DE4034365C2 - - Google Patents

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Robert 7519 Walzbachtal De Ruprecht
Gerhard 7507 Pfinztal De Stern
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    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
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DE4406600C1 (de) * 1994-03-01 1995-04-27 Kernforschungsz Karlsruhe Verfahren zur Herstellung eines Filters für elektromagnetische Strahlung

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1181239A1 (de) * 1999-03-31 2002-02-27 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur herstellung von freitragenden mikrostrukturen, von dünnen flachteilen oder von membranen und verwendung nach diesem verfahren hergestellter mikrostrukturen als widerstandsgitter in einer einrichtung zur messung schwacher gasströmungen
DE10239551A1 (de) * 2002-08-23 2004-03-04 Daimlerchrysler Ag Filterkörper für Rußfilter

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1160258B (de) * 1961-06-13 1963-12-27 Richard Steding Verfahren zur Herstellung von Metallfolien auf galvanoplastischem Wege
DE1303000B (enExample) * 1966-07-06 1971-01-28
DE2512086C3 (de) * 1975-03-19 1978-11-30 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Verfahren zur Herstellung freitragender, dünner Metallstrukturen
DE2832408A1 (de) * 1978-07-24 1980-02-14 Siemens Ag Verfahren zur herstellung von praezisionsflachteilen, insbesondere mit mikrooeffnungen
DE3232499A1 (de) * 1982-09-01 1984-03-01 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Maske fuer die mustererzeugung in lackschichten mittels roentgenstrahllithographie und verfahren zu ihrer herstellung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4406600C1 (de) * 1994-03-01 1995-04-27 Kernforschungsz Karlsruhe Verfahren zur Herstellung eines Filters für elektromagnetische Strahlung

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