DE4038295A1 - Verfahren und anordnung zur zerstoerung von konkrementen - Google Patents
Verfahren und anordnung zur zerstoerung von konkrementenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zur
Zerstörung von Konkrementen, die an schwer zugänglichen Stellen
unter Ausnutzung lichtinduzierter Stoßwellen eine Zertrümmerung
fester Körper ermöglicht, wobei sie primär in der Humanmedizin
aber auch in anderen materialbearbeitenden Prozessen ihre
Anwendung findet.
Es sind verschiedene Lösungen bekannt, die insbesondere in der
Medizin die Zerstörung von festen Körpern im menschlichen
Körper mit verschiedenen Mitteln und unterschiedlichen Verfahren
realisieren. Einen besonderen Stellenwert besitzt bei
einigen dieser Lösungen die Ausnutzung des sogenannten "Breakdown-Effektes",
eine Erkenntnis, die u. a. Munschau
(Munschau, J.: Theoretische und experimentelle Untersuchungen
zur Erzeugung, Ausbreitung und Anwendung laserinduzierter
Stoßwellen; Dissertation TU Berlin, 1981) weitestgehend wissenschaftlich
verfolgte. Seine gesicherten Erkenntnisse wurden
lösungsbezogen verschiedenartig konzipiert und mit unterschiedlichem
Erfolg umgesetzt.
So sind in der Medizin verschiedene Verfahren zur Entfernung
von Gallen- bzw. Nierensteinen bekannt, bei denen neben dem
operativen Eingriff eben modernere Methoden an Bedeutung gewinnen,
deren Lösungen ein Zerkleinern der Steine im menschlichen
Körper so realisieren, daß die dann vorliegenden miniaturisierten
Steinfrakturen auf natürlichem Wege ausscheidbar sind.
Besondere erfolgreich entwickelte sich in den letzten Jahren
die sogenannte Stoßwellenlithographie, bei der mittels verschiedener
Erzeugungsmechanismen mechanische Stoßwellen direkt
auf den Stein gerichtet oder in dessen Nähe erzeugt und dann
auf ihn gerichtet werden, die den Stein zertrümmern. Die Stoßwellenerzeugung
erfolgt dabei mechanisch mittels einer eingeführten
Sonde mit mechanischem Schwinger, oder elektrisch
mittels einer Sonde mit Funkenstrecke, aber auch explosiv
mittels Sonde mit Sprengladung oder durch den erwähnten LIB
(laser induced breakdown) mittels Lichtleitfaser mit endseitiger
Plasmabildung oder auch extrakorporal (elektromagnetisch,
piezoelektrisch). Unter allen genannten Methoden besitzt eben
die Methode der "Laserinduzierten Stoßwellenlithotripsie"
(LISL) wesentliche Vorteile gegenüber den anderen Methoden,
wie beispielsweise in den DE-OS 36 00 730, DE-OS 37 27 003,
DE-OS 35 06 249, DE-PS 25 38 960 lösungsgemäße realisiert. Bei
diesen Lösungen wird ein gütegeschalteter Impulslaser in einen
Lichtwellenleiter eingekoppelt, wobei letzterer bequem an den
Stein, beispielsweise mittels Endoskop, herangeführt ist. Der
Laserimpuls wird hier mit einem geeigneten Endstück so geformt,
daß in unmittelbarer Steinnähe ein LIB erzeugt wird. Zwingend
notwendig sind aber dafür Impulsbreiten des Laserimpulses im <µs-Bereich,
wobei hier die erzeugten Impulsbreiten der mechanischen
Wellen (je nach eingesetztem Absorber) im Bereich von 1 µs
bis 5 µs mit Anstiegszeiten im ns-Bereich liegen. Die Impulsabstände
der einzelnen Impulse sind je nach Erzeugungsart unterschiedlich.
Bei der LISL sind jedoch nachteiligerweise nur
Impulsabstände 10 ms technisch vertretbar, wobei hier lösungsgemäß
die Folgefrequenz der Lampe <100 Hz ist. So benutzt
die Lösung der DE-OS 37 11 086 einen gepulsten Laser, wobei
nachteiligerweise hier in den Impulspausen eine Neupositionierung
des Steines erforderlich ist. Weiterhin sind generell
notwendige Impulszahlen zwischen ungefähr 50 bis 5000 zu realisieren.
Die DE-OS 25 38 960 verwendet ebenfalls einen Q-switch-Laser.
Mit dieser Lösung erfolgt die Fokussierung der Schockwelle
auf ein Konkrement, wobei deren Realisierung gerätetechnisch
sehr aufwendig ist und Energieverluste bei der Bereitstellung
der benötigten Schockwellenenergie unvermeidbar sind.
Die gerätetechnisch erzeugten Impulsfolgen gestatten außerdem
keine vollständige Zertrümmerung des Konkrements. Die DE-OS 35 06 249
setzt auch einen Q-switch-Laser ein, wobei die hier
realisierten Stoßwellen, die das Konkrement zerstören sollen,
verlustbehaftet zum Zerstörungsort gelangen. In der entsprechenden
gerätetechnischen Umsetzung nach Firmenprospekt
MBB : Litholas ist ebenso die Impulsfolgefrequenz auf 30 Hz
beschränkt, das bedeutet also eine Realisierung der Impulsabstände
30 ms. In der DE-PS 32 40 691 ist auf den wesentlichen
Einfluß der Impulsabstände hingewiesen. Um eine Überlagerung
der mechanischen Wellen im Stein zu erreichen wird lösungsbezogen,
wobei eine Verringerung der Erzeugnisimpulsabstände
nicht angegeben wurde, ein mechanischer Einzelimpuls aufgespalten
und dessen Überlagerung über Reflexionen erreicht. Nachteilig
ist allerdings, daß die Gesamtenergie dabei keineswegs
wieder erreicht werden kann. Das "Gedächtnis" des Steines für
einen Einzelimpuls ist bei dieser Lösung im Bereich bis 10 µs
angegeben, wobei jedoch zu bemerken ist, daß die Zeit-, Druck-
und Raumverhältnisse praktisch realisierbarer Messungen hohe
Unsicherheiten beinhalten. Die DE-OS 36 00 730 informiert über
ein Gedächtnis der Plasmablase von 50 µs bis 100 µs. Die praktische
Realisierung einer Resonanzverstärkung wird nicht beschrieben.
Allen genannten Lösungen, die DE-PS 32 40 691 ausgenommen,
besitzen den Nachteil, daß auf eine schnellere und
wirksamere Methode der Steinzerstörung mit Hilfe einer denkbaren
Resonanzverstärkung der Plasmablase oder im Stein selbst
verzichtet wird. Eine Überlagerung der Erzeugungsimpulse ist in
keinem Falle möglich und technisch einfach realisierbar.
Die weitestgehend im Stand der Technik bekannten Anwendungen in
der Medizin und Materialbearbeitung verfolgen mit ihren Lösungskonzepten,
die Laserstrahlung hoher Energie und Leistung
über Lichtwellenleiter an den Zerstörungsort zu führen. Es
besteht allerdings die Notwendigkeit, das Laserstrahlenbündel
so in den Lichtwellenleiter zu fokussieren, daß
- a) die numerische Apertur der Faser nicht überschritten und
- b) für eine vollständige Übertragung der Gesamtenergie/-leistung der Bündeldurchmesser an den Faserdurchmesser angepaßt wird.
Praktisch relevant sind die genannten Probleme vorwiegend für
Hochleistungslaser, insbesondere für Festkörperlaser. CO₂-Laser
sind für Lichtwellenleiter ungeeignet. Beide Bedingungen
sind aber für Festkörperlaser prinzipiell erfüllbar. Ungeachtet
dessen ist die Grenze der übertragbaren Energie bzw. Leistung
durch die Zerstörungsschwelle des Lichtwellenleiters gesetzt.
So werden insbesondere im Impulsfall durch die Fokussierung
schnell die Grenzwerte selbst für beste Glassorten, beispielsweise
für Quarz ≈1 . . . 4 GW/cm², erreicht. Bei allen bekannten
Lösungen zeigt sich, daß die kritische Stelle der Einkopplung
die Eintrittsfläche des Lichtwellenleiters ist, da hier der Ort
der höchsten Leistungsdichte mit dem Grenzübergang zweier
Medien zusammentrifft, was in der Praxis zu Plasmabildung,
optischen Durchbrüchen und in der Folge zur Laserdamage der
Fasereintrittsfläche führt. Da die Zerstörungsschwelle im
Kernmaterial bedeutend größer als an der Eintrittsfläche ist,
wird bei bekannten Lösungen versucht, die Eintrittsfläche
geeignet zu gestalten. So ist mit der DE-PS 30 00 713 eine
Lösung bekannt, bei der vor der Faserendfläche mittels Vakuum
die Gefahr des optischen Durchbruchs verringert werden soll.
Neben dem hohen apparativen Aufwand ist diese Lösung jedoch nur
geeignet, die Eintrittsfläche definierter und zuverlässiger an
einen Sollwert der Damageschwelle heranzuführen. Die EP-PS 03 08 604
stellt ebenfalls ein Spiegelsystem zur Einkopplung von
Laserlicht in einen Lichtwellenleiter vor, wobei das Einkoppeln
in Faserrichtung geschieht. Auch diese Lösung sieht keine den
Schwellwert der Zerstörung heraufsetzende Einrichtung vor. Die
IP-PS 55-1 53 737 offenbart eine ähnliche Lösung mit der Einkopplung
in Faserrichtung, wobei lediglich eine Überwachung
aller Flächen und eine geeignete Abschaltung vorgesehen ist.
Eine Erhöhung der Maximalenergie/-leistung ist mit dieser
Anordnung nicht möglich. Die GB-PS 21 54 017, DE-OS 38 36 377,
DD-PS 2 43 123 und WO 88/01 065 stellen analoge Einkoppelsysteme
mit Einkopplung längs der Faserachse vor, wobei einer genauen
Justierung bzw. einem Verhindern von Randbeschädigungen des
Lichtwellenleiters der Vorrang gegeben wird. Die DE-OS 35 44 136
schlägt eine Vergrößerung der Fasereintrittsfläche vor,
wobei eine sich konisch verjüngende Faser zum Einsatz gelangen
soll (sogenannte Fasertaper). Im Anwendungsfall eröffnen sich
bei dieser Lösung vermutlich größere technologische Probleme,
da praktisch jedes Faserstück einzeln unter Beachtung sich
verändernder Brechzahlprofile gezogen wird.
Es sind weiterhin Lösungen bekannt, bei denen sich gütegeschaltete
Laserimpulse hoher Leistung derart fokussieren lassen, daß
in beliebigen Medien ein LIB auftritt. Für eine praktikable
Anwendung in der Medizin ist es aber notwendig, die Fokussierung
eines solchen Laserimpulses nach der Transmission über
einen Lichtwellenleiter an den Ort der Steinzertrümmung zu
realisieren. Die über solche Lichtwellenleiter übertragbaren
Leistungsdichten mit ca. 1 GW/cm² müssen nach dem Verlassen des
Lichtwellenleiters auf mehr als 10 GW/cm² erhöht werden, um
einen LIB zu erreichen. Da die Apertur des Lichtwellenleiters
im wesentlichen ausgenutzt wird, werden vorzugsweise vielfach
Mikrolinsen in bekannten Lösungen eingesetzt. Notwendigerweise
ist der Ort der LIB-Stelle dicht an der Auskoppeloptik angeordnet.
In der Praxis hat sich gezeigt, daß allerdings nicht
nur der Stein sondern auch die Optik von einer Zerstörung, die
durch die mechanischen Stoßwellen verursacht wird, betroffen
ist. So beschreibt die DE-OS 32 41 026 eine Fokussierungseinrichtung
für mechanische Wellen, ohne die Art der optischen
Fokussierung anzugeben. Ihr komplizierter Aufbau schließt
Gefährdungen im Bereich der Stoßwellenerzeugung nicht aus. Die
DE-OS 36 32 743, EP-PS 02 33 639, EP-PS 01 55 379 und DE-OS 34 43 073
beschreiben unter weiteren bekannten Lösungen die Anordnung
von Linsen und deren Zuordnung zu Lichtwellenleitern,
wobei die Herstellung einer Mikrolinse aus dem Lichtwellenleitermaterial,
wie in der DE-OS 36 32 743 beispielsweise offenbart,
als eines der kritischen Probleme nicht gelöst ist. In
der US-PS 46 78 268 wird die Mikrolinsenherstellung für speziell
diesen Anwendungsfall untersucht, wobei ein Schutz vor
Zerstörung nicht gegeben ist. Aus verschiedenen Fachartikeln
sind ferner verschiedene Mikroobjektive bekannt, bei denen ein
vergrößerter Arbeitsabstand zu Lasten des äußeren Durchmessers
erzielt wurde. Diese Mikroobjektive sind jedoch praktisch nicht
mehr für alle Anwendungsfälle einsetzbar. Daneben wird mit
teilweisem Erfolg auf eine Fokussierung ganz verzichtet. Statt
dessen setzt man die LIB-Schwelle mit einem Absorber herab.
Unweigerlich wird mit solch einer Lösung die Wirkung der mechanischen
Welle herabgesetzt, wobei derartig angeordnete Absorber
verstärkt der Zerstörung ausgesetzt sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und
eine Vorrichtung zur Zerstörung von Konkrementen zu schaffen,
mit der Laserimpulse hoher Leistung nach deren erfolgten Transmission
über einen Lichtwellenleiter, der einen geringen Kerndurchmesser
besitzt, nutzbar sind, die die erforderlichen
Leistungsdichten zur Erzeugung eines LIB (laser induced break-down)
in einem Fluidum realisieren, wobei die Fokussieroptik
einer Zerstörung durch generierte mechanische Wellen widersteht
und eine optimale Zertrümmerung eines in einem Fluidum lokalisierten
Konkrement garantiert ist.
Diese Aufgabe für ein Verfahren zur Zerstörung von Konkrementen,
vorzugsweise zur Entfernung von Gallen- oder Nierensteinen
im menschlichen Körper, bei dem in der Umgebung eines von einem
Fluidum umgebenen Konkrements eine Impulsenergie aus Einzelimpulsenergie
integriert wird, wird erfindungsgemäß dadurch
gelöst, daß die gesamte Impulsenergie aus Einzelimpulsenergien
gebildet wird, deren Gesamtfrequenz aus einer Entladungsimpulsfrequenz
und einer Gruppenimpulsfolgefrequenz innerhalb einer
Periode eines Entladungsimpulses zusammengesetzt wird, daß in
zeitlichen Abständen die Einzelimpulsenergien in Gruppen dem
Konkrement zugeführt werden, wobei ein Impulsregime eine verstärkende
oszillierende und in Resonanz sich aufschwingende
Zerstörung des Konkrementes ermöglicht. Die elektrisch initiierte
Entladungsimpulsfrequenz und die lichtinitiierte Gruppenimpulsfolgefrequenz
wird variabel realisiert. Die Variation der
Gruppenimpulsfolgefrequenz wird über die Regelung einer Lichteingangsenergie
vorgenommen.
Eine Anordnung zur Durchführung vorstehend beschriebenen Verfahrens
zur Zerstörung von Konkrementen, die aus einer optischen
Lichtquelle, einem Einkoppelsystem, einem Lichtwellenleiter und
einer Auskoppeloptik besteht, wobei das Einkoppelsystem aus
einer Linsenkombination und einem Faserende des Lichtwellenleiters
zusammengesetzt ist, bei der am anderen Faserende des
Lichtwellenleiters eine Auskoppeloptik angeordnet ist, die auf
das von einem Fluidum umgebende Konkrement gerichtet ist, bei
der eine Sammellinse, die in einer optischen Achse im Strahlengang
des Einkoppelsystems mit einer nachgeordneten Zerstreuungslinse
als Linsenkombination zu verstehen ist, zur Einkopplung
der von der Lichtquelle abgegebenen Lichtstrahlenbündel
vorgesehen ist, bei der der Lichtwellenleiter einen kreisförmigen
Faserquerschnitt besitzt, wobei der Manteldurchmesser auf
seinen Faserkerndurchmesser reduziert und über seine gestreckte
Länge konstant gehalten ist, bei der die Auskoppeloptik im
festen Verbund mit dem Lichtwellenleiter installiert ist, wobei
diese eine aus einem dielektrischen und elastischen Material
bestehende fokussierende Mikrolinse ist, die vorzugsweise aus
einem geeigneten Epoxidharz oder Silikonkautschuk gestaltet
ist, wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das dem Einkoppelsystem
zugeordnete Faserende durch eine eingeschrägte Faserendfläche
und durch eine rechteckige Fasereintrittsfläche
charakterisiert ist, daß die Auskoppeloptik an ihrem Lichtaustrittsende
einen Querschnitt besitzt, der nicht wesentlich
größer als der Faserquerschnitt des Lichtwellenleiters ist, daß
innerhalb der optischen Lichtquelle ein passiver Güteschalter
eingesetzt ist, der mit einem farbzentrendatierten LiF-Kristall
realisiert ist.
Das dem Einkoppelsystem zugeordnete Faserende des Lichtwellenleiters
mit der Brechzahl nG seines Faserkernmaterials ist ein
abgeschnittener Zylinder, der durch die verschiedenen mathematischen
Beziehungen:
charakterisiert ist. Der äußere Manteldurchmesser des Lichtwellenleiters
ist vertikal in einer Ordinatenrichtung, und eine
nicht abgeschnittene äußere Mantellinie des Lichtwellenleiters
ist horizontal in einer Abzissenrichtung angeordnet, wobei
diese Mantellinse im rechten Winkel auf dem äußeren Manteldurchmesser
sitzt und den Koordinatenursprung schneidet. Die
Mantellinie ist von einer Strecke eingegrenzt, die durch
einen Endpunkt begrenzt ist. Der äußere Manteldurchmesser ist
durch eine Strecke dargestellt. Die beiden Strecken und
sind von einem spitzen Winkel eingeschlossen. Ein kreisförmiger
Lichtstrahlquerschnitt, der sich aus dem ausgekoppelten
Lichtstrahlenbündel der Linsenkombination ergibt, ist auf einen
Teil der Fasereintrittsfläche mit einer Länge, die durch eine
Strecke dargestellt ist, abgebildet. Ein weiterer zur Fasereintrittsfläche
gehörender Querschnitt ist mit einer Länge dem
vorgenannten Querschnitt nachgeordnet. Durch einen Punkt, der
die Strecke in die beiden Strecken und unterteilt,
tritt ein am äußeren Rand des Lichtstrahlquerschnittes lokalisierter
Lichtstrahl durch die Fasereintrittsfläche ein, der
innerhalb des Lichtwellenleiters in Richtung des Punktes, der
auf die Ordinate liegt und den äußeren Manteldurchmesser begrenzt,
von der gegenüberliegenden Mantelseite in den Lichtwellenleiter
hinein reflektiert ist. Zwischen jeden einzelnen an
der Fasereintrittsfläche eingekoppelten Lichtstrahl in den
Lichtwellenleiter und einem außerhalb der Fasereintrittsfläche
in einem ihrer Lichteintrittspunkte auf der Strecke gefällten
Lot ist ein spitzer Winkel eingeschlossen.
Die eingeschrägte Faserendfläche ist durch eine numerische
Apertur NA<0,4 charakterisiert, wobei die Einkopplung des
vorzugsweise niederaperturigen Lichtstrahlenbündels unter einem
Winkel zwischen 25° und 30° vorgesehen ist.
Mit der Mikrolinse ist eine Brennweite 5 mm realisierbar.
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen insbesondere
darin, daß die erfinderische Lösung eine Systemlösung anbietet,
die bei geringem technologischen Aufwand und praktikabler
Handhabung von Laserquelle und Lichtwellenleiter eine effektive
und sichere Zerstörung von Konkrementen in einem Fluidium unter
minimalem zeitlichen Aufwand ermöglicht. Mit ihr sind Laserimpulse
hoher Leistung nach deren Transmission über einen
Lichtwellenleiter nutzbar, wobei ein Lichtwellenleiter mit
einem Kerndurchmesser geringer Weite nutzbar ist. Die Laserimpulse
realisieren die erforderlichen Leistungsdichten zur
Erzeugung eines LIB in unmittelbarer Nähe des zu zerstörenden
Konkrementes. Die einzusetzende Fokussieroptik wird von einer
Zerstörung, die durch generierte mechanische Wellen provoziert
ist, verschont. Die erfinderische Lösung bietet die optimale
Zertrümmerung des Konkrementes an. Vorteilhaft ist bei dieser
Lösung weiterhin eine wesentlich günstigere Ausnutzung der
Lampenlebensdauer (Laserpuls/Lampenpuls bis 10 : 1) sowie ein
höherer Wirkungsgrad des Lasersystems.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung
dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben.
Es zeigt
Fig. 1 die erfindungsgemäße Anordnung zur Zerstörung von
Konkrementen;
Fig. 2 das dem Einkoppelsystem zugeordnete Faserende
des Lichtwellenleiters der erfindungsgemäßen
Anordnung;
Fig. 3 die modifizierte erfindungsgemäße Anordnung.
Ein Q-switch-Laser wird derart beschrieben, daß bei feststehenden
Einzelimpulsenergien die Gesamtfrequenz des Lasers sich aus
einer Folgefrequenz der Entladungslampe, bei der ≲100 Hz
entsprechend die Impulsabstände im ms-Bereich sind, und einer
Gruppenfrequenz innerhalb eines Lampenimpulses im Bereich von
10 µs bis 200 µs zusammensetzt. Die gesamte Impulsenergie, die
aus Einzelimpulsenergien gebildet und deren Gesamtfrequenz sich
aus einer Entladungsimpuls- und einer Gruppenimpulsfolgefrequenz
innerhalb einer Periode eines Entladungsimpulses zusammensetzt,
wird in der Umgebung eines sich in Flüssigkeit befindlichen
Steins integriert. Die Einzelimpulsenergien sind
dabei gruppenweise in zeitlichen Abständen vertreten. Diese
Impulsgruppen werden an den Ort der Steinzertrümmerung in eine
Flüssigkeit geleitet. Durch die Impulsabstände innerhalb einer
Gruppe kommt es sowohl in einer Plasmablase als auch auf der
Steinoberfläche zu einer die Wirkung verstärkenden oszillierenden
und in Resonanz sich aufschwingenden Steinzerstörung.
Die Erzeugung derartiger Impulsregime wird durch die Verwendung
eines gütegesteuerten Lasers mittels passiven Schalters
möglich. Die Variation der Gruppenimpulsfolgefrequenz erfolgt
über die Regelung der Lasereingangsenergie. Sowohl die elektrisch
initiierte Entladungsimpulsfrequenz als auch die laserinitiierte
Gruppenimpulsfolgefrequenz sind variierbar. Für
sinnvolle Einzelimpulsenergien mit beispielsweise 100 mJ
wird über die Wahl des Reflektionsgrades eines Auskoppelspiegels
gesorgt. In einer gerätetechnischen Umsetzung sollte die
Laserausgangsenergie über eine Modenblende oder einen Abschwächer
regulierbar sein. Die beispielgemäße Umsetzung sieht
überdies einen Impulsabstand der Lampenentladung von 51 ms und
eine Halbwertbreite der Laserimpulse von ungefähr 15 ns bis 20 ns
vor.
Die in Fig. 1 dargestellte Anordnung besteht aus einer optischen
Lichtquelle 1, die der erwähnte Q-switch-Laser verkörpert,
einem Einkoppelsystem 3, einem Lichtwellenleiter 6 und
einer Auskoppeloptik 8. Das Einkoppelsystem 3 setzt sich aus
einer Linsenkombination und einem Faserende des Lichtwellenleiters
6 zusammen. Als Linsenkombination ist eine Sammellinse 4
und eine nachgeordnete Zerstreuungslinse 5 zu verstehen, die
beide in einer optischen Achse im Strahlengang des Einkoppelsystems
3 angeordnet sind. Am anderen Faserende des Lichtwellenleiters
6 sitzt eine Auskoppeloptik 8, die auf das von einer
Flüssigkeit 12 umgebene Konkrement 9, beispielsweise den hinter
einer Körperwandung 11 sich befindenden und bereits genannten
Stein, gerichtet ist. Zwischen der Auskoppeloptik 8 und dem
Zerstörungsobjekt in Gestalt des Steines ist durchaus die
zusätzliche Anordnung eines Absorbers 10 im Strahlengang denkbar.
Der Lichtwellenleiter 6 besitzt einen kreisförmigen Faserquerschnitt,
wobei der Manteldurchmesser im Einkoppelbereich
auf seinen Faserkerndurchmesser reduziert und über seine gestreckte
Länge konstant gehalten ist. Die Auskoppeloptik 8 ist
im festen Verbund mit dem Lichtwellenleiter 6 installiert. Sie
verkörpert eine aus einem dielektrischen und gleichzeitig
elastischen Material fokussierende Mikrolinse, die vorzugsweise
aus einem geeigneten Epoxidharz oder Silikonkautschuk gestaltet
ist. Das dem Einkoppelsystem 3 zugeordnete Faserende 7 ist
durch eine eingeschrägte Faserendfläche 13 und durch eine
rechteckige Fasereintrittsfläche 14 charakterisiert. Die Auskoppeloptik
8 besitzt an ihrem Lichtaustrittsende einen Querschnitt,
der nicht wesentlich größer als der Faserquerschnitt
des Lichtwellenleiters 6 ist. Innerhalb des Lasers ist ein
passiver Güteschalter eingesetzt, der mit einem farbzentrendatierten
LiF-Kristall realisiert ist. Das dem Einkoppelsystem 3
zugeordnete Faserende 7 des Lichtwellenleiters 6 mit der Brechzahl
nG seines Faserkernmaterials besitzt die körperliche Form
eines abgeschnittenen Zylinders, der durch die nachfolgenden
mathematischen Beziehungen:
charakterisiert ist. In der Fig. 2 ist eine detaillierte Darstellung
des genannten Faserendes ersichtlich. Hier ist der
äußere Manteldurchmesser 2r des Lichtwellenleiters 6 vertikal
in einer Ordinatenrichtung und die nicht abgeschnittene äußere
Mantellinie des Lichtwellenleiters 6 horizontal in einer Abzissenrichtung
angeordnet. Diese Mantellinie sitzt im rechten
Winkel auf dem äußeren Manteldurchmeser 2r und schneidet den
Koordinatenursprung A. Sie ist von einer Strecke eingegrenzt,
wobei die Strecke durch den Koordinatenursprung A
und einen Punkt C begrenzt ist. Der äußere Manteldurchmesser 2r
ist durch die Strecke , und die eingeschrägte Faserendfläche
13 ist durch die Strecke dargestellt. Die beiden Strecken
und sind von einem spitzen Winkel β eingeschlossen. Die
Strecken , und bilden gemeinsam ein rechtwinkliges
Dreieck. Ein kreisförmiger Lichtstrahlquerschnitt 2r₁, der sich
aus dem ausgekoppelten Laserstrahlbündel 2 der Linsenkombination
ergibt, ist auf einen Teil der Fasereintrittsfläche 14 mit
einer Länge Xe, die durch eine Strecke dargestellt ist,
abgebildet. Ein weiterer zur Fasereintrittsfläche 14 gehörender
Querschnitt mit einer Länge K ist dem vorgenannten Querschnitt
nachgeordnet. Durch einen Punkt E, der die Strecke und die
beiden Strecken und unterteilt, tritt ein am äußeren Rand
des Lichtstrahlquerschnittes 2r₁ lokalisierter Laserstrahl
durch die Fasereintrittsfläche 14 ein. Dieser Laserstrahl ist
innerhalb des Lichtwellenleiters 6 in Richtung des Punktes B
von der gegenüberliegenden Mantelseite in den Lichtwellenleiter
6 hinein reflektiert. Der genannte Punkt B liegt auf der Ordinate
und begrenzt den äußeren Manteldurchmesser 2r. Zwischen
jeden einzelnen an der Fasereintrittsfläche 14 eingekoppelten
Laserstrahl in den Lichtwellenleiter 6 und einem außerhalb der
Fasereintrittsfläche 14 in einen ihrer Lichteintrittspunkte auf
der Länge Xe gefällten Lot ist ein spitzer Winkel α₁ eingeschlossen.
Die eingeschrägte Faserendfläche 13 ist durch eine
numerische Apertur NA0,4 charakterisiert. Die Einkopplung
des vorzugsweise niederaperturigen Laserstrahlenbündels 2
erfolgt unter einem Winkel α₁ zwischen 25° und 30° in den
Lichtwellenleiter 6.
Unter Ausnutzung der Strahl- und Lichtwellenleitereigenschaften
erfolgt also unter einem genügend großen Winkel α₁≈30°
unter Verletzung der NA der Faser 0,4 (20°) erfindungsgemäß
die Einkopplung der Laserstrahlung in die Faser. Über die
eingeschrägte Faserendfläche 13 beginnt mittels Totalreflexion
die Ausbreitung entlang der Faserachse. Die Leistungsdichte auf
der Fasereintrittsfläche 14 wird durch die erhöhte Gesamtfläche
wesentlich reduziert. Zur Strahlformung kann die Faser selbst
benutzt werden, insbesondere ist die Erzeugung eines niederaperturigen
Laserstrahlenbündels 2 hoher Leistungs-/Energiedichte
jetzt überhaupt erst möglich. Erwähnenswert ist bei der
beschriebenen Vorzugsvariante, daß die Laserstrahlung mit einer
minimalen Divergenz möglichst parallel entlang der Faser sich
ausbreiten soll, wobei dann die Winkel α₃ und β gleich groß
sind. Dazu wird der kreisrunde Strahlquerschnitt mittels der
genannten Linsenkombination des Einkoppelsystems 3 sowie unter
Einbeziehung der Linsenwirkung der Fasermantelfläche 14 auf
einen rechteckigen Querschnitt mit nahezu beugungsbegrenzter
Divergenz in der Faser abgebildet. Hierzu sind die bereits
genannten mathematischen Beziehungen für die Abbildung in der
x-y-Ebene genannt, wobei zu berücksichtigen ist, daß der Winkel
βarc sin 1/nG ist. Weiterhin soll unter Beachtung der in Fig. 3
dargestellten Anordnung gelten, daß f₁ · RL<2rF und
L=f₁+f₃ ist.
In diesen genannten mathematischen Beziehungen stellen RL:
die Divergenz der Laserstrahlung und
2rF: den Faserdurchmesser des Lichtwellenleiters 6 dar,
wobei L: der Abstand zwischen der Sammellinse 4 und der Fasereintrittsfläche 14 ist.
die Divergenz der Laserstrahlung und
2rF: den Faserdurchmesser des Lichtwellenleiters 6 dar,
wobei L: der Abstand zwischen der Sammellinse 4 und der Fasereintrittsfläche 14 ist.
Letzterer ergibt sich nur bei der Realisierung des Linsensystems
ohne Zerstreuungslinse 5. Dann gilt ferner auch f₃=2rF.
Beispielgemäß ergibt sich für ein nG=1,55 und rF=200 µm
ein variierender Winkel β=f (α₁) von 25° bis 40° für einen
Winkel α₁ von 90° bis ≈15°. Damit kann die Gesamtenergie/-
leistung der eingekoppelten Laserenergie/-leistung bei gleicher
Flächenleistungsdichte bis auf das 2,4fache gesteigert werden.
Vorzugsweise ist, wie bereits erwähnt, der Winkel im Bereich
von 25° bis 30° anzuschleifen und der Winkel α₁ entsprechend
zu justieren, damit der Nutzflächenverlust (∼tanβ) gering
gehalten werden kann.
Als besondere Ausgestaltungsform der beschriebenen Anordnung
interessiert die Gestaltung der Auskoppeloptik 8, die durch
eine elastische Mikrolinse vergegenständlicht ist. Sie wird an
den Lichtwellenleiter 6 mit einem Faserdurchmesser 2rF im
Bereich 600 µm angegossen. Die Brennweite der Mikrolinse soll
vorzugsweise <5 mm sein. Eine Formung der Mikrolinse aus dem
Lichtwellenleiter 6 selbst durch eine entsprechende technologische
Behandlung, beispielsweise Wärmebehandlung, ist denkbar.
Auch ein Einkitten oder -kleben in den Faserkerndurchmesser
des Lichtwellenleiters 6 ist zu vertreiben. Der feste Verbund
von Lichtwellenleiterende und Mikrolinse garantiert einen
optimalen Grenzflächenübertritt. Mit einem elastischen 2-Komponenten-
Epoxydharzkleber sind Laserfestigkeiten von <800 MW/cm²,
also im Bereich der Laserfestigkeit von Quarz, nachweisbar.
Liste der Bezugszeichen
1 Optische Lichtquelle
2 Lichtstrahlenbündel
3 Einkoppelsystem
4 Sammellinse
5 Zerstreuungslinse
6 Lichtwellenleiter
7 Faserende
8 Auskoppeloptik
9 Konkrement
10 Absorber
11 Körperwandung
12 Fluidum
13 eingeschrägte Faserendfläche
14 rechteckige Fasereintrittsfläche
2 Lichtstrahlenbündel
3 Einkoppelsystem
4 Sammellinse
5 Zerstreuungslinse
6 Lichtwellenleiter
7 Faserende
8 Auskoppeloptik
9 Konkrement
10 Absorber
11 Körperwandung
12 Fluidum
13 eingeschrägte Faserendfläche
14 rechteckige Fasereintrittsfläche
Claims (7)
1. Verfahren zur Zerstörung von Konkrementen, vorzugsweise zur
Entfernung von Gallen- oder Nierensteinen im menschlichen
Körper, bei dem in der Umgebung eines von einem Fluidum
umgebenen Konkrementes eine Impulsenergie integriert wird,
dadurch gekennzeichnet,
daß die gesamte Impulsenergie aus Einzelimpulsenergien gebildet wird, deren Gesamtfrequenz aus einer Entladungsimpulsfrequenz und einer Gruppenimpulsfolgefrequenz innerhalb einer Periode eines Entladungsimpulses zusammengesetzt wird,
daß in zeitlichen Abständen die Einzelimpulsenergien in Gruppen dem Konkrement zugeführt werden, wobei ein Impulsregime eine verstärkende oszillierende und in Resonanz sich aufschwingende Zerstörung des Konkrementes ermöglicht.
daß die gesamte Impulsenergie aus Einzelimpulsenergien gebildet wird, deren Gesamtfrequenz aus einer Entladungsimpulsfrequenz und einer Gruppenimpulsfolgefrequenz innerhalb einer Periode eines Entladungsimpulses zusammengesetzt wird,
daß in zeitlichen Abständen die Einzelimpulsenergien in Gruppen dem Konkrement zugeführt werden, wobei ein Impulsregime eine verstärkende oszillierende und in Resonanz sich aufschwingende Zerstörung des Konkrementes ermöglicht.
2. Verfahren zur Zerstörung von Konkrementen nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die elektrisch initiierte Entladungsimpulsfrequenz und
die lichtinitiierte Gruppenimpulsfolgefrequenz variabel
realisiert wird.
3. Verfahren zur Zerstörung von Konkrementen nach Anspruch 1
und Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Variation der Gruppenimpulsfolgefrequenz über die
Regelung einer Lichteingangsenergie realisiert wird.
4. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens zur Zerstörung von
Konkrementen, die aus einer optischen Lichtquelle, einem
Einkoppelsystem, einem Lichtwellenleiter und einer Auskoppeloptik
besteht, wobei das Einkoppelsystem aus einer Linsenkombination
und einem Faserende des Lichtwellenleiters
zusammengesetzt ist, bei der am anderen Faserende des Lichtwellenleiters
eine Auskoppeloptik angeordnet ist, die auf
das von einem Fluidum umgebende Konkrement gerichtet ist,
bei der eine Sammellinse, die in einer optischen Achse im
Strahlengang des Einkoppelsystems mit einer nachgeordneten
Zerstreuungslinse als Linsenkombination zu verstehen ist,
zur Einkopplung der von der Lichtquelle abgegebenen Lichtstrahlenbündel
vorgesehen ist, bei der der Lichtwellenleiter
einen kreisförmigen Faserquerschnitt besitzt, wobei der
Manteldurchmesser auf seinen Faserkerndurchmesser reduziert
und über eine gestreckte Länge konstant gehalten ist, bei
der die Auskoppeloptik im festen Verbund mit dem Lichtwellenleiter
installiert ist, wobei diese eine aus einem
dielektrischen und elastischen Material bestehende fokussierende
Mikrolinse ist, die vorzugsweise aus einem geeigneten
Epoxidharz oder Silikonkautschuk gestaltet ist, dadurch
gekennzeichnet,
daß das Einkoppelsystem (3) zugeordnete Faserende (7) durch eine eingeschrägte Faserendfläche (13) und durch eine rechteckige Fasereintrittsfläche (14) charakterisiert ist,
daß die Auskoppeloptik (8) an ihrem Lichtaustrittsende einen Querschnitt besitzt, der nicht wesentlich größer als der Faserquerschnitt des Lichtwellenleiters (6) ist,
daß innerhalb der optischen Lichtquelle ein passiver Güteschalter eingesetzt ist, der mit einem farbzentrendatierten LiF-Kristall realisiert ist.
daß das Einkoppelsystem (3) zugeordnete Faserende (7) durch eine eingeschrägte Faserendfläche (13) und durch eine rechteckige Fasereintrittsfläche (14) charakterisiert ist,
daß die Auskoppeloptik (8) an ihrem Lichtaustrittsende einen Querschnitt besitzt, der nicht wesentlich größer als der Faserquerschnitt des Lichtwellenleiters (6) ist,
daß innerhalb der optischen Lichtquelle ein passiver Güteschalter eingesetzt ist, der mit einem farbzentrendatierten LiF-Kristall realisiert ist.
5. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens zur Zerstörung von
Konkrementen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
das dem Einkoppelsystem (3) zugeordnete Faserende (7) des
Lichtwellenleiters (6) mit der Brechzahl nG seines Faserkernmaterials
ein abgeschnittener Zylinder ist, der durch
die verschiedenen mathematischen Beziehungen:
charakterisiert ist, bei der der äußere Manteldurchmesser
(2r) des Lichtwellenleiters (6) vertikal in einer Ordinatenrichtung
und eine nicht abgeschnittene äußere Mantellinie
des Lichtwellenleiters (6) horizontal in einer Abzissenrichtung
angeordnet ist, wobei diese Mantellinie im rechten
Winkel auf dem äußeren Manteldurchmesser (2r) sitzt und den
Koordinatenursprung (A) schneidet, bei der diese Mantellinie
von einer Strecke eingegrenzt ist, die durch einen Endpunkt (C)
begrenzt ist, bei der der äußere Manteldurchmesser
(2r) durch eine Strecke dargestellt ist und die beiden
Strecken und von einem spitzen Winkel (β) eingeschlossen
sind, bei der ein kreisförmiger Lichtstrahlquerschnitt
(2r₁), der sich aus dem ausgekoppelten Lichtstrahlenbündel
(2) der Linsenkombination ergibt, auf einen Teil der Fasereintrittsfläche
(14) mit einer Länge (Xe), die durch eine
Strecke dargestellt ist, abgebildet ist, bei der ein
weiterer zur Fasereintrittsfläche (14) gehörender Querschnitt
mit einer Länge (K) dem vorgenannten Querschnitt
nachgeordnet ist, bei der durch einen Punkt (E), der die
Strecke in die beiden Strecken und unterteilt, ein
am äußeren Rand des Lichtstrahlquerschnittes (2r₁) lokalisierter
Lichtstrahl durch die Fasereintrittsfläche (14)
eintritt, der innerhalb des Lichtwellenleiters (6) in Richtung
des Punktes (B), der auf der Ordinate liegt und den
äußeren Manteldurchmesser (2r) begrenzt, von der gegenüberliegenden
Mantelseite in den Lichtwellenleiter (6) hinein
reflektiert ist, bei der zwischen jeden einzelnen an der
Fasereintrittsfläche (14) eingekoppelten Lichtstrahl in den
Lichtwellenleiter (6) und einem außerhalb der Fasereintrittsfläche
(14) in einem ihrer Lichteintrittspunkte auf
der Länge (Xe) gefällten Lot ein spitzer Winkel (α₁)
eingeschlossen ist.
6. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens zur Zerstörung von
Konkrementen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die eingeschrägte Faserendfläche (13) durch eine numerische
Apertur NA0,4 charakterisiert ist, wobei die
Einkopplung des vorzugsweise niederaperturigen Lichtstrahlenbündels (2)
unter einem Winkel α₁ zwischen 25° und
30° in den Lichtwellenleiter (6) vorgesehen ist.
7. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens zur Zerstörung von
Konkrementen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß mit der Mikrolinse eine Brennweite 5 mm realisierbar
ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19904038295 DE4038295A1 (de) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | Verfahren und anordnung zur zerstoerung von konkrementen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19904038295 DE4038295A1 (de) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | Verfahren und anordnung zur zerstoerung von konkrementen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4038295A1 true DE4038295A1 (de) | 1992-06-04 |
Family
ID=6419332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19904038295 Withdrawn DE4038295A1 (de) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | Verfahren und anordnung zur zerstoerung von konkrementen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4038295A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9254075B2 (en) | 2014-05-04 | 2016-02-09 | Gyrus Acmi, Inc. | Location of fragments during lithotripsy |
US9259231B2 (en) | 2014-05-11 | 2016-02-16 | Gyrus Acmi, Inc. | Computer aided image-based enhanced intracorporeal lithotripsy |
US9282985B2 (en) | 2013-11-11 | 2016-03-15 | Gyrus Acmi, Inc. | Aiming beam detection for safe laser lithotripsy |
-
1990
- 1990-11-28 DE DE19904038295 patent/DE4038295A1/de not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9282985B2 (en) | 2013-11-11 | 2016-03-15 | Gyrus Acmi, Inc. | Aiming beam detection for safe laser lithotripsy |
US9254075B2 (en) | 2014-05-04 | 2016-02-09 | Gyrus Acmi, Inc. | Location of fragments during lithotripsy |
US9259231B2 (en) | 2014-05-11 | 2016-02-16 | Gyrus Acmi, Inc. | Computer aided image-based enhanced intracorporeal lithotripsy |
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