DE4325108A1 - Verfahren zur Erzeugung ultrafeiner oxidischer Partikel - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Erzeugung
ultrafeiner oxidischer Partikel im Durchmesserbereich von
1 bis 150 nm durch Laserablation eines oxidischen Targets,
wobei der Laserstrahl mit einer mittleren Leistung PL auf
die Oberfläche des Targets fokussiert wird, so daß auf dem
Target ein Brennfleck mit einem Durchmesser B (B≈1,65fache
Halbwertbreite) entsteht, wobei Target und Laserstrahl
relativ zueinander mit einer Geschwindigkeit vT innerhalb
einer Targetkammer bei einem Druck p bewegt werden, und
wobei die entstehenden Partikel mit Trägergas vom Target
bereich zu geeignet angeordneten Substraten überführt
werden.
Ein derartiges Verfahren ist in DE-A-40 00 739 beschrieben.
Es ist anzustreben, die ultrafeinen Partikel mit einer
möglichst hohen Menge pro Zeiteinheit bei möglichst
geringer Laserleistung zu erzeugen. Insbesondere bei
spröden keramischen Targets besteht die Gefahr, daß
Targetartefakte entstehen. Im Extremfall kann das Target
zerspringen. Weiterhin besteht die Gefahr, daß bei der
Ablation Tröpfchen und Spratzer gebildet werden, welche
sich auf einem zu beschichtenden Substrat ablagern können,
so daß dann die erzeugten Schichten nicht mehr genügend
homogen und gleichförmig sind. Auch wird die Erzeugung
sehr kleiner Partikel mit Durchmessern von 10 nm durch
Spratzer und Tröpfchen behindert bzw. die Ausbeute an sehr
kleinen Partikeln wird stark verringert.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Verfahren
der eingangs genannten Art derart zu gestalten, daß eine
große Menge an Partikeln pro Zeiteinheit bei effektiver
Ausnutzung der Laserleistung erzeugt werden kann, ohne daß
in unerträglichem Ausmaß Targetartefakte und/oder
Tröpfchen und/oder Spratzer entstehen.
Die Lösung gelingt dadurch, daß der Wert c = L/B*vT im
Bereich 0,2 bis 20 kWs/cm² gewählt wird.
Die Zuordnung der Werte für PL, B und vT im erfindungsgemäß
gesetzten Bereich ermöglicht eine hohe Ausbeute an ultra
feinen Partikeln mit relativ geringer Größenstreuung, ohne
daß Targetartefakte entstehen, welche insbesondere bei zu
hoher örtlicher Überhitzung des Targets verursacht werden
können. Tropfen und Spratzer werden vollständig vermieden
oder zumindest auf ein tragbares Ausmaß reduziert.
Es hat sich erwiesen, daß auch der Druck in der Targetkam
mer bei der Auswahl günstiger Werte für die übrigen Ver
fahrensparameter beachtet werden sollte. Deshalb wird als
vorteilhafte Bemessungsregel vorgeschlagen, daß der Druck
in der Targetkammer im Bereich von 0,1 bis 1500 hPa
beträgt, und daß der Wert c′ = c/ im Bereich 0,1 bis 10
kWs cm-2 hPa-1/2 gewählt wird.
Für verschiedene Targetmaterialien wurden zahlreiche Ver
suche mit variierten Verfahrensparametern durchgeführt. Es
zeigte sich, daß bestimmten Materialien engere Bereiche
für c und c′ zugeordnet werden können.
Wenn Spratzer und Tröpfchen vollständig vermieden werden
sollen, muß die Energiedichte des Laserstrahlflecks rela
tiv gering sein, es müssen also für c und/oder c′ kleinere
Werte des erfindungsgemäßen Bereiches gewählt werden.
Allerdings entstehen dann weniger Partikel pro Zeitein
heit. Zur Erzeugung einer hohen Partikel-Ausbeute
empfiehlt es sich, für c und/oder c′ Werte an der Ober
grenze zu wählen. Dabei können im geringen Ausmaß Tröpf
chen oder Spratzer entstehen, welche gemäß einer Weiter
bildung der Erfindung dadurch am Auftreffen auf ein
Substrat gehindert werden können, daß sie in einem lamina
ren Trägergasstrom über Umlenkeinrichtungen derart trans
portiert werden, daß gekrümmte Strömungsbahnen entstehen.
Dann werden "schwere" Spratzer und Tröpfchen abgelenkt und
von Prallblechen aufgefangen.
Es hat sich weiterhin als vorteilhaft erwiesen, die
Strömungsgeschwindigkeit der Trägergase größer als 150
cm/sec zu wählen. Dann ergeben sich relativ geringe Halb
wertsbreiten der Durchmesserverteilung der ultrafeinen
Partikel. Beispielsweise bewirkt die Erhöhung der
Trägergas-Strömungsgeschwindigkeit von 100 auf 200 cm/sec
eine Verringerung der Halbwertsbreite der Durchmesserver
teilung von 50% auf 30% des Mittelwertes.
In der Figur ist eine Einrichtung zur Ausübung des
erfindungsgemäßen Verfahrens schematisch im Schnitt darge
stellt.
In einer Targetkammer 1 ist ein Target 2 auf einem
Targethalter 3 angeordnet, welcher in drei Koordinaten
richtungen translatorisch bewegbar ist. Ein Laserstrahl 4
ist über Umlenkspiegel 5 und 6 und eine Linse 7 durch ein
ZnSe-Fenster 8 auf das Target 2 fokussiert, so daß auf
diesem Target ein Brennfleck entsteht, dessen Größe und
Lage durch translatorische Verschiebung des Traggestells 9
für die Spiegel 5 und 6 sowie die Linse 7 einjustiert
werden kann.
Der Targethalter 3 wird derart bewegt, daß der Brennfleck
mit konstanter Geschwindigkeit über die Targetoberfläche
wandert. Dabei wird Targetmaterial verdampft. Durch die
Einlaßöffnung 10 einströmendes Trägergas (Argon, Sauer
stoff) oder andere Trägergase transportiert entstandene
ultrafeine Partikel vom Target 2 über Umlenkblenden 11 und
12 zu Quarzsubstraten 13.
Die Umlenkblenden 12 und 13 bewirken gekrümmte Strömungs
bahnen 14, so daß zu große Partikel vorher aus der
Strömung abgesondert werden. Das Trägergas wird mitsamt
noch nicht abgeschiedener Partikel in Richtung des Pfeils
15 abgesaugt. Nicht abgeschiedene Partikel können auf
weiteren zylindrischen Substrateinsätzen 17 aufgefangen
werden. Zum Auffangen der Partikel können auch Impaktoren
oder Anordnungen mit elektrischen Feldern benutzt werden,
da die Partikel partiell elektrisch geladen sind. Der
Druck in der Targetkammer beeinflußt die Partikelgröße und
wird mit einem Meßgerät 16 kontrolliert.
Mittels der in der Figur angedeuteten Einrichtung wurden
Targets aus verschiedenartigen oxidischen Materialien,
insbesondere aus Y₂O₃, Al₂O₃, Sc₂O₃, SiO₂ und WO₃ ablatiert.
Der Durchmesser B des vom Laserstrahl auf der Targetober
fläche gebildeten Brennflecks wurde variiert. Dieser
Durchmesser B entspricht etwa der Halbwertbreite bei der
maximalen Leistungsdichte im Laserspot. Bei wie im
Beispiel schräg angeordneter Targetoberfläche entsteht ein
elliptischer Brennfleck, wobei dann B als Mittelwert der
Achsen der Ellipse definiert ist.
Weiterhin wurde die Geschwindigkeit VT des Brennflecks über
die Targetfläche, der Druck p in der Targetkammer und die
Laserleistung L variiert. Für manche Target-Materialien
erwies sich ein Pulsbetrieb (spw), für andere Materialien
ein Dauerbetrieb (cw) des Lasers als besser geeignet.
Von den zahlreichen durchgeführten Versuchen sind die
besonders günstigen in Tabelle 1 mit zugehörigen Verfah
rensparametern dargestellt. Es bedeuten:
ρ₀: Dichte des kompakten Materials
ρT: Tatsächliche Dicke des porösen Targets
L: Zeitlicher Mittelwert der Laserleistung
B: Halbwertsbreite des Laserflecks
: Abscheidungsrate
(Ar) ist der Argon-Massenfluß in slm
(O₂) ist der Sauerstoff-Massenfluß in slm
slm = Standardliter pro Minute
Der Wert vT wurde für SiO₂ durch Rotation eingestellt.
ρT: Tatsächliche Dicke des porösen Targets
L: Zeitlicher Mittelwert der Laserleistung
B: Halbwertsbreite des Laserflecks
: Abscheidungsrate
(Ar) ist der Argon-Massenfluß in slm
(O₂) ist der Sauerstoff-Massenfluß in slm
slm = Standardliter pro Minute
Der Wert vT wurde für SiO₂ durch Rotation eingestellt.
Die sich gemäß Tabelle 1 ergebenen Werte c und c¹ dürfen
um + 30% geändert werden, ohne daß sich nennenswerte Ver
schlechterungen hinsichtlich Abscheiderate und
Spratzerbildung einstellen. Allgemein besteht die Tendenz,
daß bei kleineren Werten von c und/oder c¹ die Abschei
dungsrate kleiner wird, während bei größeren Werten eine
geringe Spratzer- und/oder Tröpfchenbildung in Kauf genom
men werden muß.
In der Praxis tolerierbare Bereiche für c und c′ sind in
Tabelle 2 für die auch in Tabelle 1 aufgeführten Materia
lien zusammengestellt. Innerhalb dieser Bereiche ist ge
währleistet, daß mit relativ geringen Laser-Leistungen
ausreichend spratzer- und tröpfchenfrei ablatiert werden
kann.
Claims (10)
1. Verfahren zur Erzeugung ultrafeiner oxidischer Partikel
im Durchmesserbereich von 1 bis 150 nm durch Laserablation
eines oxidischen Targets, wobei der Laserstrahl mit einer
mittleren Leistung PL auf die Oberfläche des Targets fokus
siert wird, so daß auf dem Target ein Brennfleck mit einem
Durchmesser B (B≈ Halbwertsbreite des Laserstrahls)
entsteht, wobei Target und Laserstrahl relativ zueinander
mit einer Geschwindigkeit vT innerhalb einer Targetkammer
bei einem Druck p bewegt werden, und wobei die
entstehenden Partikel mit Trägergas vom Targetbereich
weitergefördert werden,
dadurch gekennzeichnet, daß der Wert c = L/(B*vT) im
Bereich 0,2 bis 20 kWs/cm² gewählt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet daß der Druck in der Targetkammer
im Bereich von 0,1 bis 1500 hPa eingestellt wird, und daß
der Wert c¹ = c/ im Bereich 0,1 bis 10 kWs cm-2 hPa-1,2
gewählt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Ablation eines aus Y₂O₃ und
bis zu 2% Pr-Oxid bestehenden Targets die Werte c und c′
in folgenden Bereichen vorgegeben werden: 0,5 c 5 und
0,3 c′ 3.
4. Verfahren nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Ablation eines aus Al₂0₃
bestehenden Targets die Werte c und/oder c′ in folgenden
Bereichen vorgegeben werden: 0,8 c 20.
5. Verfahren nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Ablation eines aus Sc₂O₃
bestehenden Targets die Bereiche für c und/oder c′ wie
folgt vorgegeben werden: 0,4 c 4 und 0,1 c′ 1.
6. Verfahren nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Ablation eines aus SiO₂
bestehenden Targets die Werte c und/oder c′ in folgenden
Bereichen vorgegeben werden: 0,5 c 5 und 0,2 c 2.
7. Verfahren nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Ablation eines aus WO₃
bestehenden Targets die Werte c und/oder c′ in folgenden
Bereichen vorgegeben werden: 1,5 c 6 und 0,5 c′ 2.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel vom Trägergas mit
laminarer Strömung geführt werden und die Trägergas
geschwindigkeit im Bereich 1-400 cm/sec gewählt wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Strömungsgeschwindigkeit
des Trägergases im Bereich des Targets größer als 150
cm/sec ist.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß im Gasstrom hinter dem Target
Umlenkeinrichtungen zur Bildung von gekrümmten Strömungs
bahnen angeordnet werden.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4325108A DE4325108A1 (de) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | Verfahren zur Erzeugung ultrafeiner oxidischer Partikel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4325108A DE4325108A1 (de) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | Verfahren zur Erzeugung ultrafeiner oxidischer Partikel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4325108A1 true DE4325108A1 (de) | 1995-02-02 |
Family
ID=6493776
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4325108A Withdrawn DE4325108A1 (de) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | Verfahren zur Erzeugung ultrafeiner oxidischer Partikel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4325108A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999019719A1 (de) * | 1997-10-10 | 1999-04-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Nanokristalliner sensor und herstellungsverfahren |
FR2816756A1 (fr) * | 2000-11-15 | 2002-05-17 | Univ Paris Curie | Procede d'obtention d'une composition polymere dopee par des nanoparticules pour la realisation de materiaux composites polymeres, dispositif pour sa mise en oeuvre, composition et materiaux obtenus |
-
1993
- 1993-07-27 DE DE4325108A patent/DE4325108A1/de not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999019719A1 (de) * | 1997-10-10 | 1999-04-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Nanokristalliner sensor und herstellungsverfahren |
FR2816756A1 (fr) * | 2000-11-15 | 2002-05-17 | Univ Paris Curie | Procede d'obtention d'une composition polymere dopee par des nanoparticules pour la realisation de materiaux composites polymeres, dispositif pour sa mise en oeuvre, composition et materiaux obtenus |
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