DE3728100A1 - Spiegel mit einer auf der vorderflaeche eines substrats befindlichen reflexionsschicht - Google Patents

Spiegel mit einer auf der vorderflaeche eines substrats befindlichen reflexionsschicht

Info

Publication number
DE3728100A1
DE3728100A1 DE19873728100 DE3728100A DE3728100A1 DE 3728100 A1 DE3728100 A1 DE 3728100A1 DE 19873728100 DE19873728100 DE 19873728100 DE 3728100 A DE3728100 A DE 3728100A DE 3728100 A1 DE3728100 A1 DE 3728100A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
mirror
substrate
sno
sputtering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19873728100
Other languages
English (en)
Inventor
Andreas Pein
Falko V Dr Unger
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Deutsche Spezialglas AG
Original Assignee
Deutsche Spezialglas AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Deutsche Spezialglas AG filed Critical Deutsche Spezialglas AG
Priority to DE19873728100 priority Critical patent/DE3728100A1/de
Priority to DE8717889U priority patent/DE8717889U1/de
Publication of DE3728100A1 publication Critical patent/DE3728100A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
    • G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Spiegel mit einer auf der Vorderfläche eines Substrates befindlichen Re­ flexionsschicht aus einem Metall mit 55-85% Gesamtre­ flexion und einer darüber aufgebrachten Interferenzschicht eines transparenten hochbrechenden Oxids.
Es sind gattungsgemäße Spiegel bekannt, die über eine Re­ flexionsschicht aus Chrom und über eine über dieser Chrom­ schicht sich befindenden Interferenzschicht aus Titandioxid verfügen. Bei den bekannten Spiegeln kann die Interferenz­ schicht aus Titandioxid durch Aufdampfen oder durch Sputtern aufgebracht werden.
Die mechanische und chemische Beständigkeit dieser bekannten Spiegel läßt zu wünschen übrig. Außerdem sind deren Herstel­ lungsbedingungen ungünstig, denn einerseits sind Aufdampf­ verfahren normalerweise kostenintensiver als Sputterverfahren, andererseits kommen aber auch letztere für TiO2 wegen dessen geringer Sputterrate kaum in Betracht.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist ein Spiegel der ein­ gangs genannten Art, der über eine besondere mechanische und chemische Stabilität verfügt und sich kostengünstig herstel­ len läßt.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß in einem Spiegel der eingangs genannten Art die Interferenzschicht eine Schicht aus Zinndioxid ist.
Der entscheidende Vorteil einer SnO2-Interferenzschicht verglichen mit einer TiO2-Schicht ist deren größere mecha­ nische und vor allem chemische Beständigkeit.
Es war überraschend, daß eine derartige SnO2-Schicht eine wesentlich höhere chemische Beständigkeit als eine TiO2- Schicht aufweist. Ein solch deutlicher Unterschied hinsicht­ lich der chemischen Stabilität war nicht von vornherein zu erwarten gewesen.
Daneben bietet eine SnO2-Schicht noch weitere Vorteile: SnO2 besitzt einen hohen Brechungsindex von ungefähr 2.05. Dies ist eine Voraussetzung dafür, einen Interferenzspiegel mit blauer Reflexionsfarbe herstellen zu können. Außerdem verfügt Zinn bzw. Zinndioxid über eine hohe Sputterrate, wodurch sich günstige Herstellungsbedingungen für den erfindungsgemäßen Spiegel ergeben.
Vorzugsweise besteht die Reflexionsschicht aus Chrom, da dieses Metall über die nötige mechanische und chemische Stabilität verfügt, die für die Reflexionsschicht bei einem Vorderflächeninterferenzspiegel gefordert wird. Außerdem erfüllt Chrom mit ca. 65% Gesamtreflexion die Be­ dingung einer Gesamtreflexion zwischen 55 und 85%. Denn einerseits führt eine zu geringe Gesamtreflexion der metal­ lischen Reflexionsschicht zusammen mit der SnO2-Interferenz­ schicht zu Reflexionswerten des fertigen Blautonspiegels von unter 40%, die gesetzlich nicht zulässig sind. Andererseits ist bei einer zu hohen Gesamtreflexion nur ein sehr geringer Blauton durch die SnO2-Interferenzschicht zu erreichen, so daß letztere dann fast wirkungslos bleibt. Auch andere Metalle, die diesen Forderungen genügen, können eingesetzt werden. Die Interferenzschicht selbst besitzt eine solche Dicke, daß aus der farbneutralen Reflexion der Chromschicht ein blauer Reflexions-Farbton mit blendmindernder Wirkung und einer Ge­ samtreflexion über 40% entsteht. Dies wird erreicht, wenn die SnO2-Interferenzschicht eine Dicke von 50 bis 150 nm, vorzugs­ weise 100 nm, besitzt.
Die Dicke der Chromschicht beeinflußt maßgebend die Transmission des Cr-SnO2-Schichtsystems. Sie ist so bemessen, daß rückseitige Strukturen wie z.B. eingebrannte Leitsilberbahnen (bei beheizbaren Spiegeln) von der Vorderseite aus nicht erkennbar sind; die Mindestschicht­ decke der Reflexionsschicht eines erfindungsgemäßen Spiegels beträgt daher 30 nm.
Die Herstellung eines erfindungsgemäßen Spiegels erfolgt im Sputterverfahren, wobei zunächst die Chromschicht auf ein Substrat, vorzugsweise aus Glas und danach auf die Chromschicht in einem Reaktivsputterverfahren SnO2 aufgebracht wird.
Die Herstellung der Interferenzschicht im Sputterverfahren gestattet aufgrund der hohen Sputterrate von Zinn bzw. Zinndioxid eine preisgünstige Herstellung, da pro Zeitein­ heit mehr Spiegel hergestellt werden können.
Es ist denkbar, die Chromschicht durch ein anderes Verfahren als durch Sputtern auf das Substrat aufzubringen - werden aber beide Schichten aufgesputtert, kann der Herstellungs­ prozeß kontinuierlich durchgeführt werden, und das Substrat kann nach Aufbringen der Chromschicht in derselben Anlage mit der SnO2 besputtert werden.
Vorteilhaft läßt sich das Aufbringen der SnO2-Schicht im Reaktivsputterverfahren mit einer "DC-Magnetron-Kathode" durchführen, wobei ein metallisches Zinntarget und Sauer­ stoff als Reaktionsgas verwendet werden. Dieses Verfahren ist unter den gegebenen Bedingungen das kostengünstigere.
Obwohl beim Sputtern eine geringe Wärmeentwicklung auf dem Substrat stattfindet, ist es empfehlenswert, vor dem Aufsputtern der Chromschicht und der Interferenzschicht das Substrat auf über 50°C, vorzugsweise auf 120 bis 180°C, beispielsweie mittels IR-Strahlung aufzuheizen.
Auch eine Feinreinigung der Substrate durch Glimmentla­ dungen wirkt sich positiv auf die Schichteigenschaften aus.
Eine weitere Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens sieht vor, während des Aufsputterns der SnO2-Schicht eine negative Biasspannung (ca. minus 100 Volt) an der Metallpalette anzulegen, auf der die Glassubstrate vor dem Besputtern angeordnet werden. Durch diese negative Spannung werden positiv geladene Ionen, z.B. die von Argon, Sauerstoff oder Zinn zum Substrat hin beschleunigt, welches dadurch mit diesen Ionen bombardiert wird. Durch dieses Bombardement wird die Bildung einer kompakten und fest haftenden SnO2-Schicht begünstigt. Durch Vorheizen und Biasspannung ergibt sich sowohl eine erhöhte mecha­ nische als auch chemische Stabilität der aufgesputterten SnO2-Schicht.
Die Biasspannung kann auch bereits beim Aufsputtern der Chromschicht angelegt werden, wenn nicht in einer Getrenntkammeranlage gearbeitet wird.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines Ausführungs­ beispiels näher erläutert: Vorgereinigte Glassubstrate, die bereits die Dimensionen der fertigen Spiegel besitzen und z.B. 100×150 mm Größe aufweisen, werden auf eine Metallpalette gelegt und durch IR-Bestrahlung auf 150°C vorgeheizt. Durch Glimmentladungen werden die Substratober­ flächen vor dem Besputtern feingereinigt. In einer Sputter­ anlage wird zunächst eine Chromschicht von 40 nm auf die Glassubstrate aufgesputtert. Daran anschließend wird in derselben Sputteranlage in einem Reaktivsputter­ verfahren die erfindungsgemäße SnO2-Schicht auf die Chromschicht aufgesputtert, wobei an die Metallpalette nun eine negative Biasspannung von ca. minus 100 Volt angelegt wird.
Die Vorschubgeschwindigkeit der Palette unterhalb der Sputterkathode wird so bemessen, daß die SnO2-Schicht dabei auf ca. 100 nm Dicke anwächst und kann z.B. 15 mm/s betragen. Bei 100 nm Schichtdicke ergibt sich ein hellblauer Farbton des reflektierten Lichtes bei einer Gesamtreflexion von 45% (blendmindernde Wirkung). Durch Wahl anderer SnO2-Schichtdicken ist aber auch die Einstel­ lung anderer Farbtöne möglich.
Sowohl Vorheizen und Glimmen als auch die negative Substrat- Biasspannung wirken sich günstig auf die spätere mecha­ nische und chemische Stabilität der SnO2-Schicht aus. Daß dabei mit SnO2 eine gegenüber TiO2 wesentlich erhöhte chemische Stabilität erzielt wird, war keineswegs zu erwarten. Beispielsweise ist ein Cr-TiO2-Schichtsystem nach einem 8-stündigen Schwefelsäure-Koch-Test erkennbar angegriffen, während Cr-SnO2 nach 40 Stunden noch keinen Angriff aufwies. Nach 30 Minuten in verdünnter Flußsäure zeigt die SnO2-Schicht ebenfalls keinen Angriff, während die TiO2-Schicht eines Cr-TiO2-Spiegels bereits nach 2 Minuten zerstört war.
Auch im Kesternich-Test nach DIN 50 018/5 R. schnitt er erfindungsgemäße Spiegel deutlich besser als ein Cr-TiO2 -Spiegel ab.
Die bessere mechanische Stabilität der SnO2 - gegenüber einer TiO2-Schicht auf einer Chromreflexionsschicht wurde durch den Taber-Abraser-Test festgestellt.

Claims (13)

1. Spiegel mit einer auf der Vorderfläche eines Substrates befindlichen Reflexionsschicht aus einem Metall mit 55-85% Gesamtreflexion und einer darüber aufgebrachten Interferenz­ schicht eines transparenten hochbrechenden Oxids, dadurch ge­ kennzeichnet, daß diese Interferenzschicht eine Zinndioxid­ schicht ist.
2. Spiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reflexionsschicht eine Chromschicht ist.
3. Spiegel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Zinndioxidschicht eine solche Dicke besitzt, daß der Spiegel eine blaue Reflexionsfarbe besitzt.
4. Spiegel nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Zinndioxidschicht eine Dicke von 50 bis 150 nm aufweist.
5. Spiegel nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Zinndioxidschicht eine Dicke von 100 nm aufweist.
6. Spiegel nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Chromschicht eine Dicke von min­ destens 30 nm besitzt.
7. Verfahren zur Herstellung eines Spiegels gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Interferenzschicht aus SnO2 durch Sputtern aufgebracht wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Reflexionsschicht durch Sputtern aufgebracht wird.
9. Verfahren zur Herstellung eines Spiegels nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Interferenzschicht aus SnO2 unter Verwendung eines metallischen Zinntargets und von Sauerstoff als Reaktionsgas aufgesputtert wird (Reaktiv­ sputterverfahren).
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat auf über 50°C vorgeheizt wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat auf 120 bis 180°C vorge­ heizt wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Substrate durch Glimmentladungen feingereinigt werden.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß während des Sputterns eine negative Biasspannung an einer Metallpalette, auf welcher das Sub­ strat angeordnet ist, angelegt wird.
DE19873728100 1987-08-22 1987-08-22 Spiegel mit einer auf der vorderflaeche eines substrats befindlichen reflexionsschicht Withdrawn DE3728100A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19873728100 DE3728100A1 (de) 1987-08-22 1987-08-22 Spiegel mit einer auf der vorderflaeche eines substrats befindlichen reflexionsschicht
DE8717889U DE8717889U1 (de) 1987-08-22 1987-08-22

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19873728100 DE3728100A1 (de) 1987-08-22 1987-08-22 Spiegel mit einer auf der vorderflaeche eines substrats befindlichen reflexionsschicht

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3728100A1 true DE3728100A1 (de) 1989-03-02

Family

ID=6334307

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19873728100 Withdrawn DE3728100A1 (de) 1987-08-22 1987-08-22 Spiegel mit einer auf der vorderflaeche eines substrats befindlichen reflexionsschicht
DE8717889U Expired - Lifetime DE8717889U1 (de) 1987-08-22 1987-08-22

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8717889U Expired - Lifetime DE8717889U1 (de) 1987-08-22 1987-08-22

Country Status (1)

Country Link
DE (2) DE3728100A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3941859C1 (de) * 1989-12-19 1991-01-24 Deutsche Spezialglas Ag, 3223 Gruenenplan, De

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3316548A1 (de) * 1983-03-25 1984-10-04 Flachglas AG, 8510 Fürth Verfahren zur beschichtung eines transparenten substrates
DE3512494A1 (de) * 1985-04-06 1986-10-09 Deutsche Spezialglas Ag, 3223 Delligsen Blaugetoenter heizbarer spiegel und verfahren zu seiner herstellung

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3316548A1 (de) * 1983-03-25 1984-10-04 Flachglas AG, 8510 Fürth Verfahren zur beschichtung eines transparenten substrates
DE3512494A1 (de) * 1985-04-06 1986-10-09 Deutsche Spezialglas Ag, 3223 Delligsen Blaugetoenter heizbarer spiegel und verfahren zu seiner herstellung

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
US-Z.: "Photonics Spectra", Juli 1983, S. 35-39 *
US-Z.: "Photonics Spectra", Juni 1983, S. 37-43 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3941859C1 (de) * 1989-12-19 1991-01-24 Deutsche Spezialglas Ag, 3223 Gruenenplan, De
US5267081A (en) * 1989-12-19 1993-11-30 Deutsche Spezialglas Ag Rearview mirror

Also Published As

Publication number Publication date
DE8717889U1 (de) 1990-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19726966C1 (de) Verfahren zur Herstellung einer transparenten Silberschicht mit hoher spezifischer elektrischer Leitfähigkeit , Glasscheibe mit einem Dünnschichtsystem mit einer solchen Silberschicht und deren Verwendung
EP0120408B2 (de) Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates
EP0438646B1 (de) Rückblickspiegel für Fahrzeuge, insbesondere Kraftfahrzeuge
EP0671641B1 (de) Mehrlagige Beschichtung
DE60026157T2 (de) Verglasung
DE3941797A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE3902596C2 (de)
WO2004026787A1 (de) Verfahren zur herstellung von schichten und schichtsystemen sowie beschichtetes substrat
EP1092689A1 (de) Leitende transparente Schichten und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2930373A1 (de) Verfahren zum herstellen transparenter, elektrisch leitender indiumoxid (in tief 2 o tief 3 )-schichten
DE69907747T2 (de) Verglasungsscheibe
DE3942990A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE2221472C3 (de) Verfahren zum Herstellen einer wärmedämmenden Verglasung
EP0593883A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Fensterscheiben mit hoher Strahlungstransmission im sichtbaren Spektralbereich und hoher Strahlungsreflexion im Wärmestrahlungsbereich
DE4117257B4 (de) Optisch wirkendes Schichtsystem mit hoher Antireflexwirkung für transparente Substrate
DE3413587C2 (de)
DE3201783A1 (de) Verfahren zum herstellen von in der draufsicht und durchsicht weitgehend farbneutralen, einen hohen infrarotanteil der strahlung reflektierenden scheiben durch katodenzerstaeubung von targets sowie durch das verfahren hergestellte glasscheiben
EP0239750B1 (de) Verfahren zum Herstellen einer vorgespannten und/oder gebogenen Glasscheibe mit Platinbeschichtung oder dergleichen
WO2003104519A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur beschichtung eines substrats mit einem schichtsystem (zno+ag) und beschichtetes substrat
DE19640800C2 (de) Wärmedämmendes Schichtsystem für transparente Substrate
DE3728100A1 (de) Spiegel mit einer auf der vorderflaeche eines substrats befindlichen reflexionsschicht
EP0559967B1 (de) Antikspiegel und Verfahren zur Herstellung desselben
DE3941796A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE19541014B4 (de) Antireflexschichtsystem und Verfahren zur Herstellung eines Antireflexschichtsystems
DE10046810C5 (de) Verfahren zur Herstellung eines wärmereflektierenden Schichtsystems für transparente Substrate und danach hergestelltes Schichtsystem

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8130 Withdrawal