossen werden, dadurch gekennzeichnet, daß vor dem Eintau chen in einen Vergußwerkstoff ( 9 ) zuerst in einer Rast stelle ( 4 ) einer zu einer Vergießvorrichtung ( 11 ) gehö renden Stütze ( 3 ) sicher gehalten werden und daß der Gitterstreifen ( 1 ) erst dann in einen sich in standar disierten Kavitäten ( 6 ) befindenden Vergußwerkstoff ( 9 ) eingetaucht wird, wenn ,die gesamte Vergießvorrichtung ( 11 ) einschließlich Gitterstreifen ( 1 ) und Vergußwerk stoff ( 9 ) in einen evakuierten Rezipienten verbracht worden ist. 2. A method for manufacturing of optoelectronic construction elements, in which already bestück te and contacted grating strips (1) are cast, characterized in that prior to immerse chen in a potting agent (9) is first in a locking point (4) one at a grouting device (11) gehö leaders support (3) are held securely and in that the grating strips (1) until that are available in a in standar ized cavities (6) potting agent (9) is immersed, when the entire grouting device (11) including the grating strips ( 1) and Vergußwerk material (9) in an evacuated recipient has been spent.
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