DE4110600A1 - Vakuum-leistungsschalter sowie elektrode und elektrodenmaterial fuer einen solchen - Google Patents
Vakuum-leistungsschalter sowie elektrode und elektrodenmaterial fuer einen solchenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft einen Vakuum-Leistungsschalter sowie
eine Elektrode und Elektrodenmaterialien für einen solchen.
Ein derartiger Schalter soll ausgezeichnete Eigenschaften
beim Unterbrechen hoher elektrischer Ströme haben und er
soll in zufriedenstellender Weise spannungsfest sein.
Eine Elektrode für einen Vakuum-Leistungsschalter muß fol
gende Eigenschaften aufweisen:
- 1) großes Schaltvermögen,
- 2) hohe Stehspannung (Durchschlagfestigkeit),
- 3) kleiner Kontaktwiderstand (ausgezeichnetes elektrisches Leitvermögen),
- 4) Verhinderung von Schweißstellen,
- 5) geringe Abnutzung der Kontaktstellen,
- 6) geringer Schaltstrom (chopping current).
Da es schwierig ist, alle vorstehend angegebenen Eigen
schaftsanforderungen gleichzeitig zu erfüllen, wurden bisher
Elektroden verwendet, die nur den notwendigen Eigenschafts
anforderungen genügen, während die anderen Eigenschaften
vernachlässigt wurden.
Bisher wurden verschiedene Materialien wie Cu-Bi, Cu-Pb, Cu-Co-Bi,
Cu-Co-Pb, Cu-Cr-Bi, Cu-Cr-Pb zum Herstellen von Elek
troden für Vakuum-Leistungsschalter beschrieben. Da all die
se Elektrodenmaterialien jeweils niedrigschmelzende Metalle
enthalten, verflüchtigen sich Blei oder Wismut und verdamp
fen bei wiederholtem Unterbrechen hoher elektrischer Ströme,
wodurch die Stromschalteigenschaften und das Widerstandsver
mögen gegen Verschweißen erheblich verbessert werden. Jedoch
verschlechtert sich die Stehspannung und/oder die Schalt
eigenschaft. Dementsprechend kann keines der oben angegebe
nen Materialien verwendet werden, um einen Strom bei hoher
Spannung zu unterbrechen.
Als Material zum Herstellen einer Elektrode zum Unterbrechen
großer Ströme bei hoher Spannung wurden im wesentlichen Cu-
Cr-Materialien angegeben und trotz ihrer verschlechterten
Eigenschaften in bezug auf Verschweißungs-Standfestigkeit
oder Stromschalteigenschaften im Vergleich zu Elektroden mit
niedrigschmelzenden Metallen verwendet. Materialien dieses
Typs haben das Problem, daß es nicht einfach ist, gleichmä
ßige Eigenschaften zu erhalten, was vom Verfahren zum Her
stellen des Elektrodenmaterials oder von einer Entladung von
Gas oder dergleichen vom Elektrodenmaterial während des
Stromunterbrechungsbetriebs herrührt. Noch schlimmer ist,
daß eine Begrenzung in den Stromunterbrechungseigenschaften
vorliegt. Demgemäß wurde die Form der Elektrode so ausge
staltet, daß ein elektrischer Strom in gewünschter Weise
entlang der Oberfläche der Elektrode fließt. Als Folge des
sen wird ein magnetisches Feld so erzeugt, daß es einen gro
ßen Bogenstrom unterbricht, wodurch die Stromunterbrechungs
eigenschaften verbessert wurden. Darüber hinaus wurden an
dere Elektrodenmaterialien angegeben und in der Praxis ver
wendet, die im wesentlichen Cu und Cr als Hauptkomponenten
enthalten und in solcher Weise hergestellt werden, daß Co,
Ta, Ti, W, FeV oder dergleichen als dritte Elemente hinzuge
fügt werden.
Vorstehend angegebene Materialien sind z. B. in den japani
schen Patentoffenlegungen 59-91 617, 61-1 40 011, 62-2 64 526 und
den japanischen Patentveröffentlichungen 63-36 090 und
1-57 457 angegeben.
Es bestand jedoch der Wunsch, Vakuum-Leistungsschalter für
noch höhere Spannungen und/oder mit kleineren Abmessungen
zur Verfügung zu haben. Jedoch ist es mit den herkömmlichen
Elektrodenmaterialien nicht in zufriedenstellender Weise
möglich, diese Wünsche zu befriedigen. Es bestand daher der
Wunsch nach verbesserten Materialien.
Dementsprechend ist es eine Aufgabe der Erfindung, die vor
stehend beschriebenen Probleme zu überwinden, wie sie bei
der herkömmlichen Technik auftreten, und ein Material für
eine Elektrode in einer Vakuumschalteinrichtung anzugeben
wie auch eine derartige Schalteinrichtung, die dazu in der
Lage ist, einen großen Strom zu unterbrechen und die dabei
ausgezeichnete Stehspannungseigenschaften aufweist und über
gleichmäßige Unterbrechungseigenschaften verfügt.
Um diese Aufgabe zu lösen, weist eine erfindungsgemäße Elek
trode für einen Vakuum-Leistungsschalter folgende Zusammen
setzung auf: eine Hauptkomponente, die zumindest entweder
Kupfer oder Chrom ist, und 0,1 bis 40 Gew.% Vanadium als
Rest, wobei die Menge an Vanadium geringer ist als die von
Chrom. Eine andere erfindungsgemäße Elektrode für einen Va
kuum-Leistungsschalter weist folgende Zusammensetzung auf:
eine Hauptkomponente, die zumindest entweder 10 bis 80 Gew.%
(vorzugsweise 40 bis 80 Gew.%) Kupfer oder 10 bis 80 Gew.%
(vorzugsweise 10 bis 50 Gew.%) Chrom ist, und 0,1 bis 40
Gew.% Vanadium als Rest, wobei die Menge an Vanadium gerin
ger ist als die von Chrom. Vorzugsweise wird die Elektrode
so hergestellt, daß Chrom mit 10 bis 45 Gew.%, Vanadium mit
0,5 bis 30 Gew.% und Kupfer als Rest vorhanden ist. Insbe
sondere ist es von Vorteil, die Zusammensetzung so herzu
stellen, daß Chrom mit 20 bis 40 Gew.%, Vanadium mit 2 bis
20 Gew.%, besonders bevorzugt zwischen 3 und 10 Gew.%, und
Kupfer als Rest vorhanden ist. Vorzugsweise sind in der
Elektrode Kupfer, Chrom und Vanadium als chromreiche Phase,
vanadiumreiche Phase und/oder Legierungsphasen vorhanden.
Eine andere erfindungsgemäße Elektrode für einen Vakuum-Lei
stungsschalter weist folgende Zusammensetzung auf: eine
Hauptkomponente, die zumindest entweder Kupfer oder Chromium
ist, und Vanadium mit nicht mehr als 40 Gew.% (vorzugsweise
2 bis 40 Gew.%) als Rest, wobei das Vanadium einer Kupfer
matrix in einer Menge zugesetzt wird, die die Menge über
schreitet, die in fester Lösung vorhanden sein kann, welche
Menge in der Kupfermatrix in Form einer vanadiumreichen
Phase oder einer chromreichen Legierungsphase oder einer Cu-
Cr-V-Legierungsphase ausgefällt wird. Vorzugsweise wird das
Elektrodenmaterial auf solche Weise hergestellt, daß Chrom
der Kupfermatrix mit einer Menge zugeführt wird, die dieje
nige Menge überschreitet, die in fester Lösung vorhanden
sein kann, welche Menge in der Kupfermatrix in Form einer
chromreichen Phase ausgefällt wird.
Eine andere erfindungsgemäße Elektrode für einen Vakuum-Lei
stungsschalter weist folgende Zusammensetzung auf: Kupfer
als Hauptkomponente; 10 bis 60 Gew.% Chrom und bis zu 40
Gew.%, vorzugsweise 2 bis 40 Gew.%, Vanadium, wobei eine
Kupfermatrix mit einer Struktur vorliegt, in der eine chrom
reiche Phase und/oder eine vanadiumreiche Phase kristalli
siert sind. Vorzugsweise wird die Elektrode so hergestellt,
daß sie mindestens ein niedrigschmelzendes Metall aus der
Gruppe mit Bi, Pb, Te, Sb, Tl, Se, Ce, Ca und Ag mit 15
Gew.% oder weniger aufweist.
Die oben genannte Aufgabe kann dadurch gelöst werden, daß
eine Elektrode zur Verwendung in einem Vakuum-Leistungs
schalter eine solche Struktur aufweist, daß Chrom und Kupfer
die Hauptkomponenten sind, wobei beide vorzugsweise nicht
weniger als 50 Gew.% ausmachen, mit 0,1 bis 20 Gew.% Nb, 0,1
bis 20 Gew.% V und zufälligen Verunreinigungen als weiteren
Komponenten.
Ein erfindungsgemäßer Vakuum-Leistungsschalter mit einer
feststehenden Elektrode, einer beweglichen Elektrode, die so
angebracht ist, daß sie sich zur feststehenden Elektrode hin
und von dieser weg bewegen kann, und mit einem Isoliergehäu
se, das die zwei Elektroden im Vakuum aufnimmt, ist so aus
gebildet, daß die feststehende und die bewegliche Elektrode
entweder aus einer ersten Elektrode gebildet sind, deren
Hauptkomponenten Kupfer und Chrom ist, und die als Rest im
wesentlichen 40 Gew.% oder weniger Vanadium aufweist, oder
einer zweiten Elektrode gebildet sind, die Chrom und Kupfer
als Hauptbestandteile aufweist, mit 0,1 bis 20% Niob, 0,1
bis 20% Vanadium und zufälligen Verunreinigungen. Die zwei
te Elektrode enthält Chrom im wesentlichen als Rest, 16 bis
48 Gew.% Kupfer, 0,1 bis 20 Gew.% Niob und 0,1 bis 20 Gew.%
Vanadium. Die Matrix mit Ausnahme von Niob und Vanadium
weist ein Verhältnis von Chrom zu Kupfer in solcher Weise
auf, daß Chrom der Hauptbestandteil ist und das Gewichtsver
hältnis von Chrom zu Kupfer 1 : 1 bis 4 : 1 beträgt, wobei die
Gesamtmenge von Niob und Vanadium nicht mehr als 20 Gew.%
ist. Darüber hinaus sind Chrom, Kupfer, Niob und Vanadium
jeweils als reine Metalle oder Legierungen verteilt. Darüber
hinaus werden Niob und Vanadium dem Chrom und Kupfer in sol
chen Mengen hinzugefügt, die eine Grenze überschreiten, die
der Menge entspricht, die in einer festen Lösung vorhanden
sein kann, so daß sie als niobreiche Phase, vanadiumreiche
Phase, Cr-Nb-Legierungsphase, Cr-V-Legierungsphase oder Nb-
V-Legierungsphase ausgefällt werden.
Jedes der vorstehend angegebenen Elektrodenmaterialien kann
mit Hilfe eines Vakuumschmelzverfahrens, eines Metallpulver
sinterverfahrens oder eines Infiltrationsverfahrens (Auf
lagetränkungsverfahren) hergestellt werden. Darüber hinaus
kann ein deutlicher Effekt erzielt werden, wenn hohe Drücke
oder hohe Temperaturen angewendet werden, wie HP (Hot Pres
sing = Heißpressen), CIP (Cold Isostatic Pressing = iso
statisches Druckverfahren bei niederer Temperatur) oder HIP
(Hot Isostatic Pressing = isostatisches Druckverfahren bei
hoher Temperatur), nachdem der Metallpulversinterprozeß oder
der Infiltrierprozeß abgeschlossen wurden. Darüber hinaus
kann das erfindungsgemäße Elektrodenmaterial durch ein Plas
masprühverfahren hergestellt werden.
Wenn Chrom mit 20% oder mehr vorhanden ist, wird das Elek
trodenmaterial vorzugsweise auf solche Weise hergestellt,
daß ein Skelett durch Sintern eines gemischten Pulvers mit
Vanadium hergestellt wird und dann das poröse Skelett mit
Kupfer infiltriert wird. Wenn die Menge 20% oder weniger
ist, wird das Elektrodenmaterial vorzugsweise durch Schmel
zen hergestellt.
Bisher existierte keine Elektrode, die gleichzeitig in zu
friedenstellender Weise hohe Stehspannung, gute Unterbre
chungseigenschaft für hohe Ströme und geringe Spannungsstoß
charakteristik aufwies. Gemäß der Erfindung können Charakte
ristiken jedoch in einem weiten Bereich eingestellt werden,
wenn das Verhältnis von Kupfer, Chrom, Vanadium und Niob ge
eignet gewählt wird.
Beim Stand der Technik kann sich die Oberfläche der herkömm
lichen Cu-Cr-Elektrode durch wiederholtes Auftreten der
Hitze des unterbrechenden Bogens aufrauhen, was auf den
niedrigen Schmelzpunkt von Kupfer zurückzuführen ist, das
die Hauptkomponente des herkömmlichen Cu-Cr-Elektrodenmate
rials ist. Daher entstehen unerwünschte, undefinierte Vor
sprünge, die zu einer Konzentration elektrischer Felder füh
ren. Infolgedessen verringert sich die Stehspannung beim
Stand der Technik.
Elektrodenmaterialien, bei denen Vanadium eine feste Lösung
in Kupfer bildet, weist einen Schmelzpunkt auf, der um das
1,5-fache höher ist als der von Kupfer. Darüber hinaus ist
die Leitfähigkeit von Vanadium und/oder Niob selbst dann
nicht erheblich verschlechtert, wenn Vanadium und/oder Niob
eine feste Lösung mit Kupfer bildet. Infolgedessen kann ein
Schmelzen eines Kontaktes aufgrund der Bogenhitze verhindert
werden, und es tritt keine aufgerauhte Oberfläche am Kontakt
auf (der Oberfläche, an der zwei Elektroden in Kontakt mit
einander kommen). Daher kann eine glatte Oberfläche immer
aufrechterhalten werden. Dies führt zum Verringern der Er
zeugung von Vorsprüngen, die der Grund für die Konzentration
elektrischer Felder sind. Infolgedessen kann die Unterbre
chungseigenschaft verbessert werden. Ein erfindungsgemäßer
Vakuum-Leistungsschalter weist daher zufriedenstellende Un
terbrechungseigenschaften für hohe Ströme auf, die das 1,8fache
im Vergleich zu denen eines herkömmlichen Cr-Cu-Elek
trodenmaterials sind. Da das hinzugefügte Vanadium ausge
zeichnete elektrische Leitfähigkeit aufweist, werden darüber
hinaus zufriedenstellende Isolationswiederherstelleigen
schaften und ausgezeichnete Wirkung beim Unterbrechen hoher
Ströme erzielt.
Elementares Vanadium mit einer Menge, die die Grenze über
schreitet, mit der es in einer festen Lösung enthalten sein
kann, wird, ähnlich wie gleichzeitig hinzugeführtes elemen
tares Chrom, in der Kupfermatrix ausgefällt. Das ausgefällte
elementare Vanadium wird als vanadiumreiche Phase aufgrund
der Ausfällung verteilt oder als Cr-V-Legierungsphase und
Cu-Cr-V-Legierungsphase. Die vanadiumreiche Phase, die Cr-V-Leg
ierungsphase und die Cu-Cr-V-Legierungsphase, die auf
solche Weise in der vorstehend beschriebenen Matrix ausge
fällt werden, sind dazu in der Lage, mit der chromreichen
Phase zu koexistieren, die individuell ausgefällt wurde, In
folge der Wechselwirkung zwischen diesen, werden die Steh
spannungseigenschaften verbessert.
Da das erfindunsgemäße Elektrodenmaterial dadurch herge
stellt wird, daß Vanadium oder sowohl Vanadium wie auch Niob
hinzugefügt wird, werden im wesentlichen gleichmäßige Eigen
schaften in bezug auf das Unterbrechen großer Ströme und in
bezug auf die Stehspannung erhalten. Daher zeigt das erfin
dungsgemäße Elektrodenmaterial stabilere Eigenschaften als
das herkömmliche Cu-Cr-Elektrodenmaterial. Wenn nur Vanadium
zugesetzt wird, können ausgezeichnete Eigenschaften erhalten
werden, wenn die Zusammensetzung so gewählt wird, daß Kupfer
20 bis 80 Gew.%, Chrom 20 bis 70 Gew.% und Vanadium nicht
mehr als 40 Gew.%, vorzugsweise 2 bis 40 Gew.%, ausmacht.
Wenn sowohl Vanadium wie auch Niob hinzugefügt werden, wer
den sie mit 20 Gew.% oder weniger zugegeben, um die Steh
spannung und die Unterbrechungseigenschaften für hohe Ströme
zu verbessern. Wenn mehr als 20 Gew.% zugegeben werden, ver
schlechtert sich die elektrische Leitfähigkeit, was dazu
führt, daß sich die Charakteristik der Elektrode verschlech
tert. Der Grund, weswegen Vanadium und Niob mit mehr als
20 Gew.% die Charakteristiken verschlechtern, ist der, daß
die Oberfläche in eine nichtleitende umgewandelt wird, wenn
die zwei Elektroden einander kontaktieren. Ein zufrieden
stellender Effekt wird auch dann nicht erhalten, wenn der
Anteil weniger als 0,1% ist. Vorzugsweise werden Vanadium
und Niob mit 0,5 bis 10% zugegeben, am besten mit 3 bis
7%. Das Elektrodenmaterial, in dem Niob und Vanadium feste
Lösungen in Kupfer bilden, weist einen Schmelzpunkt auf, der
um das 1,5fache höher ist als der von Kupfer. Darüber hin
aus wird die Leitfähigkeit von Niob und Vanadium nicht er
heblich verschlechtert, wenn sie feste Lösungen in Kupfer
bilden. Infolgedessen kann ein Verschweißen an der Kontakt
stelle aufgrund der Bogenhitze vermieden werden, und es
tritt keine aufgerauhte Kontaktfläche auf. Daher wird die
Erzeugung von Vorsprüngen, die zur Konzentration elektri
scher Felder führen, verringert. Infolgedessen können die
Unterbrechungseigenschaften verbessert werden.
Chrom wird in einer Menge zugegeben, die größer ist als die
anderer Elemente, um die Vakuum-Stehspannung zu verbessern.
Wenn Vanadium und Niob zugegeben werden, wird Chrom vorzugs
weise mit 55 bis 70% zugefügt, am besten mit 55 bis 65%.
Kupfer wird zugegeben, um die elektrische Leitfähigkeit, die
Unterbrechungseigenschaft und die Stehspannung zu verbes
sern. Wenn Vanadium und Niob zugegeben werden, ist es von
Vorteil, Kupfer mit 16 bis 48% zuzugeben, insbesondere mit
20 bis 40% und am besten mit 28 bis 32%.
Wenn Niob und Vanadium zugegeben werden und dies mit Mengen
erfolgt, die größer sind als die Menge, die in einer festen
Lösung aufgenommen werden kann, erfolgt ähnlich wie beim
gleichzeitig zugegebenen Bestandteil Chrom ein Ausfällen in
der Kupfermatrix. Die ausgefällten Elemente Niob und Vana
dium werden als niobreiche bzw. vanadiumreiche Phase ver
teilt, oder sie sind als Cr-Nb-Legierungsphase, Cr-V-Legie
rungsphase und Nb-V-Legierungsphase vorhanden. Die niobrei
che Phase und die vanadiumreiche Phase, die Cr-Nb-Legie
rungsphase, die Cr-V-Legierungsphase und die Nb-V-Legie
rungsphase, die auf diese Weise in der oben angegebenen Ma
trix ausgefällt wurden, können miteinander koexistieren. In
folge ihrer Wechselwirkung kann die Stehspannung verbessert
werden.
Da das erfindungsgemäße Elektrodenmaterial dadurch herge
stellt wird, daß Vanadium oder Vanadium und Niob zugegeben
werden, können im wesentlichen gleichmäßige Stehspannungs
eigenschaften und Unterbrechungseigenschaften für große
Ströme erzielt werden. Daher zeigt das erfindungsgemäße
Elektrodenmaterial stabilere Eigenschaften, als sie mit dem
herkömmlichen Cu-Cr-Elektrodenmaterial erzielbar sind.
Wenn sowohl Vanadium wie auch Niob zugegeben werden, erfolgt
dies mit 20 Gew.% oder weniger, um die Stehspannung und die
Unterbrechungseigenschaften für hohe Ströme zu verbessern.
Wenn mehr als 20 Gew.% zugegeben werden, wird die elektri
sche Leitfähigkeit verringert, was dazu führt, daß sich die
Eigenschaften der Elektrode verschlechtern. Der Grund, wes
wegen Vanadium und Niob mit mehr als insgesamt 20 Gew.% die
Eigenschaften verschlechtern, liegt darin, daß die Oberflä
che nichtleitend wird, wenn die zwei Elektroden miteinander
kontaktieren. Darüber hinaus wird ein zufriedenstellender
Effekt dann nicht erzielt, wenn weniger als 0,1% zugegeben
werden. Vorzugsweise werden Vanadium und Niob mit 0,5 bis
10% zugegeben, am besten mit 3 bis 7%.
Weitere Aufgaben, Eigenschaften und Vorteile der Erfindung
gehen aus der folgenden Beschreibung, die sich teilweise auf
Figuren stützt, näher hervor.
Fig. 1 ist ein Querschnitt, der einen Vakuum-Leistungsschal
ter zeigt, der einem Test für Unterbrechungseigenschaften
unterzogen werden soll;
Fig. 2 ist eine Photographie betreffend eine Metallstruktur
100fache Vergrößerung) eines Materials, das durch Vakuum
schmelzen als Legierung mit 20 Gew.% Cr, 10 Gew.% V und
70 Gew.% Cu hergestellt wurde;
Fig. 3 und 4 sind Photographien von Metallstrukturen einer
Cu-Cr-V-Legierung, die durch Sintern und ein Kupferinfil
trierverfahren hergestellt wurden;
Fig. 5 ist eine Photographie einer Metallstruktur einer Cr-
Cu-V-Legierung, die durch ein Plasmasprühverfahren herge
stellt wurde.
Fig. 6 ist eine Photographie einer Metallstruktur eines
Elektrodenmaterials mit Cu und 60 Gew.% Cr, als Vergleichs
beispiel,;
Fig. 7 ist ein Diagramm, das den Zusammenhang zwischen der
Menge zugefügten Vanadiums und der Stromunterbrechungseigen
schaft zeigt;
Fig. 8 ist ein Diagramm, das den Zusammenhang zwischen der
Menge zugefügten Vanadiums und der Stehspannung darstellt;
Fig. 9 ist ein Diagramm, das den Zusammenhang zwischen der
Menge zugefügten Vanadiums und des Schaltvermögens (chopping
capacity) darstellt;
Fig. 10 ist ein Diagramm, das den Zusammenhang zwischen der
Stehspannung und der Menge an Chrom aufzeigt, die zu einer
Cu-Legierung mit 5 Gew.% V zugefügt wurde;
Fig. 11 ist eine Photographie einer Metallstruktur einer Le
gierung mit 87,5 Gew.% Cr und Cu (50Cr-50Cu)-10Nb-2,5 V, die
durch Infiltrieren gemäß Beispiel 4 der Erfindung herge
stellt wurde, um eine Elektrode zur Verwendung in einem Va
kuum-Leistungsschalter zu erhalten;
Fig. 12 ist eine Photographie einer Metallstruktur einer Le
gierung mit 77,5 Gew.% Cr und Cu (70Cr-30Cu)-20Nb-2,5 V, die
mit einem isostatischen Druckverfahren bei hoher Temperatur
gemäß Beispiel 4 der Erfindung hergestellt wurde;
Fig. 13a und 13b sind Photographien von Metallstrukturen für
die Legierung von Fig. 12 nach einem Unterbrechungstext, wo
bei Fig. 13a eine Aufnahme bei 200facher und Fig. 13b eine
Aufnahme bei 500facher Vergrößerung ist;
Fig. 14 ist ein Diagramm, das den Zusammenhang zwischen zu
gefügtem Niob und der Stehspannung darstellt;
Fig. 15 ist ein Diagramm, das die Stehspannung eines Mate
rials veranschaulicht, das gemäß Beispiel 4 durch Zufügen
von Niob und Vanadium hergestellt wurde;
Fig. 16 ist ein Diagramm, das den Zusammenhang zwischen der
Menge zugefügten Niobs und der Unterbrechungseigenschaft
darstellt; und
Fig. 17 ist ein Diagramm, das die Unterbrechungseigenschaf
ten eines Materials gemäß Beispiel 4 darstellt, das durch
Zufügen von Niob und Vanadium hergestellt wurde.
Fig. 1 zeigt den Aufbau eines Vakuumventils zur Verwendung
in einem Test auf Stromunterbrechungseigenschaften, der für
unterschiedliche Elektrodenmaterialien ausgeführt werden
kann. Gemäß Fig. 1 verfügt das Vakuumventil über einen Be
hälter aus einem zylindrischen keramischen Isoliergehäuse 1
und rostfreien Anschlußplatten 2 und 3. Der Druck im Vakuum
ventil wird auf Hochvakuumpegel von 10-5 bis 10-8 Torr ge
halten. Der so aufgebaute Behälter weist ein Paar Elektroden
auf, die aus erfindungsgemäßem Material bestehen. Das Paar
Elektroden verfügt über eine feststehende Elektrode 7, die
auf einem Fuß 4 aus Kupfer befestigt ist, und eine bewegli
che Elektrode 8, die an einem anderen Fuß 5 aus Kupfer befe
stigt ist, wobei sich die Elektrode 8 über einen Balg bewe
gen kann. Eine zylindrische Abschirmung 6 dient dazu, daß
verdampftes und gestreutes Elektrodenmaterial an der Innen
fläche des Isoliergehäuses 1 anhaften kann, wenn Elektroden
material durch den Unterbrechungsbogen verdampft oder zer
stäubt wird. Das Vakuumventil wurde so ausgeführt, daß jede
der zwei Elektroden 7 und 8 einen Durchmesser von 20 mm auf
wies. Die folgenden Tests wurden ausgeführt. Jede der Elek
troden war scheibenförmig und war mit dem Kupferfuß verlö
tet.
Ein Stehspannungstest in unterschiedlichen elektrischen
Eigenschaftstests wurde auf solche Weise ausgeführt, daß ein
Wechselstrom von 300 A 10mal unterbrochen wurde und dann
eine impulsförmige Spannung in Schritten von 5 kV erhöht
wurde, bis ein dielektrischer Durchbruch zwischen den Elek
troden erfolgte. Die Entladungsspannung beim dielektrischen
Durchbruch wurde gemessen.
Ein Unterbrechungstest wurde auf solche Weise ausgeführt,
daß ein Wechselstrom durch die Elektroden mit dem Durchmes
ser von 20 mm unterbrochen wurde, der schrittweise jeweils
um 500 A erhöht wurde, um den Stromschwellwert zu erhalten,
bei dem ein Unterbrechen nicht mehr möglich war. Darüber
hinaus wurde ein Schaltstromtest dadurch ausgeführt, daß der
Schaltstrom, der beim Unterbrechen eines kleinen Stroms von
2 bis 8 A floß, 100mal gemessen wurde, um den Maximal- und
den Minimalwert zu erhalten.
Fig. 2 ist eine Photographie einer Metallstruktur (bei 100facher
Vergrößerung) eines Materials gemäß Beispiel 1 der
Erfindung, das durch Vakuumschmelzen einer Cr-V-Cu-Legierung
mit 20 Gew.%, 10 Gew.% bzw. 70 Gew.% hergestellt wurde. Die
Legierung wurde bei einer Temperatur zwischen 1600 und 1800°C
geschmolzen, d. h. in einem Zustand, bei dem Vanadium da
zu in der Lage war, eine feste Lösung im Kupfer zu bilden.
Als Ergebnis einer metallographischen Analyse ergab sich,
daß eine feste Lösung von 3 bis 4% Vanadium und eine feste
Lösung einer kleinen Menge von Chrom in einer Kupfermatrix
ausgebildet wurden. Darüber hinaus wurden Chrom und Vanadium
in Mengen, die die lösliche Grenze überschritten, in der Cu-
Matrix ausgefällt.
Die Fig. 3 und 4 sind Photographien von Metallstrukturen
(bei 100facher Vergrößerung) einer Cu-Cr-V-Legierung gemäß
Beispiel 2 der Erfindung. Die Legierung wurde durch Infil
trieren eines porösen Sinterkörpers aus Chrom und Vanadium
mit Kupfer hergestellt. Fig. 3 zeigt eine Cr-Cu-V-Legierung
mit 48 Gew.%, 48 Gew.% bzw. 4 Gew.%, während Fig. 4 eine
derartige Legierung mit 30 Gew.%, 50 Gew.% bzw. 20 Gew.%
zeigt. Jede der vorstehend angegebenen Legierungen wurde
durch Schmelzen und Sintern eines gemischten Pulvers von Cr-
Cu-V und anschließendes Infiltrieren von Kupfer hergestellt.
Die Sintertemperatur betrug etwa 1100°C und die Temperatur,
bei der das Infiltrieren von Kupfer erfolgte, betrug etwa
1200°C. Es wurde festgestellt, daß die Menge an Vanadium
und Chrom, die über der Grenze für eine feste Lösung lag, in
Form einer vanadiumreichen Phase, einer chromreichen Phase,
einer Cr-V-Legierungsphase und einer Cu-Cr-V-Legierungsphase
ausgefällt wurde.
Fig. 3 ist eine Photographie (bei 100facher Vergrößerung)
der Metallstruktur einer Cu-Cr-V-Legierung gemäß Beispiel 3
der Erfindung. Sie wurde mit einem Plasmasprühverfahren her
gestellt. Es ist eine Bedeckung dargestellt, die durch Plas
masprühen eines gemischten Pulvers von Cr-5Cu-10V erhalten
wurde.
Gemäß Beispiel 4 wurden die Elektroden 7 und 8 für einen
Vakuum-Leistungsschalter dadurch hergestellt, daß ein Mate
rial verwendet wurde, dessen Hauptkomponente Cr war, und das
darüber hinaus Cu, Nb, V und zufällige Verunreinigungen ent
hielt.
Das Material für die Elektroden 7 und 8 wurde mit Hilfe
eines pulvermetallurgischen Verfahrens und eines Infiltrier
verfahrens hergestellt. D. h. Nb-Pulver einer Teilchengröße
von 200 bis 325 mesh, V-Pulver derselben Teilchengröße, Cu-Pul
ver einer Teilchengröße von 100 mesh oder weniger und Cr-Pul
ver einer Teilchengröße von 100 bis 325 mesh wurden im
Verhältnis 3,0 : 3,0 : 3,0 : 91 eingewogen, wenn eine Legierung
von 90Cr und Cu (60Cr-40Cu)-5Nb-5V (Gew.%) hergestellt wur
de. Sie wurden für eine Stunde mit Hilfe eines Mischers vom
V-Typ hergestellt, und das so erhaltene Mischpulver wurde in
eine Form vorgegebener Abmessung eingeschlossen und bei
einem Druck von 3 t/cm2 formgepreßt.
Der erhaltene kompakte Körper wurde bei 1100°C für zwei
Stunden in einer Wasserstoffatmosphäre gesintert, wodurch
ein zwischengesinterter Körper erhalten wurde.
Anschließend wurde ein Stück sauerstofffreies Kupfer auf den
zwischengesinterten Körper aufgelegt, und diese Gegenstände
wurden aufgeheizt und in Vakuum für eine Stunde bei 1220°C
gehalten. Dabei wurde der zwischengesinterte Körper vom
sauerstofffreien Kupfer infiltriert, wodurch das Material
für die Elektroden 7 und 8 erhalten wurde.
Fig. 11 ist eine Photographie (bei 100facher Vergrößerung)
einer Metallstruktur einer Legierung gemäß Beispiel 4 der
vorliegenden Erfindung mit 87,5 Cr und Cu (55Cr-45Cu)-10Nb-)
2,5V, welche Legierung durch Kombinieren des Pulversinter
verfahrens und des Cu-Infiltrierverfahrens hergestellt wur
de. Wie es aus der Strukturphotographie ersichtlich ist,
wurden niobreiche und vanadiumreiche Phasen gleichmäßig in
der Matrix (55Cr-45Cu) verteilt.
Gemäß Beispiel 5 wurden Elektroden 7 und 8 für einen Vakuum-
Leistungsschalter dadurch hergestellt, daß ein Material ver
wendet wurde, dessen Hauptkomponente Cr war und das darüber
hinaus Cu, Nb und V und zufällige Verunreinigungen enthielt.
Das Material für die Elektroden 7 und 8 wurde dadurch herge
stellt, daß sowohl ein pulvermetallurgisches Verfahren mit
einem Sinterprozeß wie auch ein isostatischer Druckprozeß
bei hoher Temperatur verwendet wurden. Nb-Pulver mit einer
Teilchengröße von 200 bis 325 mesh, V-Pulver derselben Teil
chengröße, Cu-Pulver mit einer Teilchengröße von 100 mesh
oder weniger und Cr-Pulver mit einer Teilchengröße von 100
bis 325 mesh wurden im Verhältnis 5 : 5 : 18 : 72 eingewogen, um
eine Legierung von 90Cr und Cu (80Cr-20Cu)-5Nb-5V (Gew.%) zu
erhalten. Das so erhaltene Mischpulver wurde in eine Form
vorgegebener Abmessung gegeben und bei einem Druck von
4 t/cm2 formgepreßt.
Der erhaltene kompakte Körper wurde bei 1100°C für zwei
Stunden in einer Wasserstoffatmosphäre gesintert, wodurch
ein zwischengesinterter Körper erhalten wurde.
Anschließend wurde der zwischengesinterte Körper vakuumdicht
in einem rostfreien Stahlrohr eingeschlossen und für zwei
Stunden auf 100°C gehalten. Anschließend wurde ein isosta
tischer Druckprozeß bei hoher Temperatur bei einem Druck von
2000 kg/cm2 ausgeführt, wodurch das Material für die Elek
troden erhalten wurde.
Fig. 12 ist eine Photographie einer Metallstruktur (bei 100facher
Vergrößerung) einer Legierung von 77,5 Cr und Cu
(70Cr-30Cu)-20Nb-2,5V, die durch Kombinieren des Pulversin
terverfahrens und des isostatischen Druckverfahrens bei ho
her Temperatur erhalten wurde. Wie es aus der Photographie
der Metallstruktur ersichtlich ist, wurden eine niobreiche
und eine vanadiumreiche Phase gleichmäßig in der Matrix
(70Cr-30Cu) verteilt.
Die Fig. 13a und 13b sind Querschnittsphotographien für Me
tallstrukturen einer Probe der in Fig. 12 dargestellten Le
gierung von 77,5 Cr und Cu (70Cr-30Cu)-20Nb-2,5V, welche Le
gierung dem Unterbrechungstest unterzogen wurde, wobei das
Fließen und Unterbrechen des elektrischen Stroms 50mal er
folgte. Fig. 13a zeigt eine Aufnahme bei 200facher Vergrö
ßerung und Fig. 13b eine schnellverfestigte Schicht bei 500facher
Vergrößerung. In den Photographien wurden geschmolze
ne und schnellverfestigte Schichten aufgrund der Bogenhitze
direkt unterhalb der Elektrokontaktoberfläche beobachtet.
Darüber hinaus wurden feine Kristallkörner in dieser Struk
tur beobachtet. Eine Analyse ergab, daß 1 bis 3% Vanadium
und Niob und eine kleine Menge Chrom als feste Lösung in
einer Cu-Matrix vorlagen, während Chrom, Vanadium und Niob
in Mengen, die die Löslichkeitsgrenze für die feste Lösung
überschritten, als chromreiche Phase, Cr-V-Legierungsphase,
Cr-Nb-Legierungsphase oder Nb-V-Legierungsphase ausgefällt
wurden.
Fig. 6 ist eine Photographie einer Metallstruktur einer her
kömmlichen Cu-Cr-Legierung, wie sie zum Herstellen für Elek
troden für ein Vergleichsbeispiel verwendet wurde. Die her
kömmliche Cu-Cr-Legierung für das Vergleichsbeispiel war
eine Legierung mit 60 Gew.% Cr und 40 Gew.% Cu, die so her
gestellt wurde, daß 5 Gew.% Cu-Pulver und 95 Gew.% Cr-Pulver
gemischt wurden, das Mischpulver zwischengesintert wurde, um
eine Dichte des Körpers von 65% zu erhalten, und dann ein
Infiltrieren mit Kupfer erfolgte.
Fig. 7 ist ein Diagramm, das die Ergebnisse eines Tests
zeigt, wie er mit Hilfe des Vakuumventils von Fig. 1 ausge
führt wurde, um die Beziehung zwischen der Menge zugefügten
Vanadiums und der Unterbrechungseigenschaft zu erhalten. Vor
dem Test wurde die Oberfläche jeder Elektrode dadurch stabi
lisiert, daß 50mal Stromfluß mit anschließendem Unterbre
chen bei einer Spannung unterhalb der Stehspannung der Elek
trode in Hochvakuum bei 10-9 Torr erfolgte, wobei ein Bogen
zwischen den Elektroden 7 und 8 erzeugt wurde. In anderen
Tests als diesem wurde dieselbe Vorbehandlung vor den unten
beschriebenen Tests ausgeführt. Wegen der Vorbehandlung wur
de eine abgeschreckt verfestigte Schicht mit feinen Kri
stallkörnern auf der Oberfläche jeder Elektrode ausgebildet.
Da festgestellt wurde, daß ein Elektrodenmaterial mit einer
binären Cu-Cr-Legierung ausgezeichnete Eigenschaften auf
wies, wenn sich die Menge von Cr im Bereich von 40 bis 60
Gew.% befand, wurde als Vergleichsbeispiel eine Legierung
von 60 Gew.% Cr und 40 Gew.% Cu verwendet. Auch das Ge
wichtsverhältnis von Cr zu Cu im erfindungsgemäßen Elektro
denmaterial wurde immer auf denselben konstanten Wert
(= 60 : 40) eingestellt. Unter diesen Bedingungen wurden die
Änderungen der Eigenschaften der Legierungen abhängig von
Änderungen in der Menge von zugefügtem Vanadium untersucht.
Die Ordinate des Diagramms in Fig. 7 zeigt Werte, die auf
einen Wert 1 bezogen sind, der als charakteristischer Wert
für die herkömmliche Cu- 60 Gew.% Cr-Legierung verwendet
wurde. Wie aus Fig. 7 ersichtlich, verbesserte sich die Un
terbrechungseigenschaft der Cr-Cu-V-Legierung der Beispiele
1, 2 und 3 der Erfindung mit der Menge zugefügten Vanadiums.
Wenn Vanadium mit 7 bis 10 Gew.% zugefügt wurde, verbesserte
sich die Unterbrechungseigenschaft auf das 1,9fache im Ver
gleich zum herkömmlichen Material. Die Unterbrechungseigen
schaft verschlechterte sich jedoch allmählich, wenn Vanadium
mit mehr als 10 Gew.% zugesetzt wurde. Deutliche Verschlech
terung trat bei 15 Gew.% Vanadium oder mehr auf.
Fig. 8 ist ein Diagramm, das die Ergebnisse eines Tests zei
gen, der ausgeführt wurde, um die Beziehung zwischen der
Menge zugefügten Vanadiums und der Stehspannung zu untersu
chen. Die Figur zeigt auch das Ergebnis der Beziehung zwi
schen der Stehspannung und der Menge an FeV (55 Gew.% V-Le
gierung), die statt V zugefügt wurde. Die oben angegebenen
Testproben wurden mit dem Verfahren gemäß Beispiel 2 herge
stellt. Wie aus Fig. 8 ersichtlich, treten bei der Elektro
de, die durch Hinzufügen reinen Vanadiums hergestellt wurde,
keine großen Unterschiede gegenüber dem herkömmlichen Mate
rial (Cu- 60 Gew.% Cr-Legierung) auf, wenn die Menge an Vana
dium 0,5 Gew.% oder weniger beträgt. Die Stehspannung ver
besserte sich jedoch mit der Menge zugefügten Vanadiums in
solcher Weise, daß bei einer Vanadiummenge von 25 bis 30
Gew.% die Stehspannung etwa das 1,8fache derjenigen für die
herkömmliche Elektrode betrug. Wenn noch mehr Vanadium hin
zugefügt wurde, verbesserten sich die Eigenschaften nicht
wesentlich, wobei die Stehspannungseigenschaften nicht be
einflußt waren.
Die Stehspannung der Elektrode, die durch Hinzufügen von FeV
(Fe-55 Gew.%-V-Legierung) anstelle des Hinzufügens von Vana
dium hergestellt wurde, zeigte eine Verbesserung auf das
1,4fache im Vergleich zum herkömmlichen Material, wenn die
Menge an hinzugefügtem FeV 10 Gew.% betrug. Die Stehspannung
verbesserte sich jedoch auch dann nicht, wenn die Menge an
FeV auf mehr als 10 Gew.% erhöht wurde. Es ist ersichtlich,
daß die Elektrode mit hinzugefügtem FeV schlechtere Steh
spannungseigenschaften aufweist als die Elektroden gemäß den
Beispielen 1, 2 und 3, bei denen reines Vanadium zugefügt
wurde. Darüber hinaus wies das Material mit 10 bis 30 Gew.%
FeV unzufriedenstellende rauhe Oberflächen im Vergleich zum
herkömmlichen Material auf, nachdem der oben beschriebene
Test abgeschlossen war. Weiterhin hatte sich beim Material
mit hinzugefügtem FeV die elektrische Leitfähigkeit (IACS%)
nach Abschluß der Tests verschlechtert. Es wird angenommen,
daß FeV aufgrund der Bogenhitze während der Tests gelöst
wurde und daß elementares Eisen in eine feste Lösung in Cu
ging.
Fig. 9 zeigt die Beziehung zwischen der Menge zugefügten Va
nadiums und dem Ergebnis des Stromschalttests. Wie deutlich
erkennbar, wurde die beste Verbesserung erzielt, wenn Vana
dium mit 5 bis 10 Gew.% vorhanden war.
Fig. 10 zeigt die Beziehung zwischen der Menge zugefügten
Chroms und der Stehspannung für den Fall, daß die Mengen an
zugefügtem Vanadium und Kupfer im Elektrodenmaterial einen
konstanten Wert von 5 Gew.% bzw. 95 Gew.% aufwiesen. Wie aus
Fig. 10 ersichtlich, lag kein deutlicher Unterschied zum
herkömmlichen Material vor, wenn die Menge zugefügten Chroms
10 Gew.% oder weniger war. Wenn jedoch die Menge erhöht wur
de, verbesserte sich die Stehspannung auf das 1,5fache im
Vergleich zum herkömmlichen Material, wenn das Material 40
Gew.% Cr enthielt.
Obwohl in den Diagrammen nicht dargestellt, wurde herausge
funden, daß ähnlich verbesserte oder noch bessere Unterbre
chungseigenschaften und Stehspannungseigenschaften mit ande
ren Elektrodenmaterialien erhalten werden können, die minde
stens ein Metall aus einer Anzahl niedrigschmelzender Metal
le wie Bi, Pb, Te, Sb, Tl, Se, Ce, Ca und Ag enthalten. Wenn
jedoch mindestens eines der niedrigschmelzenden Metalle mit
mehr als 15 Gew.% zugefügt wurde, verschlechterte sich die
Unterbrechungseigenschaft, da die Kontaktoberfläche übermä
ßig aufgerauht wurde. Es wurde festgestellt, daß die vor
stehend genannten Zusätze vorzugsweise mit 2 bis 7 Gew.% zu
gefügt werden.
Fig. 14 zeigt die Ergebnisse eines Stehspannungstests für
ein Elektrodenmaterial, das durch Zufügen von Niob zu ver
schiedenen Cu-Cr-Legierungen erhalten wurde. Die Tests wur
den mit dem Vakuumventil gemäß Fig. 1 ausgeführt. Fig. 15
zeigt die Ergebnisse eines Stehspannungstests eines Elektro
denmaterials, das durch Zufügen von Niob und Vanadium zu den
verschiedenen Cu-Cr-Legierungen erhalten wurde. Wiederum
wurde das Vakuumventil gemäß Fig. 1 verwendet. Wie aus den
Fig. 14 und 15 ersichtlich, wurde die beste Stehspannung
dann erhalten, wenn die Menge zugefügten Niobs zu den ver
schiedenen Cr-Cu-Matrizen 5 bis 10 Gew.% betrug und die Men
ge an zugefügtem Vanadium 10 Gew.% betrug, wobei die Steh
spannung auf das 1,9- bis 2,0fache derjenigen von 50 Gew.%
Cu, 50 Gew.% Cr erhöht wurde, welches Material als Ver
gleichsmaterial verwendet wurde. Wenn jedoch jeweils Niob
und Vanadium mit mehr als 10 Gew,% zugefügt wurden, ver
schlechterte sich die Stehspannung, wie in Fig. 15 darge
stellt. Wenn jeweils Niob und Vanadium mit 30 Gew.% zugefügt
wurden, verschlechterte sich die Stehspannung in kritischer
Weise.
Fig. 16 zeigt die Beziehung zwischen der Menge zugefügten
Niobs und der Unterbrechungseigenschaft. Fig. 17 zeigt die
Beziehung zwischen Mengen von Niob und Vanadium bei den Bei
spielen 4 und 5 und der Unterbrechungseigenschaft. Wie aus
den Fig. 16 und 17 ersichtlich, verbesserte sich die Unter
brechungseigenschaft für eine Legierung mit 5 bis 10 Gew.%
Nb und 10 Gew.% V erheblich, wobei die Unterbrechungseigen
schaft dieser Legierung das 1,6fache derjenigen einer 50
Gew.% Cu- 50 Gew.% Cr-Legierung ist. Wenn jedoch Niob mit
mehr als 10 Gew.% und Vanadium mit mehr als 10 Gew.% zu den
verschiedenen Cu-Cr-Matrizen zugefügt wurden, verschlechter
te sich die Unterbrechungseigenschaft, wie in Fig. 17 darge
stellt. Wenn Niob und Vanadium jeweils mit 30 Gew.% zugefügt
wurden, verschlechterte sich die Unterbrechungseigenschaft
in kritischer Weise.
Obwohl in den Diagrammen nicht dargestellt, ergab der Strom
schalttest, daß die Stromschalteigenschaft auf einen Wert
verbessert wurde, der das 1,1- bis 1,2fache desjenigen des
Vergleichsbeispiels darstellt, wenn die Elektrode aus einer
Legierung hergestellt wurde, die nicht mehr als 10 Gew.% Nb
und nicht mehr als 10 Gew.% V enthielt. Legierungen mit mehr
als 10 Gew.% Nb und mehr als 10 Gew.% V zeigten deutliche
Unterschiede im Vergleich zu Legierungen mit nicht mehr als
10% Nb und nicht mehr als 10% V.
Die Fig. 14 und 17 zeigen die Mittelwerte der Tests. Es ist
ersichtlich, daß die Elektrodenmaterialien gemäß den Bei
spielen 4 und 5 im wesentlichen stabile Elektrodenmateria
lien mit relativ kleinen Änderungsbereichen sind, da der Va
riationsbereich der Testergebnisse dieser Elektrodenmateria
lien 40% oder weniger war als derjenige der Testergebnisse
der Legierung mit 50 Gew.% Cu und 50 Gew.% Cr gemäß dem Ver
gleichsbeispiel.
Wie oben beschrieben, wird gemäß den Beispielen 4 und 5 das
Elektrodenmaterial so hergestellt, daß es als Hauptkomponen
te Cr enthält und darüber hinaus nur Cu, Nb, V und zufällige
Verunreinigungen enthält. Ein solches Elektrodenmaterial für
einen Vakuum-Leistungsschalter weist ausgezeichnete Unter
brechungseigenschaften und zufriedenstellende Stehspannung
auf. Da die so realisierten Verbesserungen bei der Unterbre
chungseigenschaft und der Stehspannung das Ergebnis einer
Kombination von Cu, Cr, Nb und V in Form einzelner Substan
zen und ihrer Legierungen sind, kann die jeweils gewünschte
Eigenschaft dadurch erzielt werden, daß die Verhältnisse der
Bestandteile geeignet gewählt werden.
Ein Vakuum-Leistungsschalter mit einem Elektrodenmaterial
gemäß den Beispielen 4 und 5 kann die Nachfrage nach kleine
rer Größe befriedigen, die Unterbrechungseigenschaft für
große Ströme im Vergleich zu derjenigen verbessern, wie sie
mit einer herkömmlichen Struktur erzielbar ist, und er kann
verbesserte Stabilität der Eigenschaften bei verringerter
Variationsbreite der Eigenschaften aufweisen.
Gemäß der Erfindung enthält das Elektrodenmaterial Cu und
darüber hinaus Cr und V oder nur Cr, V und Nb und zufällige
Verunreinigungen. Dadurch kann ein Elektrodenmaterial für
einen Vakuum-Leistungsschalter mit ausgezeichneten Schalt
eigenschaften, Unterbrechungseigenschaften und zufrieden
stellender Stehspannung erhalten werden. Da die so erhalte
nen Verbesserungen durch das Vorhandensein von Cu, Cr und V
oder Cu, Cr, V und Nb in Form einzelner Substanzen, Legie
rungen oder deren Kombinationen erhalten werden können, kann
die jeweils meistgewünschte Gesamteigenschaft dadurch erhal
ten werden, daß das Verhältnis der Bestandteile geeignet ge
wählt wird.
Durch die Erfindung lassen sich gute Unterbrechungseigen
schaft für hohe Ströme und zufriedenstellende Stehspannung
zusammen mit kleinerer Variationsbreite der Unterbrechungs
eigenschaft erzielen. Es können also ein Material für eine
Elektrode eines Vakuum-Leistungsschalters und ein solcher
Leistungsschalter erhalten werden, die eine gute Unterbre
chungseigenschaft für hohe Ströme, zufriedenstellende Steh
spannung und einen kleinen Variationsbereich für die Unter
brechungseigenschaft aufweisen.
Ein Vakuum-Leistungsschalter mit einem erfindungsgemäßen
Elektrodenmaterial weist die Vorteile auf, daß die Gesamt
größe verringert werden kann, eine hohe Stehspannung erzielt
werden kann und die Unterbrechungseigenschaft für hohe Strö
me im Vergleich zu einer herkömmlichen Struktur verbessert
werden kann.
Claims (20)
1. Material für eine Elektrode eines Vakuum-Leistungs
schalters mit Kupfer und Chrom als Hauptbestandteilen, da
durch gekennzeichnet, daß es mindestens 0,1 Gew.% Vanadium
und/oder mindestens 0,1 Gew.% Niob aufweist.
2. Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
Chrom, Kupfer, Niob bzw. Vanadium als Metalle oder Legierun
gen verteilt sind.
3. Material nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch ge
zeichnet, daß es mindestens ein niedrigschmelzendes Metall
mit nicht mehr als 15 Gew.% aus der Gruppe Bi, Pb, Te, Sb,
Tl, Se, Ce, Ca und Ag enthält.
4. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Menge an Vanadium geringer ist als die
Menge an Chrom.
5. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß es Cu, Cr und als Rest 0,1 bis 40 Gew.% V
enthält.
6. Material nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
es 40 bis 80 Gew.% Kupfer und 10 bis 80 Gew.% Chrom enthält.
7. Material nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Vanadium einer Kupfermatrix in einer
Menge zugefügt ist, die die Grenze für eine feste Lösung
überschreitet und das Vanadium in der Kupfermatrix in Form
einer vanadiumreichen Phase oder einer Cr-V-Legierungsphase
oder einer Cu-Cr-V-Legierungsphase ausgefällt ist.
8. Material nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
Chrom der Kupfermatrix in einer Menge zugefügt ist, die die
Grenze für eine feste Lösung überschreitet, und daß Chrom in
der Kupfermatrix in Form einer chromreichen Phase ausgefällt
ist.
9. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß es 10 bis 80 Gew.% Chrom, 2 bis 40 Gew.%
Vanadium und im wesentlichen Kupfer als Rest enthält, wobei
eine Matrix eine Struktur aufweist, in der eine chromreiche
und eine vanadiumreiche Phase ausgefällt sind.
10. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß es Chrom und Kupfer als Hauptkomponenten
und darüber hinaus 0,1 bis 20% Niob und 0,1 bis 20% Vana
dium aufweist, wobei die Mengen an Niob und Vanadium gerin
ger sind als die Menge an Chrom.
11. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß es 16 bis 48 Gew.% Kupfer, 0,1 bis 20
Gew.% Niob, 0,1 bis 20 Gew.% Vanadium und Chrom als Rest
enthält.
12. Material nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß
es als Hauptbestandteil Chrom enthält und das Verhältnis
zwischen Chrom und Kupfer im Bereich von 1 : 1 bis 4 : 1 in Ge
wichtsprozent liegt.
13. Material nach einem der Ansprüche 11 oder 12, dadurch
gekennzeichnet, daß die Gesamtsumme von Niob und Vanadium
nicht mehr als 20 Gew.% beträgt.
14. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß es 10 bis 80 Gew.% Cr, 20 bis 40 Gew.% Cu,
0,5 bis 10 Gew.% Nb und 0,5 bis 10 Gew.% V enthält, wobei
die Mengen an Nb und V geringer sind als die Menge an Cr.
15. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß es im wesentlichen 28 bis 32% Cu, 55 bis
65% Cr und mindestens eines der Materialien aus der Gruppe
3 bis 7 Gew.% Nb und 3 bis 7 Gew.% V enthält.
16. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß es 55 bis 70 Gew.% Cr, 20 bis 40 Gew.% Cu
und 0,5 bis 10 Gew.% Nb enthält.
17. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß es 10 bis 30 Gew.% Cr, 0,5 bis 10 Gew.% V
und Cu als Rest enthält.
18. Elektrode für einen Vakuum-Leistungsschalter, dadurch
gekennzeichnet, daß sie aus einem Material gemäß einem der
Ansprüche 1 bis 17 besteht.
19. Vakuum-Leistungsschalter mit einer feststehenden Elek
trode (7), einer beweglichen Elektrode (8), die so angeord
net ist, daß sie sich auf die feststehende Elektrode zu be
wegen oder von dieser weg bewegen kann, und einem Isolierge
häuse (1), das die zwei Elektroden im Vakuum aufnimmt, da
durch gekennzeichnet, daß die Elektroden (7, 8) aus einem
Material gemäß einem der Ansprüche 1 bis 17 bestehen.
20. Vakuum-Leistungsschalter nach Anspruch 19, dadurch ge
kennzeichnet, daß die beiden einander gegenüberstehenden
Oberflächen mit einer geschmolzenen, abgeschreckten verfe
stigten Schicht versehen sind.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2089985A JPH07123015B2 (ja) | 1990-04-04 | 1990-04-04 | 真空遮断器用電極及び真空遮断器 |
JP2339386A JP2777479B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 真空遮断器用電極材料及び真空遮断器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4110600A1 true DE4110600A1 (de) | 1991-10-17 |
DE4110600C2 DE4110600C2 (de) | 1996-09-05 |
Family
ID=26431373
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4110600A Expired - Fee Related DE4110600C2 (de) | 1990-04-04 | 1991-04-02 | Elektrode für einen Vakuum-Leistungsschalter |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4110600C2 (de) |
TW (1) | TW231360B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19714654A1 (de) * | 1997-04-09 | 1998-10-15 | Abb Patent Gmbh | Vakuumschaltkammer mit einem festen und einem beweglichen Kontaktstück und/oder einem Schirm von denen wenigstens die Kontaktstücke wenigstens teilweise aus Cu/Cr, Cu/CrX oder Cu/CrXY bestehen |
EP3187287A4 (de) * | 2014-09-11 | 2018-04-18 | Meidensha Corporation | Verfahren zur herstellung eines elektrodenmaterials sowie elektrodenmaterial |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW265452B (de) * | 1994-04-11 | 1995-12-11 | Hitachi Seisakusyo Kk | |
JP6626004B2 (ja) * | 2014-12-17 | 2019-12-25 | 大塚テクノ株式会社 | ブレーカの製造方法とこのブレーカを備える電池パックの製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1640039B1 (de) * | 1966-05-27 | 1971-08-05 | English Electric Co Ltd | Elektrode fuer vakuumschalter oder vakuumfunkenstrecken |
DE2602579A1 (de) * | 1976-01-23 | 1977-07-28 | Siemens Ag | Vakuumschaltrohr |
DE2916567A1 (de) * | 1978-05-01 | 1980-04-10 | Gould Inc | Leistungstrennschalter |
DE3027732A1 (de) * | 1979-07-27 | 1981-02-12 | Mitsubishi Electric Corp | Kontakt fuer einen vakuumleistungsschalter |
EP0109088B1 (de) * | 1982-11-16 | 1986-03-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Kontaktwerkstoff für Vakuumschalter |
DE3711275A1 (de) * | 1986-04-10 | 1987-10-22 | Gen Electric | Kontakt fuer vakuumschalter |
-
1991
- 1991-04-02 DE DE4110600A patent/DE4110600C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-02 TW TW080102545A patent/TW231360B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1640039B1 (de) * | 1966-05-27 | 1971-08-05 | English Electric Co Ltd | Elektrode fuer vakuumschalter oder vakuumfunkenstrecken |
DE2602579A1 (de) * | 1976-01-23 | 1977-07-28 | Siemens Ag | Vakuumschaltrohr |
DE2916567A1 (de) * | 1978-05-01 | 1980-04-10 | Gould Inc | Leistungstrennschalter |
DE3027732A1 (de) * | 1979-07-27 | 1981-02-12 | Mitsubishi Electric Corp | Kontakt fuer einen vakuumleistungsschalter |
EP0109088B1 (de) * | 1982-11-16 | 1986-03-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Kontaktwerkstoff für Vakuumschalter |
DE3711275A1 (de) * | 1986-04-10 | 1987-10-22 | Gen Electric | Kontakt fuer vakuumschalter |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
DE-Z "elektrotechnik", 63, H. 8, 27. April 1981, S. 26-28 * |
Firmenschrift "Gasarme Werkstoffe für Vakuumschalter" der Fa. DODUCO KG 7530 Pforzheim, Nr. 480 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19714654A1 (de) * | 1997-04-09 | 1998-10-15 | Abb Patent Gmbh | Vakuumschaltkammer mit einem festen und einem beweglichen Kontaktstück und/oder einem Schirm von denen wenigstens die Kontaktstücke wenigstens teilweise aus Cu/Cr, Cu/CrX oder Cu/CrXY bestehen |
EP3187287A4 (de) * | 2014-09-11 | 2018-04-18 | Meidensha Corporation | Verfahren zur herstellung eines elektrodenmaterials sowie elektrodenmaterial |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4110600C2 (de) | 1996-09-05 |
TW231360B (de) | 1994-10-01 |
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