DE4108137A1 - Optisches abbildungssystem - Google Patents

Optisches abbildungssystem

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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft allgemein ein optisches System. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung optische Abbildungssysteme.
Optische Abbildungssysteme, wie beispielsweise das optische Cassegrain-System, sind wohl bekannt. Derartige Systeme ver­ wenden im allgemeinen kreisförmige, sich gegenüberliegende erste und zweite Spiegel, welche in einer starren Befesti­ gung um eine optische Achse angeordnet sind. Der erste Spie­ gel weist einen Durchmesser auf, welcher erheblich größer ist als der Durchmesser des zweiten Spiegels und welcher eine Zentralapertur definiert, durch die sich die optische Achse erstreckt. Optische Strahlen, welche den ersten Spie­ gel streifen, werden in Richtung des zweiten Spiegels reflektiert, von wo aus sie zu einem Brennpunkt des zweiten Spiegels reflektiert werden, welcher auf der optischen Achse liegt. Geeignete Abbildungsvorrichtungen können bei dem Brennpunkt angeordnet werden.
Optische Abbildungssysteme wie die eben beschriebenen müssen bezüglich ihrer Genauigkeit hohe Anforderungen erfüllen. Abbildungssysteme für militärische Anwendungen müssen dar­ über hinaus den Anforderungen an Robustheit, Kompaktheit, Zuverlässigkeit und Unabhängigkeit von Temperaturänderungen genügen. Das Genauigkeitskriterium wird sowohl von der End­ geometrie der reflektierenden Oberflächen, die durch die Spiegel definiert wird, als auch durch die Geschicklichkeit, mit der die Spiegel in ihrer Befestigung eingebaut werden, bestimmt. Derartiges Befestigen und Einbauen ist extrem zeitraubend und daher teuer. Während die geometrische Genau­ igkeit der reflektierenden Oberflächen eine Funktion des Herstellungsverfahrens ist, mittels dem die Spiegel herge­ stellt werden, wird der Einbau der Spiegel in ihre Befesti­ gungen manuell durchgeführt und die Gesamtsystemgenauigkeit ist daher in erheblichem Umfang von der Geschicklichkeit der Person oder der Personen abhängig, die das System zusammen­ bauen.
Herkömmenliche Systemfehler sind:
Zentrieren der zwei Spiegel in Bezug auf die optische Achse: 0,05 mm,
Stellung der zwei Spiegel bezüglich der optischen Achse: 0,05 mm,
Abstand zwischen Spiegelspuren: 0,1 mm.
Wie den Fachleuten bekannt ist, können Systemfehler wie die zuvor erwähnten für viele Anwendungen ausreichend sein, wohingegen aber optische Systeme mit einer einzelnen Achse, die die oben erwähnten Systemfehler aufweisen, für Abbil­ dungsanwendungen ungeeignet sind, die eine höhere Genauig­ keit verlangen.
Darüber hinaus hat die hohe Komplexität des manuellen Aufbaus dieser optischen Systeme zur Folge, daß es vieler Stunden bedarf, um ihre Genauigkeit zu maximieren, was zu einem vergleichsweise teuren Produkt führt.
In einem Artikel mit dem Titel "Aplanatic two-mirror compact collimator" by I.-Fu Shih et al. SPIE, Vol. 554, Internatio­ nal Lens Design Conference (1985), pp. 265-272, wird ein Kollimator beschrieben, der zwar zum Abbilden nicht geeignet ist, der aber zwei Spiegel verwendet, die auf einem ein­ stückigen Metallstück mittels eines Diamanten gedreht worden sind.
Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein verbes­ sertes optisches Abbildungssystem bereitzustellen, das die oben erwähnten Nachteile nicht länger aufweist.
Erfindungsgemäß wird dies durch ein optisches Abbildungs­ system gemäß dem Anspruch 1 bzw. 14 bzw. 17 gelöst.
Im einzelnen wird gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ein integral ausgebildetes optisches Abbildungssystem beschrieben, das zwei sich gegenüberlie­ gende reflektierende Oberflächen aufweist, die eine einzelne optische Achse definieren und die auf einem einstückigen Material ausgebildet sind.
Zusätzlich weisen die zwei reflektierenden Oberflächen gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine erste reflektierende Oberfläche auf, die eine zentrale Apertur definiert, durch die die optische Achse sich erstreckt; sowie eine zweite reflektierende Oberfläche, die koaxial mit der ersten reflektierenden Oberfläche ausgebil­ det ist und einen Brennpunkt definiert, der auf der opti­ schen Achse liegt, wobei Strahlung, die auf die erste reflektierende Oberfläche trifft, von ihr in Richtung der zweiten reflektierenden Oberfläche reflektiert wird, und dann von der zweiten reflektierenden Oberfläche aus in Rich­ tung des Brennpunktes reflektiert wird.
In Übereinstimmung mit einer Ausführungsform der vorliegen­ den Erfindung besteht das System aus einem reflektierenden Cassegrain-Spiegel, während, gemäß einer alternativen Aus­ führungsform, das System auch aus einem optischen Gregorian- System bestehen kann.
Desweiteren wird gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ein optisches mulitspektrales Abbil­ dungssystem bereitgestellt, welches zum einen das oben beschriebene optische Abbildungssystem enthält sowie des­ weiteren Strahlteilervorrichtungen und eine Mehrzahl von Detektoren, welche jeweils bei verschiedenen optischen Wellenlängen arbeiten.
Es ist ein besonderes Merkmal der vorliegenden Erfindung, daß reflektierende Optiken gemeinsam für beide Wellenlängen verwendet werden.
Darüber hinaus wird in Übereinstimmung mit einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ein optisches Mehrgesichtsfeld-Abbildungssystem bereitgestellt, welches das oben beschriebene optische Abbildungssystem verwendet und darüber hinaus Strahlteilervorrichtungen und eine Mehr­ zahl von Detektoren, welche jeweils verschiedene Gesichts­ felder aufweisen.
Schließlich können Brechungsoptiken vor einem oder vor meh­ reren Detektoren angeordnet werden, um die Mehrzahl von Gesichtsfeldern zu definieren.
Die Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung erfüllt die Anforderungen bezüglich der Robustheit, Kompaktheit, Zuver­ lässigkeit sowie der Unempfindlichkeit bezüglich Tempera­ turänderungen der Umgebung.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Weitere Einzelheiten, Aspekte und Vorteile der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung unter Bezugnahme auf die Zeichnung.
Es zeigt:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines optischen Abbildungssystemes, das gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung her­ gestellt wurde;
Fig. 2 eine Seitenfrontansicht des Systems, das in Fig. 1 dargestellt ist und worin eine Systemkonfigu­ ration gemäß einer Ausführungsform der vorlie­ genden Erfindung gezeigt wird;
Fig. 3A eine Schnittansicht des Systems, das in den Fig. 1 und 2 dargestellt ist, entlang der Linie III- III in Fig. 2;
Fig. 3B eine Schnittansicht entsprechend der Ansicht von Fig. 3A, worin aber das dargestellte System gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorlie­ genden Erfindung konstruiert wurde;
Fig. 4 eine Schnittansicht des Systems, das in den Fig. 1 und 2 dargestellt wurde, entlang der Linie IV- IV in Fig. 2;
Fig. 5 eine Schnittdarstellung eines optisch bi-spek­ tralen Abbildungssystemes, welches gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung konstruiert und betrieben wird;
Fig. 6 eine Schnittdarstellung eines optischen Abbil­ dungssystemes mit zwei Gesichtsfeldern, welches gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vor­ liegenden Erfindung konstruiert und betrieben wird; und
Fig. 7 eine Seitenansichtdarstellung des Systems, das in den Fig. 5 und 6 dargestellt ist.
Im folgenden wird auf die Fig. 1 bis 4 Bezug genommen, in denen verschiedene Ansichten eines integral ausgebildeten optischen Abbildungssystemes mit einer einzelnen Achse dar­ gestellt sind, das allgemein mit 10 bezeichnet ist, und das in Übereinstimmung mit der Lehre der vorliegenden Erfindung hergestellt wurde.
Das optische Abbildungssystem, das in den Fig. 1 bis 4 dargestellt ist, ist ein Cassegrain-Spiegel; gleichwohl kann das optische System der vorliegenden Erfindung auch aus einem alternativen optischen System bestehen, wie beispiels­ weise aus einem Gregorian-System. Der besondere Vorteil der vorliegenden Erfindung gegenüber dem Stand der Technik liegt darin, daß, da das gesamte optische System nur aus einem einzelnen optischen Element gebildet wird, kein manueller Zusammenbau desselben nötig ist. Daher benötigt das System 10 nicht nur eine kürzere Herstellungszeit, sondern System­ fehler wie solche, die in einem konventionellen optischen System mit einer einzelnen Achse aus dem manuellen Zusammen­ bau resultieren, werden vollständig eliminiert. Dies wird aus den typischen Systemgrößen klar werden, die im folgenden aufgezählt sind.
Das System 10 kann aus einem einzelnen Stück Metall herge­ stellt sein, auf dem erste und zweite, sich gegenüberlie­ gende, maschinell bearbeitete reflektierende Oberflächen ausgebildet sind, welche jeweils mit 12 und 14 bezeichnet sind und die um eine gemeinsame optische Achse angeordnet sind, die mit 16 bezeichnet ist. Vorzugsweise sind die ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen mittels Dia­ mantdrehens erstellt worden. Alternativerweise kann die erste Oberfläche 12 mittels Replikationstechniken erstellt worden sein.
Jede der reflektierenden Oberflächen weist typischerweise eine externe Konfiguration auf, die kreisförmig ist, wenn man sie parallel zu der optischen Achse projiziert. Wie dar­ gestellt, weist die erste reflektierende Oberfläche 12 einen Durchmesser auf, der größer ist als der Durchmesser der zweiten reflektierenden Oberfläche 14. Die erste reflektie­ rende Oberfläche 12 definiert eine zentrale Apertur 18 (vgl. Fig. 3A bis 4), die koaxial mit den ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen 12 und 14 angeordnet ist.
Wie von einem Fachmann erkannt wird, sind die ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen vorzugsweise derart angeordnet, daß der Brennpunkt der ersten reflektierenden Oberfläche an einem Punkt 19 (vgl. Fig. 3A und 3B) mit dem ersten Brennpunkt der zweiten reflektierenden Oberfläche koinzidiert.
Demnach wird in der vorliegenden Ausführungsform die zweite reflektierende Oberfläche 14 derart ausgebildet, daß sie einen zweiten Brennpunkt 20 aufweist, der mit der optischen Achse 16 dort koinzidiert, wo ein Bild geformt wird. Wie diagrammartig in den Fig. 3a und 3b dargestellt, fallen optische Strahlen, welche mit 22 bezeichnet sind, auf die erste reflektierende Oberfläche 12 auf und werden von dort in Richtung der zweiten reflektierenden Oberfläche 14 reflektiert, um von dort von der zweiten reflektierenden Oberfläche in Richtung des Brennpunktes 20 weiter reflek­ tiert zu werden. Die ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen sind mittels einer Mehrzahl von länglichen Rip­ penelementen 24 verbunden, welche eine spinnenartige Struk­ tur definieren, die zwischen sich eine Mehrzahl von Öffnun­ gen 26 aufweist, die mit der inneren Apertur 18 der ersten reflektierenden Oberfläche kommunizieren, um das Hindurch­ treten der optischen Strahlen zu ermöglichen, die von der zweiten reflektierenden Oberfläche in Richtung des Brenn­ punktes 20 reflektiert werden. Wie hinlänglich bekannt ist, können optische Systeme mit einer einzelnen Achse auch Abschirmungen bedürfen, um zu verhindern, daß Streustrahlung den Abbildungsbereich überflutet. Dies ist insbesondere dann von Bedeutung, wenn ein vergleichsweise großes Gesichtsfeld benötigt wird. Demnach wird desweiteren ein axial ausgerich­ teter zylindrischer Teil 25 bereitgestellt, welcher eine Abschirmung darstellt und der konfiguriert ist, um wenig­ stens teilweise das Einfallen von Streustrahlung auf die zweite reflektierende Oberfläche 14 zu verhindern.
Wie am besten der Fig. 3A zu entnehmen ist, wird das ein­ zelne optische Element, daß das System 10 bildet, an einem hinteren Teil 28 von ihm ausgebildet, um das Befestigen von Abbildungsvorrichtungen, welche schematisch durch die gestrichelte Linie 30 dargestellt sind, in der Nähe vom Brennpunkt 20 der zweiten reflektierenden Oberfläche zu erlauben. Die Ausbildung des hinteren Teiles 28 ist nur bei­ spielhaft, und es wird darauf hingewiesen, daß der hintere Teil 28 mit jeder geeigneten Konfiguration ausgebildet sein kann, um das Befestigen von beliebigen geeigneten Abbil­ dungsvorrichtungen zu erlauben.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind die reflektierenden Oberflächen asphärisch, obwohl gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung eine oder beide der Oberflächen sphärisch sein können. Wenn das System, wie in der Ausführungsform gemäß den Fig. 1 bis 4, als ein Cassegrain-System konstruiert ist, ist die erste reflektie­ rende Oberfläche typischerweise parabolisch und die zweite reflektierende Oberfläche typischerweise hyperboloid. Alter­ nativerweise können beide Oberflächen in einem Cassegrain- System hyperboloid ausgebildet sein.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 1 bis 4 kann, obwohl die reflektierenden Oberflächen typischerweise direkt auf einem einteiligen Metallstück ausgebildet sind, eine Metallschicht 32 auf die unpolierten Oberflächen 34 vor dem Diamantdrehen aufgebracht werden, so daß die reflektierenden Oberflächen tatsächlich auf der Beschichtung und nicht auf dem "Grund"- Material ausgebildet werden.
Das Grundmaterial kann Metall sein, wie ein geeignetes nicht eisenhaltiges Metall, wie beispielsweise Aluminium, Kupfer, Messing, Molybdän oder jede andere geeignete, nicht eisen­ haltige Legierung. Alternativerweise kann das Grundmaterial aus einem Nicht-Metall-Material bestehen, wie beispielsweise aus Beryllium oder jedem anderen zusammengesetzten Material. Die Beschichtung kann aus jedem geeigneten, nicht eisenhal­ tigen Metall bestehen, wie z. B. aus Kupfer, Nickel, Mes­ sing, Silber, Gold oder Kadmium.
Wie oben kurz beschrieben wurde, resultiert die Herstellung eines optischen Systemes gemäß der vorliegenden Erfindung in einem optischen System mit Eigenschaften, die besser sind als die, die mittels herkömmlicher Herstellungstechniken erreicht werden können, in denen zwei optische Elemente, welche die jeweiligen reflektierenden Oberflächen definie­ ren, manuell auf einer Basis montiert werden, bevor sie in einer geeigneten Position auf ihr befestigt werden.
Typische Eigenschaften eines optischen Cassegrain-Systemes, welches gemäß der Lehre der vorliegenden Erfindung herge­ stellt wurde, sind wie folgt:
Stärke - ungefähr Lambda/4, bei einer Wellenlänge von Lambda = 0,6328 µm;
Unregelmäßigkeit - ungefähr Lambda/4, bei einer Wellen­ länge von Lambda = 0,6328 µm;
Genauigkeit des Zentrierens der ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen relativ zu der optischen Achse - vorzugsweise ungefähr 0,2 µm und wenigstens bes­ ser als 0,05 mm;
Genauigkeit der Stellung der ersten und zweiten reflek­ tierenden Oberflächen zu der optischen Achse - vorzugs­ weise ungefähr 0,2 µm und wenigstens besser als 0,05 mm; und
Genauigkeit des Abstandes zwischen den Spuren der ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen - ungefähr 0,05 mm.
Im folgenden wird auf Fig. 5 Bezug genommen, welche eine Schnittansicht eines optischen bispektralen Abbildungssyste­ mes darstellt, welches in Übereinstimmung mit einer bevor­ zugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung herge­ stellt und betrieben wird. Wie in den zuvor beschriebenen Ausführungsformen sind jeweils die ersten und zweiten Ober­ flächen 50 und 52 auf einem einstückigen Material ausgebil­ det, mittels beispielsweise Diamantdrehens. Zusätzlich zum Gesamtaufbau, der dem zuvor beschriebenen ähnlich ist, weist das einstückige Material desweiteren einen Befestigungsteil 54 auf, an dem ein Strahlteiler 56, typischerweise des dichroitischen Typs, befestigt ist.
Der Strahlteiler 56 empfängt Strahlung, die von der zweiten reflektierenden Oberfläche reflektiert worden ist und erzeugt bzw. definiert zwei Ausgangsstrahlen 58 und 60. Der Strahl 58 wird typischerweise zu einem Infrarotdetektor 62 geleitet, während der Strahl 60 typischerweise zu einem Detektor 66 für das sichtbare Spektrum geleitet wird, der ein CCD Detektor oder ein beliebiger anderer Detektor sein kann, wie beispielsweise ein Laserstrahldetektor. In einer Ausführungsform können die Detektoren 62 und 66 beide Infra­ rotdetektoren sein, welche in verschiedenen Wellenlängenbe­ reichen betrieben werden, wie beispielsweise zwischen 3 bis 5 µm und zwischen 8 und 12 µm.
Darüber hinaus wird darauf hingewiesen, daß das System gemäß Fig. 5 auch für die simultane Detektion von mehr als zwei Wellenlängen ausgelegt werden kann, indem geeignet ausgebil­ dete Strahlteilvorrichtungen bereitgestellt werden.
Im folgenden wird auf Fig. 6 Bezug genommen, in der eine Schnittansicht eines optischen Abbildungssystemes mit zwei Gesichtsfeldern dargestellt ist, das in Übereinstimmung mit einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung konstruiert und betrieben wird. Wie in den zuvor beschriebenen Ausführungsformen sind die ersten und zweiten Oberflächen 70 und 72 jeweils auf einem einstückigen Mate­ rial ausgebildet, beispielsweise mittels Diamantdrehens. Zusätzlich zu dem Gesamtaufbau, der dem zuvor beschriebenen ähnlich ist, weist das einstückige Material desweiteren einen Befestigungsteil 74 auf, auf dem ein Strahlteiler 76 befestigt ist. Der Strahlteiler 76 empfängt Strahlung, die von der zweiten reflektierenden Oberfläche reflektiert wor­ den ist und definiert zwei Ausgangsstrahlen 78 und 80. Der Strahl 78 wird typischerweise zu einem ersten Detektor 82 geleitet, wie beispielsweise zu einem CCD Detektor mit weitem Gesichtsfeld. Der Strahl 80 wird typischerweise über einen Faltspiegel 84 zu einem zweiten Detektor 86 geleitet, der typischerweise ein CCD Detektor mit engem Gesichtsfeld ist. Es wird darauf hingewiesen, daß zwei beliebige Detekto­ ren mit verschiedenen Gesichtsfeldern in Übereinstimmung mit der folgenden Erfindung verwendet werden können. Beispiels­ weise kann ein Detektor mit weitem Gesichtsfeld verwendet werden, der ein Gesichtsfeld von 5 Grad aufweist, und ein Detektor mit engem Gesichtsfeld kann verwendet werden, der ein Gesichtsfeld von einem Grad aufweist.
Schließlich wird darauf hingewiesen, daß das System gemäß der Fig. 6 für die simultane Detektion von mehr als zwei Gesichtsfeldern ausgelegt werden kann, indem eine geeignete Strahlteilervorrichtung bereitgestellt wird.
Es wird darauf hingewiesen, daß die zuvor beschriebenen optischen Abbildungssysteme typischerweise nicht abtastende Systeme sind und daher die verwendeten Detektoren starre Arrays sind. Alternativerweise können gemäß der vorliegenden Erfindung auch abtastende Einrichtungen und geeignete Detek­ torkonfigurationen Verwendung finden.
In Fig. 7 ist die äußere Gestaltung eines Systems des Types dargestellt, wie er in den Fig. 6 und 7 aufgeführt ist. Wie der Figur entnommen werden kann, können Signalverarbeitungs­ elektronikkarten 62 auf angenehme Art und Weise und kompakt an der Außenseite des einstückigen Materials 92 befestigt werden, insbesondere auf der Außenseite seines Befestigungs­ teils 94.
Zusammenfassend kann also festgestellt werden, daß in Fig. 7 die äußere Gestaltung eines Systems des Types dargestellt ist, wie er in den Fig. 6 und 7 aufgeführt ist. Wie der Figur entnommen werden kann, können Signalverarbeitungselek­ tronikkarten 62 auf angenehme Art und Weise und kompakt auf der Außenseite des einstückigen Materials 92 befestigt wer­ den, insbesondere auf der Außenseite seines Befestigungs­ teils 94.
Abschließend wird darauf hingewiesen, daß der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung nicht durch das beispielhaft spe­ zifisch Diskutierte und zuvor Beschriebene beschränkt werden soll. Der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung soll ein­ zig durch die beigefügten Ansprüche beschränkt sein.

Claims (18)

1. Ein integral ausgebildetes, optisches Abbildungssystem mit: wenigstens zwei sich gegenüberliegenden, reflektieren­ den Oberflächen, welche eine einzelne optische Achse definieren und auf einem einstückigen Material ausge­ bildet sind.
2. System nach Anspruch 1, worin das einstückige Material wenigstens teilweise aus Oberflächenteilen besteht, die aus Metall hergestellt sind und worin die reflektieren­ den Oberflächen diamantgedrehte Oberflächen sind, die auf den Metalloberflächenteilen ausgebildet sind.
3. System nach einem der Ansprüche 1 oder 2, worin die wenigstens zwei reflektierenden Oberflächen aufweisen:
eine erste reflektierende Oberfläche, die eine zentrale Apertur definiert, durch die sich die optische Achse erstreckt; und
eine zweite reflektierende Oberfläche, die koaxial mit der ersten reflektierenden Oberfläche ausgebildet ist, und die einen Brennpunkt definiert, der auf der opti­ schen Achse liegt, wobei Strahlung, die auf die erste reflektierende Oberfläche einfällt, von ihr in Richtung der zweiten reflektierenden Oberfläche reflektiert wird, und die desweiteren von der zweiten reflektieren­ den Oberfläche aus in Richtung des Brennpunktes reflek­ tiert wird.
4. System nach Anspruch 3, worin jede der ersten und zwei­ ten reflektierenden Oberflächen eine externe Konfigura­ tion aufweist, die im wesentlichen kreisförmig ist, wenn man sie parallel zu der optischen Achse proji­ ziert, und wobei der Durchmesser der ersten reflektie­ renden Oberfläche größer ist als der Durchmesser der zweiten reflektierenden Oberfläche.
5. System nach einem der Ansprüche 3 oder 4, worin das einstückige Material desweiteren eine Mehrzahl von länglichen Rippenteilen definiert, die starr mit den ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen verbun­ den sind, wobei die Mehrzahl der länglichen Rippenteile zwischen sich eine Mehrzahl von Öffnungen definieren, die mit der zentralen Apertur kommunizieren, um ein Hindurchtreten von Strahlung zu erlauben, die von der zweiten reflektierenden Oberfläche in Richtung ihres Brennpunktes reflektiert wird.
6. System nach Anspruch 5, worin das einstückige Material desweiteren Abschirmungsvorrichtungen definiert, die zwischen der ersten reflektierenden Oberfläche und den Rippenteilen angeordnet sind, wobei die Abschirmungs­ vorrichtungen derartig wirken, um wenigstens partiell das Einfallen von Streustrahlung auf die zweite reflek­ tierende Oberfläche zu verhindern.
7. System nach einem der Ansprüche 3 bis 6, worin das ein­ stückige Material desweiteren Vorrichtungen zum Befe­ stigen von Abbildungsvorrichtungen definiert, in Ver­ bindung mit dem Brennpunkt der zweiten reflektierenden Oberfläche.
8. System nach einem der vorangegangenen Ansprüche, worin wenigstens eine der ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen asphärisch ist.
9. System nach einem der Ansprüche 1 bis 8, worin das ein­ stückige Material ein Grundmaterial enthält, auf dem, an vorherbestimmten Orten von ihm, eine Metallbeschich­ tung bereitgestellt wird, und worin jede reflektierende Oberfläche eine diamantgedrehte Oberfläche ist, die auf der Beschichtung bei jedem der vorherbestimmten Orte ausgebildet ist.
10. System nach Anspruch 3, worin das System einen reflek­ tierenden Cassegrain-Spiegel enthält.
11. System nach Anspruch 10, das wenigstens eine der fol­ genden Eigenschaften aufweist:
eine Genauigkeit des Zentrierens der ersten und zweiten reflektierenden Oberfläche relativ zu der optischen Achse besser als ungefähr 0,05 mm;
eine Genauigkeit der Stellung der ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen zu der optischen Achse von besser als ungefähr 0,05 mm; und
eine Genauigkeit des Abstandes zwischen den Spuren der ersten und zweiten reflektierenden Spiegel von besser als ungefähr 0,1 mm.
12. System nach Anspruch 10, welches wenigstens eine der folgenden Eigenschaften aufweist:
eine Genauigkeit des Zentrierens der ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen relativ zu der optischen Achse von ungefähr 0,2 µm;
eine Genauigkeit der Stellung der ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen zu der optischen Achse von ungefähr 0,2 µm; und
eine Genauigkeit der Entfernung zwischen den Spuren der ersten und zweiten reflektierenden Oberflächen von ungefähr 0,05 mm.
13. Optisches System nach Anspruch 1, welches desweiteren einen elektronischen Schaltkreis aufweist, der auf dem einstückigen Material befestigt ist.
14. Multispektrales optisches Abbildungssystem mit:
wenigstens zwei sich gegenüberliegenden, reflektieren­ den Oberflächen, welche eine einzelne optische Achse definieren und die aus einem einstückigen Material aus­ gebildet sind;
Strahlteilungsvorrichtungen, zum Empfangen der Strah­ lung, die von einer der reflektierenden Oberflächen reflektiert wurde;
einer Mehrzahl von Detektoren, die jeweils bei ver­ schiedenen optischen Wellenlängen arbeiten, wobei jeder Strahlung von den Strahlteilungsvorrichtungen empfängt.
15. Multispektrales optisches Abbildungssystem nach Anspruch 14, worin die Strahlung, die die Mehrzahl der Detektoren erreicht, entlang gemeinsamer reflektieren­ der Optiken verläuft.
16. Multispektrales optisches Abbildungssystem nach Anspruch 14, worin wenigstens einer der Mehrzahl von Detektoren für die Detektion von Laserstrahlung ausge­ legt ist.
17. Optisches Abbildungssystem mit einer Mehrzahl von Gesichtsfeldern, mit:
wenigstens zwei sich gegenüberliegenden, reflektieren­ den Oberflächen, die eine einzelne optische Achse defi­ nieren und aus einem einstückigen Material ausgebildet sind;
Strahlteilungsvorrichtungen, die Strahlung empfangen, die von einer der reflektierenden Oberflächen reflek­ tiert worden ist;
einer Mehrzahl von Detektoren, die jeweils mit ver­ schiedenen Gesichtsfeldern schauen, wobei jeder Strah­ lung von den Strahlteilungsvorrichtungen empfängt.
18. Optisches Abbildungssystem mit einer Mehrzahl von Gesichtsfeldern nach Anspruch 17, worin die Strahlung, die die Mehrzahl von Detektoren erreicht, entlang gemeinsamer reflektierender Optiken verläuft.
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