DE3305675A1 - Optisches geraet mit einem halbleiterlaser - Google Patents
Optisches geraet mit einem halbleiterlaserInfo
- Publication number
- DE3305675A1 DE3305675A1 DE19833305675 DE3305675A DE3305675A1 DE 3305675 A1 DE3305675 A1 DE 3305675A1 DE 19833305675 DE19833305675 DE 19833305675 DE 3305675 A DE3305675 A DE 3305675A DE 3305675 A1 DE3305675 A1 DE 3305675A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- plane
- semiconductor laser
- parallel body
- refractive index
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1392—Means for controlling the beam wavefront, e.g. for correction of aberration
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1398—Means for shaping the cross-section of the beam, e.g. into circular or elliptical cross-section
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/125—Optical beam sources therefor, e.g. laser control circuitry specially adapted for optical storage devices; Modulators, e.g. means for controlling the size or intensity of optical spots or optical traces
- G11B7/127—Lasers; Multiple laser arrays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Head (AREA)
Description
Q Q Π R R 7 ζ
TCR MEER - MÖLLER · STEINMEIE-Tr^ . " O J U O Ό /
BESCHREIBUNG
Die Erfindung betrifft ein optisches Gerät mit einem Halbleiterlaser gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs
1. Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf ein optisches Gerät, das als Lichtquelle einen Halbleiterlaser
verwendet, der verschiedene Brennpunkte in der Übergangsebene und in einer dazu rechtwinklig verlaufenden
Ebene aufweist, wodurch ein Astigmatismus erzeugt wird. Speziell bezieht sich die Erfindung auf
einen optischen Abtaster für einen Digitalplatten- oder Bildplattenspieler, bei dem Lichtstrahlen eines Halbleiterlasers
auf eine Abtastfläche einer optischen Scheibe fokussiert werden, so daß die aufgezeichneten
Signale auf der Abtastfläche gelesen werden.
Ein Halbleiterlaser mit Verstärkungsführung (gain guiding) als ein Vertreter der Halbleiterlaser mit
doppeltem HeteroÜbergang zeigt keinen Anstieg des Rauschpegels, der häufig bei Haibleitorlasern mit Indexführung
(index guiding) anzutreffen ist. Ein solches Ansteigen des Rauschpegels wird durch einen Selbstoder
Mitkopplungseffekt erzeugt, der seinerseits durch Licht verursacht wird, das von der Abtastfläche der
optischen Scheibe oder optischen Platte reflektiert wird. Aus diesem Grunde stellt der Halbleiterlaser mit
Verstärkungsführung eine vielversprechende Lichtquelle für einen optischen Laser eines Bildplattenspielers
dar, der einen hohen Rauschabstand benötigt. Ein HaIbleiterlaser mit Verstärkungsführung schwingt vertikal
im Multimodenbetrieb, während ein Halbleiterlaser mit
TER MEER - MÜLLER · STEINM£ISTEJT
Indexführung vertikal im Einmodenbetrieb schwingt. Aus diesem Grunde ist der Halbleiterlaser mit Verstärkungsführung weniger anfällig gegenüber Störungen durch reflektiertes
Licht. Vom Standpunkt der optischen Eigenschäften strahlt ein Halbleiterlaser 1 mit Verstärkungsführung,
wie in den Figuren IA und IB dargestellt ist, Licht mit verschiedenen Welleneinschnürungen in
der Übergangsebene (X-Y-Ebene) und einer Ebene senkrecht hierzu (X-Z-Ebene) aus. In der vertikalen Ebene
(X-Z-Ebene) befindet sich die Einschnürung am Punkt A (Position der Spiegeloberflache), der in der Ebene der
Spiegelfläche 2 liegt. In der Übergangsebene (X-Y-Ebene) befindet sich die Einschnürung jedoch am Punkt B,
der der aktiven Schicht 3 des Halbleiterlasers zugeordnet ist und tiefer im Resonator an einem von der
Spiegelfläche 2 zurückliegenden Punkt liegt. Aus diesem Grund unterscheiden sich die Brennpunkte der Lichtwellen
in der Übergangsebene (X-Y-Ebene) und der Vertikalebene (X-Z-Ebene) voneinander und erzeugen einen
20 Astigmatismus Λ ζ.
Wenn ein Halbleiterlaser dieses Typs als Lichtquelle für einen Bildplattenspieler oder ähnliches verwendet
wird und dessen Lichtstrahlen mit Hilfe einer Objektivlinse oder dergleichen auf die Abtastfläche der optischen
Scheibe fokussiert werden, wird der Lichtfleck wegen des Astigmatismus in horizontaler oder vertikaler
Richtung verlängert und verzerrt. Wenn dies auftritt, kann ein Punkt zur Erzielung einer optimalen Wiedergabe
der Datensignale und der Spurverfolgungssignale nicht
TER MEER · MÜLLER · STfilNMEISTER
bestimmt werden. Dies verringert die Toleranzen gegenüber Regelkreisstörungen, wie Defokussierung oder Plattenschräglauf.
Mit anderen Worten, die erwünschten Eigenschaften bezüglich der optischen Übertragungsfunktion
(Optical Transfer Function) können nicht erreicht werden.
Um diese Schwierigkeiten zu meistern, wurden bisher folgende Methoden verwendet:
(a) Bei der ersten Methode werden diejenigen Komponenten der von dem Halbleiterlaser ausgehenden Lichtstrahlen,
die sich in einem inneren zentralen Winkelbereich befinden, ausgewählt, um als Abtastsignale verwendet zu
werden, so daß die Störungen in der Wellenfront aufgrund des Astigmatismus beseitigt werden. Das Maß der
störenden Effekte durch den Astigmatismus ändert sich mit der numerischen Apertur der Kollimatorlinse, die
verwendet wird, um die Lichtstrahlen auf die Objektivlinse zu führen. Wenn daher nur diejenigen Lichtkomponenten
ausgewählt werden, die sich innerhalb eines engen zentralen Winkelbereichs befinden, wird die Störung
in der Wellenfront beseitigt, wobei jedoch der Wirkungsgrad der Lichtverwendung beeinträchtigt wird.
Auf diese Weise können die erwünschten Eigenschaften
bezüglich der optischen Übertragungsfunktion bei einer Digitalschallplatte, die keinen zu hohen Rauschabstand
benötigt, erreicht werden.
Dies wird im folgenden näher erläutert. Da der erforderliche Rauschabstand nicht zu hoch ist, benötigt ein
Digitalplattenspieler keine zu große optische Dichte.
TER MEER . MÜLLER . STEINMEISTER- *'.'."'. "'. 3305675
Aus diesem Grunde kann eine Kollimatorlinse mit einer numerischen Apertur von beispielsweise 0,13 verwendet
werden. Wenn dann ein Halbleiterlaser mit einem Astigmatismus von 25 um als Lichtquelle verwendet wird, ist
der quadratische Mittelwert (RMS Value) der Störung in der Wellenfront 0,056 \ , was innerhalb der Berechnungsgrenze
liegt und daher kein Problem bedeutet.
Wenn jedoch die oben beschriebene erste Methode bei einem Bildplattenspieler oder dergleichen, der einen
relativ hohen Rauschabstand benötigt, verwendet wird, muß die Leistung des Lasers wegen des geringen Wirkungsgrades
der Lichtstrahlen erhöht werden. Eine Erhöhung der Laserausgangsleistung führt jedoch zu Problernen
bezüglich der Lebensdauer des Halbleiterlasers.
Wenn ein üblicher Halbleiterlaser dieses Typs als Lichtquelle für einen Bildplattenspieler oder dergleichen,
der einen hohen Rauschabstand benötigt, verwendet wird, ohne die erste Methode anzuwenden, muß eine
Kollimatorlinse mit einer numerischen Apertur von 0,2 oder mehr unter Berücksichtigung des Divergenzwinkels
der Lichtstrahlen des Halbleiterlasers verwendet werden. Wenn jedoch eine solche Kollimatorlinse verwendet
wird, beträgt der RMS-Wert der Störung in der Wellenfront wegen eines Astigmatismus von 25 um 0,13 λ , was
die optischen Übertragungseicjemschaften wesentlich beeinträchtigt.
Der RMS-Wert der Störung in der Wellenfront, der innerhalb der Brechungsgrenze liegt, beträgt gemäß dem
Marechal-Kriterium 0,07 λ . Die obere Grenze des Astigmatismus
eines Lasers, der dieses Kriterium erfüllt,
TER MEER · MÜLLER ■ STEINMEISTE-R - - · ■* '■ ■ '■
- 10 -
muß 13 um sein, wenn die numerische Apertur der Kollimatorlinse
mit 0,2 angenommen wird. Der Astigmatismus eines handelsüblichen Halbleiterlasers mit Verstärkungsführung
beträgt etwa 20 - 25 um. Aus diesem Grund müssen Maßnahmen zur Korrektur des Astigmatismus ergriffen
werden, wenn eine Lichtquelle mit großer Intensität erforderlich ist, wie dies im Falle eines Bildplattenspielers
oder dergleichen gilt.
(b) Gemäß der zweiten Methode wird der Astigmatismus durch ein optisches Element wie eine zylindrische Linse
korrigiert, die verschiedene Brechungsstärken in verschiedene Richtungen aufweist. Wenn jedoch die zweite
Methode angewandt wird, ist die Oberfläche des optisehen Elementes, d.h. die Linsenoberfläche, keine wirkliche
Kugeloberfläche sondern eine unregelmäßige Kugel, da die Brechkraft des optischen Elementes in verschiedenen
Richtungen unterschiedlich ist. Eine solche unregelmäßige Kugeloberfläche ist schwierig zu konstruieren
und herzustellen. Da die Brechkraft des optischen Elementes in verschiedenen Richtungen verschieden ist,
müssen außerdem verschiedene Positionierungseinstellungen des optischen Elementes vorgenommen werden
einschließlich der Winkeleinstellung des optischen Klementes in Bezug auf die optische Achse, der Position
des optischen Elementes entlang der optischen Achse und der Richtungswirkung der Brechkraft in Bezug auf den
Astigmatismus. Dies verkompliziert die Justage des optischen Elementes.
*■"" * * " O *5 Π C C 7 C
TER MEER ' MÜLLER . STEINMEISTER* -".**::.*:
- 11 -
Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein optisches Gerät der
eingangs genannten Art zu schaffen, bei dem der Astigmatismus auf einfache Weise korrigiert ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale des kennzeichnenden Teils des Anspruchs 1 gelöst.
Zweckmäßige Weiterbildungen sind Gegenstand von Unteransprüchen.
Die Erfindung schafft ein optisches Gerät, das die erwünschten optischen Übertragungseigenschaften aufweist,
indem ein optisches Element vorgesehen ist, das eine Oberfläche aufweist, die leicht herzustellen ist und
leicht positioniert werden kann, ohne daß eine Erhöhung der Laserausgangsleistung notwendig wird, selbst wenn
das Gerät einen hohen Rauschabstand und eine hohe Lichtintensität benötigt. Außerdem gestattet die Erfindung
ein optisches Gerät zu schaffen, das einen HaIbleiterlaser verwendet, der leicht und zuverlässig die
oben genannte Aufgabe löst, ohne eine erhöhte Teileanzahl zu erfordern.
In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele des Gegen-Standes der Erfindung dargestellt. Es zeigen:
Fig. IA
und IB schematische Darstellungen·zur Erläuterung
des Astigmatismus bei einem Halbleiterlaser mit Verstärkungsführung,
TER MEER ■ MÜLLER ■ STEINMÖSTE« - : - ' : I 1
- 12 -
Pig. 2 einen Schnitt entlang der optischen Achse und durch die Übergangsebene eines Halbleiterlasers
des optischen Gerätes gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 3 einen Längsschnitt entlang der optischen
Achse in einer Ebene rechtwinklig zur Übergangsebene des in Fig. 2 dargestellten Halbleiterlasers,
Fig. 4 eine schematische Darstellung zur Erläuterung der Korrektur des Astigmatismus mit Hilfe
einer planparallelen Glasplatte,
Fig. 5 einen Längsschnitt entlang der optischen
Achse in der Ebene senkrecht zur Übergangsebene eines Halbleiterlasers eines optischen
Gerätes gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 6 einen vergrößerten Schnitt durch ein Biprisma und
Fig. 7 eine graphische Darstellung zur Veranschaulichung des Empfindlichkeitskoeffizienten S
als eine Funktion des Brechungsindexes Nr des
in Fig. 6 dargestellten Biprismas.
TER MEER ■ MÜLLER . STEINMEiIS-TE^ " .-**:*"· " · O 3 O O 6 /
Ein optisches Gerät mit einem Halbleiterlaser zur optischen Abtastung bei einem Digitalschallplatten-
oder Bildplattenspieler gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden anhand der
Figuren 2 bis 4 beschrieben. Es sei darauf hingewiesen, daß die Koordinatenachsen in den Figuren 2 und 3 mit
denen in Fig. 1 übereinstimmen.
Als Lichtquelle wird ein Halbleiterlaser 1 mit Verstärkungsführung
(gain guiding type), der einer der Halbleiterlaser mit doppeltem HeteroÜbergang ist, verwendet.
Der Brennpunkt in der Übergangsebene(X-Y-Ebene) der Lichtstrahlen, die vom Halbleiterlaser 1 ausgesandt
werden, liegt im Resonator an einem von der Spiegelfläehe
2 etwas nach innen zurückliegenden Punkt. Jedoch befindet sich der Brennpunkt der Lichtstrahlen des
Halbleiterlasers 1 in der Vertikalebene (X-Z-Ebene), die sich im rechten Winkel zur Übergangsebene erstreckt,
auf der Spiegelfläche 2, wodurch ein Astigmatismus bewirkt wird.
Die vom Halbleiterlaser 1 ausgehenden divergierenden Lichtstrahlen fallen auf eine planparallele Glasplatte
4 mit einer vorherbestimmten Dicke t^, welche sich im
optischen Weg dieser Lichtstrahlen befindet. Die planparallele Glasplatte 4 kann transparent oder durchscheinend sein und wird von Luft umgeben. Die planparallele
Glasplatte 4 ist in der Weise angeordnet, daß ein auf ihr rechtwinklig stehender Vektor A^ um einen
bestimmten Winkel Up^ innerhalb der Übergangsebene
(X-Y-Ebene) in Bezug auf die optische Achse geneigt ist.
TER MEER ■ MÜLLER ■ STEINMKISTEi=?-
- 14 -
Die aus der planparallelen Glasplatte 4 austretenden Lichtstrahlen treffen anschließend auf einen Strahlenteiler
5 auf, welcher die ankommenden Lichtstrahlen in durchgelassene Lichtstrahlen und reflektierte Lichtstrahlen
aufteilt. Die durchgelassenen Lichtstrahlen des Strahlenteilers 5 werden mit Hilfe einer Kollimatorlinse
6 in paralleles Licht verwandelt, die eine vorherbestimmte numerische Apertur aufweist und so
angeordnet ist, daß sie die Lichtstrahlen parallel zueinander führt. Diese parallelen Lichtstrahlen werden
anschließend mit Hilfe einer Objektivlinse 7 auf die Abtastfläche einer optischen Scheibe 8 fokussiert, um
einen kleinen Lichtfleck im Brennpunkt der Objektivlinse 7 zu erzeugen.
Auf der Abtastfläche der optischen Scheibe 8 sind mit Ton- und/oder Videodaten modulierte Signale in Form von
in einer Reihe angeordneten Vertiefungen aufgezeichnet, die spiralförmige oder konzentrische Spuren bilden.
Die von der Abtastfläche der optischen Scheibe 8 reflektierten Lichtstrahlen sind durch die gespeicherten
Signale oder die reihenförmig angeordneten Vertiefungen moduliert und treffen auf die Objektivlinse 7 auf,
welche sie in parallele Lichtstrahlen umsetzt. Die nunmehr zu parallelem Licht verwandelten reflektierten
Lichtstrahlen breiten sich entlang dem gleichen optischen Weg, jedoch in umgekehrter Richtung,aus und treffen
nach Durchgang durch die Kollimatorlinse 6 auf den Strahlenteiler 5 auf. Diejenigen Lichtstrahlen, welche
vom Strahlenteiler 5 seitlich wegreflektiert werden, treffen auf die lichtempfindliche Fläche eines Lichtsensors
9 auf. Der Lichtsensor 9 erzeugt Datensignale,
TER MEER ■ MÜLLER · STEINMEISTE.S" "-":.: O O U D D / O
Spurverfolgungssignale und ähnliche Signale.
Im folgenden wird die Anordnung zur Korrektur des Astigmatismus mit Hilfe der planparallelen Glasplatte 4
unter Bezug auf die Fig. 4 näher beschrieben.
Es sei angenommen, daß eine planparallele Glasplatte 4*
(Dicke t^1, Brechungsindex N1) im optischen Weg (numerische
Apertur NA =» sin U1) von fokussiertem Licht angeordnet
ist und mit der optischen Achse einen Winkel Upj1 bildet. Der Astigmatismus Asl, der in diesem
optischen System auftritt, kann nach der folgenden Gleichung beispielsweise gemäß W.J. Smith, Modem
Optical Engineering, McGraw-Hill, N.Y., 1966, berechnet werden:
sl
- sin2Upl')
{N22üpl· / (N]2
Up1 1) - l}
= -C { <NX 2 - l)sin2Upl'} /(N1 2 -
= -C { <NX 2 - l)sin2Upl'} /(N1 2 -
I2UM3Z2Jt* ..(D
In dieser Gleichung bedeutet lt* den Abstand zum Brennpunkt
in der Ebene (Meridianebene), welche das Lot und die optische Achse einschließt; Ig* ist der Abstand zum
Brennpunkt in der Ebene rechtwinklig zur oben genannten Ebene.
""■ ·""-'" 'Z Q Q Π C K 7 ζ
TER MEER -MÜLLER · STEINMEISTER" . :.":'_- OOUOO/Q
- 16 -
Die Komas ergibt sich aus:
Komas ={ t1'.ü1 2.üpl l.(N1 2-l)} /2N1 3
Es ist aus diesem Grunde möglich, einen Astigmatismus der gleichen Größe aber mit entgegengesetztem algebraischen
Vorzeichen zu dem Astigmatismus des Halbleiterlasers 1 durch Auswahl einer vorbestimmten Dicke t^'
und eines vorherbestimmten Winkels Upl· für eine vorbestimmte
numerische Apertur NA, beispielsweise NA = SInU1 ■» 0,2 gemäß den obigen Gleichungen (1) und (2) zu
erzeugen und auf diese Weise die Koma auf ein Minimum zu reduzieren. Für ein beliebiges Upl' ergibt sich ein
Astigmatismus von:
A3 = I3' - lt'<
0
Aus dem Obigen ergibt sich somit, daß der Astigmatismus eines Halbleiterlasers 1 korrigiert werden kann, wenn
die Meridianebene mit der Übergangsebene des Halbleiterlasers 1 zusammenfällt.
Wenn t1· = 0,1 mm, Upl' =45° und N1 = 1,5 kann der
Astigmatismus Asl wie folgt berechnet werden:
Asl «= I5' - lt' = -0,025 mm = -25 um
Der Astigmatismus eines üblichen Halbleiterlasers 1 mit Verstärkungsfü-hrung beträgt etwa 20 - 25 um. Daher kann
ein Astigmatismus von einer solchen Größe durch den
TER MEER ■ MÜLLER ■ STEINMEISTER " : -"--'"- *- d J U O U / O
obigen Astigmatismus A3^ korrigiert werden. Die in
diesem Fall erzeugte Koma beträgt lediglich 0,02 X ausgedrückt durch den RMS-Wert (quadratischer Mittelwert
der Wellenfront-Aberration) und ist daher vernachlässigbar klein.
Der Astigmatismus und die Koma sind beide proportional zur Dicke t^· der planparallelen Glasplatte 4. Der
Astigmatismus ist abhängig vom Quadrat des Winkels upl'» während die Koma proportional zu diesem ist. Daher
kann die Koma auf ein Minimum reduziert werden, wenn die Dicke t^' kleiner und der Winkel Up^' der
planparallelen Glasplatte 4' größer als zur Erzeugung des Astigmatismus ist.
Der Astigmatismus des Halbleiterlasers 1 kann durch die
planparallele Glasplatte 4 korrigiert werden, die eine vorherbestimmte Dicke tj_ aufweist und deren Normalenvektor
oder Lotvektor A^ um einen vorbestimmten Winkel
^ VpI bezüglich der optischen Achse innerhalb der Übergangsebene
(X-Y-Ebene) des Halbleiterlasers 1 geneigt ist.
Der kleine auf der Abtastfläche der optischen Scheibe 8 durch die Objektivlinse 7 gebildete Lichtfleck wird im
wesentlichen kreisförmig als Ergebnis der Korrektur des Astigmatismus durch die.planparallele Glasplatte 4.
Aus diesem Grunde verhindert die optische Übertragungsfunktion (Optical Transfer Function OTF) eine gegenseitige
Beeinflussung zwischen benachbarten Spuren, selbst wenn die numerische Apertur der Kollimatorlirise 6 verhältnismäßig
groß gewählt ist. Selbst wenn ein optisches Gerät ein hohes Signal/Rauschverhältnis und eine
TER MEER · MÜLLER · STEIN M EISTE« · 1."·;:.:
- 18 -
große Lichtintensität erfordern, können die erwünschten Eigenschaften bezüglich der optischen Übertragungsfunktion
ohne eine Erhöhung der Laserausgangsleistung erreicht
werden. Da das optische Element zur Korrektur
des Astigmatismus die planparallele Glasplatte 4 ist,
ist die Oberfläche des Elementes leicht herzustellen.
Da das optische Element kein Refraktionsvermogen aufweist, braucht es lediglich eine Winkeljustierung des
Lotvektors A^ in Bezug auf die optische Achse innerhalb der Übergangsebene des Halbleiterlasers 1. Das
optische Element der vorliegenden Erfindung benötigt
lediglich eine einfache Positionierung.
des Astigmatismus die planparallele Glasplatte 4 ist,
ist die Oberfläche des Elementes leicht herzustellen.
Da das optische Element kein Refraktionsvermogen aufweist, braucht es lediglich eine Winkeljustierung des
Lotvektors A^ in Bezug auf die optische Achse innerhalb der Übergangsebene des Halbleiterlasers 1. Das
optische Element der vorliegenden Erfindung benötigt
lediglich eine einfache Positionierung.
In dem oben beschriebenen ersten Ausführungsbeispiel
ist die planparallele Glasplatte 4 im optischen Weg der divergierenden Lichtstrahlen angeordnet. Es ergibt sich jedoch aus dem oben beschriebenen Verfahren zur Korrektur des Astigmatismus, daß die planparallele Glasplatte 4 auch im optischen Weg der fokussierten Lichtstrahlen
beispielsweise zwischen der Objektivlinse 7 und der
ist die planparallele Glasplatte 4 im optischen Weg der divergierenden Lichtstrahlen angeordnet. Es ergibt sich jedoch aus dem oben beschriebenen Verfahren zur Korrektur des Astigmatismus, daß die planparallele Glasplatte 4 auch im optischen Weg der fokussierten Lichtstrahlen
beispielsweise zwischen der Objektivlinse 7 und der
Abtastfläche der optischen Scheibe 8 angeordnet werden
kann. Im ersten Ausführungsbeispiel wird nur eine planparallele Glasplatte 4 verwendet. Voraussetzung ist
jedoch lediglich, daß eine vorherbestimmte Dicke tj_ zur Verfugung gestellt wird, was eine Korrektur eines gegebenen Astigmatismus gestattet. Aus diesem Grunde können zwei oder mehrere planparallele Glasplatten 4 verwendet werden, die eine Gesamtdicke t^ aufweisen.
kann. Im ersten Ausführungsbeispiel wird nur eine planparallele Glasplatte 4 verwendet. Voraussetzung ist
jedoch lediglich, daß eine vorherbestimmte Dicke tj_ zur Verfugung gestellt wird, was eine Korrektur eines gegebenen Astigmatismus gestattet. Aus diesem Grunde können zwei oder mehrere planparallele Glasplatten 4 verwendet werden, die eine Gesamtdicke t^ aufweisen.
TER MEER . MÜLLER . STEINMEISTER "'-'■■'': 1 .".
Es ist ebenfalls möglich, statt der planparallelen Glasplatte 4 einen Licht teilweise durchlassenden Spiegel
zu verwenden. Ein solcher Halbspiegel kann durch Aufbringen eines dünnen Überzugs auf der Oberfläche der
Glasplatte 4 erhalten werden, die gegenüber dem Halbleiterlaser
1 liegt. Der Lotvektor des Halbspiegels oder der Glasplatte 4 ist um den Winkel υρ^ - 45* in
Bezug auf die optische Achse geneigt. Die planparallele Glasplatte 4 bewirkt dann eine Korrektur des Astigmatismus
und eine Strahlenteilung. In diesem Fall kann auf den Strahlenteiler 5 verzichtet werden. Weiterhin
kann die planparallele Glasplatte 4 auch als Haubenfenster für den Halbleiterlaser 1 dienen.
In dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel wurde die Korrektur des Astigmatismus durch die planparallele
Glasplatte 4 bewirkt. Jedoch kann das optische Element zur Ausführung dieser Funktion ein planparalleler
Saphirkörper sein. Das optische Element braucht nur die vom Halbleiterlaser 1 ausgehenden Lichtstrahlen zu
übertragen.
Das zweite Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nunmehr unter Bezug auf die Figuren 5 und 7 beschrieben.
. Die mit den Bezugszeichen in den Figuren 2 bis 4 identischen Bezugszeichen bezeichnen die gleichen Teile in
den Figuren 5 bis 7, weshalb auf eine detaillierte Beschreibung verzichtet wird. Die in Fig. 5 dargestellten
Koordinatenachsen stimmen mit den in Fig. 1 gezeigten überein.
TER MEER · MÜLLER · STEINMÖSTES ".■:.'"-':.:
- 20 -
Von einem Halbleiterlaser 1 mit Verstärkungsführung
gehen als Lichtquelle divergierende Strahlen aus, die auf ein Biprisma 10 fallen, das im optischen Weg dieser
Lichtstrahlen angeordnet ist.
Das Biprisma 10 besteht aus zwei dreiseitigen Prismen 10a und 10b mit dem gleichen Brechungsindex NH und dem
gleichen Scheitelwinkel υρθ , wie in Fig. 6 dargestellt
ist. Eine transparente Schicht 1Od ist durch Niederschlag auf der geneigten Fläche 10c des Prismas 10a.gebildet
und stellt den planparallelen Körper der vorliegenden Erfindung dar, der einen Brechungsindex NL, der
kleiner als der Brechungsindex NH ist, und eine vorbestimmte
Dicke t2 aufweist. Eine durchscheinende reflektierende Schicht 1Of ist durch Niederschlag auf der
geneigten Fläche 1Oe des Prismas 10b gebildet. Beide geneigten Flächen 10c und 1Oe sind durch bekannte Befestigungsmittel
miteinander verbunden, wobei die transparente Schicht 1Od und die durchscheinende reflektierende
Schicht 1Of dazwischen eingeschlossen sind, so daß sich das vollständige Biprisma 10 ergibt.
Aus diesem Grunde ist die durchscheinende reflektierende Schicht 1Of auf einer Oberfläche der transparenten
Schicht 1Od gebildet. Das Biprisma 10 bewirkt die Funktion einer Korrektur des Astigmatismus mit
Hilfe der transparenten Schicht 1Od und bewirkt auch die Funktion der Strahlenteilung mit Hilfe der lichtdurchlässigen
reflektierenden Schicht 1Of.
~: "■■" ' : "--" "■" 330^675
TER MEER -MÖLLER . STEINMEJisfER '-__·" '- ·- '
- 21 -
Das Biprisma 10 ist so angeordnet, daß ein Lotvektor A2
der transparenten Schicht 1Od als planparalleler Überzug um einen vorbestimmten Winkel UD2 (- Udq) *n ße2U9
auf die optische Achse innerhalb der Ebene (X-Z-Ebene), die rechtwinklig zur Übergangsebene (X-Y-Ebene) des
Halbleiterlasers 1 liegt und sich entlang dessen optischer
Achse erstreckt, geneigt ist.
Die durch das Biprisma 10 übertragenen Lichtstrahlen werden mit Hilfe einer Kollimatorlinse 6 und einer
Objektivlinse 7 fokussiert, um einen kleinen Lichtfleck auf der Abtastfläche einer optischen Scheibe 8 zu bilden.
Die von der Abtastfläche der optischen Scheibe 8 reflektierten und durch die auf der Abtastfläche aufgezeichneten
Signale modulierten Lichtstrahlen pflanzen sich dann entlang des gleichen optischen Weges in der
umgekehrten Richtung durch die Objektivlinse 7 und die Kollimatorlinse 6 fort, um schließlich auf das Biprisma
10 zu fallen. Diejenigen Lichtstrahlen, die von der lichtdurchlässigen reflektierenden Schicht 1Of des Biprismas
10 reflektiert werden, fallen auf eine lichtempfindliche Fläche eines Lichtsensors 9.
Der Korrekturmechanismus für den Astigmatismus durch
die transparente Schicht 1Od als planparallele Schicht
des Biprismas 10 wird nunmehr beschrieben.
Der Astigmatismus AS2 der divergierenden Lichtstrahlen
die von der Schicht 1Od des Biprismas 10 durchgelassen werden, beträgt:
TER MEER «MÜLLER · STEINMEIS.TER * f : .*" " ;*"' ";
- 22 -
As2 « - f (N1.2 - l)sin2Up2/(Nr 2 - SIn2Up
(A2/NH) ...(3)
für Nr = NL/NH und Up2 = Up0
5
worin Nr ein Brechungszahlverhältnis ist, welches man
erhält, wenn man den Brechungsindex NL der transparenten
Schicht 1Od durch den Brechungsindex N^ der Prismen 10a und 10b dividiert.
Aus den Gleichungen (1) und (3) kann folgendes abgeleitet werden:
(1) Beide Gleichungen können gleich sein, wenn NH = 1,
N1 = Nr, Upl' β Up2 und t1 >
= t2 ist.
(2) Wenn das Brechungszahlverhältnis Nr größer als 1
ist, ist die Polarität des Astigmatismus gleich dem algebraischen Vorzeichen der Gleichung (1). Wenn jedoch
2Q Nr kleiner als 1 ist, ist die Polarität des Astigmatismus
invertiert.
(3) Wenn Nr kleiner als 1 ist, nähert sich der Nenner
0. Daher wird der Astigmatismus größer als der Absolutwert desjenigen, wenn Nr größer als 1 ist und angenommen
wird, daß der Winkel Up2 und die Dicke d2 gleich
bleiben. Ein Empfindlichkeitskoeffizient S für den Winkel Up2 = 45e ergibt sich durch:
S = 1/2 f(Nr 2 - l)/(Nr 2 - 1/2)}
TER meer . Müller . steinmeister: : : * : : ."" * :**:. ':
Fig. 7 zeigt den Empfindlichkeitskoeffizienten S als
Funktion des BrechzahlVerhältnisses Nr.
Dementsprechend ist Nx. vorzugsweise kleiner als 1, denn
die Dicke des transparenten Films 1Od kann dann geringer sein und die Kosten für den Niederschlag der
Schicht !Öd können auf ein Minimum reduziert werden.
Jedoch muß in diesem Fall s-polarisiertes Licht erhalten werden, wie in Fig. 5 dargestellt ist, um den
Astigmatismus des Halbleiterlasers 1 zu korrigieren. In anderen Worten, der Lotvektor A2 der transparenten
Schicht 1Od muß in Bezug auf die optische Achse innerhalb der Ebene (X-Z-Ebene), die rechtwinklig zur Übergangsebene
(X-Y-Ebene) des Halbleiterlasers 1 steht und die sich entlang der optischen Achse erstreckt, geneigt
sein, so daß die Übergangsebene (X-Y-Ebene) des Halbleiterlasers
rechtwinklig zur Einfallsebene verläuft, die durch die optische Achse und den Lotvektor A2 der
transparenten Schicht 1Od definiert ist. Wenn Nr größer
als 1 ist, muß p-polarisiertes Licht erhalten werden.In
anderen Worten, das Biprisma 10 muß so angeordnet werden, daß der Lotvektor A2 der transparenten Schicht
1Od in Bezug auf die optische Achse innerhalb der Überrgangsebene
(X-Y-Ebene) des Halbleiterlasers I geneigt
ist.
Wenn die Prismen 10a und 10b SFlI Prismen mit Scheitelwinkeln
(«a geneigte Winkel) υρβ «45* und einem Brechungsindex
NH e 1,766 (λ β 780nm) sind und die transparente
Schicht 1Od durch Elektronenstrahlniederschlag auf einem Niederschlagsglas mit einem Brechungsindex NL
=1,52 auf eine Dicke von t2 = 0,03 mm (einschließlich
der Dicke eines Klebers mit dem gleichen Brechungs-
TER MEER · MÜLLER · STEINMEISTER^ ;"; · ; ;""- "" 0OUJ /O
- 24 -
index) gebildet wird, kann der maximal korrigierbare
Astigmatismus AS2 aus der obigen Gleichung (3) zu
18,6 um berechnet werden.
Der kleine auf der Abtastfläche der optischen Scheibe 8 durch die Objektivlinse 7 gebildete Lichtfleck wird im
wesentlichen kreisförmig, da der Astigmatismus korrigiert worden ist. Da weiterhin die lichtdurchlässige
reflektierende Schicht 1Of auf der geneigten Fläche 1Oe des Prismas aufgebracht ist, bleibt die Oberflächenpräzision
der reflektierenden Fläche auf der lichtdurchlässigen
reflektierenden Schicht 1Of groß, so daß die erwünschten Eigenschaften bezüglich der optischen
Übertragungsfunktion (OTF-Eigenschaften) erzielt werden.
Da das Biprisma 10 sowohl die Aufgabe der Korrektur des
Astigmatismus als auch die Aufgabe der Strahlenteilung hat, können die erwünschten Eigenschaften bezüglich der
optischen Übertragungsfunktion erreicht werden, ohne daß eine Erhöhung der Zahl der beteiligten Teile erforderlich
ist.
Im ersten oben beschriebenen Ausführungsbeispiel ist es auch möglich, die erwünschte optische Übertragungsfunktion
zu erzielen, ohne eine Erhöhung der Zahl der beteiligten Teile zu erfordern, indem eine Niederschlagsschicht
auf eine Oberfläche der planparallelen Glasplatte 4 aufgebracht wird, um die Strahlenteilungsfunktion
zu übernehmen.
TER MEER . MÜLLER . STEINMEISTER: :"'.'': " .** * l" 2 *; O O U O Q / O
Wenn jedoch Upl »45* und N^ « 1,5 beträgt, ist die
Dicke t^, die zur Korrektur eines Astigmatismus von
20 um erforderlich ist, gemäß der Gleichung (1):
t1 = 0,07 mm
Wenn eine lichtdurchlässige reflektierende Schicht oder ein reflektierender Polarisationsfilm auf einer solchen
planparallelen Glasplatte 4 aufgebracht ist, kann die Oberfläche des Glaskörpers 4 durch den Niederschlag des
Films verbogen werden. Dies resultiert in einen großen Astigmatismus und eine Koma auf der reflektierten
Wellenfront, was ein Erfassen der Fokussierungsfehlersignale behindert und nicht zu den erwünschten Eigenschäften
bezüglich der optischen Übertragungsfunktion führt. Mit anderen Worten, die Wiedergabetreue der
Datensignale wird beeinträchtigt.
Bei dem zweiten Ausführungsbeispiel ist die transparente
Schicht 1Od als planparallele Schicht auf der geneigten Oberfläche 10c eines Prismas 1Od aufgebracht.
Daher sind im Gegensatz zur planparallelen Glasplatte 4 des ersten Ausführungsbeispiels Polieren und Säubern
nicht erforderlich, was geringe Herstellungskosten zur Folge hat.
Bei dem zweiten Ausführungsbeispiel ist das Biprisma 10 im optischen Weg der divergierenden Lichtstrahlen angeordnet.
Jedoch kann das Biprisma 10 wie im Fall des ersten Ausführungsbeispiels im optischen Weg der fokussierten
Lichtstrahlen beispielsweise zwischen der Objektivlinse 7 und der Abtastfläche der optischen Scheibe
8 angeordnet werden.
TER MEER -MÜLLER < STEINMEISTER" I '. "I Z ."'I'. I
- 26 -
Ein polarisierender Reflektionsfilm kann statt der
lichtdurchlässigen reflektierenden Schicht 1Of aufgebracht sein. In diesem Fall muß eine Viertelwellenplatte
oder dergleichen im optischen Weg der Lichtstrahlen angeordnet werden.
In dem ersten und zweiten oben beschriebenen Ausführungsbeispiel ist der Laser ein Halbleiterlaser 1 mit
einem HeteroÜbergang und mit Verstärkungsführung. Jedoch kann die vorliegende Erfindung entsprechend auf
Halbleiterlaser angewendet werden, die unterschiedliche Brennpunkte in der Übergangsebene und in einer dazu
rechtwinkligen Ebene aufweisen, wobei ein Astigmatismus erzeugt wird.
Es sei darauf hingewiesen, daß die vorliegende Erfindung entsprechend auf Entfernungsmeßgeräte, Meßgeräte
zur Erfassung der Bewegung von Objekten, Datenaufzeichnungsgeräten (HauptaufZeichnungsgeräten für Digitalschallplatten,
optische Schallplatten oder Bildplatten oder ähnliches), Datenübertragungsgeräte und ähnliches
verwendet werden kann.
Claims (16)
1. Optisches Gerät mit einem Halbleiterlaser, der verschiedene einen Astigmatismus erzeugende Brennpunkte
für in der Übergangsebene des Halbleiterlasers ausgesandtes Licht und für in einer rechtwinklig zur Übergangsebene
verlaufenden Ebene ausgesandtes Licht aufweist,
TtZR MEER · MÜLLER ■ STEINMrilftTE-R
dadurch gekennzeichnet, daß im optischen Weg der vom Halbleiterlaser (1) ausgesandten Lichtstrahlen
wenigstens ein Licht durchlassender planparalleler Körper (4, 1Od) von vorgegebener Dicke angeordnet
ist, dessen Normalenvektor (A^, A2) in Bezug auf
die optische Achse des Halbleiterlasers (1) um einen vorherbestimmten Winkel (Upl, Up2) geneigt ist, um den
Astigmatismus der vom Halbleiterlaser (1) ausgesandten Lichtstrahlen zu korrigieren.
2. Gerät nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß der planparallele Körper (4) von Luft umgeben ist.
3. Gerät nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß der Normalenvektor (A-^) des planparallelen Körpers (4) in der Übergangsebene
(3) des Halbleiterlasers (I) liegt.
4. Gerät nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtdurchlässige reflektierende Schicht -(1Oe) und eine polarisierende
reflektierende Schicht (1Oe) auf einer Oberfläche des planparallelen Körpers (lOd) aufgebracht
sind und dadurch einen Strahlenteiler bilden.
5. Gerät nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß der planparallele Körper (lOd) und eine der Schichten (1Oe) zwischen
wenigstens zwei Prismen (10a, 10b) eingeschlossen sind, die ein Biprisma (10) bilden und im wesentlichen den
gleichen aber vom Brechungsindex des planparallelen Körpers (lOd) unterschiedlichen Brechungsindex aufweisen.
TER MEER . MÜLLER . STEINMElSTeFT : : .* : ' ' ° ° U ° '
6. Gerät nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß der Brechungsindex
des planparallelen Körpers (lOd) kleiner ist als der Brechungsindex der Prismen (10a, 10b) des Biprismas
(10).
7. Gerät nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, daß der Norrnalenvektor (A2) des planparallelen Körpers (lOd) des Biprismas
(10) um den vorbestimmten Winkel innerhalb der Ebene geneigt ist, die rechtwinklig zur Übergangsebene
(3) des Halbleiterlasers fl) verläuft und sich entlang
der optischen Achse erstreckt.
8. Gerät nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, daß der Brechungsindex
des planparallelen Körpers (lOd) größer ist als der Brechungsindex der Prismen (10a, 10b) des Biprismas
(10).
9. Gerät nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, daß der Normalenvektor des planparallelen Körpers (lOd) de;s Edprismas
(10) um den vorbestimmten Winkel innerhalb der Übergangsebene (3) des Halbleiterlasers (1) geneigt ist.
10. Optisches Gerät mit einem Halbleiterlaser, der verschiedene einen Astigmatismus erzeugende. Brennpunkte
für in der Übergangsebene des Halbleiterlasers ausgesandtes Licht und für in einer rechtwinklig zur Übergangsebene
verlaufenden Ebene ausgesandtes Licht aufweist,
ItJH ML'EiR -MÜLLER · S TQINMiIICn SlR
-A-
dadurch gekennzeichnet, daß im optischen Weg der vom Halbleiterlaser (1) ausgesandten Lichtstrahlen
wenigstens ein Licht durchlassender planparalleler Körper (4) von vorgegebener Dicke angeordnet
ist, dessen Normalenvektor in Bezug auf die optische Achse des Halbleiterlasers (1) um einen vorher bestimmten
Winkel innerhalb der Übergangsebene (3) des Halbleiterlasers (1) geneigt ist, um den Astigmatismus der
vom Halbleiterlaser (1) ausgesandten Lichtstrahlen zu korrigieren.
11. Gerät nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens ein planparalleler Körper (4) in einem Haubenfenster des
Halbleiterlasers (1) angeordnet ist.
12. Optisches Gerät mit einem Halbleiterlaser, der verschiedene einen Astigmatismus erzeugende Brennpunkte
für in der Übergangsebene des Halbleiterlasers ausgesandtes Licht und für in einer rechtwinklig zur Übergangsebene
verlaufenden Ebene ausgesandtes Licht aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß im optischen Weg der vom Halbleiterlaser (1) ausgesandten Lichtstrahlen
wenigstens ein Biprisma (10) angeordnet ist, das aus wenigstens zwei Prismen (10a, 10b) besteht, die
im wesentlichen den gleichen Brechungsindex aufweisen, um den Astigmatismus zu korrigieren, daß auf einer vorbestimmten
Oberfläche des einen Prismas (10) durch Abscheidung eine Schicht als planparalleler Körper (lOd)
mit vorbestimmter Dicke und einem vom Brechungsindex der Prismen (10a, 10b) unterschiedlichen Brechungsindex
aufgeformt ist, daß auf einer vorbestimmten Oberfläche
Q O Π C, η '7 Ε>
TER MEER · MÖLLER · STEINMEISTER 'TI.
des anderen Prismas (10) durch Abscheidung eine lichtdurchlässige reflektierende Schicht (1Oe) und eine polarisierende
reflektierende Schicht (1Oe) aufgeformt
sind und daß die vorbestimmten Oberflächen der Prismen (10a, 10b) so miteinander verbunden sind, daß der planparallele Körper (lOd) und eine der beiden Schichten
(1Oe) zwischen den Prismen eingeschlossen sind.
13. Gerät nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet, daß der Brechungsindex des planparallelen Körpers (lOd) kleiner ist als
der Brechungsindex der Prismen (10a, 10b).
14. Gerät nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet, daß der Normalenvektor einer Schicht des planparallelen Körpers (1Od)
des Biprismas (10) um einen vorbestimmten Winkel in Bezug auf die optische Achse innerhalb der Ebene geneigt
ist, die rechtwinklig zur Übergangsebene (3) des Halbleiterlasers (1) verläuft und sich entlang der
optischen Achse erstreckt.
15. Gerät nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet, daß der Brechungsindex des planparallelen Körpers (lOd) größer ist als
der Brechungsindex der Prismen (10a, 10b) des Biprismas (10).
16. Gerät nach Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet, daß der Normalenvektor einer Schicht des planparallelen Körpers (lOd)
des Biprismas (10) um einen vorbestimmten Winkel .in Bezug auf die optische Achse innerhalb der Übergangsebene (3) des Halbleiterlasers (1) geneigt ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57025522A JPS58143443A (ja) | 1982-02-19 | 1982-02-19 | 半導体レ−ザを用いた光学装置 |
JP57136986A JPS5928123A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | 光学装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3305675A1 true DE3305675A1 (de) | 1983-09-01 |
DE3305675C2 DE3305675C2 (de) | 1992-02-13 |
Family
ID=26363145
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833305675 Granted DE3305675A1 (de) | 1982-02-19 | 1983-02-18 | Optisches geraet mit einem halbleiterlaser |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4577941A (de) |
KR (1) | KR910008493B1 (de) |
CA (1) | CA1204199A (de) |
DE (1) | DE3305675A1 (de) |
FR (1) | FR2524158B1 (de) |
GB (1) | GB2119114B (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0255305A2 (de) * | 1986-07-28 | 1988-02-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Anordnung zum Detektieren von Fokussierungsfehlern und deren Herstellungsverfahren |
EP0387014A1 (de) * | 1989-03-08 | 1990-09-12 | Crosfield Electronics Limited | Aberrations-Verminderung in Strahlenbündeln |
DE3916658A1 (de) * | 1989-04-15 | 1990-10-25 | Rodenstock Optik G | Optisches system zur abbildung des lichts von lichtquellen |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5245174A (en) * | 1990-10-15 | 1993-09-14 | Applied Magnetics Corporation | Focus sensing apparatus utilizing a reflecting surface having variable reflectivity |
US5239414A (en) * | 1991-05-30 | 1993-08-24 | General Electric Company | Laser astigmatism compensation |
US5696636A (en) * | 1995-06-06 | 1997-12-09 | Sun Microsystems, Inc. | Prism to provide visibility of a signal light in two directions |
KR100234248B1 (ko) * | 1995-06-07 | 1999-12-15 | 윤종용 | 광픽업용 2위치 결상 대물렌즈 |
US5966362A (en) * | 1995-11-02 | 1999-10-12 | Konica Corporation | Optical system for recording and reproducing for use in optical information recording medium |
JPH09243805A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Sony Corp | レンズ設計方法 |
KR100288967B1 (ko) * | 1997-01-28 | 2001-05-02 | 윤종용 | 빔정형을 위한 광학계 및 이를 채용한 광픽업 |
US6088170A (en) * | 1997-01-28 | 2000-07-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical system for shaping light beams and an optical pickup employing the same |
JP2003163405A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-06-06 | Sony Corp | 2波長半導体レーザ素子およびそれに用いられる非点補正板ならびにその配置方法 |
JP3546877B2 (ja) * | 2002-05-28 | 2004-07-28 | 三菱電機株式会社 | 半導体レーザ装置及び光ヘッド装置 |
US20040170109A1 (en) * | 2003-02-28 | 2004-09-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical pickup |
JP5178107B2 (ja) | 2007-09-14 | 2013-04-10 | オリンパス株式会社 | レーザー走査型顕微鏡 |
DE102022107324B4 (de) | 2022-03-29 | 2024-03-28 | Precitec Gmbh & Co. Kg | Laserbearbeitungskopf mit Auslenkvorrichtungen |
WO2024092221A1 (en) * | 2022-10-27 | 2024-05-02 | Avava, Inc. | Beam shaping apparatus for laser beams |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2643364A1 (de) * | 1975-09-29 | 1977-04-07 | Western Electric Co | Linsenanordnung zur umwandlung der emissionsstrahlung eines injektionslasers mit streifenfoermiger geometrie in eine solche mit sphaerischer wellenfront |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3717823A (en) * | 1971-09-20 | 1973-02-20 | Sperry Rand Corp | Metal-glass laser window assembly |
DE2359104A1 (de) * | 1973-11-27 | 1975-06-05 | Siemens Ag | Vorrichtung zur erzeugung eines astigmatischen strahles |
JPS5168242A (de) * | 1974-12-10 | 1976-06-12 | Olympus Optical Co | |
DE2622113C3 (de) * | 1976-05-18 | 1982-04-08 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch | Optische Vorrichtung zur Korrektur der sphärischen Aberration eines sphärischen Hohlspiegels |
US4318594A (en) * | 1977-02-15 | 1982-03-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Beam shaping optical system |
DE2725108A1 (de) * | 1977-06-03 | 1978-12-07 | Mergenthaler Linotype Gmbh | Einrichtung zur einspiegelung eines hilfsstrahlengangs in einen hauptstrahlengang, insbesondere in einer fotosetzmaschine |
JPS54143659A (en) * | 1978-04-28 | 1979-11-09 | Canon Inc | Image forming optical system for semiconductor laser |
JPS54143661A (en) * | 1978-04-28 | 1979-11-09 | Canon Inc | Recording optical system |
US4333173A (en) * | 1979-06-15 | 1982-06-01 | Hitachi, Ltd. | Optical information processor with prismatic correction of laser beam shape |
-
1983
- 1983-01-18 CA CA000419648A patent/CA1204199A/en not_active Expired
- 1983-02-18 KR KR1019830000668A patent/KR910008493B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1983-02-18 GB GB08304572A patent/GB2119114B/en not_active Expired
- 1983-02-18 DE DE19833305675 patent/DE3305675A1/de active Granted
- 1983-02-18 FR FR8302694A patent/FR2524158B1/fr not_active Expired
-
1985
- 1985-08-26 US US06/770,000 patent/US4577941A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2643364A1 (de) * | 1975-09-29 | 1977-04-07 | Western Electric Co | Linsenanordnung zur umwandlung der emissionsstrahlung eines injektionslasers mit streifenfoermiger geometrie in eine solche mit sphaerischer wellenfront |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Naumann, Optik für Konstrukture, Düsseldorf, 1970, S. 69-71 * |
W.J. Smith, Modern Optical Engeneering, New York, 1966, S. 82-84 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0255305A2 (de) * | 1986-07-28 | 1988-02-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Anordnung zum Detektieren von Fokussierungsfehlern und deren Herstellungsverfahren |
EP0255305A3 (en) * | 1986-07-28 | 1988-12-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | Focusing error detector and optical data detecting device incorporating the focusing error detector |
US4812638A (en) * | 1986-07-28 | 1989-03-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Focusing error detector and optical data detecting device incorporating the focusing error detector |
EP0387014A1 (de) * | 1989-03-08 | 1990-09-12 | Crosfield Electronics Limited | Aberrations-Verminderung in Strahlenbündeln |
DE3916658A1 (de) * | 1989-04-15 | 1990-10-25 | Rodenstock Optik G | Optisches system zur abbildung des lichts von lichtquellen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2119114A (en) | 1983-11-09 |
KR910008493B1 (ko) | 1991-10-18 |
GB8304572D0 (en) | 1983-03-23 |
DE3305675C2 (de) | 1992-02-13 |
FR2524158A1 (fr) | 1983-09-30 |
US4577941A (en) | 1986-03-25 |
GB2119114B (en) | 1985-11-27 |
FR2524158B1 (fr) | 1987-07-31 |
KR840003846A (ko) | 1984-10-04 |
CA1204199A (en) | 1986-05-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3305675A1 (de) | Optisches geraet mit einem halbleiterlaser | |
DE2501124C3 (de) | Einrichtung zum Fokussieren eines Leselichtbündels auf einem teilweise reflektierenden oder teilweise transparenten Informationsträger | |
DE3687392T2 (de) | Optischer kopf. | |
DE3522849C2 (de) | ||
DE69133432T2 (de) | Mehrschichtinformationsspeichersystem | |
DE3022299C2 (de) | Optische Informationsverarbeitungseinrichtung | |
DE2734257C2 (de) | Vorrichtung zum berührungslosen optischen Auslesen von Information von einem Aufzeichnungsträger | |
DE69632493T2 (de) | Optisches Abtastgerät und Identifizierungsgerät zum Identifizieren des Typs eines optischen Aufzeichnungsmediums | |
DE19513273B4 (de) | Opto-magnetische Kopfanordnung | |
DE4218642C2 (de) | Plattenförmiger Strahlteiler und optisches System zum Abtasten eines optomagnetischen Aufzeichnungsträgers mit diesem Strahlteiler | |
DE3245075C2 (de) | ||
DE68924524T2 (de) | Optische Abtastvorrichtung und geeignetes Spiegelobjektiv zum Anpassen an diese Vorrichtung. | |
DE69424003T2 (de) | Optische Platte, Gerät zur Wiedergabe für optische Platte, und Verfahren zur Aufzeichnung/Wiedergabe für optische Platte | |
DE3227654A1 (de) | Optische informationsaufzeichnungs-/wiedergabe-einrichtung | |
DE3023779C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Fokussierfehlersignales für ein Objektiv | |
DE69015376T2 (de) | Optische Kopfanordnung zur Verwendung in einem optischen Scheibensystem. | |
DE3132804C2 (de) | Verfahren zum Erzeugen eines Fokussierfehlersignals eines Objektivs sowie eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens | |
DE69123192T2 (de) | Optischer Kopf für magnetooptisches Informationswiedergabegerät | |
DE69022447T2 (de) | Optischer Kopf. | |
DE3637948C2 (de) | ||
DE3635143A1 (de) | Fokusermittlungsvorrichtung | |
DE19523567A1 (de) | Optischer Mehrstrahlkopf | |
DE3220216C2 (de) | Optisches System für einen Halbleiter-Laser | |
DE2924154A1 (de) | Fokussierservovorrichtung | |
DE60309542T2 (de) | Verfahren und Gerät zur Korrektur der sphärischen Aberration |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: PATENTANWAELTE MUELLER & HOFFMANN, 81667 MUENCHEN |