DE3626715A1 - Verfahren zum justieren einer apparatur zur erzeugung von beugungsgittern - Google Patents
Verfahren zum justieren einer apparatur zur erzeugung von beugungsgitternInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N cadmium helium Chemical compound [He].[Cd] UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- H01L31/02—Details
- H01L31/0236—Special surface textures
- H01L31/02363—Special surface textures of the semiconductor body itself, e.g. textured active layers
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- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Justieren einer
Apparatur zur Erzeugung von Beugungsgittern gemäß dem
Oberbegriff des Anspruchs 1.
Es ist aus der DE-OS 28 22 571 ein Verfahren zum Erzeugen
von Beugungsgittern in einem mit einer Photolack-Schicht
versehenen Wellenleitersubstrat bekannt, bei dem zwei
kohärente Strahlenbündel zueinander orientiert werden,
daß sie in einem Gebiet einer vorbestimmten räumlichen
Ebene ein Interferenzmuster erzeugen, in welcher die
Oberfläche des Wellenleitersubstrats angeordnet ist.
Die Schwierigkeit bei der Herstellung von Beugungsgittern
liegt in der Justierung der Strahlenbündel und des
Wellenleitersubstrats. Die Strahlenbündel werden dabei
mittels dafür vorgesehener Spiegel ausgerichtet. Die Lage
des Wellenleitersubstrats wird mittels bekannter
geometrischer Funktionen ermittelt und ebenfalls
justiert. Die Justierung erfolgt mit Hilfe mechanischer
Meßmethoden, deren Meßgenauigkeit ohne direkte optische
Kontrolle des erzeugten Interferenzbildes auf den Bereich
einiger Mikrometer beschränkt ist. Eine derartige
Justierung ist daher nur zur Vorjustierung brauchbar. Das
heißt, nach der Vorjustierung wird das Wellenleiter
substrat zuerst mit Photolack beschichtet, belichtet,
entwickelt und kann erst danach unter dem Mikroskop oder
durch Beugungserscheinungen an dem erzeugten Liniengitter
betrachtet werden. Nach der Auswertung dieser Betrachtung
kann die Justierung der Apparatur verbessert werden.
Dieser Vorgang wird solange wiederholt, bis die Apparatur
justiert ist.
Der Nachteil dieses Verfahrens liegt insbesondere darin,
daß zur Kontrolle jedes Justierschritts eine Wellen
leiterschicht belichtet, entwickelt und unter dem
Mikroskop untersucht werden muß. Dies führt in der Praxis
zu einem Zeitaufwand von Tagen bis Wochen, bis die
Apparatur zur Herstellung eines Beugungsgitters mit einer
bestimmten Gitterkonstanten justiert ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
zu schaffen, das den Aufwand zur Justierung einer
Apparatur zum Herstellen von Beugungsgittern verkürzt.
Diese Aufgabe wird bei einem gattungsgemäßen Verfahren
durch das kennzeichnende Merkmal des Anspruchs 1 gelöst.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind den übrigen
Ansprüchen und der Beschreibung zu entnehmen.
Die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren erzielten
Vorteile liegen insbesondere darin, daß die Apparatur
zusätzlich geeicht wird, so daß mit der geeichten
Apparatur Beugungsgitter unterschiedlicher
Gitterkonstanten hergestellt werden können, ohne
zeitaufwendige Justierungen durchzuführen.
Die zur Durchführung der Justierung einer Apparatur zur
Erzeugung von Beugungsbildern, die dazu notwendigen
Eichgitter und das erfindungsgemäße Verfahren werden im
folgenden anhand der Fig. 1 bis 3 beschrieben. Es
zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung der Apparatur zur
Erzeugung von Beugungsgittern,
Fig. 2 die Gitterform eines ersten Eichgitters,
Fig. 3 die Gitterform eines zweiten Eichgitters, und
Fig. 4 ein drittes, mit einer Photodiode integriert
ausgebildetes Eichgitter.
Fig. 1 zeigt die Apparatur 1 zur Erzeugung von Beugungs
gittern in einer Photolack-Schicht. Sie weist einen
Helium-Cadmium-Gaslaser 2 mit einer Emissionswellenlänge
l o=441,6 µm, einen Umlenkspiegel 3, ein Linsensystem
4, einen Strahlteiler 5, zwei Justierspiegel 6, 7, eine
Wobbeleinrichtung 8 mit einem darauf befindlichen
Eichgitter 9 und einen Photodetektor 10 auf. An den
einzelnen Elementen 3 bis 8 sind geeignete Mittel, wie
Winkelmesser und Maßstäbe zur Bestimmung und Eintellung
des Ortes und der Orientierung dieser Elemente angebracht.
Der Gaslaser 2 strahlt ein kohärentes Strahlenbündel aus,
das über den Umlenkspiegel 3 in das Linsensystem 4
einfällt und dort aufgefächert wird. Das aufgefächerte
Strahlenbündel wird in dem Strahlteiler 5 in ein
reflektiertes und ein transmittiertes Strahlenbündel
aufgeteilt. Beide Strahlenbündel weisen die gleiche
Intensität auf. Die beiden Strahlenbündel werden über die
Justierspiegel 6, 7 auf das Eichgitter 9 gelenkt. Der
Strahlteiler 5 ist in einer Mittelebene 11 angeordnet,
die in der geometrischen Mitte zwischen den beiden
Justierspiegeln 6, 7 liegt. Senkrecht und symmetrisch zur
Mittelebene 11 ist das Eichgitter 9 angeordnet. Der
Abstand 2 y zwischen den beiden Justierspiegeln 6, 7 und
die Lage des Strahlteilers 5 und des Eichgitters 9 sind
so gewählt, daß die beiden, sich überlagernde Strahlen
bündel ein mit der Periode des Eichgitters 9 überein
stimmendes Interferenzmuster erzeugen. Die Abstände x, y
und die Winkel b, b′ ergeben sich aus folgenden
strahlengeometrischen Beziehungen,
sin b = l₀/(2n Luft · d) (Gl. 1)
dabei ist l₀ die Wellenlänge der kohärenten Strahlenbündel,
b der Einfallswinkel auf das Eichgitter, n Luft
der Brechungsindex Luft, d die Gitterkostante des zu
erzeugenden Beugungsgitters und des Eichgitters, y der
Abstand zwischen jeweils einem der Justierspiegel 6, 7
und der Mittelebene 11 und x der auf die Mittelebene 11
projezierte Abstand zwischen dem Kontaktpunkt des
Strahlenbündels auf dem Justierspiegel 6, 7 und dem
Eichgitter 9. Die Abstände x und y liegen je nach
Gitterperiode im Bereich von 20 cm bis 60 cm. Die zu
erzeugende Gitterkonstante beträgt z.B. zur Herstellung
eines Beugungsgitters aus einer bestimmten Wellenleiter
schicht für einen sogenannten Distributed Feedback Laser
(DFB-Laser) mit der Emissionswellenlänge l L=1300 nm,
d=200 nm für ein Gitter erster Ordnung und d=400 nm
für ein Gitter zweiter Ordnung.
In den Fig. 2 und 3 sind die Gitterformen zweier
unterschiedlicher Eichgitter 12 und 18 in der
Seitenansicht abgebildet. Das Eichgitter 12 stellt ein
Transmissionsgitter dar und weist von oben gesehen im
Bereich einer Gitterkonstanten zwei gleichgroße, schmale,
rechteckige Flächen, eine Reflexionsfläche 13 und eine
Transmissionsfläche 14 auf. Die Breiten der beiden
Flächen 13, 14 betragen jeweils d/2. Die Reflexionsfläche
13 ist parallel zur Gitteroberfläche ausgebildet. Die
Transmissionsfläche 14 stellt die Eintrittsfläche des
Lichtes durch die Gitteroberfläche in eine Nut 15 mit
trapezähnlichem Querschnitt (Fig. 2) dar. Dabei liegt die
"kurze Parallele" 16 der Nut mit trapezähnlichem
Querschnitt in der Eintrittsfläche, und die "lange
Parallele" 17 ist im Innern des Eichgitters als gewölbte
Fläche ausgebildet.
Das Eichgitter 18 stellt ein Reflexionsgitter dar und
weist von oben gesehen im Bereich einer Gitterkonstanten
zwei gleichgroße, schmale, rechteckige Reflexionsflächen
19, 20 auf. Die Breiten der Reflexionsflächen betragen
jeweils d/2. Die eine Reflexionsfläche 19 ist parallel
zur Gitteroberfläche angeordnet. Die andere Reflexions
fläche 20 ist die Eintrittsfläche des Lichts an der
Oberfläche des Eichgitters 18 in eine V-förmige Nut, die
symmetrisch ausgebildet ist. Die zwei Schenkelflächen 21,
22 der V-förmigen Nut bilden die reflektierenden
Bereiche. Die beiden Schenkelflächen reflektieren das
unter dem Einfallswinkel b auf das Eichgitter einfallende
Licht senkrecht zur Oberfläche des Eichgitters. Aus
elementaren, geometrischen Überlegungen ergibt sich
hieraus ein Öffnungswinkel c zwischen den beiden
Schenkelflächen 21, 22 von
c = 180° - b (Gl. 3)
Das Eichgitter 18 ermöglicht gegenüber dem Eichgitter 12
unter Verwendung entsprechend angeordneter Detektoren
eine feinere Justierung.
Bei der Verwendung eines Transmissionsgitters als
Eichgitter 12 gemäß Fig. 2 kann entweder der
transmittierte oder der reflektierte Lichtanteil
detektiert werden. In Fig. 1 ist der Detektor 10 zum
Nachweis des reflektierten Lichtanteils angeordnet.
Beim Nachweis des transmittierten Lichtanteils ist eine
erfindungsgemäße Weiterbildung des in Fig. 2 abgebildeten
Eichgitters mit einer in ein Eichgitter 30 integrierte
Photodiode 31 (Fig. 4) von Vorteil, da mit einem
derartigen Eichgitter 30 nahezu das gesamte eindringende
Licht nachgewiesen wird. Das Eichgitter 30 weist ein
n-InP-Substrat 32, eine InGaAsP-Schicht 33 als
Absorptionszone und eine p-InP-Schicht 34 auf. Die
Bandlücken des n-InP-Substrats 32 und der p-InP-Schicht
34 sind so groß, daß das Licht der nachzuweisenden
Strahlenbündel nicht absorbiert wird, und die Bandlücke
der Absorptionszone ist so klein, daß das Licht der
nachzuweisenden Strahlenbündel absorbiert wird. Die
p-InP-Schicht 34 ist dabei gitterförmig ausgebildet und
weist Nuten 36 und Stege 37 auf. Die Stege 37 sind mit
Goldschichten 38 bedeckt, die am Rande des Eichgitters
miteinander verbunden sind, wodurch sich eine zusammen
hängende Goldschicht mit einer kammförmigen Struktur
ergibt. Die zusammenhängende Goldschicht stellt den
p-seitigen elektrischen Kontakt der Photodiode 31 und die
reflektierende Fläche des Gitters 30 dar. Auf der
Unterseite 39 des n-InP-Substrats 32 ist der n-seitige
Metallkontakt 40 angeordnet. Die p-InP-Schicht 34 und die
InGaAsP-Schicht 33 weisen je eine Schichtdicke von 2 bis
3 Mikrometer und das n-InP-Substrat 32 eine Schichtdicke
von 150 Mikrometer auf. Die Tiefe der Nuten 36 entspricht
fast der Schichtdicke der p-InP-Schicht 34. Das nachzu
weisende Licht wird durch die Messung des Photostromes
zwischen den Metallkontakten 38 und 40 ermittelt.
Es ist nicht notwendig, daß die Photodiode 31 aus
Halbleiterelementen der dritten und der fünften
Hauptgruppe des Periodensystems aufgebaut ist. Es ist
vorteilhaft, die Photodiode 31 derart auszugestalten, daß
ihre optische Empfindlichkeit selektiv im Frequenz
spektrum der nachzuweisenden kohärenten Strahlenbündel
liegt.
Zur Justierung der Apparatur werden zunächst für ein
Eichgitter 9 mit der Gitterkonstanten d 1 unter
Verwendung der Gleichungen 1 und 2 und unter Vorgabe
eines der Parameter x oder y die Parameter x, y und b
zueinander in Beziehung gebracht. Danach wird das
Eichgitter 9 auf die Wobbeleinrichtung 8 aufgebracht.
Anschließend werden die Justierspiegel 6, 7 und das
Eichgitter 9 somit auch die Wobbelvorrichtung gemäß den
Parametern x, y und b mit dem Ziel eingestellt, das
erzeugte Interferenzbild mit der Periode des Eichgitters
in Übereinstimmung zu bringen.
Ist die Apparatur auf das Eichgitter mit der Gitter
konstanten d 1 justiert, stellt dies noch nicht
zwangsläufig die Eichung der Apparatur dar. Es ist
durchaus möglich, daß zwar das gewünschte Interferenzbild
erzeugt wird, ohne daß die Justierspiegel 6, 7, der
Strahlteiler 5 und das Eichgitter 9 exakt symmetrisch zur
Mittelebene ausrichtet sind. Die exakte Ausrichtung ist
aber Bedingung für eine geeichte Apparatur. Zur Eichung
wird das erste Eichgitter mit den Gitterkonstanten d 1
durch ein zweites Eichgitter mit der Gitterkonstanten
d 2 ersetzt. Die beiden Gitterkonstanten unterscheiden
sich günstigerweise um einen möglichst großen Faktor, der
den Wert 2 haben kann. Für das zweite Eichgitter wird
gemäß den Gleichungen 1 und 2 unter Berücksichtigung von
d 2 der Winkel b 2 und der Abstand x 2 berechnet und
die Elemente 3 bis 8 mit Hilfe der an den einzelnen
Elementen 3 bis 8 angebrachten Mitteln zur Bestimmung und
Einstellung des Ortes und der Orientierung ausgerichtet.
War die Apparatur nach dem ersten Justieren schon exakt
ausgerichtet, erscheint auf Anhieb das gewünschte, mit
der Periode des Eichgitters übereinstimmende Interferenz
bild. War die Apparatur nach dem ersten Justieren nicht
exakt ausgerichtet, muß sie nachjustiert werden. Die
beiden Eichgitter werden solange gewechselt, die
Parameter x, y, b, und b′ entsprechend der Gitter
konstanten angepaßt und die Apparatur nachjustiert, bis
das Interferenzbild nach einem Wechsel des Eichgitters
mit entsprechend eingestellen Parametern x, y, b und b′
auf Anhieb mit der Periode des Eichgitters übereinstimmt.
übereinstimmen heißt in diesem Fall, das auf dem
Eichgitter abgebildete Interferenzbild weist die gleiche
Gitterkonstante wie das Eichgitter selbst auf.
Die Übereinstimmung wird mittels Wobbeln des Eichgitters
und durch die Detektion des transmittierten oder des
reflektierten Lichtes ermittelt. Während des Wobbelns
werden die Parameter x, y, b und b′ verändert und das
Meßsignal ständig überprüft. Dabei bewegt die Wobbel
einrichtung 8 das Eichgitter 9 senkrecht zur Mittelebene
11 hin und her, so daß die Wellenberge des Interferenz
musters z.B. bei der Verwendung von Eichgittern gemäß
Fig. 2 wechselweise auf den reflektierenden Teil und auf
den nicht reflektierenden Teil des Eichgitters fallen.
Auf diese Weise wird abwechselnd viel oder wenig Licht in
den Detektor fallen. Dieses Differenzsignal ist um so
größer, je besser die Gitterkonstante des Interferenz
muster mit der des Eichgitters übereinstimmt. Die
Justierung ist beendet, wenn ein maximales Differenz
signal ermittelt wird. Wird das maximale Differenzsignal
auf Anhieb nach dem Wechsel eines Eichgitters und der
entsprechenden Einstellung der Parameter x, y, b und b′
erreicht, ist die Apparatur geeicht. Nun kann unter
Berücksichtigung der Gleichungen 1 und 2 durch Verändern
der Parameter x, y, b und b′ ein Interferenzbild
beliebiger Gitterkonstanten eingestellt werden.
Claims (5)
1. Verfahren zum Justieren einer Apparatur zur Erzeugung
von Beugungsgittern auf einer Fläche, wobei zwei
kohärente Strahlenbündel gegenseitig so orientiert sind,
daß sie auf der Fläche ein Interferenzmuster erzeugen,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Apparatur (1) unter Verwendung wenigstens eines
Eichgitters (9) geeicht wird, und daß das Interferenz
muster auf dem Eichgitter (9) erzeugt wird, wobei die
Einfallswinkel (b, b′) der beiden kohärenten Strahlen
bündel variiert werden, bis das mit den beiden kohärenten
Strahlenbündel erzeugte Interferenzmuster mit der Periode
des Eichgitters übereinstimmt und die Einfallswinkel (b,
b′) und der Ort (x, y) des Eichgitters (9) mit dafür
vorgesehenen Mitteln gemessen werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß ein erstes Eichgitter mit der Gitterkonstanten d 1
durch ein zweites Eichgitter mit der Gitterkonstanten
d 2 ersetzt wird, daß die Lage des zweiten Eichgitters
und die der Einfallswinkel durch die Beziehungen
sin b = l₀/(2n Luft · d) (Gl. 1)und
mit b als Einfallswinkel, l₀ als Wellenlänge der
kohärenten Strahlenbündel, n Luft als Brechungsindex von
Luft und d als jeweilige Gitterkonstante ermittelt und
mit Hilfe der dafür vorgesehenen Mittel eingestellt
werden, daß das so erzeugte Interferenzmuster mit dem
zweiten Eichgitter verglichen wird, daß bei Nicht
übereinstimmung durch Verändern des Ortes (x, y) und
durch Verändern der Einfallswinkel (b, b′) Über
einstimmung erzielt wird, daß das zweite Eichgitter durch
das erste Eichgitter ersetzt, der Ort (x, y) des ersten
Eichgitters und die Einfallswinkel (b, b′) mittels Gl. 1
und Gl. 2 ermittelt und eingestellt werden, daß das so
erzeugte Interferenzmuster auf dem ersten Eichgitter
abgebildet und verglichen wird, daß der Wechsel der
beiden Eichgitter und das anschließende Einstellen der
Parameter x, y, b, und b′ so lange wiederholt wird, bis
nach dem Einstellen der berechneten Parameter Über
einstimmung zwischen der Periode des Eichgitters und dem
darauf abgebildeten Interferenzmuster herrscht und daß
während des Einstellens des Ortes (x, y) eines Eich
gitters und der Einfallswinkel (b, b′) das Eichgitter
gewobbelt wird.
3. Eichgitter zur Durchführung des Verfahrens nach
Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es mit
einem Photodetektor integriert ausgebildet ist.
4. Eichgitter nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß es ein Halbleitersubstrat eines Leitungstypes, eine
schicht als Absorptionszone, eine für das nachzuweisende
Licht transparente Halbleiterschicht des anderen
Leitungstyps aufweist, daß die Schichten in genannter
Reihenfolge aufeinander angebracht sind und daß auf der
obersten Halbleiterschicht eine gitterförmig ausge
bildete, elektrisch zusammenhängende Metallschicht
angeordnet ist.
5. Eichgitter nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die oberste Halbleiterschicht ein aus Nuten und
Stegen ausgebildetes Gitter aufweist und daß auf den
Stegen eine Goldschicht mit zusammenhängender,
kammförmiger Struktur aufgebracht ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863626715 DE3626715A1 (de) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | Verfahren zum justieren einer apparatur zur erzeugung von beugungsgittern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863626715 DE3626715A1 (de) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | Verfahren zum justieren einer apparatur zur erzeugung von beugungsgittern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3626715A1 true DE3626715A1 (de) | 1988-02-11 |
Family
ID=6306852
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863626715 Withdrawn DE3626715A1 (de) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | Verfahren zum justieren einer apparatur zur erzeugung von beugungsgittern |
Country Status (1)
Country | Link |
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