DE4334572A1

DE4334572A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung der Innenfläche stark gewölbter im wesentlichen kalottenförmiger Substrate mittels CVD

Info

Publication number: DE4334572A1
Application number: DE4334572A
Authority: DE
Inventors: Ewald Dr Moersen; Helge Vogt; Johannes Dr Segner
Original assignee: Schott Glaswerke AG
Current assignee: Schott AG
Priority date: 1992-10-26
Filing date: 1993-10-11
Publication date: 1994-04-28
Anticipated expiration: 2013-10-12
Also published as: DE4334572C2; DE59307886D1

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung der Innenfläche stark gewölbter, im wesentlichen kalottenförmiger Substrate mit einem di elektischen und/oder metallischen Schichtsystem mittels eines CVD(Chemical Vapor Deposition)-Verfahrens, bei welchem die Reaktionsgase, welche die Schichtbildnermoleküle enthalten, durch eine gegenüber dem Kalottenschei telpunkt und beabstandet von diesem angeordnete Gasaustrittsöffnung in die Reaktionskammer mit dem(n) zu beschichtenden Substrat(en) eingeleitet werden, und sodann in an sich bekannter Weise durch Erzeugung einer Reak tionszone an der zu beschichtenden Substratinnenfläche die Abscheidung des Schichtmaterials auf dem Substrat bewirkt wird. Des weiteren betrifft die Erfindung auch eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.

Ein Verfahren der eingangs genannten Art ist insbesondere zur Herstellung von Reflektoren geeignet. Ein solches Verfahren ist beispielsweise in der DE 40 08 405 C1 beschrieben.

Reflektoren bestehen in der Regel aus gewölbten, annähernd kalottenförmi gen Substraten ("Kalotten"), meist aus Glas, mit einer innenseitigen Re flexionsbeschichtung, z. B. einer Kaltlichtspiegelbeschichtung. Insbesonde re werden als Substrate üblicherweise durch Pressen geformte Glasrohlinge verwendet, welche auf ihrer äußeren Oberfläche bereits mit Lampenstutzen, den sogenannten Kalottenhälsen, für die elektrischen Anschlüsse versehen sind. Die Reflexionsbeschichtung kann aus einer metallischen Schicht, oder aber, wenn ein spezieller spektraler Verlauf des Reflexionsgrades ge wünscht ist, aus einem dielektrischen Schichtsystem bestehen. Die Anforde rungen an die optische Qualität solcher Schichten, insbesondere auch an die Gleichmäßigkeit ("Uniformität") der Beschichtung sind hoch.

Aus der DE 40 08 405 C1 ist bekannt, solche Reflektoren mittels eines Plasma-CVD-Verfahrens herzustellen. Plasma-CVD-Verfahren wie auch die Her stellung dielektrischer Schichtsysteme mit vorgegebenem spektralen Verlauf sind an sich bekannt und in der Patent- und sonstigen Literatur vielfältig beschrieben. Allerdings war es bis zu der Erfindung, die Gegenstand der DE 40 08 405 C1 ist, nicht möglich, Plasma-CVD-Verfahren zur Herstellung von Schichtsystemen von hoher optischer Qualität auch auf stark gewölbte Sub strate, wie z. B. Kalotten, zur Herstellung von Reflektoren mit Re flexionsbeschichtungen anzuwenden. Zur Herstellung einer gleichmäßigen Be schichtung auf einem stark gewölbten Substrat ist es, wenn eine aufwendige Relativbewegung zwischen Substrat und Beschichtungszone vermieden werden soll, erforderlich, daß sich die schichtbildende Reaktionszone während des Beschichtungsprozesses über die gesamte zu beschichtende Fläche erstreckt. Hierzu sind großvolumige Plasmazonen erforderlich, da zur vollständigen Abdeckung der gesamten zu beschichtenden Fläche auch die von den stark ge wölbten Substraten eingeschlossenen Hohlräume innerhalb des Plasmabereichs liegen müssen.

Mit zunehmender Dicke der Plasmazone über einer zu beschichtenden Fläche steigt aber die Wahrscheinlichkeit, daß sich nicht nur an der Grenzfläche Substrat/Gasraum, sondern im gesamten Gasraum in einer sogenannten Homo genreaktion Partikel bilden, welche sich dann als "Glasruß" auf der Sub stratoberfläche absetzen und in die abgeschiedenen Schichten miteingebaut werden. Diese zur Schichttrübung führende Partikelbildung, welche die Schichten für optische Anwendungen unbrauchbar macht, tritt insbesondere in den Randbereichen der Plasmazone auf, innerhalb welcher die Leistungs dichte im Plasma unterhalb eines kritischen Wertes gesunken ist.

Um die oben beschriebene Partikelbildung im Gasraum bei der Plasma-CVD-Be schichtung stark gewölbter Substrate zu unterdrücken, wird in der eingangs genannten DE 40 08 405 C1 vorgeschlagen, mittels eines sogenannten Ver drängungskörpers, welcher beispielsweise bei der Kalotteninnenbeschichtung in das Kalotteninnenvolumen eintaucht und eine Gestalt aufweist, die in etwa der Gestalt des gewölbten Substrats entspricht, die Dicke der zu re agierenden Gasschicht über der zu beschichtenden Fläche so zu begrenzen, daß das Ausmaß der in der Gasschicht während der Plasmaphase auftretenden Glasrußbildung für die gewünschte optische Schichtqualität unschädlich bleibt. Der Verdrängungskörper der DE 40 08 405 C1 hat somit u. a. die Aufgabe, die Randbereiche der Plasmazone mit geringer Leistungsdichte, in nerhalb welcher die Glasrußbildung bevorzugt auftritt, auszublenden, d. h. die Schichtbildnermoleküle, die ohne die begrenzende Oberfläche des Ver drängungskörpers in den Randbereich des Plasmas eindringen und zur Parti kelerzeugung beitragen würden, aufzufangen und in einer kompakten Schicht auf seiner Oberfläche festzuhalten. Die Zufuhr der Reaktionsgase erfolgt gemäß D 40 08 405 C1 durch den Verdrängungskörper hindurch, der hierzu ei nen Kanal aufweist, der in eine zentrale Gasaustrittsöffnung in seiner Stirnfläche mündet. Die Gasaustrittsöffnung ist somit gegenüber dem Kalot tenscheitelpunkt beabstandet von der zu beschichtenden Fläche angeordnet.

Üblicherweise werden die Reaktionsgase bei CVD-Verfahren so geführt, daß sie langsam und kontinuierlich in die Reaktionskammer mit dem(n) zu be schichtenden Substrat(en) einströmen. Man ging bisher davon aus, daß Wirbel in den Gasströmen zu Schichtinhomogenitäten führen. Wirbel sollten daher um jeden Preis vermieden werden. So dient der in der DE 40 08 405 C1 beschriebene Verdrängungskörper auch nicht nur allein zur Begrenzung der Reaktionszone, sondern auch zur Herstellung einer langsamen und kontinuierlichen Strömung der Reaktionsgase an der zu beschichtenden Fläche entlang.

Nachteilig an dem bekannten Verfahren ist, daß es aufwendig durchzuführen ist. Der Verdrängungskörper, der in der Regel in nur geringem Abstand zur zu beschichtenden Fläche angeordnet wird, wird praktisch gleich dick mit dem Substrat mitbeschichtet. Es ist daher erforderlich, um ein allmähli ches Zuwachsen des Spalts zwischen seiner substratseitigen Oberfläche und der Substratinnenfläche zu verhindern, daß er regelmäßig von der aufge wachsenen Schicht befreit wird. Insbesondere bei Anwendung eines Plasma- Impuls-CVD-Verfahrens würde die allmähliche Verringerung des Abstandes zwischen Verdrängungskörper und Substrat, d. h. die Verringerung der Dicke der zu reagierenden Gasschicht, zu einer unerwünschten Abnahme der Be schichtungsrate während des Beschichtungsprozesses führen. Ein weiterer Nachteil des bekannten Verfahrens ist, daß auch die Herstellung des Ver drängungskörpers sehr aufwendig ist, da er jeweils an die Gestalt des zu beschichtenden Substrats angepaßt werden muß.

Aufgabe der Erfindung ist, ein Verfahren der eingangs genannten Art so weiterzuentwickeln, daß es die oben beschriebenen Nachteile nicht auf weist. Das Verfahren soll Beschichtungen von hoher optischer Qualität so wie mechanischer, thermischer und chemischer Stabilität liefern und den noch einfach und kostengünstig durchzuführen sein. Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine Vorrichtung zur Durchführung des Be schichtungsverfahrens bereitzustellen, welche sich durch einen möglichst einfachen Aufbau auszeichnet, welche auch bei unterschiedlichen Substrat geometrien ohne jeweilige Anpassung universell eingesetzt werden kann und bei welcher eine Mitbeschichtung von Teilen der Reaktionskammer nicht zu einer Veränderung kritischer Abmessungen der Reaktionskammer führt.

Diese Aufgabe wird gelöst mit einem Verfahren mit allen Merkmalen des Pa tentanspruchs 1. Eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist in Patentanspruch 4 beschrieben.

Im Gegensatz zu den bekannten CVD-Verfahren sieht die Erfindung vor, daß die Reaktionsgase in einem gerichteten Gasstrahl in die Reaktionskammer eingeleitet werden. Die Strömungsgeschwindigkeit muß dabei so hoch sein, daß bis zum Auftreffen des Gasstrahls auf der Substratinnenfläche am Ka lottenscheitelpunkt keine wesentliche Strahldivergenz auftritt. Dies läßt sich dadurch erreichen, daß die Strömungsgeschwindigkeit so hoch gewählt wird, daß für das Produkt aus Reynoldszahl R des Gasstrahls in der Gasein trittsöffnung und dem Abstand h zwischen Gaseintrittsöffnung und Kalotten scheitelpunkt gilt:

400 < R×h [mm] < 4000 (1)

mit R = r×v×d/n
r = Dichte des strömenden Mediums
v = Geschwindigkeit des strömenden Mediums
n = dynamische Zähigkeit des strömenden Mediums
d = Durchmesser der Gaseintrittsöffnung
(h wird zwar in mm eingegeben, R×h stellt jedoch eine dimensionslose Größe dar).

Gleichung (1) wurde mit Hilfe von für verschiedene Reynoldszahlen berech neten Strömungsprofilen sowie durch Experimente zur Uniformität von Be schichtungen in Abhängigkeit von der Reynoldszahl für unterschiedliche Kalottengeometrien, d. h. unterschiedliche Kalottengrößen empirisch ermit telt. Für die derzeitigen Anwendungen sind Kalotten mit einer Höhe (= Abstand zwischen Kalottenfuß und Scheitelpunkt) von 8 bis 100 mm von be sonderem Interesse.

Es hat sich in überraschender Weise gezeigt daß bei dieser Vorgehensweise gleichmäßige Beschichtungen, d. h. solche mit nahezu über die gesamte Sub stratfläche einheitlicher Schichtdicke, erzielt werden können. Insbesonde re hat es sich auch gezeigt daß bei Kalotten mit Kalottenhals die Geome trie der Querschnittsfläche des Kalottenhalses keinen Einfluß auf die Uni formität der Beschichtung hat. Dies könnte möglicherweise damit erklärt werden, daß sich in dem Kalottenhals ein Gaspolster ausbildet, das das ge samte Volumen des Kalottenhalses ausfüllt und an dessen Grenzfläche zur Reaktionskammer eine azimutal gleichmäßige Umlenkung des Gasstrahls er folgt. Der Kalottenhals kann während der Beschichtung allerdings auch ab gedeckt werden.

Ebenso überraschend ist es, daß mit dem erfindungsgemäßen Verfahren trotz fehlender räumlicher Begrenzung der Plasmazone durch geeignete Festkörper oberflächen auf einen Bereich mit gleichmäßig hoher Leistungsdichte Schichten von hoher optischer Qualität sowie mechanischer, thermischer und chemischer Stabilität erhalten werden. Eine Glasrußbildung findet nicht statt. Dies läßt sich, wie weiter unten noch anhand berechneter Strömungs profile näher erläutert wird, u. U. durch die Ausbildung besonderer Strö mungswirbel im Kalotteninnenvolumen bei erfindungsmäßiger Einleitung der Reaktionsgase erklären.

Eine geeignete Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfah rens weist zur Einleitung der Reaktionsgase einen Düsenkörper mit einer Gaseintrittsöffnung auf, der im wesentlichen außerhalb des Kalotteninnenvolumens angeordnet ist, d. h. nicht oder nur geringfügig in das Kalotteninnenvolumen hineinragt. Hierdurch kommt es auch bei einer Mitbeschichtung nicht zu einer Änderung kritischer Abmessungen im Reaktionsraumvolumen.

Ansonsten bestehen mit Ausnahme des Durchmessers der Gasaustrittsöffnung bzw. des Gesamtdurchmessers mehrerer Gasaustrittsöffnungen (hierunter soll der Durchmesser des resultierenden Gasstrahls, so wie er sich unmittelbar nach Austritt aus dem Düsenkörper ausbildet, verstanden werden) keine besonderen Anforderungen an die geometrische Gestalt eines solchen Düsenkörpers. Durch Profilierung der dem Beschichtungsraum zugewandten Seite des Düsenkörpers kann in gewissen Grenzen der Verlauf der Schichtdicke beeinflußt werden. Viele unterschiedliche Düsenformen sind somit zur Erzeugung des gerichteten Gasstrahls geeignet. Anhand der Figuren soll jedoch im folgenden ein bevorzugter Düsenkörper vorgestellt werden, welcher sich insbesondere bei der Beschichtung kalottenförmiger Substrate zur Herstellung von Reflektoren als besonders geeignet erwiesen hat.

Es zeigen:

Fig. 1 eine Beschichtungsstation zur Innenbeschichtung einer ein zelnen Kalotte zur Herstellung eines Reflektors mit einer Flachdüse zur Erzeugung eines gerichteten Gasstrahls nach der Erfindung,

Fig. 2 die Beschichtungsstation von Fig. 1 mit einer Flachdüse, welche zur besseren Ausrichtung des Gasstrahls an der Gas austrittsöffnung mit einem rohrförmigen Fortsatz versehen ist und

Fig. 3 ein berechnetes Strömungsprofil, welches die Strömungsver hältnisse der Reaktionsgase im Kalotteninnenvolumen bei Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zeigt.

Man erkennt in Fig. 1 eine Beschichtungsstation 1 einer Beschichtungsan lage zur Plasma-CVD-Beschichtung einer einzelnen Kalotte, bei welcher, wie aus der DE 40 08 405 C1 bekannt, die Kalotte selbst einen Teil der Reakti onskammer bildet. Zweckmäßigerweise weist eine Plasma-CVD-Anlage mehrere solcher Beschichtungsstationen 1 auf. Die Vorteile einer Einzelbeschich tungsstation gegenüber einer Reaktionskammer, in welcher mehrere zu be schichtenden Kalotten angeordnet und gemeinsam beschichtet werden, sind in der DE 40 08 405 C1 beschrieben.

In Fig. 1 ist die zu beschichtende Kalotte mit 2 bezeichnet. Sie weist, da sie zur Herstellung eines Reflektors dient, einen Kalottenhals 3 auf.

Vor der Beschichtung werden die Substrate 2 üblicherweise einem Reini gungsprozeß unterzogen, wobei bestimmte Reinigungsverfahren, z. B. solche, bei denen die Kalotte 2 von einer Reinigungsflüssigkeit durchströmt wird, es erforderlich machen, den von der Formgebung herrührenden Verschluß am Kalottenhals 3 nach dem Pressen zu entfernen. Bei diesen sog. offenen Ka lotten muß der Kalottenhals 3 vor Einbau der Kalotte 2 in eine Beschich tungsstation 1 mittels geeigneter Maßnahmen verschlossen werden.

Die Reaktionskammer 4 wird, wie oben beschrieben, durch das Kalottenin nenvolumen 5 selbst und ein an die Kalotte 2 angesetztes weiteres Teil ge bildet. Dieses Teil kann, sowohl, so wie aus der DE 40 08 405 C1 bekannt, ein halbseitig offenes Glasgefäß, welches an den Kalottenfuß 6 angesetzt wird, sein; in Fig. 1 ist jedoch eine Ausführungsform dargestellt, bei welcher die Kalotte 2 auf eine sog. Basisplatte 7, vorzugsweise aus einem metallischen Werkstoff, mit entsprechender Aussparung 8 für Gasein- und Gasaustrittsöffnungen, welche den unteren Teil der Reaktionskammer 4 bil det, aufgesetzt ist. Ein Dichtungsring 9 zwischen Kalottenfuß 6 und Ba sisplatte 7 sorgt für eine gasdichte Verbindung beider Teile. Diese Aus führungsform hat gegenüber dem aus der DE 40 08 405 C1 bekannten, ange setzten Gefäßteil den Vorteil der einfacheren Herstellung und Reinigung. Darüber hinaus bildet die Metallplatte 7 gleichzeitig eine Abschirmung ge gen Mikrowellenstrahlung.

Die in der Figur gezeigte Beschichtungsstation 1 enthält des weiteren eine Mikrowellen-Innenleiter/Außenleiter-Anordnung zur Übertragung von Mikro wellenenergie in die Reaktionszone zur Zündung und Speisung des Plasmas. Die Vorteile eines PCVD-Abscheideverfahrens mittels mikrowellenangeregter Plasmen ist bekannt. Der Innenleiter ist mit 10, der Außenleiter mit 11 bezeichnet. Zwischen Innenleiter 10 und Kalottenhals 3 ist eine Dichtungs scheibe 12 angeordnet, welche zur Abdichtung des offenen Kalottenhalses dient.

Den Boden der Reaktionskammer 4 bildet in Fig. 1 ohne Beschränkung der Allgemeinheit eine sog. Düsenplatte 13. Die Düsenplatte 13 besitzt in Fig. 1 eine zentrale Gaseinlaßöffnung 14 und um diese Öffnung azimutal gleichmäßig verteilt angeordnete Gasauslaßöffnungen 15.

Der gerichtete Gasstrahl wird in der Vorrichtung von Fig. 1 mittels einer sogenannten Flachdüse 16 erzeugt. Die Flachdüse 16 zeichnet sich dadurch aus, daß sie nicht oder nur geringfügig in das Kalotteninnenvolumen 5 hin ein ragt. Sie besteht im wesentlichen aus einer Platte 17, deren Oberflä che plan, konvex oder konkav sein kann, und zur gezielten Beeinflussung der Strömungsverhältnisse im Kalotteninnenvolumen eine entsprechende Pro filierung aufweisen kann. Durch konvexe Oberflächenbereiche der Flachdüse wird die Schichtdicke auf zugehörigen Substratbereichen erhöht, durch kon kave reduziert. Der Zusammenhang zwischen den profilierten Bereichen der Flachdüse und den zu beeinflussenden Bereichen der Schicht auf der Kalotte ist komplex und wird jeweils empirisch ermittelt.

Die Flachdüse 16 kann integraler Bestandteil der Düsenplatte 13 sein. Sie kann aber auch eine Montagebohrung 19 aufweisen und leicht entnehmbar auf einen Konusfortsatz 20 der Düsenplatte 13 montiert, beispielsweise aufge steckt werden. Dann ist dieses Bauteil zum Reinigen leicht ausbaubar. An stelle des Konusfortsatzes 20 kann die Düsenplatte 13 aber auch einen Gewindefortsatz aufweisen, auf welchen die Flachdüse 16 leicht höhen verstellbar aufschraubbar ist.

Zur Herstellung einer gleichmäßigen Beschichtung auf einem (bzgl. der Ka lottenachse rotationssymmetrischen) Substrat ist in Fig. 1 die Flachdüse 16 mit der zentralen Öffnung 18 für den austretenden Gasstrahl zentrisch in der Reaktionskammer 4, d. h. in der Kalottenachse angeordnet. Man er kennt in Fig. 1, daß der Gasstrahl auf den Scheitelpunkt der Kalotte, d. h. auf den Kalottenhals ausgerichtet ist.

Wie bereits oben erwähnt wurde, hat es sich in überraschender Weise ge zeigt, daß die Gestalt des Kalottenhalses 3 keinerlei Einfluß auf die Gleichmäßigkeit der Beschichtung hat. So wurden selbst bei Kalottenhälsen mit unterschiedlichem rechteckigem Querschnitt durchaus gleichmäßige Be schichtungen erzielt, solange der Gasstrahl vollständig in den Kalotten hals eintrat. Um eine Innenbeschichtung des Kalottenhalses zu vermeiden, wird dieser jedoch vorzugsweise während der Beschichtung abgedeckt.

Des weiteren sollte, um eine gleichmäßige Beschichtung zu gewährleisten, auch die Anordnung der Gasein- bzw. Gasauslaßöffnungen 14/15 an die Geome trie des zu beschichtenden Substrats angepaßt sein. So befindet sich in Fig. 1 die Gaseinlaßöffnung 14 im Mittelpunkt der Düsenplatte 13, gegenü ber dem Scheitelpunkt der Kalotte, beabstandet von der zu beschichtenden Fläche, während mehrere Gasauslaßöffnungen 15 azimutal gleichmäßig um die Gaseinlaßöffnung verteilt angeordnet sind, so daß ein gleichmäßiges Absau gen der Reaktionsgase gewährleistet ist. Die Gasauslaßöffnungen 15 werden sinnvollerweise im einzelnen so ausgestaltet, daß sie in ihrer Gesamtheit näherungsweise einen um die Gaseinlaßöffnung 14 umlaufenden Ringspalt bil den. Im übrigen können weitere geeignete geometrische Anordnungen der Gas auslaßöffnungen und die Gaseinlaßsöffnung vom Fachmann durch einfaches Ausprobieren, ohne erfinderisches Zutun, leicht ermittelt werden.

Die Gaseintrittsöffnung (18) des Düsenkörpers (16) kann sich bei entspre chend großem Durchmesser (z. B. bei der Beschichtung großer Kalotten) auch aus mehreren einzelnen Öffnungen zusammensetzen, beispielsweise auch als Gasdusche mit einer Vielzahl aneinander angrenzender kleinerer Öffnungen ausgebildet sein. Zur Berechnung der Reynoldszahl wird in diesem Fall nicht der Durchmesser der kleineren Öffnungen, sondern der Durchmesser des gesamten Gaseintrittsbereichs der Gasdusche, d. h. der Einfachheit halber der Durchmesser des resultierenden Gasstrahls in unmittelbarer Nähe der Gaseintrittsöffnungen bei Verlassen der Düse herangezogen.

Die Verwendung der oben beschriebenen Flachdüse hat den Vorteil, daß sie nur sehr selten gereinigt werden muß. Zwar wird die Plattenoberfläche ebenfalls wie auch der Verdrängungskörper aus der DE 40 08 405 C1 mitbe schichtet, die entstandene Schicht hat jedoch auch bei sehr großer Dicke auf die Funktion und die Güte der Kalottenbeschichtung keinen Einfluß, da sie keine kritischen Abmessungen der Reaktionskammer verändert: die Flach düse liegt entweder völlig außerhalb des Kalotteninnenvolumens (5) oder nimmt nur einen sehr geringen Teil desselben ein. Insbesondere hat es sich in vorteilhafter Weise gezeigt daß die Bohrung selbst und ihre unmittel bare Umgebung praktisch nicht mitbeschichtet werden. Die auf der Flachdüse in zahlreichen Beschichtungsprozessen aufgewachsene Schicht muß erst nach Standzeiten, die erheblich länger sind, als die aus dem Stand der Technik bekannten, entfernt werden; nämlich dann, wenn eine Ablösung von Flitter chen der Beschichtung zu befürchten ist. Im allgemeinen sind daher die Standzeiten eines Düsenkörpers gegenüber den aus dem Stand der Technik be kannten Verdrängungskörpern um einen Faktor 10 bis 100 größer.

In Fig. 2 trägt die Flachdüse 16 zur besseren Strahlführung einen rohr förmigen Fortsatz 21, dessen Innenbohrung 22 mit der Gasaustrittsöffnung 18 in Verbindung steht. Der rohrförmige Fortsatz 21 verhindert wirksam ein frühzeitiges Aufweiten des Gasstrahls. Auch der rohrförmige Fortsatz 21 nimmt nur einen geringen Teil des Kalotteninnenvolumens 5 ein, so daß auch bei dieser Vorrichtungsvarianten eine Mitbeschichtung der Düse zu keiner Änderung kritischer Abmessungen im Reaktionsraum führt. Die Verwendung des rohrförmigen Fortsatzes 21 auf der Flachdüse 16 hat den Vorteil, daß die sich ausbildenden Wirbel in Richtung Kalottenhals verlagert werden, so daß über die Länge des Rohres die Ausdehnung des Beschichtungsbereiches einge stellt werden kann.

Der in den Fig. 1 und 2 dargestellte Düsenkörper, welcher zur Durchfüh rung des erfindungsgemäßen Verfahrens besonders geeignet ist, ist ohne Be schränkung der Allgemeinheit jeweils bei Verwendung in Einzelbeschichtungsstationen für Kalotten gezeigt. Das erfindungsgemäße Verfahren läßt sich aber insbesondere mit dem oben beschriebenen bevor zugten Düsenkörper auch in herkömmlichen Reaktionskammern, in welchen meh rere Kalotten gemeinsam, d. h. gleichzeitig, beschichtet werden, durchführen.

Geeignete Abmessungen für einen Düsenkörper lassen sich leicht ohne erfin derisches Zutun, beispielsweise experimentell, ermitteln. Zur Erzeugung des für die erfolgreiche Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens notwendigerweise gerichteten Gasstrahls wird der Durchmesser der Gasein trittsöffnung der Gaszuführung, beispielsweise der oben beschriebenen Flachdüse, in Abhängigkeit von den für die Ausbildung eines Gasstrahls verantwortlichen Beschichtungsparametern (z. B. Massenfluß, Druck) so ein gestellt, daß die eingangs beschriebene Beziehung zwischen Reynoldszahl R und Abstand h von Gaseintrittsöffnung zu Kalottenscheitelpunkt erfüllt ist. Ebenso lassen sich aber auch bei vorgegebenem Lochdurchmesser die Be schichtungsparameter in gewissen Grenzen anpassen.

Fig. 3 zeigt zur Darstellung der Strömungsverhältnisse in der Kalotte bei Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahren ein mit Hilfe eines kommer ziellen Simulationsprogramms zur Berechnung von Strömungen in inkompres siblen Medien berechnetes Strömungsprofil. Die Berechnung wurde für eine kleine Kalotte (Durchmesser 50 mm) durchgeführt, wobei für den Durchmesser der Düsenbohrung 18 ein Wert von 6 mm, für den Außendurchmesser des Ab saugkanals 15 von 43 mm, für den Innendurchmesser ein Wert von 35 mm angenommen wurde. Des weiteren wurde der Berechnung ein Gasmassenfluß (überwiegend O₂) von 174 sccm zugrundegelegt. Man erkennt in der Figur den durch die Gaseintrittsöffnung 18 eintretenden Gasstrahl, der auf den Kalottenscheitelpunkt ausgerichtet ist. Am Kalottenscheitelpunkt wird der Gasstrahl umgelenkt und es kommt zur Ausbildung der dargestellten Wirbel. Es hat sich gezeigt, daß eine gleichmäßige homogene und dichte Beschichtung in der Kalotte nur dann erreicht wird, wenn die in Fig. 3 dargestellten Strömungsverhältnisse in der Kalotte vorliegen. Dies läßt sich möglicherweise dadurch erklären, daß die Gaswirbel, die vermutlich überwiegend aus verbrauchtem Reaktionsgas bestehen, die Funktion eines Verdrängungskörpers übernehmen, d. h. die Dicke der zu reagierenden Gas schicht über der zu beschichtenden Fläche begrenzen und für eine laminare Strömung der frischen Reaktionsgase an der zu beschichtenden Fläche entlang sorgen: da die Gaswirbel wohl überwiegend an schichtbildendem Material verarmt sind, tragen sie selbst vermutlich nichts oder nur wenig zur Beschichtung bei; darüber hinaus werden, wie man leicht sieht, die frischen Reaktionsgase auf dem Rücken der Gaswirbel in einer laminaren Strömung an der zu beschichtenden Fläche entlanggeführt, wobei die Dicke dieser Gasschicht von der Höhe der Wirbel abhängt.

Simulationsrechnungen und Experimente haben nun gezeigt daß sich die Aus bildung solcher Gaswirbel über die Reynoldszahl der Gasströmung in der Gaseintrittsöffnung und den Abstand von Gaseintrittsöffnung zu Kalotten scheitelpunkt charakterisieren läßt. Hieraus resultiert die eingangs ange gebene Beziehung (1). Solange sich das Produkt aus Reynoldszahl R und Ab stand h in den in Gleichung (1) angegebenen Grenzen bewegt, kommt es zur Ausbildung der oben beschriebenen Gaswirbel, woraus eine homogene, dichte und gleichmäßige Beschichtung resultiert.

Die Strömungsverhältnisse in der Kalotte lassen sich in Abhängigkeit von den oben genannten Parametern wie folgt charakterisieren: Bei vorgegebenem Abstand h kommt es mit steigender Reynoldszahl R (beispielsweise durch Er höhung des Massenflusses der Reaktionsgase bei konstantem Durchmesser der Gaseintrittsöffnung(en) oder durch Verringerung des Durchmessers bei kon stantem Massenfluß) zur Ausbildung von Gaswirbeln am Kalottenfuß. Mit wei ter zunehmender Reynoldszahl wandern die Gaswirbel in der Kalotte nach oben. Steigt die Reynoldszahl auf noch höhere Werte an, ist die Strömung entlang der zu beschichtenden Fläche nicht mehr laminar. Ähnliche Überle gungen lassen sich auch für die Verhältnisse bei veränderlichem Abstand h bei fester Reynoldszahl R anstellen.

Für das in DE 40 08 405 C1 beschriebene Verfahren, bei welchem die Reak tionsgase über den Verdrängungskörper langsam in das Reaktionsraumvolumen einströmen, lassen sich zum Vergleich ebenfalls Werte für das Produkt aus Reynoldszahl R und Abstand h bei üblichen Beschichtungsbedingungen ab schätzen. Diese betragen nur etwa 1/10 der in Gleichung (1) angegebenen unteren Grenze.

Vorzugsweise wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ein Plasma-Impuls- CVD-Verfahren eingesetzt. Plasma-Impuls-CVD-Verfahren zur Herstellung di elektrischer und/oder metallischer Schichtsysteme von hoher optischer Qua lität sowie chemischer, thermischer und mechanischer Beständigkeit sind an sich bekannt und beispielsweise auch für die Kalottenbeschichtung in der eingangs erwähnten DE 40 08 405 C1 beschrieben. Insbesondere sind auch die Vorteile eines Mikrowellen-Plasma-Impuls-CVD-Verfahrens hinlänglich be kannt und beispielsweise in der oben zitierten Schrift ausführlich erläu tert. Es hat sich gezeigt daß die bekannten Vorteile eines (Mikrowellen) Plasma-Impuls-CVD-Verfahrens auch bei der Durchführung des erfindungsge mäßen Verfahrens erhalten bleiben.

Das erfindungsgemäße Verfahren ist jedoch nicht nur bei Anwendung eines Plasma-CVD-Verfahrens geeignet, sondern auch bei Anwendung eines thermi schen CVD-Verfahrens, bei welchem die Reaktionszone an der zu beschichten den Fläche durch Aufheizen des Substrats auf entsprechend hohe Temperatu ren erzeugt wird. Ein Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt hier insbesondere in dem schnellen Austausch von frischem gegen verbrauchtes Reaktionsgas, woraus wesentlich höhere Beschichtungsraten resultieren.

Die Düsenkörper nach der Erfindung wie auch die übrigen Teile der Reakti onskammer der Einzelbeschichtungsanlage (mit Ausnahme der Kalotte selbst) sollten aus einem Material bestehen, das ausreichend temperaturbeständig und vakuumtauglich ist, das beständig ist gegen den Angriff chemisch ag gressiver Prozeßgase und das möglichst nicht oder nur wenig mikrowellenab sorbierend ist. Materialien, die diese Eigenschaften in sich vereinigen, sind insbesondere Metalle, beispielsweise Aluminium.

Das erfindungsgemäße Verfahren ist nicht nur auf den Einsatz bei im mathe matischen Sinne streng kalottenförmigen Substraten beschränkt. Asphärische Substrate, auch nicht streng rotationssymmetrische, können auch beschich tet werden.

Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels näher er läutert:

Das folgende Beispiel soll die Möglichkeiten einer Flachdüse bei der Her stellung einer Kaltlichtverspiegelung auf der Innenseite eines kalotten förmigen Glaspreßlings mit Kalottenhals verdeutlichen. Als Beschichtungs verfahren wurde das Plasma-Impuls-CVD-Verfahren eingesetzt.

Es wurde ein kalottenförmiges Substrat aus Glas mit einem Außendurchmesser am Kalottenfuß von 50 mm und einer Höhe bis zum Hals von 20 mm beschich tet. Die Beschichtung wurde in einer Kalottenbeschichtungsstation wie in Fig. 1 dargestellt vorgenommen. Es wurde eine Flachdüse mit den folgenden Abmessungen verwendet: Durchmesser 30 mm, Wandstärke 3 mm, Durchmesser der zentralen Bohrung 4 mm. Die Oberfläche der Düse befand sich, so wie in Fig. 1 dargestellt, etwa in Höhe des Kalottenfußes. Die Flachdüse war auf einen konusförmigen Fortsatz der Düsenplatte aufgesteckt. Der Abstand h der Gaseintrittsöffnung zum Kalottenscheitelpunkt betrug 20 mm. Durch eine näherungsweise kreisringförmige, konzentrisch zur Flachdüse in der Düsen platte angeordnete Gasaustrittsöffnung wurden die verbrauchten Reaktions gase abgesaugt. Für die hochbrechenden Schichten wurde TiO₂, für die nied rigbrechenden Schichten SiO₂ als Schichtmaterial gewählt. Daher wurden während der Beschichtung zu einem O₂-Massenfluß abwechselnd HMDSO (C₆H₁₈OSi₂) für die SiO2-Schicht und TiCl₄ für die TiO₂-Schicht zudotiert. Bei der Beschichtung lag der Druck in der Reaktionskammer bei etwa 0,7 mbar, die Temperatur der Kalotte betrug etwa 90°C. Der O₂-Massenfluß lag bei etwa 200 sccm, der HMDSO-Massenfluß bei etwa 3,6 sccm und der TiCl₄-Massenfluß bei etwa 3,0 sccm. Die übrigen Verfahrensparameter betru gen: Mikrowellenfrequenz 2,45 GHz, mittlere Mikrowellenleistung 75 W, Im pulsdauer 0,6 ms, Impulspause 20 ms.

Zur Überprüfung von Gleichung (1) wird im folgenden die Reynoldszahl R für das Ausführungsbeispiel berechnet. Hierzu wird die eingangs angegebene Gleichung für R wie folgt umgeformt:

Die mittlere Geschwindigkeit v im Lochquerschnitt beträgt:

v = (4×Q₀×p₀/p)/(π×d²),

die Dichte r bei einem Druck p:

r = r₀×p/p₀,

wobei Q₀, p₀ und r₀ der Massenfluß, der Druck und die Dichte unter Normal bedingungen sind. Durch Einsetzen von v und r in die obige Gleichung für R erhält man:

R = 4×r₀×Q₀/(π×d×n)
≈ 1,52×Q₀[sccm]/d[mm].

Die obige Vereinfachung gilt für Sauerstoff (r₀ = 1,429 kg/m³; n = 1,92·10^-7 Pascal·sec), der wesentlicher Bestandteil des Beschichtungs gases ist und damit dessen Eigenschaften maßgeblich bestimmt.

Setzt man die oben angegebenen Werte für Massenfluß und Durchmesser der Düse nun in die vereinfachte Gleichung für R ein, so erhält man:

R = 76 bzw. mit dem obigen Abstand h: R×h = 1520.

Gleichung (1) ist damit für das Ausführungsbeispiel erfüllt.

Insgesamt wurden auf der Kalotteninnenfläche 23 Schichten, abwechselnd be stehend aus SiO₂ und TiO₂ abgeschieden. Die Beschichtung war gleichmäßig, kompakt und von hoher optischer Qualität. Die so hergestellte Kalotte mit Kaltlichtverspiegelung ist insbesondere zur Verwendung als Reflektor für die Objekt- und Raumbeleuchtungstechnik geeignet.

In einem weiteren Ausführungsbeispiel wurde mit den gleichen Beschich tungsparametern und Abmessungen von Substrat und Beschichtungsstation wie in dem obigen Ausführungsbeispiel eine weitere Kalotte beschichtet, wobei eine Flachdüse mit rohrförmigem Fortsatz verwendet wurde. Die Abmessungen des rohrförmigen Fortsatzes waren: Länge 5 mm, Außendurchmesser 6 mm, In nendurchmesser 4 mm.

Es wurde, wie im obigen Ausführungsbeispiel, eine gleichmäßige, kompakte Beschichtung von hoher optischer Qualität erreicht.

Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, daß die Standzeiten der Beschichtungsanlagen wesentlich höher sind, als bei bei herkömmlichen An lagen. Es können in den Beschichtungsanlagen einfache Bauteile verwendet werden, wie z. B. die oben beschriebenen Düsenkörper, die aufgrund ihrer einfachen geometrischen Gestalt nicht nur preiswert zu fertigen, sondern auch leicht zu reinigen sind. Da die erfindungsgemäßen Düsenkörper bei vernünftiger Dimensionierung selbst bei Mitbeschichtung keine kritischen Abmessungen der Reaktionskammern berühren, sind sie auch bei verschiedenen Substratgeometrien universell ohne jeweilige Anpassung einsetzbar. Auch entfällt die Notwendigkeit aufwendiger Reinigungsprozeduren.

Claims

1. Verfahren zur Beschichtung der Innenfläche stark gewölbter, im we sentlichen kalottenförmiger Substrate mit einem dielektrischen und/ oder metallischen Schichtsystem mittels eines CVD-Verfahrens, bei welchem die Reaktionsgase, welche die Schichtbildnermoleküle enthal ten, durch wenigstens eine gegenüber dem Kalottenscheitelpunkt beabstandet von der zu beschichtenden Fläche angeordnete Gaseintrittsöffnung in die Reaktionskammer mit dem(n) zu beschichtenden Substrat(en) geleitet werden und sodann in an sich bekannter Weise durch Erzeugung einer Reakti onszone an der zu beschichtenden Substratinnenfläche die Abscheidung des Schichtmaterials auf dem Substrat bewirkt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktionsgase zur Herstellung einer gleichmäßigen Beschich tung mit einer solch hohen Geschwindigkeit in die Reaktionskammer eingeleitet werden, daß für das Produkt aus der Reynoldszahl R des Gasstrahls in der Gaseintrittsöffnung und dem Abstand h zwischen der Gaseintrittsöffnung und dem Kalottenscheitelpunkt gilt: 400 < R×h [mm] < 4000.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verfahren mittels eines Plasma-Impuls-CVD-Verfahrens durchge führt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasma mittels Mikrowellen angeregt wird.

4. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 3,
mit einer Reaktionskammer zum Anordnen des(r) zu beschichtenden Sub strats(e),
mit Einrichtungen zum Zu- und Abführen der frischen bzw. verbrauchten Reaktionsgase in die bzw. aus der Reaktionskammer, wobei die Einrich tung zum Zuführen der Reaktionsgase Gaseintrittsöffnungen aufweisen, die jeweils gegenüber den Kalottenscheitelpunkten und beabstandet von den zu beschichtenden Flächen angeordnet sind,
und mit Mitteln zur Erzeugung von Reaktionszonen an den zu beschichtenden Substratinnenflächen, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einrichtungen zum Zuführen der Reaktionsgase Düsenkörper (16) sind, welche nicht oder nur geringfügig in das Kalotteninnenvolumen hineinragen und jeweils eine oder mehrere Gaseintrittsöffnungen (18) aufweisen, deren Durchmesser bzw. bei mehreren Gaseintrittsöffnungen Gesamtdurchmesser zur Erzeugung eines gerichteten Gasstrahls so bemessen sind, daß für das Produkt aus Reynoldszahl R des Gasstrahls in der Gaseintrittsöffnung (18) bzw. des resultierenden Gasstrahls in unmittelbarer Nähe der mehreren Gaseintrittsöffnungen (18) und dem Abstand h zwischen der(n) Gaseintrittsöffnung(en) (18) und dem Kalottenscheitelpunkt gilt: 400 < R×h [mm] < 4000.

5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Düsenkörper eine Flachdüse (16) ist, welche auf der dem Sub strat zugewandten Seite eine Platte (17) mit einer zentralen Bohrung (18) zum Austritt des gerichteten Gasstrahls mit ausreichend hoher Geschwindigkeit besitzt.

6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Düsenplatte (17) eine Profilierung aufweist.

7. Vorrichtung nach wenigstens einem der Ansprüche 4 bei 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasaustrittsöffnung (18) als Gasdusche ausgebildet ist.

8. Vorrichtung nach wenigstens einem der Ansprüche 4 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Flachdüse (16) an der Gasaustrittsöffnung (18) zur besseren Ausrichtung des Gasstrahls einen in das Kalotteninnenvolumen hinein ragenden, rohrförmigen Fortsatz (21) aufweist.

9. Vorrichtung nach wenigstens einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Flachdüse (16) auf einen Konusfortsatz (20) der Düsenplatte (13) in der Reaktionskammer (4) montiert ist.

10. Vorrichtung nach wenigstens einem der Ansprüche 4 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Erzeugung der Reaktionszone über der zu beschich tenden Substratinnenfläche eine Mikrowellen-Innenleiter/Außenleiter- Anordnung (10/11) sind, welche außerhalb der Reaktionskammer (4) von oben auf die Kalotte (2) aufgesetzt wird.

11. Vorrichtung nach wenigstens einem der Ansprüche 4 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das im wesentlichen kalottenförmige Substrat (2) einen Teil der Reaktionskammer (4) bildet.