DE4242862A1 - Von Laserdioden gepumpter Festkörperlaser - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen von Laserdioden gepumpten Festkör
perlaser als Strahlungsquelle monofrequenter Laserstrahlung gemäß dem
Oberbegriff des Anspruchs 1.
Laserdiodengepumpte Festkörperlaser, insbesondere auch Mikrokristall-La
ser, sind als Strahlquellen monofrequenter Laserstrahlung bekannt und
u. a. in der EP 0327310 A2 beschrieben. Sie weisen jedoch auch das für
Mikrokristall-Laser typische Verhalten der Emission auf mehreren Über
gängen auf. Durch die Anmelderin wurden bereits einige Verfahren, wie
thermische Abstimmung (P 4139833.5), oder Ausnützung der Polarisations
eigenschaften (P 4101521.5-33) zur Erzeugung monofrequenter Strahlung
aufgezeigt.
Für Aufgabenstellungen aus der optischen Meß- und Prüftechnik sowie der
optischen Nachrichtenübertragung sind abstimmbare monofrequente Laser
nötig. Diese können u. a. in Sandwich-Bauweise realisiert werden, wobei
ein piezoaktives Stellelement in den Resonator eingebracht wird
(P 4039455.7).
Für viele Anwendungen jedoch sind kurze Pulse von ns-Dauer hoher Fre
quenzstabilität erwünscht, wobei Leistungen im kW-Bereich ausreichend
sind. Mikrokristall-Laser stellen hier erhöhte Anforderungen an den
mechanischen Aufbau, da ihre große Kompaktheit die Verwendung von intra
cavity-Elementen stark einschränkt. Realisiert wurde ein Güte geschalte
ter Mikrokristall-Laser durch die Verwendung eines Etalonresonators als
Auskoppelspiegel (J. J. Zayhowsky, Advanced solid state Lasers Konferenz
1991), welches separat angeordnet wurde, was einem halbmonolithischen
Aufbau entspricht (Abb. 6). Nachteil dieses Aufbaus ist zum einem eine
große Bauform, wie auch zum andern eine relativ große Resonatorinstabi
lität aufgrund mechanischer Resonanzen, sowie relativ langer Anstiegs
zeiten. Eine andere Ausführung unter Verwendung elektrooptischer Kri
stalle ist beschrieben in Opt. Lett. Vol. 17, 1. Sept. 1992, Seite
1201-1203. Diese Anordnung benötigt jedoch relativ hohe Spannungen und
läßt so auch eine nur beschränkte Verstimmung des Etalons zu.
Die Transmission eines Etalons ist maximal, falls die Phasendifferenz
zweier transmittierter Strahlen ein Vielfaches der Wellenlänge ist. Bei
senkrechtem Einfall gilt für maximale Transmission:
2 * n * l = m * λ;
(n = Brechungsindex; l = Etalonlänge; λ = Laserwellenlänge; m =
ganze Zahl).
Somit läßt sich durch eine Variation der Etalonlänge die Reflektivität
des Auskoppelspiegels für eine bestimmte Frequenz variieren (Abb. 7) und
die Güte des Lasers, wie auch dessen Resonanzfrequenz variieren.
Wird ein Etalon veränderlicher Länge als variabler Auskoppelspiegel ver
wendet, so ergeben sich statt eines Etalons gekoppelte Resonatoren
(Abb. 3), deren resultierende Frequenz neben den Resonatorlängen auch von
den Reflexionsgraden der beiden Spiegel abhängen (Abb. 4). Wird der Re
flexionsgrad des gemeinsamen Spiegels R2 klein gewählt, so findet eine
starke Kopplung statt und die resultierenden Frequenzen weichen stark
von den Eigenfrequenzen ab (Abb. 4). Je nach Stärke der Kopplung (Wahl
der Reflektivität der Spiegel R2 und R3) kann die erfindungsmäße Anord
nung zur Güteschaltung, Frequenzabstimmung oder Übergangsselektion oder
einer Kombination hieraus dienen.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Anordnung aufzuzeigen, welche sowohl
die Erzeugung von cw Strahlung oder auch von kurzen Pulsen im ns-Bereich
und Leistungen im kW-Bereich, oder auch die Selektion eines Übergangs
und - im Falle von longitudinalem Multimodebetrieb - einer Mode sowie
auch eine Abstimmung der Laserfrequenz ermöglicht, wobei die Kompaktheit
derartiger Laser, sowie eine geringe Linienbreite aufgrund hoher Resona
torstabilität durch den quasimonolithischen Aufbau (sandwich) erhalten
bleibt.
Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 aufgezeigten Maßnahmen ge
löst. In den Unteransprüchen sind Ausgestaltungen und Weiterbildungen
angegeben und in der nachfolgenden Beschreibung ist ein Ausführungsbei
spiel erläutert und die Figuren der Zeichnungen ergänzen diese Erläute
rungen. Es zeigen:
Fig. 1 Eine Skizze eines erfindungsgemäßen quasimonolithischen Mikro
kristall-Lasers mit einem Spiegel variablen Auskoppelgrades;
Fig. 2 die Darstellung einer Laserdiode mit longitudinalem Einmoden
betrieb nach dem erfindungsgemäßen Verfahren;
Fig. 3 eine Prinzipzeichnung zweier gekoppelter Resonatoren;
Fig. 4 die Verschiebung der Laserfrequenz zweier gekoppelter Resonato
ren bei Variation der Reflektivität des Zwischenspiegels;
Fig. 5 Emissionsspektrum eines Nd : GGG-Mikrokristall-Lasers;
Fig. 6 eine Darstellung des prinzipiellen Aufbaus eines Mikrokristall-
Lasers mit variablen Auskoppelgrad, welcher sich güteschalten
läßt, nach dem Stand der Technik;
Fig. 7 eine relative Verschiebung der Transmission eines Etalons bzgl.
einer festen Laserfrequenz bei Variation der Etalonlänge aus
J. J. Zayhowsky (siehe oben).
In Fig. 1 ist ein Ausführungsbeispiel eines Mikrokristall-Lasers 10 nach
der Erfindung gezeigt. Der beidseitig mit dielektrischen Schichten ver
sehene Laserkristall 11 mit typischen Längen von wenigen Millimetern
oder darunter wird von einer Laserdiode LD optisch gepumpt. Die Be
schichtung R1 auf der, der Pumpquelle LD zugewandten Seite ist hoch
reflektierend für die Laserwellenlänge und hochtransmittierend für die
Pumpwellenlänge. Die andere Seite des Laserkristalls ist optional hoch
reflektierend für die Pumpwellenlänge und teilreflektierend für die
Laserwellenlänge beschichtet R2, wobei der Reflexionsgrad von den ge
wünschten Eigenschaften abhängt, wie weiter unten erläutert. Auf den
Auskoppelspiegel des Laserkristalls 11 wird eine piezostriktive Folie
12 geringer Dicke, typischerweise 10 µm-100 µm, aufgebracht. Die
Folie 12 weist in der Mitte ein Loch 13 auf, damit keine Laserleistung
In der Folie absorbiert wird. Auf der Folie wird ein dünnes Glassub
strat, welches ebenfalls einseitig teilreflektierend und andersseitig
antireflektierend für die Laserwellenlänge dielektrisch beschichtet
R3 ist, befestigt. Das Glasplättchen wird derart auf die Folie mon
tiert, daß die teilreflektierende Schicht R3 dem Laserkristall 11 zuge
wandt ist. Auf diese Weise wird erreicht, daß sich ein Resonator mit 3
Spiegeln ergibt, wobei zwischen Spiegel R1 und R2 das laseraktive Medium
eingebracht ist, zwischen Spiegel R2 und R3 ein Luftspalt entsteht. Der
Reflexionsgrad wird wiederum von den gewünschten Eigenschaften bestimmt,
wie unten dargestellt.
Auf diese Weise entsteht zwischen der tellreflektierenden Schicht des
Laserkristalls 11 und der entsprechenden Schicht des Glasplättchens ein
Luftspalt, dessen Länge sich durch die piezostriktive Folie 12 verändern
läßt bzw. mittels R3 ein Teil der Strahlung in den zwischen R1 und R2
gebildeten Resonator zurückgekoppelt wird.
Die Befestigungen des Laserkristalls 11 und des Glassubstrates an der
Folie 12 wird typischerweise durch Klebstoff, aber auch durch Lot herge
stellt, wodurch eine feste Verbindung entsteht, welche zu hoher mechani
scher Stabilität und somit zu geringen Resonatorlinienbreiten führt
(sandwich).
Ein derartig aufgebauter Laser 10 kann nun sowohl zur Selektion eines
beliebigen Übergangs aus der Anzahl der anschwingenden Übergänge benutzt
werden, als auch zur Erzeugung kurzer Pulse (ns-Bereich) mittlerer Lei
stung (kW-Bereich) und hoher Repetitionsrate (MHz-Bereich) dieser selek
tierten Frequenz. Dieser Laser bietet weiterhin die Möglichkeit Pulszüge
verschiedener Frequenz, aber gleicher Dauer der Einzelpulse zu generie
ren sowie die Frequenz eines selektierten Übergangs im Bereich von GHz
durchzustimmen.
Der Luftspalt muß mit seiner Länge und die Reflektivität der beiden
Spiegel R2 und R3 auf die jeweiligen Anforderungen angepaßt werden. Die
relevanten Formeln sind:
Der freie spektrale Bereich eines Etalons fsr berechnet sich zu:
Δν = c/(2 * n * l); (c: Lichtgeschwindigkeit; l: Etalonlänge).
Δν = c/(2 * n * l); (c: Lichtgeschwindigkeit; l: Etalonlänge).
Die Finesse F ist gegeben durch: F = π * /(1-R)
mit R = ; (R2, R3:Reflexionsgrad der Etalonspiegel).
Für die Linienbreite der Transmission eines Etalons Δν gilt:
Δν = fsr/F.
Δν = fsr/F.
Zur Selektion von Übergängen vorzugsweise von Festkörperlasern ergibt
sich, daß wegen der Symmetrie der Reflexions- bzw. Transmissionscharak
teristik des Etalons (Abb. 7) der Frequenzabstand aller auftretenden
Übergänge innerhalb eines halben freien spektralen Bereichs liegen muß,
um die Eindeutigkeit zu garantieren. Die im Experiment beobachteten
Übergänge weisen typischerweise einen Abstand von etwa 3.2 nm bzw. 860
GHz auf (Abb. 5). Hieraus ergibt sich ein geforderter freier spektraler
Bereich von 1700 GHz bei 1060 nm und damit die minimale Länge des Eta
lons zu etwa 90 µm. Die piezoelektrischen Folien, wie z. B. PVDF sind
zwischen 9 µm und 100 µm dick, so daß sich derartige kurze Etalon
längen auf die oben beschriebene Art realisieren lassen. Die Reflektivi
tät der Etalonspiegel R2 und R3 muß zum einem hoch genug sein (< ca.
95%), damit die Kopplung der beiden Resonatoren schwach ist und die
Laserfrequenz annähernd konstant bleibt, wenn die Etalonlänge variiert
wird. Zum anderen wird die Reflektivität der Spiegel durch die Linien
breite der Transmissionskurve Δν bestimmt. Es bietet sich hier die
Möglichkeit auch längere Kristalle zu nehmen, die aufgrund des "spatial
hole burning" auf mehreren longitudinalen Moden gleichzeitig emittieren.
Die Linienbreite des Etalons Δν (bzw. die Finesse) muß so angepaßt
werden, daß sie zumindest kleiner ist als der Abstand zweier longitudi
naler Moden. Beispielsweise ergibt sich für einen 2 mm langen Nd : GGG-La
serkristall aus Δν=c/(2 * n * l) ein Modenabstand von 40 GHz. Bei einer
Etalonlänge von 90 µm und einem fsr von etwa 1700 GHz ergibt sich
somit eine minimale Finesse von circa 43 und damit eine Reflexion des
Auskoppelspiegels des Laserkristalls und des beweglich angebrachten Eta
lonspiegels von annähernd 96%. Umgekehrt kann über die Reflektivität
der Spiegel R2 und R3 die maximale Kristallänge bestimmt werden. Legt
man eine entsprechend hohe Reflexion der Etalonspiegel und damit auch
eine hohe Finesse zu Grunde, so lassen sich Kristallängen bis 10 mm ver
wenden.
Das Anlegen einer Spannung im Niedervoltbereich an die piezoelektrische
Folie bewirkt nun eine Änderung der Länge des Luftspalts und damit nach
Fig. 7 auch eine Verschiebung der Transmission bzw. Reflexion des Eta
lons. Bei entsprechender Einstellung der Foliendicke bzw. Etalondicke
kann somit wahlweise eine der im freien Betrieb emittierenden Laserfre
quenzen ausgekoppelt werden. Da alle anderen Frequenzen aufgrund der
hohen Finesse einen hohen Verlust im Resonator erfahren, wird sämtliche
Inversion im Laserkristall durch die mittels des Etalons eingestellte
Frequenz abgeräumt. Auf diese Weise läßt sich single-frequency-Strahlung
sehr hoher Leistung erzeugen.
Ein weiterer Vorteil dieses Aufbaus liegt darin, daß auch Strahlung be
liebiger Polarisation erzeugt werden kann. Wie in P 4101521.5-33 be
schrieben, ist jedem auftretenden Übergang bei nicht doppelbrechenden
Kristallen eine wohl definierte Polarisation zu eigen, so daß eine
Selektion der Übergänge gleichbedeutend mit einer Selektion der Polari
sation ist.
Die oben beschriebene Ausführungsform kann auch zur Güteschaltung ver
wendet werden, wenn an die piezostriktive Folie 12 eine Wechselspannung
angelegt wird. Auch hier gilt, daß aufgrund des hohen Reflexionsgrades
der Spiegel R2 und R3 die Kopplung der Resonatoren gering ist und damit
die Laserfrequenz nur durch den Laserkristall 11 bestimmt wird. Eine
Variation der Etalonlänge kann nun dazu benutzt werden, die Transmis
sionskurve des Etalons schnell über die Laserfrequenz zu tunen. Bei
exakter Übereinstimmung der Laserfrequenz und der Transmissionsfrequenz
wird die Güte des gesamten Resonators verringert und es entstehen auf
grund der kurzen mittleren Photonenlebensdauer in Mikrokristall-Lasern
kurze Pulse im ns-Bereich mit Leistungen im kW-Bereich.
Die Verwendung von piezoelektrischer Folie erlaubt wegen ihres schnellen
Schaltverhaltens Repetitionsraten von einigen 10 MHz. Außerdem sind pie
zoelektrische Polymerfolien sehr dünn und erlauben so eine direkte Kon
taktlerung der Komponenten (sandwich-Bauweise) bei gleichzeitig sehr
kurzen Resonatoren.
Mit dem in Fig. 1 dargestellten Aufbau läßt sich auch ein Durchstimmen
der Laserfrequenz erreichen. Wie aus Fig. 4 ersichtlich, weicht die
Eigenfrequenz des Laserresonators in gekoppeltem Zustand um so stärker
von dessen Eigenfrequenz in ungekoppeltem Zustand ab, je geringer die
Reflektivität der Etalonspiegel ist. Daher muß eine starke Kopplung der
Resonatoren erreicht werden, was durch einen möglichst geringen Re
flexionsgrad des Etalonspiegels R2 auf dem Laserkristall 11 bewirkt wer
den kann. Eine untere Grenze der Reflektivität ist durch die zur Sicher
stellung von longitudinalem Einmodenbetrieb festgelegten minimalen
Finesse gegeben. Für das oben angeführte Beispiel eines 2 mm langen
Nd : GGG-Mikrokristall-Lasers ist die minimale Reflexion der Etalonspiegel
für Einmodenbetrieb 96%. Wählt man einen Reflexionsgrad des beweglichen
Spiegels von 99,7%, so ergäbe sich eine minimale Reflexion des festen
Etalonspiegels auf dem Laserkristall 11 von 92%. Für eine gute Kopplung
der beiden Resonatoren sollte jedoch der Reflexionsgrad des festen Eta
lonspiegels R2 möglichst weniger als 80% betragen, was bei einer mini
mal üblichen Reflektivität R3 von 98% eine dementsprechend geringe
Finesse F des Etalons bedingt, so daß kürzere Laserkristalle mit größe
rem Frequenzabstand der longitudinalen Moden verwendet werden müssen.
Wird nun eine stetig ansteigende Spannung auf die piezoelektrische Folie
12 gegeben, so ändert sich wegen der Kopplung des Laserresonators mit
dem Etalonresonator die emittierte Laserfrequenz, ohne daß Modensprünge
auftreten. Eine Grenze der Durchstimmbarkelt mittels Folie 12 ist durch
die begrenzte Ausdehnung der Folie gegeben, kann jedoch durch zusätzli
che Änderung der Laserkristalltemperatur erreicht werden.
Fig. 2 zeigt ebenfalls eine Anordnung gemäß der Erfindung unter Verwen
dung einer Halbleiterlaserdiode als laseraktives Medium. Die Anregung
erfolgt hier vorzugsweise elektrisch. Die Anordnung dient insbesondere
in analoger Weise zu Fig. 1 dazu, die naturgemäß longitudinal mehrmodige
Emission von Halbleiterlaserdioden durch optischen feedback des externen
aus R2 und R3 gebildeten Resonators auf eine Mode zu reduzieren.
Claims (14)
1. Von Laserdioden gepumpter Festkörperlaser als Strahlungsquelle
monofrequenter Laserstrahlung mit variablem Auskoppelgrad und Güteschal
tung, dadurch gekennzeichnet, daß das laseraktive Medium (11) mit einer
piezoelektrischen Folie (12) kontaktiert wird, welche ihrerseits mit einem
Auskoppelspiegel (R3) kontaktiert ist, so daß zwischen Lasermedium und
Auskoppelspiegel ein in seiner Länge abstimmbarer Luftspalt (13) entsteht,
welcher eine hinreichend geringe Länge aufweist, so daß bei geeigneter
Wahl der Reflektivitäten der beiden Spiegel (R2) und (R3) eine longitudi
nale Modenselektion erreicht wird und bei Anlegen einer elektrischen Span
nung an die piezoelektrische Folie (12) wahlweise eine Selektion einzelner
Laserübergänge, Güteschalten oder Durchstimmung der Laserfrequenz ermög
licht wird.
2. Laser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei
dem Lasermedium (11) um ein optisch gepumpten Festkörperlaserkristall oder
-glas handelt.
3. Laser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei
dem Lasermedium um eine Halbleiter-Laserdiode handelt.
4. Laser nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß im
Falle der Durchstimmung der Laserfrequenz das Lasermedium (11) so geformt
und beschichtet ist, daß mittels eines externen Spiegels die Ausbildung
einer Resonatormode gewährleistet ist.
5. Laser nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß im
Falle der Güteschaltung und Selektion einzelner Übergänge das Lasermedium
so geformt und beschichtet ist, daß die Ausbildung einer Resonatormode
gewährleistet ist.
6. Laser nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Reflektivität der Laserspiegel R2 und R3 so gewählt ist, daß in dem
aus R1 und R3 gebildeten Resonator ein aus R2 und R3 gebildetes Etalon
geformt ist, die Linienbreite der Transmission des Etalons Δν kleiner
ist als der longitudinale Modenabstand des Resonators sowie bei Auftreten
mehrere Laserlinien im Emissionsspektrum der freie spektrale Bereich des
Etalons fsr größer oder gleich dem größten Frequenzabstand der im Emis
sionsspektrum auftretenden Laserlinien ist.
7. Laser nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Reflektivität von R2 und R3 so gewählt ist, daß R1 und R2 einen ersten
Resonator und R2 und R3 einen zweiten Resonator bilden, wobei letzterer
einen Teil der Laserstrahlung schmaler Linienbreite in den ersten Resona
tor rückkoppelt.
8. Laser nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß
durch Anlegen einer Spannung die Länge des Luftspalts (13) variierbar ist
und die Reflektivität der Spiegel R2 und R3 so gewählt ist, daß R2 opti
miert ist auf eine maximale Ausgangsleistung des Lasers (typisch 90% bis
99,7%) und R3 gemäß R3=R2/R2 gewählt ist.
9. Laser nach den Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß
durch Anlegen einer periodisch modulierten elektrischen Spannung an die
piezoelektrische Folie (12) und Wahl der Spiegelreflektivitäten R2 von . . .
sowie R3 so, daß R2 optimiert ist für maximale Ausgangsleistung des Lasers
im Pulsbetrieb (typisch 80% bis 95%) und R3 zu R3=R2/R2 gewählt wird,
so daß insgesamt Pulse im ns-Bereich mit Repetitionsraten bis in den
MHz-Bereich, entsprechend der an die Folie angelegten Frequenz, erzeugt
werden.
10. Laser nach den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß
durch Anlegen einer elektrischen Spannung an die piezoelektrische Folie
(12) und die Wahl der Spiegelreflektivitäten so, daß R3 optimiert wird auf
maximale Ausgangsleistung des Lasers (typisch 0% bis 99,7%) und R2 ge
wählt wird zu R2=R2/R3, eine Durchstimmung einer selektierten Laserfre
quenz ermöglicht wird.
11. Laser nach den Ansprüchen 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß
PVDF oder KF2 als piezoelektrische Folie (12) Verwendung findet, die eine
Dicke von typischerweise 10 µm bis 1000 µm aufweist.
12. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet,
daß auf der piezoelektrischen Folie (12) ein einseitig teilreflektierendes
(R3) und andersseitig für die Laserwellenlänge antireflektierendes dünnes
Glassubstrat kontaktiert ist.
13. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet,
daß das laseraktive Medium (Laserkristall) (11) und das Glassubstrat an
der piezoelektrischen Folie (12) mittels Klebstoff oder Lot befestigt sind.
14. Laser nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet,
daß der Etalonspiegel (R2) auf dem Laserkristall (11) einen geringen Re
flexionsgrad von weniger als 80% aufweist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4242862A DE4242862C2 (de) | 1992-12-18 | 1992-12-18 | Optisch oder elektrisch gepumpter Festkörperlaser |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4242862A DE4242862C2 (de) | 1992-12-18 | 1992-12-18 | Optisch oder elektrisch gepumpter Festkörperlaser |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4242862A1 true DE4242862A1 (de) | 1994-06-23 |
DE4242862C2 DE4242862C2 (de) | 1994-10-20 |
Family
ID=6475690
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4242862A Expired - Fee Related DE4242862C2 (de) | 1992-12-18 | 1992-12-18 | Optisch oder elektrisch gepumpter Festkörperlaser |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4242862C2 (de) |
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---|---|
DE4242862C2 (de) | 1994-10-20 |
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