DE4139479A1 - Hochdruck-material mit einem lichtempfindlichen harz - Google Patents

Hochdruck-material mit einem lichtempfindlichen harz

Info

Publication number
DE4139479A1
DE4139479A1 DE19914139479 DE4139479A DE4139479A1 DE 4139479 A1 DE4139479 A1 DE 4139479A1 DE 19914139479 DE19914139479 DE 19914139479 DE 4139479 A DE4139479 A DE 4139479A DE 4139479 A1 DE4139479 A1 DE 4139479A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
meth
layer
photosensitive resin
base material
resin layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19914139479
Other languages
English (en)
Inventor
Akitada Osako
Toshiaki Fujimura
Masaru Nampei
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=18289383&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=DE4139479(A1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Publication of DE4139479A1 publication Critical patent/DE4139479A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Hochdruck-Material (Buchdruck-Ma­ terial) mit einem lichtempfindlichen Harz. Dieses Material zeichnet sich durch eine besondere Beständigkeit seiner Re­ liefbeschaffenheit aus. Es enthält eine lichtgehärtete Trenn­ schicht (Hindernisschicht) mit guter Beständigkeit gegen Druckfarben und Waschöle.
Zahlreiche herkömmliche Hochdruck-Materialien auf der Basis lichtempfindlicher Harze werden hergestellt, indem man auf ein Grundmaterial, z. B. eine Kunststoffolie, eine Stahl­ platte, eine Aluminiumplatte oder dergl., eine Kleb­ stoffschicht aufbringt und dann die Klebstoffschicht mit einer Schicht eines lichtempfindlichen Harzes beschichtet. Beim Hochdruckverfahren wird auf das vorerwähnte Hochdruck- Material mit einem lichtempfindlichen Harz ein negativer Film gelegt. Das Laminat wird mit aktivem Licht belichtet. An­ schließend wird eine Entwicklung mit einem geeigneten Lö­ sungsmittel durchgeführt, um nicht-belichtete Bereiche zu entfernen. Das erhaltene Material wird getrocknet und einer Nachbelichtung unterworfen. Man erhält eine zum Drucken ver­ wendete Hochdruck-Vorlage. Häufig treten hierbei aber Schwie­ rigkeiten auf, wenn die Haftung zwischen der Reliefschicht und der Klebstoffschicht oder zwischen der Klebstoffschicht und dem Grundmaterial unzureichend ist. Beispielsweise wird eine Reliefschicht während der Plattenherstellung oder wäh­ rend des Druckvorgangs leicht vom Grundmaterial abgelöst. Ferner wird die Druckvorlage häufig während des Druckens durch Druckfarbe beschädigt und es kommt leicht zu einer Ab­ lösung in der Reliefschicht vom Grundmaterial. Außerdem wer­ den Druckvorlagen häufig durch Druckfarben-Waschöle, die beim Abwaschen von Druckfarbenflecken während oder nach dem Druck­ vorgang verwendet werden oder die vor der Aufbewahrung von benutzen Druckvorlagen zum Einsatz kommen, häufig beschädigt, so daß es zu einer Ablösung der Reliefschicht vom Grundmate­ rial kommt.
Zur Überwindung dieser Schwierigkeiten wird in JP-A-49-1 33 102 ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem eine durch Umsetzung eines linearen Polyesters mit einem mehrwertigen Isocyanat gebildete vernetzte Polyester-polyurethan-Harzschicht auf der Oberfläche eines Grundmaterials bereitgestellt wird. Ferner wird dort ein Verfahren beschrieben, bei dem eine durch Um­ setzung eines linearen Polyester-Polyurethans mit einem mehr­ wertigen Isocyanat gebildete vernetzte Polyester-polyurethan- Harzschicht auf der Oberfläche eines Grundmaterials bereitge­ stellt wird.
Jedoch ist es bei diesen Verfahren erforderlich, zur Erzie­ lung einer ausreichenden Haftung den Vernetzungsgrad in ge­ eigneter Weise einzustellen. Ist der Vernetzungsgrad zu nie­ der, so kommt es leicht zu einer Beschädigung der Druckvor­ lage durch Druckfarben oder durch zum Abwaschen von Druckfar­ ben verwendete Öle (halogenhaltige Lösungsmittel, Esterlösungsmittel, Ketonlösungsmittel und dergl.), so daß die Reliefschicht leicht vom Grundmaterial abgelöst wird. Ist auf der anderen Seite der Vernetzungsgrad zu hoch, so ist die Haftung der Harzschicht an der Reliefschicht unzureichend, was dazu führt, daß die Reliefschicht vom Grundmaterial abge­ löst wird. Eine Kontrolle der entspechenden Verfahrensstufe ist sehr schwierig.
Um eine Klebstoffschicht mit hohem Vernetzungsgrad und einer verbesserten Haftung an einer Reliefschicht zu erhalten, wird in JP-A-49-1 35 702 ein System vorgeschlagen, bei dem eine zur Photopolymerisation fähige, ethylenisch ungesättigte Verbin­ dung in eine Klebstoffschicht eingebracht wird. Dabei wird in der Klebstoffschicht die zur Photopolymerisation fähige, ethylenisch ungesättigte Verbindung einem System aus einem linearen Polyester-Polyurethan und einem mehrwertigen Isocya­ nat zugesetzt.
Jedoch wird die Klebstoffschicht leicht durch Waschöle mit einem Gehalt an halogenhaltigen Lösungsmitteln, Esterlösungs­ mitteln, Ketonlösungsmitteln oder dergl., die eine starke Af­ finität für Polyester-Polyurethan aufweisen, beschädigt, so daß sich keine zufriedenstellenden Ergebnisse erzielen las­ sen. Ferner treten in der Klebstoffschicht insofern Schwie­ rigkeiten auf, als die häufig als Photopolymerisationsmono­ mere für lichtempfindliche Harze verwendeten Methacrylsäure- oder Acrylsäureester (nachstehend als (Meth)acrylsäureester bezeichnet) einer Wanderungsbewegung unterliegen und Nicht­ bildbereiche von Druckplatten klebrig werden.
Zur Überwindung der vorerwähnten Schwierigkeiten wird ein so­ genanntes Rückseiten-Belichtungsverfahren durchgeführt. Bei einem derartigen Verfahren wird die gesamte Rückseite eines Grundmaterials vor oder gleichzeitig mit der bildmäßigen Be­ lichtung mit einer geringen Lichtmenge belichtet, um eine partielle Lichthärtung der dem Grundmaterial zugewandten lichtempfindlichen Schicht zu bewirken. Jedoch ist es sehr schwierig, die zur Belichtung verwendete Lichtmenge zu kon­ trollieren. Außerdem ist das Verfahren insofern nachteilig, als es nicht für undurchsichtige Grundmaterialien, wie Alumi­ nium- oder Stahlplatten, anwendbar ist.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Hochdruck-Material mit einem lichtempfindlichen Harz bereitzustellen, bei dem die vorerwähnten Nachteile herkömmlicher Materialien möglichst gering gehalten werden.
Erfindungsgemäß wird ein Hochdruck-Material mit einem licht­ empfindlichen Harz bereitgestellt, das ein Grundmaterial um­ faßt, das mit einem Klebstoff behandelt ist, und bei dem auf das Grundmaterial eine Schicht eines lichtempfindlichen Harzes aufgebracht ist, und das dadurch gekennzeichnet ist, daß zwischen dem Grundmaterial und der Schicht des licht­ empfindlichen Harzes eine lichtgehärtete Trennschicht mit einer Dicke von 3 µm bis weniger als 100 µm vorgesehen ist.
Die für das erfindungsgemäße Hochdruck-Material mit einem lichtempfindlichen Harz charakteristische lichtgehärtete Trennschicht besteht aus einer stark vernetzten Harzschicht. Die Trennschicht spielt insofern eine wichtige Rolle, als sie die Loslösung einer Reliefschicht vom Grundmaterial aufgrund einer Wanderungsbewegung von Druckfarbe oder Waschöl für die Druckfarbe in die Klebstoffschicht und damit eine Quellung der Klebstoffschicht verhindert. In der lichtgehärteten Trennschicht auf der Klebstoffschicht wird eine Lichthärtung durch während des Lichthärtungsvorgangs vorhandenen Sauer­ stoff in einer dünnen Oberflächenschicht von 0,5 bis 10 µm Dicke verhindert. Somit ist die auf die Trennschicht aufge­ brachte Schicht aus dem lichtempfindlichen Harz äußerst fest an einem Teil der Oberfläche der Trennschicht gebunden, der durch die bildmäßige Belichtung und die Nachbelichtung bei der normalen Plattenherstellung nicht einer Lichthärtung un­ terzogen wird. Es wird angenommen, daß aufgrund dieses Mecha­ nismus die Reliefschicht fest am Grundmaterial gehalten und eine Loslösung der Reliefschicht vom Grundmaterial verhindert wird.
Die Dicke der für das erfindungsgemäße Hochdruck-Material mit einem lichtempfindlichen Harz verwendeten Trennschicht be­ trägt mindestens 3 µ und weniger als 100 µ und vorzugsweise 5 bis 50 µm. Liegt die Dicke unter 3 µm, so kann eine Wande­ rung von schädlichen Materialien, wie Druckfarben, Waschöle für die Druckfarben oder dergl., in die Trennschicht nicht in ausreichendem Maße verhindert werden, so daß die Trennschicht ihre Aufgabe nicht hinreichend erfüllen kann. Wird anderer­ seits die Obergrenze der Dicke der Trennschicht von weniger als 100 µm überschritten, so kommt es beim Trocknen des in flüssiger Form aufgebrachten Films zu einer Schaumbildung oder zu unebenen Oberflächen. Dadurch ist eine Kontrolle der Verfahrensstufen stark erschwert, was die Herstellungskosten wesentlich erhöht.
Die Zusammensetzung der für das erfindungsgemäße Hochdruck- Material mit einem lichtempfindlichen Harz verwendeten Trenn­ schicht unterliegt keinen speziellen Beschränkungen, sofern es die erforderliche Lichtempfindlichkeit aufweist. Bei­ spielsweise besteht eine entsprechende Masse aus einem poly­ meren Bindemittel, einer photopolymerisierbaren, ungesättig­ ten Verbindung und einem Photopolymerisationsinitiator.
Beispiele für polymere Bindemittel sind alkohollösliches Po­ lyamid, Polyether-Polyamid-Harnstoff, Polyether-Urethan-Harn­ stoff, Polyetheresteramid, partiell (oder vollständig) ver­ seiftes Polyvinylacetat, Methylvinylether-Maleinsäureanhy­ drid-Copolymere und deren Derivate, Styrol-Maleinsäureanhy­ drid-Copolymere und deren Derivate und dergl.
Beispiele für in Kombination mit dem polymeren Bindemittel verwendete photopolymerisierbare ungesättigte Verbindungen sind mehrwertige Verbindungen, wie (Meth)acrylate von mehr­ wertigen Alkoholen (z. B. Ethylenglykoldi(meth)acrylat, Neo­ pentylglykoldi(meth)acrylat, Glycerindi(meth)acrylat, Tri­ methylolpropantri(meth)acrylat, Pentaerythrittri(meth)acry­ lat, Dipentaerythrit(meth)acrylat und dergl.), Addukte von mehrwertigen Glycidylethern (z. B. Ethylenglykoldiglycidyl­ ether und dergl.) mit (Meth)acrylsäuren, Addukte von mehrwer­ tigen Carbonsäuren (z. B. Adipinsäure und dergl.) mit Glyci­ dyl(meth)acrylaten, Addukte von mehrwertigen Aminen (z. B. Propylendiamin und dergl.) mit Glycidyl(meth)acrylat und dergl.
Als Photopolymerisationsinitiatoren für die Trennschicht kön­ nen beliebige bekannte Photopolymerisationsinitiatoren ver­ wendet werden. Beispiele für geeignete Photopolymerisationsi­ nitiatoren sind Benzoin, Benzoinether (z. B. Benzoinme­ thylether, Benzoinethylether, Benzoinisopropylether und dergl.), Benzylketale (z. B. Dimethylketal, Diethylketal und dergl.), Benzophenone, Anthrachinone, Diacetyle und dergl.
Die Zusammensetzung der Trennschicht umfaßt 20 bis 90 Gew.-% und vorzugsweise 40 bis 80 Gew.-% polymeres Bindemittel, 10 bis 80 Gew.-% und vorzugsweise 80 bis 60 Gew.-% photopolyme­ risierbare ungesättigte Verbindung und 0,05 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 5 Gew.-% und insbesondere 0,1 bis 1 Gew.-% Photopolymerisationsinitiator. Ist der Anteil des po­ lymeren Bindemittels zu gering und der Anteil der photopoly­ merisierbaren ungesättigten Verbindung zu groß, so unterliegt die Zusammensetzung leicht einer Beschädigung durch ein orga­ nisches Lösungsmittel, wie einen Ester, ein Keton oder dergl. Ist der Anteil des polymeren Bindemittels zu groß und der Anteil der photopolymerisierbaren ungesättigten Verbin­ dung zu gering, so kommt es zu einer unzureichenden Photover­ netzung und die Zusammensetzung wird leicht durch ein organi­ sches Lösungsmittel, wie einen Alkohol, beschädigt. Ist fer­ ner der Anteil des Photopolymerisationsinitiators zu gering, so ergibt sich eine unzureichende Photovernetzung. Ist ande­ rerseits der Anteil des Photopolymerisationsinitiators zu hoch, so werden die Lagereigenschaften des Hochdruck-Mate­ rials mit einem lichtempfindlichen Harz durch die bei einem Abbau des Initiators entstehenden Produkte beeinträchtigt.
Die für das erfindungsgemäße Hochdruck-Material mit einem lichtempfindlichen Harz verwendete Trennschicht kann erhalten werden, indem man das einer Klebstoffbehandlung unterzogene Material mit der Masse für die Trennschicht beschichtet und den Überzug auf die nachstehend angegebene Weise trocknet und anschließend das Material mit aktivem Licht bestrahlt, um eine Lichthärtung durchzuführen.
Zum Aufbringen der Masse für die Trennschicht kann man sich beliebiger bekannter Verfahren bedienen. Beispielsweise kann man ein Gravurstreichgerät, ein Walzenstreichgerät, ein Stab­ streichgerät, ein Kußbeschichtungsgerät oder dergl. zum schichtförmigen Aufbringen der Masse auf das einer Klebstoff­ behandlung unterzogene Material verwenden, beispielsweise durch übliches Aufbringen eines Klebstoffs, wie eines Poly­ ester-Klebstoffs, Polyester-Polyurethan-Klebstoffs, Epoxy­ harzklebstoffs, Phenolharzklebstoffs, Melaminharzklebstoffs, Alkydharzklebstoffs oder dergl.
Anschließend wird das beschichtete Material mit einer Trock­ nungsvorrichtung zu einem Überzug mit einer Dicke von 3 bis 100 µm getrocknet. Unmittelbar danach wird der Überzug zur Bildung der Trennschicht mit aktivem Licht bestrahlt. Als Quelle für das aktive Licht, das eine ausgeprägte Lichtener­ gieverteilung im UV-Bereich aufweist, kann beispielsweise eine chemische Lampe, eine Hochdruck-Quecksilberlampe, eine Ultrahochdruck-Quecksilberlampe, eine Halogenlampe oder dergl. verwendet werden.
Als einer Klebstoffbehandlung unterworfenes Grundmaterial können beliebige bekannte Materialien verwendet werden. Bei­ spiele hierfür sind Polyesterfolien, Stahlplatten, Aluminium­ platten oder dergl., auf die vorher ein Klebstoff aufgebracht worden ist. Es können beliebige bekannte Klebstoffe für Hoch­ druck-Materialien mit einem lichtempfindlichen Harz verwendet werden.
Als lichtempfindliche Harzmasse für das erfindungsgemäße Hochdruck-Material mit einem lichtempfindlichen Harz können beliebige bekannte lichtempfindliche Harzmassen verwendet werden. Derartige Massen enthalten ein polymeres Bindemittel, eine photopolymerisierbare ungesättigte Verbindung, einen Photopolymerisationsinitiator, einen Weichmacher, einen Wär­ mestabilisator und dergl. Als Beispiele für Bindemittel, für photopolymerisierbare ungesättigte Verbindungen und für Pho­ topolymerisationsinitiatoren kommen die vorstehend in bezug auf die Trennschicht genannten Produkte in Frage. Als Weich­ macher können beliebige bekannte Weichmacher verwendet wer­ den. Beispiele hierfür sind Phthalsäureester, Alkylsul­ fonamide und dergl. Als Wärmestabilisator können beliebige Inhibitoren der thermischen Polymerisation verwendet werden. Beispiele hierfür sind Hydrochinon, Hydrochinonmonome­ thylether, tert.-Butylcatechin, Phenothiazin und dergl.
Das erfindungsgemäße Hochdruck-Material mit einem lichtem­ pfindlichen Harz läßt sich herstellen, indem man eine Schicht der lichtempfindlichen Harzmasse auf dem Grundmaterial, auf dem bereits die Trennschicht gebildet worden ist, erzeugt. Beispielsweise wird eine Lösung der lichtempfindlichen Harz­ masse auf das mit der Trennschicht versehene Grundmaterial gegossen. Anschließend wird das Lösungsmittel entfernt, wobei die lichtempfindliche Harzschicht entsteht. Eine andere Mög­ lichkeit besteht darin, daß man eine Schmelze, die nach Ent­ fernen eines Großteils des Lösungsmittels einer Lösung einer lichtempfindlichen Harzmasse erhalten worden ist, zwischen dem mit der Trennschicht versehenen Grundmaterial und einer Schutzschicht unter Bildung einer Folie vergießt und somit die lichtempfindliche Harzschicht in sandwichartiger Weise erzeugt. Eine weitere Möglichkeit besteht in der Herstellung einer lichtempfindlichen Harzfolie, indem man eine Lösung einer lichtempfindlichen Harzmasse zunächst durch Gießen her­ stellt und diese Folie anschließend durch Laminierung unter Wärmeeinwirkung auf das mit der Trennschicht versehene Grund­ material aufbringt. Auch auf diese Weise entsteht eine licht­ empfindliche Harzschicht.
Die nachstehenden Bezugsbeispiele, Beispiele und Ver­ gleichsbeispiele dienen der weiteren Erläuterung der Erfin­ dung. Sämtliche Teilangaben beziehen sich auf das Gewicht, sofern nichts anderes angegeben ist.
Bezugsbeispiel 1
Eine Beschichtungslösung wird hergestellt, indem man nachein­ ander 100 g des handelsüblichen linearen Polyesters Bailon RV-30SS (Handelsbezeichnung der Fa. Toyo Boseki Kabushiki Kaisha, Japan), 0,1 g U-CAT SA102 (Handelsbezeichnung für 1,8-Aza-bicyclo(5.4.0)undecen-7-decanoat der Fa. Sanapot, Ka­ bushiki Kaisha, Japan) und 10 g Colonate L (Handelsbezeich­ nung für Tolylendiisocyanat-Addukt von Trimethylolpropan der Fa. Nippon Urethane Kogyo Kabushiki Kaisha, Japan) vermischt. Die Beschichtungslösung wird gleichmäßig unter Verwendung eines Stabbeschichtungsgerätes auf eine verchromte Stahl­ platte von 200 µm Dicke aufgebracht. Unmittelbar danach wird die beschichtete Platte drei Minuten in einem Heißluftofen getrocknet. Man erhält ein Grundmaterial (I) mit einer Kleb­ stoffschicht von etwa 20 µm Dicke.
Bezugsbeispiel 2
Eine Beschichtungslösung wird hergestellt, indem man nachein­ ander 100 g des handelsüblichen linearen Polyesters Bailon RU-30SS (Handelsbezeichnung der Fa. Toyo Boseki Kabushiki Kaisha, Japan), 0,2 g U-CAT SA102 und 10 g Colonate L ver­ mischt. Diese Beschichtungslösung wird unter Verwendung eines Walzenbeschichtungsgerätes gleichmäßig auf eine Polyesterfo­ lie von 250 µm Dicke aufgebracht. Unmittelbar danach wird die beschichtete Folie 3 Minuten in einem Heißluftofen getrock­ net. Man erhält ein Grundmaterial (II) mit einer Klebstoff­ schicht von etwa 20 µm Dicke.
Beispiel 1
Eine 25%ige Methanollösung mit einem Gehalt an 65 Teilen Ul­ tramide-IC (Handelsbezeichnung für Caprolactam-Hexamethylen- diaminadipat-4,4-Diaminodicyclohexylmethanadipat-Copolymeri­ sat der Fa. BASF), 35 Teilen Trimethylolpropantriglyci­ dylethertriacrylat, 0,3 Teilen Dimethylbenzylketal und 0,1 Teil Hydrochinonmonomethylether wird auf das in Bezugsbei­ spiel 1 erhaltene Grundmaterial (I), das einer Klebstoffbe­ handlung unterzogen worden ist, unter Verwendung eines Wal­ zenbeschichtungsgerätes aufgebracht. Das beschichtete Mate­ rial wird 3 Minuten bei 90°C in einem Heißluftofen ge­ trocknet. Unmittelbar danach wird das getrocknete Material 30 Sekunden in einem Abstand von 30 cm direkt unter einer Ultrahochdruck-Quecksilberlampe (80 W/cm) in Gegenwart von Luft belichtet. Man erhält ein Grundmaterial (III) mit einer Trennschicht von etwa 20 µm Dicke. Sodann werden 440 g eines copolymerisierten Polyamids, das aus ε-Caprolactam/N,N′-Bis- (3-aminopropyl) -piperazin/1,3-Bisaminomethylcyclohexan/Adi­ pinsäure (Gewichtsverhältnis 50/25/5/21) zusammengesetzt ist, in 700 g Methanol gelöst. Die Lösung wird mit 280 g Trime­ thylolpropantriglycidylethertriacrylat, 25 g Methacrylsäure, 25 g N-Ethyl-p-toluolsulfonamid, 8 g Dimethylbenzylketal und 1,6 g Hydrochinonmonomethylether versetzt und in eine homo­ gene Lösung übergeführt. Man erhält eine Lösung eines licht­ empfindlichen Harzes. Etwa 650 g Methanol werden aus der Lö­ sung des lichtempfindlichen Harzes abdestilliert, wodurch man eine Schmelze des lichtempfindlichen Harzes erhält. Diese Schmelze wird in Form einer Folie von etwa 700 µm Dicke auf das vorstehend erhaltene Grundmaterial (III), das mit einer Trennschicht versehen ist, extrudiert. Darauf wird eine Polyesterfolie (125 µm) laminiert. Man läßt das erhaltene Material bei Raumtemperatur stehen, um es ausreichend zu härten. Daran schließt sich eine dreiminütige Behandlung mit heißer Luft bei 90°C an. Das auf diese Weise behandelte Material wird erneut bei Raumtemperatur stehen gelassen. Man erhält das gewünschte Hochdruck-Material mit einem licht­ empfindlichen Harz, das eine hervorragende Lichtempfind­ lichkeit aufweist.
Die Polyesterfolie wird von dem erhaltenen Hochdruck-Material mit einem lichtempfindlichen Harz abgelöst. Ein Negativfilm wird unter vermindertem Druck aufgebracht und 5 Minuten von oben mit einer chemischen Lampe belichtet. Die unbelichteten Bereiche des belichteten Hochdruck-Materials mit einem licht­ empfindlichen Harz werden mit Wasser unter Verwendung einer bürstenartigen Vorrichtung ausgewaschen. Das Material wird 10 Minuten bei 70°C getrocknet. Sodann wird die gesamte Oberflä­ che des Materials 5 Minuten mit einer chemischen Lampe be­ lichtet. Im erhaltenen Reliefbild sind voneinander unabhän­ gige Punkte von 200 µm Durchmesser und feine Linien von 40 µm Linienbreite originalgetreu wiedergegeben. Imprägniert man dieses Reliefbild 10 Stunden mit Aceton, Essigsäureethylester und Trichlorethylen, so lassen sich weder im Bildbereich noch im Nichtbildbereich Veränderungen feststellen. Dies belegt die hohe Beständigkeit des Reliefbilds gegen diese Lö­ sungsmittel.
Vergleichsbeispiel 1
Zu Vergleichszwecken wird gemäß Beispiel 1 ein Hochdruck-Ma­ terial mit einem lichtempfindlichen Harz hergestellt, mit der Abänderung, daß anstelle des in Beispiel 1 verwendeten Grund­ materials (III) mit einer Trennschicht das gemäß Bezugsbei­ spiel 1 hergestellte, eine Klebstoffschicht aufweisende Hoch­ druck-Material mit einem lichtempfindlichen Harz verwendet wird. Es werden unabhängige Punkte von 200 µm Durchmesser und feine Linien mit einer Linienbreite von 40 µm reproduziert. Das erhaltene Reliefbild wird 10 Stunden mit Aceton, Essig­ säureethylester und Trichlorethylen imprägniert. Bei den Re­ liefbildern kommt es mit sämtlichen Lösungsmitteln zu einer Quellung der Nichtbildbereiche und in der Umgebung der Bild­ bereiche. Außerdem wird die Haftung der Reliefbilder am Grundmaterial erheblich beeinträchtigt.
Die vorstehenden Ergebnisse zeigen, daß die Trennschicht eine günstige Wirkung in bezug auf eine Verhinderung der Ablösung der Reliefschicht vom Grundmaterial ausübt. Eine derartige Ablösung ist auf eine Beeinträchtigung der Haftung zwischen dem Grundmaterial und dem Reliefmaterial aufgrund einer Wan­ derung des Lösungsmittels in die Haftschicht und einer damit verbundenen Quellung der Haftschicht zurückzuführen.
Vergleichsbeispiel 2
Zu Vergleichszwecken wird gemäß Beispiel 1 ein Reliefbild hergestellt, mit der Abänderung, daß die Dicke der Trenn­ schicht etwa 2 µm beträgt. Bei 10stündiger Imprägnierung des Reliefbilds mit Aceton, Essigsäureethylester und Trichlor­ ethylen gemäß Beispiel 1 kommt es bei sämtlichen Lösungs­ mitteln zu einer Quellung der Nichtbildbereiche und ihrer Ränder sowie zu einer erheblichen Beeinträchtigung der Haf­ tung des Reliefbilds am Grundmaterial.
Die vorstehenden Ergebnisse zeigen, daß für die Trennschicht eine gewisse Dicke erforderlich ist, um eine Wanderung des Lösungsmittels in die Haftschicht zu verhindern.
Beispiel 2
Eine 25%ige Methanol-Lösung mit einem Gehalt an 50 Teilen des Methylhalbesters eines Methylvinylether-Maleinsäureanhy­ drid-Copolymerisats, 50 Teilen Trimethylolpropantriglyci­ dylethertriacrylat und 0,5 Teilen Dimethylbenzylketal wird unter Verwendung eines Walzenbeschichtungsgerätes auf das in Bezugsbeispiel 2 erhaltene Grundmaterial (II), das einer Klebstoffbehandlung unterzogen worden ist, aufgebracht. Das beschichtete Material wird 3 Minuten bei 70°C in einem Heiß­ luftofen getrocknet. Unmittelbar danach wird das getrocknete Material 30 Sekunden mit aktivem Licht in einem Abstand von 30 cm direkt unter einer UV-Hochdruck-Quecksilberlampe (80 W/cm) belichtet. Man erhält ein Grundmaterial (IV) mit einer Trennschicht von etwa 20 µm Dicke. Anschließend werden 440 g eines copolymerisierten Polyamids aus ε-Caprolactam-N,N′-bis- (3-aminopropyl)-piperazin/1,3-Bisaminomethylcyclohexan/Adi­ pinsäure (Gewichtsverhältnis 50/25/5/21) in 700 g Methanol gelöst. Sodann werden 280 g Ethylenglykoldiglycidyletherdi­ methacrylat, 25 g Methacrylsäure, 25 g N-Ethyl-p-toluolsul­ fonamid, 8 g Dimethylketal und 1,6 g Hydrochinonmonome­ thylether zugesetzt und homogen in Lösung gebracht. Man er­ hält eine Lösung eines lichtempfindlichen Harzes. Diese Lö­ sung wird auf das vorstehend erhaltene, eine Trennschicht aufweisende Grundmaterial (IV) gegossen. Man läßt das Grund­ material zum Abdampfen des Methanols 1 Tag stehen. Sodann wird auf das Material eine Polyesterfolie mit einem Polyvi­ nylalkohol-Überzug aufgebracht. Die Schichten werden durch Erwärmen unter Druck laminiert. Man erhält ein Hochdruck-Ma­ terial mit einem lichtempfindlichen Harz. Die Polyesterfolie wird vom erhaltenen Hochdruck-Material abgelöst. Ein Test- Negativ-Film wird unter vermindertem Druck am Hochdruck- Material angebracht und 6 Minuten von oben mit einer chemi­ schen Lampe belichtet. Das belichtete Hochdruck-Material mit dem lichtempfindlichen Harz wird durch Waschen mit Wasser mittels einer bürstenartigen Vorrichtung entwickelt. Sodann wird das Material 10 Minuten bei 70°C getrocknet. Anschlie­ ßend wird die gesamte Oberfläche mit einer chemischen Lampe einer 6minütigen Nachbelichtung unterzogen. Unabhängige Punkte von 200 µm Durchmesser und feine Linien von 30 µm Li­ nienbreite werden scharf reproduziert. Bei Durchführung von Drucktests unter Verwendung dieses Reliefbilds ergeben sich keine Schwierigkeiten aufgrund einer Ablösung des Reliefs während des Druckvorgangs.
Beispiel 3
Das wasserlösliche, lichtempfindliche Harzmaterial Miraclon MF100H (Handelsbezeichnung der Fa. Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha, Japan) wird in Wasser gelöst. Die Lösung wird durch ein Baumwollfilter filtriert. Das Filtrat wird auf das eine Trennschicht aufweisende Grundmaterial (III) von Beispiel 1 gegossen und sodann 1 Tag bei 40°C getrocknet. Ein Test-Nega- tiv-Film wird auf das erhaltene Druckmaterial mit dem licht­ empfindlichen Harz gelegt und 5 Minuten mit einer chemischen Lampe belichtet. Das belichtete Druckmaterial wird durch Aus­ waschen mit einer bürstenartigen Vorrichtung entwickelt. Nach Abtropfen des Wassers wird das Material 10 Minuten bei 60°C getrocknet und einer 5minütigen Nachbelichtung mit einer chemischen Lampe unterzogen. Unabhängige Punkte von 200 µm Durchmesser und feine Linien von 40 µm Linienbreite werden scharf reproduziert. Bei Durchführung eines Drucktests unter Verwendung dieses Reliefbilds als Druckplatte ergeben sich keine Schwierigkeiten in bezug auf eine Ablösung des Relief­ bildes während des Druckvorgangs. Es läßt sich feststellen, daß das Reliefbild fest am Grundmaterial haftet.
Wie vorstehend ausgeführt, wird beim erfindungsgemäßen Hoch­ druck-Druckmaterial mit dem lichtempfindlichen Harz eine Wan­ derung von Druckfarbe oder Waschöl für die Druckfarbe in die Klebstoffschicht, die eine Quellung der Klebstoffschicht ver­ ursachen würde, verhindert. Dies erfolgt durch die auf dem einer Klebstoffbehandlung unterzogenen Grundmaterial bereit­ gestellte Trennschicht. Dadurch wird eine Ablösung des Re­ liefbilds vom Grundmaterial bei der Plattenherstellung und beim Druckvorgang verhindert. Die Beständigkeit gegen Druck­ farben und Waschöle für Druckfarben wird erheblich verbes­ sert. Da die Trennschicht ungehärtete Bereiche in einer äu­ ßerst dünnen Schicht auf der Oberfläche aufweist, wird ange­ nommen, daß die Haftung der lichtempfindlichen Harzschicht über eine Photohaftung der keiner Photohärtung unterworfenen Bereiche an der Trennschichtfläche erreicht wird. Ferner er­ weist sich das Grundmaterial mit der Trennschicht für das Hochdruck-Material mit dem lichtempfindlichen Harz insofern als vorteilhaft, als die Haftung selbst dann nicht beein­ trächtigt wird, wenn das Grundmaterial längere Zeit vor der Laminierung mit der lichtempfindlichen Harzschicht gelagert wird. Somit kann das erfindungsgemäße Hochdruck-Material län­ gere Zeit gelagert werden, was eine variable Produktionspla­ nung ermöglicht. Beim Grundmaterial entsteht kein Ausschuß aufgrund von beeinträchtigten Haftungseigenschaften.

Claims (6)

1. Hochdruck-Material mit einer lichtempfindlichen Harz­ schicht umfassend ein einer Klebstoffbehandlung unterworfenes Grundmaterial und eine auf das Grundmaterial laminierte lichtempfindliche Harzschicht, dadurch gekennzeichnet, daß sich zwischen dem Grundmaterial und der lichtempfindlichen Harzschicht eine unter Lichteinwirkung gehärtete Trennschicht in einer Dicke von 3 µm bis weniger 100 µm befindet.
2. Hochdruck-Material nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Dicke der unter Lichteinwirkung gehärteten Trennschicht 5 bis 50 µm beträgt.
3. Hochdruck-Material nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Trennschicht ein polymeres Bindemit­ tel, eine photopolymerisierbare ungesättigte Verbindung und einen Photopolymerisationsinitiator enthält.
4. Hochdruck-Material nach Anspruch 3, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das polymere Bindemittel ausgewählt ist aus einem alkohollöslichen Polyamid, Polyether-Polyamid-Harn­ stoff, Polyether-Urethan-Harnstoff, Polyetheresteramid, par­ tiell oder vollständig verseiftem Polyvinylacetat, Methylvi­ nylether-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisat und Derivaten da­ von und Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisat und Deriva­ ten davon.
5. Hochdruck-Material nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare ungesättigte Verbindung ausgewählt ist aus (Meth)acrylaten von mehrwerti­ gen Alkoholen, Addukten von mehrwertigen Glycidylethern und (Meth)acrylsäure, Addukten von mehrwertigen Carbonsäuren und Glycidyl-(meth)acrylaten und Addukten von mehrwertigen Aminen und Glycidyl-(meth)acrylaten.
6. Hochdruck-Material nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Photopolymerisationsinitiator ausgewählt ist aus Benzoin, Benzoinethern, Benzylketalen, Benzophenonen, Anthrachinonen und Diacetylen.
DE19914139479 1990-11-29 1991-11-29 Hochdruck-material mit einem lichtempfindlichen harz Withdrawn DE4139479A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33551090A JP3047464B2 (ja) 1990-11-29 1990-11-29 感光性樹脂凸版材

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE4139479A1 true DE4139479A1 (de) 1992-06-04

Family

ID=18289383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19914139479 Withdrawn DE4139479A1 (de) 1990-11-29 1991-11-29 Hochdruck-material mit einem lichtempfindlichen harz

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP3047464B2 (de)
DE (1) DE4139479A1 (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004104701A1 (ja) 2003-05-23 2004-12-02 Asahi Kasei Chemicals Corporation フレキソ印刷用感光性構成体
JP2011064950A (ja) * 2009-09-17 2011-03-31 Toppan Printing Co Ltd 印刷用凸版およびその製造方法
JP6428605B2 (ja) * 2014-02-17 2018-11-28 東レ株式会社 樹脂積層体および凸版印刷版原版
CN110945428B (zh) * 2017-07-20 2023-07-11 旭化成株式会社 印刷版用感光性树脂结构体及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04204447A (ja) 1992-07-24
JP3047464B2 (ja) 2000-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0767407B2 (de) Verfahren zur Herstellung von Flexodruckplatten unter Verwendung eines durch digitale Informationsübertragung geeigneten mehrschichtigen Aufzeichnungselements
EP0071789B2 (de) Für die Herstellung von Photoresistschichten geeignetes Schichtübertragungsmaterial
DE69128143T2 (de) Photoempfindliche harzzusammensetzung und photoempfindliche elementstruktur
EP0332983B1 (de) Photopolymerisierbare, zur Herstellung von Druckformen geeignete Druckplatte
DE3137416A1 (de) Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus
DE3706561A1 (de) Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit erhoehter flexibilitaet
DE69327857T2 (de) Photoempfindliches Element mit einem Träger, dessen Adhäsion regulierbar ist
DE2856282C2 (de) Reliefdruckform aus fotogehärtetem Harz
DE2615055C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
EP0333012B1 (de) Lichtempfindliche, photopolymerisierbare Druckplatte
EP0249857A2 (de) Lichtempfindliches Aufzeichnungselement
DE69129171T2 (de) Verfahren zur dimensionellen Stabilisierung von Photopolymer-Flexodruckplatten
EP0059385A2 (de) Zur Herstellung von Druck- und Reliefformen geeignete Mehrschichten-Elemente sowie Verfahren zu ihrer Herstellung
EP1311909B1 (de) Verfahren zur herstellung organisch entwickelbarer, fotopolymerisierbarer flexodruckelemente auf flexiblen metallischen trägern
DE69925983T2 (de) Druckelemente mit einer schicht auf basis flüssiger photopolymere und einer schicht auf basis fester photopolymere
EP0797120B1 (de) Zur Herstellung von Flexodruckplatten durch digitale Informationsübertragung geeignetes mehrschichtiges Aufzeichnungselement
EP0620499B1 (de) Photopolymerisierbares Material und Verfahren zur Herstellung eines farbigen Bildes
DE4139479A1 (de) Hochdruck-material mit einem lichtempfindlichen harz
EP0606642B1 (de) Lichtempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Reliefdruckplatte
DE69231747T2 (de) Verfahren und Entwickler zum Entwickeln von Flexodruckplatten
DE69130102T2 (de) Hochdruckplatte mit photovernetzbarem kunststoff
DE68926974T2 (de) Photolack-Reliefdruckplatte
DE3012953C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Trockenflachdruckformen
DE4022978C1 (de)
DE3045515A1 (de) Lichtempfindliches mehrschichtenmaterial und verfahren zur herstellung von haftschichten dafuer

Legal Events

Date Code Title Description
8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: TAUCHNER, P., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. HEUNEMANN, D

8141 Disposal/no request for examination