DE4143177C2 - Beschichtungsanlage - Google Patents
BeschichtungsanlageInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Beschichtungsanlage mit meh
reren, um eine gemeinsame Mittelachse herum auf einen
Kreisbogen angeordneten Prozeßkammern, welche jeweils mit
einer Unterdruckleitung und einer Gasleitung Verbindung
haben und bei der ein koaxial zu der Mittelachse angeord
netes Karussell mit Substrataufnahmen zum Transport von
in den Prozeßkammern zu beschichtenden Substraten vorge
sehen ist.
Beschichtungsanlagen der vorstehenden Art werden bei
spielsweise unter der Bezeichnung "Circulus" zur Be
schichtung von optischen Datenträgern durch Kathodenzer
stäubung von der Firma Leybold vertrieben und sind des
halb bekannt. Bei der bekannten Beschichtungsanlage ist
das Karussell als Greiferstern ausgebildet, welcher die
zu beschichtenden Substrate durch eine getaktete Dreh
bewegung von Prozeßkammer zu Prozeßkammer bewegt, so daß
die Substrate in den unterschiedlichen Prozeßkammern un
terschiedlichen Behandlungsgängen unterzogen werden kön
nen. Die Evakuierung und die Gaszufuhr für jede Prozeß
kammer erfolgt unabhängig von den übrigen Prozeßkammern,
so daß für jede Prozeßkammer Überwachungseinrichtungen
vorgesehen sind, um die herrschenden Prozeßbedingungen zu
steuern.
Oftmals ist es bei Beschichtungsanlagen wünschenswert,
mehrere Prozeßkammern parallel zueinander zu betreiben,
damit eine hohe Produktionsrate erreicht wird. Das ist
beispielsweise der Fall, wenn man hohle Formteile oder
ähnliche Körper beschichten will, weil bei solchen Teilen
in einer einzigen Prozeßkammer das gesamte Beschichtungs
system aufgebracht werden kann. Bei einem Parallelbetrei
ben mehrerer Prozeßkammern muß man dafür sorgen, daß in
allen Prozeßkammern völlig gleiche Bedingungen herrschen.
Unterschiedlich lange Absaugleitungen oder Gaszuführlei
tungen führen beispielsweise aufgrund unterschiedlicher
Strömungsverluste zu unterschiedlichen Drücken in den
Prozeßkammern. Deshalb müssen alle Prozeßkammern einzeln
steuerbar sein und die erforderlichen Kontroll- und Meß
einrichtungen aufweisen, um gleiche Prozeßbedingungen er
zeugen zu können.
Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, eine Beschich
tungsanlage der eingangs genannten Art so auszubilden,
daß mit möglichst geringem Steuerungs- und Überwachungs
aufwand mehrere Prozeßkammern parallel zueinander betrie
ben werden können.
Dieses Problem wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
die Unterdruckleitung einen koaxial zur Mittelachse ver
laufenden Absaugsammelkanal aufweist, von dem radiale
Verbindungskanäle mittelbar oder unmittelbar zu den Pro
zeßkammern führen.
Durch diesen erfindungsgemäßen, mittigen Absaugsammelka
nal und die radialen Verbindungskanäle kann die Absaugung
für alle Prozeßkammern völlig gleich verlaufen. Es erge
ben sich deshalb völlig gleiche Strömungsverluste zu al
len Prozeßkammern hin, so daß sich in ihnen zwangsläufig
stets gleicher Unterdruck einstellt, was für eine gleich
mäßige Beschichtung aller gleichzeitig zu behandelnder
Substrate notwendig ist.
Zur Reduzierung der Anlagekosten trägt es bei, wenn für
alle Prozeßkammern gemeinsam zentrale Sensoren zur Über
wachung der Prozeßbedingungen angeordnet sind. Dieser
Verzicht auf eine Überwachung und Steuerung des Unter
drucks und der sonstigen Prozeßbedingungen für jede ein
zelne Prozeßkammer wird durch die Bauweise der Beschich
tungsanlage mit einem zentralen Absaugsammelkanal mög
lich.
Besonders einfach ist die Beschichtungsanlage gestaltet,
wenn die Prozeßkammern mit einer entlang der Prozeßkam
mern verlaufenden Ringleitung verbunden sind, welche über
die radialen Verbindungskanäle mit dem Absaugsammelkanal
Verbindung haben. Diese Gestaltung ermöglicht es, die An
zahl der radialen Verbindungskanäle kleiner zu halten als
die der Prozeßkammern. Es genügen zum Beispiel vier Ver
bindungskanäle, um zweiunddreißig am Absaugsammelkanal
angeschlossene Prozeßkammern gleichmäßig mit Unterdruck
beaufschlagen zu können.
Die Anordnung des zentralen Absaugsammelkanals ist beson
ders platzsparend möglich, wenn das Karussell ringförmig
ausgebildet ist.
Denkbar wäre es, daß das Karussell durch die einzelnen
Prozeßkammern hindurchführt, so daß jeweils ein von ihm
getragenes Substrat sich in einer Prozeßkammer befinden
kann. Besonders günstig ist es jedoch, wenn die Beschich
tungsanlage im Bereich jeder Prozeßkammer einen Substrat
wechsler zum Transport eines Substrates zwischen der je
weiligen Substrataufnahme des Karussells und einer Auf
nahme in der Prozeßkammer hat. Diese Gestaltung ermög
licht es, mit dem Karussell fertig beschichtete Substrate
abzutransportieren und es mit noch zu beschichtenden Sub
straten zu bestücken, während in den einzelnen Prozeßkam
mern der Beschichtungsprozeß abläuft. Dadurch lassen sich
die nach Abschluß des Beschichtungsprozesses erforderli
chen Nebenzeiten für den Austausch der Substrate in den
Prozeßkammern wesentlich verkürzen.
Zur weiteren Verkürzung der Nebenzeiten trägt es bei,
wenn das Karussell doppelt so viele Substrataufnahmen
aufweist, wie insgesamt Prozeßkammern vorgesehen sind.
Hierdurch wird es möglich, immer nur jede zweite Sub
strataufnahme des Karussells mit neuen Substraten zu be
stücken. Man taktet dann das Karussell derart, daß sich
zunächst jeweils eine leere Substrataufnahme vor jeder
Prozeßkammer befindet, um aus der jeweiligen Prozeßkammer
ein fertiges Substrat aufnehmen zu können. Anschließend
braucht man das Karussell lediglich um den Teilungswinkel
einer Substrataufnahme weiterzutakten, um die neuen Sub
strat in Übergabeposition mit den einzelnen Prozeßkammern
zu bringen.
Das Karussell ist besonders einfach und massearm ausge
bildet und kann mit geringem Aufwand mittels handelsübli
cher Bauteile angetrieben werden, wenn es aus einer Nabe
und einem mit der Nabe durch Speichen verbundenen, die
Substrataufnahmen aufweisenden Ring gebildet ist und
wenn zum Antrieb des Karussells ein einen Schrittmotor
aufweisender, fest mit der Nabe verbundener Drehtisch
vorgesehen ist.
Auch die Gasbeaufschlagung der einzelnen Prozeßkammern
kann sehr gleichmäßig erfolgen, ohne daß in den einzelnen
Prozeßkammern Meß- und Steuereinrichtungen notwendig wer
den, wenn gemäß einer anderen Weiterbildung der Erfindung
die Gasleitung koaxial zur Mittelachse einen Gaszuführka
nal hat, von dem radiale Gasleitungen zu den einzelnen
Prozeßkammern führen.
Besonders einfach ist die Beschichtungsanlage gestaltet,
wenn sie zum gleichzeitigen Wechseln von Substraten aller
Prozeßkammern ausgebildet ist.
Alternativ hierzu kann man mehrere benachbarte Prozeßkam
mern jeweils zu einer gemeinsam zu beschickenden Prozeß
kammereinheit zusammenfassen. Das hat den Vorteil, daß
bei Störungen einzelne Prozeßkammereinheiten abgeschaltet
werden können, so daß die Beschichtungsanlage mit den üb
rigen Prozeßkammern weiter betrieben werden kann. Weiter
hin könnte man unterschiedliche Beschichtungsvorgänge
nacheinander in unterschiedlichen Prozeßkammereinheiten
durchführen.
Die Prozeßkammereinheiten können sehr einfach aufgebaut
sein, wenn in ihnen die Prozeßkammern auf einer Geraden
tangential zur Mittelachse des Karussells angeordnet sind
und das Karussell für jede Prozeßkammereinheit auf einer
Tangente eine der Zahl der Prozeßkammern einer Prozeßkam
mereinheit entsprechende Zahl von Substrataufnahmen und
hierzu versetzt auf einer zweiten Tangente eine gleiche
Anzahl weiterer Substrataufnahmen aufweist.
Die einzelnen Prozeßkammern brauchen kein diese nach au
ßen abdichtendes Gehäuse aufzuweisen, wenn die Prozeßkam
mern jeweils eine Auflageplatte mit zumindest einem Un
terdruckdurchlaß und einem Gasdurchlaß zur dichtenden
Auflage einer offenen Stirnseite eines topfförmigen Sub
strates aufweist. Bei einer solchen Ausführungsform bil
den die Substrate einen Teil des Gehäuses der jeweiligen
Prozeßkammer.
Grundsätzlich kann die erfindungsgemäße Beschichtungsan
lage für unterschiedliche Beschichtungsverfahren konzi
piert sein. Ein besonders vorteilhafter Anwendungsfall
ist jedoch die Beschichtung von hohlen Formteilen. Hier
bei ist es günstig, wenn die Prozeßkammer jeweils zur Zu
führung der erforderlichen Energie eine auf das Substrat
aufsetzbare Beschichtungsquelle aufweisen. Bei flachen
Substraten, beispielsweise Compact Disks, könnte man als
Beschichtungsquelle ein glockenförmiges Bauteil auf das
Substrat aufsetzen.
Die Erfindung läßt zahlreiche Ausführungsformen zu. Zur
weiteren Verdeutlichung ihres Grundprinzip sind drei da
von in der Zeichnung dargestellt und werden nachfolgend
beschrieben. Diese zeigen in
Fig. 1 einen senkrechten Schnitt durch eine Be
schichtungsanlage nach der Erfindung,
Fig. 2 eine Draufsicht auf die Beschichtungsan
lage nach Fig. 1,
Fig. 3 eine Draufsicht auf eine zweite Ausführungs
form einer Beschichtungsanlage nach der
Erfindung,
Fig. 4 eine Prinzipskizze des Übergabebereiches der
Substrate in der Beschichtungsanlage,
Fig. 5 einen senkrechten Schnitt durch einen für
die Erfindung wesentlichen Bereich einer
dritten Ausführungsform einer Beschichtungs
anlage,
Fig. 6 einen gegenüber Fig. 5 vergrößerten Schnitt
durch einen Randbereich der Beschichtungsan
lage nach Fig. 5.
Die Fig. 1 zeigt im Schnitt eine Beschichtungsanlage 1,
welcher mittels eines linearen Transportbandes 2 Sub
strate 3 zugeführt werden. Diese haben eine topfförmige
Gestalt und sollen in der Beschichtungsanlage 1 innen
seitig beschichtet werden.
Zum Beschicken der Beschichtungsanlage 1 mit Substraten 3
dient eine Übergabevorrichtung 4, welche Substrate 3, 3a
zwischen dem Transportband 2 und einem Karussell 5 zu
wechseln vermag. Dieses Karussell 5 kann mittels eines
Schrittmotors 6 um eine Mittelachse 7 gedreht werden, so
daß die auf ihm abgelegten Substrate 3, 3a bis vor kreis
förmig um das Karussell 5 herum angeordnete Prozeßkammern
8 transportiert werden können. Jeder Prozeßkammer 8 ist
ein Substratwechsler 9 zugeordnet, welcher von einem Mo
tor 10 angetrieben, Substrate 3, 3b, 3c zwischen dem Ka
russell 5 und der jeweiligen Prozeßkammer 8 zu wechseln
vermag.
Wichtig für die Erfindung ist ein Absaugsammelkanal 11,
welcher koaxial zur Mittelachse 7 des Karussells 5 ver
läuft und der an eine nicht gezeigte Vakuumpumpe ange
schlossen ist. Von diesem Absaugsammelkanal 11 führen ra
dial verlaufende Verbindungskanäle 12 in eine Ringleitung
13, welche bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel unter
halb der Prozeßkammern 8 verläuft und mit der alle Pro
zeßkammern 8 Verbindung haben. Da die Wege von dem Ab
gassammelkanal 11 zu den Prozeßkammern 8 stets gleich
sind, ergibt sich in allen Prozeßkammern 8 ein völlig
gleicher Unterdruck.
Auch die Gaszuführung erfolgt bei der erfindungsgemäßen
Beschichtungsanlage 1 zentral von einem ebenfalls koaxial
zur Mittelachse 7 angeordneten Gaszuführkanal 14 über ra
diale Gasleitungen 15.
Die dargestellte Beschichtungsanlage 1 hat eine Energie
einheit 16, welche mit Beschichtungsquellen 17 auf den zu
beschichtenden Substraten 3c aufsitzt. Da es sich bei den
Substraten 3, 3a, 3b, 3c um topfförmige Gebilde handelt,
welche mit ihrer offenen Seite aufstehen, kann die Wan
dung jedes Substrates 3 jeweils die Außenwand der je
weiligen Prozeßkammern 8 bilden, was bei dem Ausführungs
beispiel nach den Fig. 5 und 6 besser zu erkennen ist.
Die Steuerung der Prozeßkammern 8 erfolgt zentral mittels
schematisch angedeuteter Sensoren 31, 32. Hierdurch wird
eine Datenerfassung in den einzelnen Prozeßkammern 8 un
nötig.
Die Draufsicht gemäß Fig. 2 läßt erkennen daß auf dem
Karussell 5 nebeneinander auf einem Kreisbogen Substrat
aufnahmen, zum Beispiel die Substrataufnahmen 18, 19, an
geordnet sind. Koaxial zu der Mittelachse 7 und damit zu
dem Karussell 5 sind auf seiner Außenseite ebenfalls auf
einem Kreisbogen die Prozeßkammern 8 angeordnet. Die An
zahl der Substrataufnahmen 18, 19 ist doppelt so hoch wie
die der Prozeßkammern 8. Dadurch kann man mit den jeder
Prozeßkammer 8 zugeordneten Substratwechslern 9, 9b aus
allen Prozeßkammern 8 gleichzeitig zunächst ein beschich
tetes Substrat 3 entnehmen und auf eine leere Substrat
aufnahme 18 absetzen, um anschließend nach einem Drehen
des Karussells 5 um eine Teilung der Substrataufnahmen
18, 19 ein neues Substrat 3 von der benachbarten Sub
strataufnahme 19 zu entnehmen und in die Prozeßkammer 8
setzen zu können. Hierzu ist es erforderlich, mit der
Übergabevorrichtung 4 nur jede zweite Substrataufnahme 19
mit einem vom Transportband 2 zugeführten Substrat 3 zu
beschicken.
Die Fig. 2 läßt wiederum den zentralen Abgassammelkanal
11 erkennen, über den alle Prozeßkammern 8 völlig gleich
mäßig evakuiert werden.
Bei der Ausführungsform nach den Fig. 3 und 4 sind auf
einem zur Mittelachse 7 konzentrischen Kreisbogen insge
samt 9 Prozeßkammereinheiten, beispielsweise Prozeßkam
mereinheiten 20, 20a, 20b vorgesehen. Jede Prozeßkam
mereinheit 20, 20a, 20b enthält, was Fig. 4 zeigt, vier
Prozeßkammern 8, 8a, 8b, 8c. Diese werden jeweils gemein
sam mit Unterdruck oder dem Gas verbunden.
Vom Karussell 5 erkennt man in Fig. 3 einen Ring 21,
eine Speiche 22 und eine Nabe 23. Die Prinzipskizze gemäß
Fig. 4 zeigt auf dem Ring 21 vier Substrataufnahmen 24,
24a, 24b, 24c, welche auf einer tangential zum Ring 21
verlaufenden Geraden liegen. Sie fluchten genau mit den
Prozeßkammern 8, 8a, 8b, 8c der Prozeßkammereinheit 20.
Deshalb ist ein einfaches Auswechseln der Substrate 3
möglich. Verdreht man in Fig. 4 gesehen das Karussell 5
entgegen dem Uhrzeigersinn um 36°, dann gelangen vier
weitere, ebenfalls auf einer Tangente angeordnete Sub
strataufnahmen 25, 25a, 25b, 25c in eine fluchtende Stel
lung zu den Prozeßkammern 8, 8a, 8b, 8c.
Bei der Ausführungsform nach den Fig. 5 und 6 wurde
auf die in Fig. 1 gezeigte Ringleitung 13 verzichtet.
Stattdessen führt entweder zu jeder Prozeßkammer 8 oder
zu nicht gezeigten Prozeßkammereinheiten jeweils ein ei
gener Verbindungskanal 12. Die Gaszuführung erfolgt wie
derum von dem zentralen Gaszuführkanal 14 über Gasleitun
gen 15. Zu erkennen ist in Fig. 5, wie das Karussell 5
durch einen Drehtisch 26 mittels des Schrittmotors 6 an
getrieben wird. Das Karussell 5 ist mit seiner Nabe 23
auf diesem Drehtisch 26 befestigt. Zu erkennen sind in
Fig. 5 weiterhin zwei der Speichen 22, 22a und der Ring
21.
Die Fig. 6 zeigt im Maßstab vergrößert eine Prozeßsta
tion 27 mit der Prozeßkammer 8 und einem darin angeordne
ten Substrat 3. Dieses Substrat 3 ruht auf einer Auflage
platte 28, welche Unterdruckdurchlässe 29 und Gasdurch
lässe 30 hat. Die Unterdruckdurchlässe 29 haben mit dem
Verbindungskanal 12 Verbindung, so daß über sie der Raum
innerhalb des Substrates 3, welcher die Prozeßkammer 8
bildet, evakuiert werden kann. Ebenfalls dargestellt ist
in Fig. 6 die Gasleitung 15, welche mit den Gasdurchläs
sen 30 Verbindung hat, um in die Prozeßkammer 8 Gas ein
geben zu können.
1
Beschichtungsanlage
2
Transportband
3
Substrat
4
Übergabevorrichtung
5
Karussell
6
Schrittmotor
7
Mittelachse
8
Prozeßkammer
9
Substratwechsler
10
Motor
11
Absaugsammelkanal
12
Verbindungskanal
13
Ringleitung
14
Gaszuführkanal
15
Gasleitung
16
Energieeinheit
17
Beschichtungsquelle
18
Substrataufnahme
19
Substrataufnahme
20
Prozeßkammereinheit
21
Ring
22
Speiche
23
Nabe
24
Substrataufnahme
25
Substrataufnahme
26
Drehtisch
27
Prozeßstation
28
Auflageplatte
29
Unterdruckdurchlaß
30
Gasdurchlaß
31
Sensor
32
Sensor
Claims (13)
1. Beschichtungsanlage mit mehreren, um eine gemeinsame
Mittelachse (7) herum auf einen Kreisbogen angeordneten
Prozeßkammern (8), welche jeweils mit einer Unterdruck
leitung und einer Gasleitung Verbindung haben und bei der
ein koaxial zu der Mittelachse (7) angeordnetes Karussell
(5) mit Substrataufnahmen zum Transport von in den Pro
zeßkammern (8) zu beschichtenden Substraten (3) vorge
sehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterdrucklei
tung einen koaxial zur Mittelachse (7) verlaufenden Ab
saugsammelkanal (11) aufweist, von dem radiale Verbin
dungskanäle (12) mittelbar oder unmittelbar zu den Pro
zeßkammern (8) führen.
2. Beschichtungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß für alle Prozeßkammern (8) gemeinsam zen
trale Sensoren (31, 32) zur Überwachung der Prozeßbedin
gungen angeordnet sind.
3. Beschichtungsanlage nach den Ansprüchen 1 oder 2, da
durch gekennzeichnet, daß die Prozeßkammern (8) mit einer
entlang der Prozeßkammern (8) verlaufenden Ringleitung
(13) verbunden sind, welche über die radialen Verbin
dungskanäle (12) mit dem Absaugsammelkanal (11) Ver
bindung haben.
4. Beschichtungsanlage nach zumindest einem der voran
gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das
Karussell (5) ringförmig ausgebildet ist.
5. Beschichtungsanlage nach zumindest einem der vorange
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Be
schichtungsanlage (1) im Bereich jeder Prozeßkammer (8)
einen Substratwechsler (9) zum Transport eines Substrates
(3c) zwischen der jeweiligen Substrataufnahme (18, 19;
24, 25) des Karussells (5) und einer Aufnahme in der Pro
zeßkammer (8) hat.
6. Beschichtungsanlage nach zumindest einem der vorange
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Karus
sell (5) doppelt so viele Substrataufnahmen (18, 19; 24,
25) aufweist, wie insgesamt Prozeßkammern (8) vorgesehen
sind.
7. Beschichtungsanlage nach zumindest einem der vorange
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Karus
sell (5) aus einer Nabe (23) und einem mit der Nabe (23)
durch Speichen (22) verbundenen, die Substrataufnahmen
(18, 19; 24, 25) aufweisenden Ring (21) gebildet ist und
daß zum Antrieb des Karussells (5) ein einen Schrittmotor
(6) aufweisender, fest mit der Nabe (23) verbundener
Drehtisch (25) vorgesehen ist.
8. Beschichtungsanlage nach zumindest einem der vorange
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Gas
leitung koaxial zur Mittelachse (7) einen Gaszuführkanal
(14) hat, von dem radiale Gasleitungen (15) zu den ein
zelnen Prozeßstationen (8) führen.
9. Beschichtungsanlage nach zumindest einem der vorange
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß sie zum
gleichzeitigen Wechseln von Substraten (3) aller Pro
zeßkammern (8) ausgebildet ist.
10. Beschichtungsanlage nach zumindest einem der voran
gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere
benachbarte Prozeßkammern (8, 8a, 8b, 8c) jeweils zu
einer gemeinsam zu beschickenden Prozeßkammereinheit (20)
zusammengefaßt sind.
11. Beschichtungsanlage nach Anspruch 10, dadurch ge
kennzeichnet, daß in den Prozeßkammereinheiten (20) die
Prozeßkammern (8, 8a, 8b, 8c) auf einer Geraden tangen
tial zur Mittelachse (7) des Karussells (5) angeordnet
sind und das Karussell (5) für jede Prozeßkammereinheit
(20) auf einer Tangente eine der Zahl der Prozeßkammern
(8, 8a, 8b, 8c) einer Prozeßkammereinheit (20) entspre
chenden Zahl von Substrataufnahmen (24, 24a, 24b, 24c)
und hierzu versetzt auf einer zweiten Tangente eine
gleiche Anzahl weiterer Substrataufnahmen (25, 25a, 25b,
25c) aufweist.
12. Beschichtungsanlage nach zumindest einem der vorange
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Prozeß
kammern (8) jeweils eine Auflageplatte (28) mit zumindest
einem Unterdruckdurchlaß (29) und einem Gasdurchlaß (30)
zur dichtenden Auflage einer offenen Stirnseite eines
topfförmigen Substrates (3) aufweisen.
13. Beschichtungsanlage nach Anspruch 12, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Prozeßkammer (8) jeweils zur Zuführung
der erforderlichen Energie eine auf das Substrat (3) auf
setzbare Beschichtungsquelle (17) aufweist.
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Legal Events
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OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG, 63450 |
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
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