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Strahlungsempfindliche, negativ abbildende Masse, daraus
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hergestelltes Bilderzeugungselement, lithographische Druckplatte und
strahlungsempfindliches, negativ abbildendes Harz Die Erfindung betrifft negativ
abbildende, strahlungsempfindliche Massen, insbesondere negativ abbildende, strahlungsempfindliche
Massen, die zur Herstellung von Bilderzeugungselementen, die für die Herstellung
von negativ abbildenden lithographischen Druckplatten geeignet sind, eingesetzt
werden können, sowie solche Bilderzeugungselemente und die daraus hergestellten
lithographischen Druckplatten.
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Die lithographischen Verfahren beruhen auf der Unmischbarkeit von
Fett und Wasser, der bevorzugten Zurückhaltung einer fettigen Bilderzeugungssubstanz
durch
eine Bildfläche und der ähnlichen Zurückhaltung eines wäßrigen
Befeuchtungsfluids durch eine bildfreie Fläche.
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Wenn ein fettiges Bild auf eine geeignete Oberfläche aufgedruckt wird
und die gesamte Oberfläche dann mit einer wäßrigen Lösung befeuchtet wird, stößt
die Bildfläche das Wasser ab-, während die bildfreie Fläche das Wasser zurückhält.
Beim anschließenden Aufbringen einer fettigen Druckfarbe hält die Bildfläche bzw.
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der Bildbereich die Druckfarbe zurück, während die befeuchtete, bildfreie
Fläche die Druckfarbe abstößt.
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Die auf der Bildfläche befindliche Druckfarbe wird dann auf die Oberfläche
eines Materials, auf dem das Bild wiedergegeben werden soll, beispielsweise auf
die Oberfläche eines Papiers oder eines Tuches bzw.
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Stoffes, übertragen, und zwar über ein Zwischenglied, einen sogenannten
Offset- oder Drucktuchzylinder, der erforderlich ist, um einen spiegelbildlichen
Druck zu verhindern.
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Der Typ der lithographischen Druckplatte, auf den sich die Erfindung
bezieht, wird aus einem Bilderzeugungselement hergestellt, das aus einem für lithographische
Zwecke geeigneten Trägermaterial mit einer aus einer strahlungsempfindlichen Masse
bestehenden Beschichtung, die an -mindestens einer Oberfläche des Trägermaterials
anhaftet, besteht. Dieses Bilderzeugungselement wird in Abhängigkeit davon, ob die
Beschichtung durch den Hersteller oder durch den Lithographen auf das Trägermaterial
aufgebracht wird, als vorsensibilisierte" Platte oder als "Platte für Wischbeschichtung"
bezeichnet. Das behandelte Bilderzeugungselement kann in Abhängigkeit von der Art
der angewandten, strahlungsempfindlichen Beschichtung zur direkten Wiedergabe des
Bildes, mit dem es belichtet wurde, angewandt werden und wird in diesem Fall als
positiv abbildende Druckplatte be-
zeichnet oder zur Herstellung
eines Bildes, das zu dem Bild, mit dem es belichtet wurde, komplementär ist, verwendet
werden und wird in diesem Fall als negativ abbildende Druckplatte bezeichnet. In
beiden Fällen ist die Bildfläche der entwickelten Druckplatte oleophil, während
die bildfreie Fläche hydrophil ist.
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Im Fall eines negativ abbildenden Bilderzeugungselements, das durch
ein Negativ bzw. ein negatives Transparentbild hindurch bestrahlt wird, wird durch
die Strahlung eine Härtung des strahlungsempfindlichen Materials, bei dem es sich
im allgemeinen um eine Diazoniumverbindung handelt, hervorgerufen. Dadurch wird
das strahlungsempfindliche Material in einer Desensibilisierungsmasse (d. h. Schichtentfernungsmasse)
unlöslich, die nach der Bestrahlung auf das Bilderzeugungselement aufgebracht wird,
um den Teil der strahlungsempfindlichen Beschichtung, der durch die Strahlung nicht
gehärtet wurde, weil er durch das Negativ vor der Strahlung geschützt wurde, zu
entfernen. Die gehärtete Oberfläche einer negativ abbildenden Druckplatte bildet
die mit der fettigen Druckfarbe verträgliche, oleophile Oberfläche und wird als
"Bildfläche" bezeichnet. Die Oberfläche, von der das nicht gehärtete, strahlungsempfindliche
Material durch das Desensibilisierungsmittel entfernt wurde, bildet eine hydrophile
Oberfläche, die für die fettige Druckfarbe kaum Affinität hat bzw.
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durch die fettige Druckfarbe kaum angefärbt werden kann und als "bildfreie
Fläche" bezeichnet wird, oder kann in eine solche hydrophile Oberfläche umgewandelt
werden.
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Aus der US-PS 4 171 974 sind negativ abbildende, strahlungsempfindliche
Massen bekannt, die ein negativ abbildendes Fotosensibilisierungsmittel für lithographische
Zwecke
und diacrylierte, auf Bisphenol-A basierende Epoxyharze enthalten, wobei unter "acryliert"
zu verstehen ist, daß entweder Acryl- oder Methacrylsäureester gebildet wurden.
Aus der US-PS 4 174 307 ist eine ähnliche strahlungsempfindliche Masse bekannt,
die auf diacrylierten Oligourethanen basiert. Auch aus der AU-PS 439 241 sind strahlungsempfindliche
Massen bekannt, die Acryl- und Methacrylester von aus Bisphenolen und Phenol-Formaldehyd-Novolaken
erhaltenen Diepoxyverbindungen mit einer ungesättigten Funktionalität bis zu 3,3
enthalten.
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Die vorstehend beschriebenen Massen haben aufgrund ihres niedrigen
Ungesättigtheitsgrades unter anderem den Nachteil einer kurzen Lagerfähigkeit und
einer relativ niedrigen Strahlungsempfindlichkeit, während lithographische Druckplatten,
die aus diese Massen enthaltenden Bilderzeugungselementen hergestellt wurden, unter
anderem die Nachteile aufweisen, daß der Kontrast zwischen den Bildflächen und den
bildfreien Flächen schlecht ist, daß sich die Bildflächen von den Trägermaterialien
abschälen bzw. ablösen und daß die Laufzeit beim Druck kurz ist.
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Es ist Aufgabe der Erfindung, eine negativ abbildende, strahlungsempfindliche
Masse mit langer Lagerfähigkeit und hoher Strahlungsempfindlichkeit zur Verfügung
zu stellen, wobei diese Masse ggf. zusätzlich eine hohe Empfindlichkeit gegenüber
wäßrigem Alkali und/oder ein stark ausgeprägtes, oleophiles Verhalten zeigt.
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Durch die Erfindung soll auch ein Bilderzeugungselement mit hoher
Strahlungsempfindlichkeit und langer Lagerfähigkeit zur Verfügung gestellt werden,
das ggf. auch mit wäßrigem Alkali entwickelt werden und/oder ein
stark
ausgeprägtes, oleophiles Verhalten zeigen kann.
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Durch die Erfindung soll des weiteren eine negativ abbildende lithographische
Druckplatte zur Verfügung gestellt werden, die eine lange Laufzeit beim Druck hat,
eine gute Haftung zwischen dem Trägermaterial und dem Bild bzw. Bilderzeugungsmaterial
zeigt und gegebenenfalls in den Bildbereichen ein stärker ausgeprägtes, oleophiles
Verhalten zeigt.
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Im Rahmen der Erfindung ist festgestellt worden, daß negativ abbildende,
strahlungsempfindliche Bilderzeugungselemente mit langer Lagerfähigkeit und hoher
Strahlungsempfindlichkeit hergestellt werden können, die für die Herstellung von
lithographischen Druckplatten mit einem hohen Kontrast zwischen ihren Bildflächen
und ihren bildfreien Flächen, einer sehr guten Haftung der Bildflächen an den Trägermaterialien
und langen Laufzeiten beim Druck geeignet sind. In Übereinstimmung mit besonderen
Ausführungsformen der Erfindung ist auch festgestellt worden, daß strahlungsempfindliche
Massen, bei denen eine Schichtentfernung mit wäßrigem Alkali möglich ist und/oder
die in den Bildflächen ein stärker ausgeprägtes oleophiles Verhalten zeigen, hergestellt
werden können.
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Durch die Erfindung wird eine strahlungsempfindliche, negativ abbildende
Masse mit einer langen Standzeit zur Verfügung gestellt, die für die Herstellung
von Bilderzeugungselementen mit einer langen Lagerfähigkeit und einer hohen Belichtungsgeschwindigkeit
und von lithographischen Druckplatten mit einer langen Laufzeit beim Druck und gutem
Kontrast geeignet ist.
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Durch die Erfindung wird so ein strahlungsempfindliches, negativ abbildendes
Harz mit einer den Wert 2 überschreitenden Polymerisationsfunktionalität zur Verfügung
gestellt, bei dem es sich um ein O-epoxyalkyliertes Tetrakis (hydroxyphenyl) alkan-Harz
oder einen Ester davon handelt. Dieser Ester ist das Reaktionsprodukt von einem
Äquivalent des O-epoxyalkylierten Tetrakis-(hydroxyphenyl)alkan-Harzes mit weniger
als einem Äquivalent einer organischen Säure, wobei die organische Säure mindestens
eine substituierte oder unsubstituierte, einfach oder mehrfach ethylenisch ungesättigte
Säure enthält.
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Das O-epoxyalkylierte Tetrakis(hydroxyphenyl)alkan-Harz hat vorzugsweise
die Formel:
worin m eine ganze Zahl von 0 bis 10 und vorzugsweise von 0 bis 2 ist und n und
p ganze Zahlen sind, deren Summe 0 bis 10 und vorzugsweise 0 bis 2 beträgt. Es wird
am meisten bevorzugt, daß m, n und p 0 bedeuten.
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Solche Harze können in dimerisierter oder trimerisierter Form oder
in Form von verschiedenen Mischungen davon vorliegen. Ein Beispiel eines solchen
O-epoxyalkylierten Harzes ist 1,1,2,2-Tetrakis[(2,3-epoxypropoxy ) phenyl]
ethant ein im Handel erhältliches Harz, das unter dem Handelsnamen Epon 1031 verkauft
wird; dieses Harz hat ein Epoxyäquivalent von 210 bis
240 g und
bei 25 0C eine Gardner-Holdt-Viskosität von Z4 Z8 Zu ethylenisch ungesättigten Säuren,
die für die Herstellung der erfindungsgemäßen Harze geeignet sind, gehören Carbonsäuren
wie Acryl-, Methacryl-, Zimt-, Croton-, Olein-, Linol- und Linolensäure, Sulfonsäuren
und Phosphonsäuren und Mischungen davon.
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Die vorstehend erwähnten, veresterten Harze sind aufgrund der großen
Zahl von Hydroxylgruppen, die sie enthalten, relativ hydrophil. Dies kann bei der
Verwendung von daraus erhaltenen lithographischen Druckplatten zu unerwünschten
Wirkungen führen, die auf einem verminderten Kontrast zwischen den Bildflächen und
den bildfreien Flächen dieser Druckplatten, der durch eine erhöhte Wasseraufnahme
in den Bildflächen verursacht wird, beruhen. Infolgedessen ist festgestellt worden,
daß eine Verstärkung des oleophilen Verhaltens der Bildflächen vorteilhaft ist.
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Demzufolge wird in Übereinstimmung mit einer anderen Ausführungsform
der Erfindung eine strahlungsempfindliche, negativ abbildende Masse mit einem verstärkten
oleophilen Verhalten zur Verfügung gestellt, die hergestellt wird, indem man das
vorstehend erwähnte, O-epoxyalkylierte Phenolharz mit der vorstehend beschriebenen,
ungesättigten Säure und entweder gleichzeitig oder anschließend mit langkettigen,
gesättigten Säuren, beispielsweise mit Carbonsäuren wie Pelargon-, Palmitin-und
Stearinsäure, Sulfonsäuren wie Decan- und Hexadecansulfonsäure und Phosphonsäuren
wie Octadecan- und Nonanphosphonsäure und- Mischungen davon umsetzt.
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Im Hinblick auf die sich gegenwärtig verstärkenden Forderungen nach
einem Schutz der Umwelt vor der Herstellung von schädlichen Materialien und der
Anwendung von schädlichen Verfahren ist in der graphischen Industrie wie auch in
anderen Industriezweigen nach Materialien und Verfahren, die auf wäßrigen Systemen
basieren, gesucht worden, um die Abhängigkeit von ökologisch unerwünschten Materialien
wie z. B. organischen Lösungsmitteln zu vermindern. Die vorstehend erwähnten Harze
haben zwar viele Eigenschaften, die Verbesserungen gegenüber dem bekannten Stand
der Technik darstellen, man ist jedoch für die Entwicklung der daraus hergestellten,
bildmäßig belichteten Platten auf organische Lösungsmittelsysteme angewiesen.
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Im Rahmen der Erfindung ist nun festgestellt worden, daß strahlungsempfindliche,
negativ abbildende Massen hergestellt werden können, die unter anderem gegenüber
wäßrigem Alkali empfindlich sind, d. h. daß daraus erhaltene, bildmäßig belichtete
Bilderzeugungselemente mittels wäßriger, alkalischer Entwickler entwickelt werden
können.
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Demnach wird gemäß dieser Ausführungsform der Erfindung eine strahlungsempfindliche,
gegenüber wäßrigem Alkali empfindliche, negativ abbildende Masse zur Verfügung gestellt,
die aus der Mischung A. der durch Strahlung polymerisierbaren Verbindung, bei der
es sich um das O-epoxyalkylierte Phenolharz oder das Esterprodukt der Reaktion von
etwa einem Äquivalent davon mit weniger als einem Äquivalent einer organischen Säure
handelt, und
B. mindestens eines strahlungsempfindlichen, gegenüber
wäßrigem Alkali empfindlichen Bestandteils besteht.
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Falls erwünscht, kann die vorstehend erwähnte, organische Säure zur
Verstärkung des oleophilen Verhaltens der Bildflächen der aus der vorstehend beschriebenen
Masse erhaltenen Druckplatten außerdem eine gesättigte, organische Säure-, wie sie
vorstehend beschrieben wurde, enthalten, die gleichzeitig mit der ungesättigten
Säure oder anschließend an die ungesättigte Säure mit dem epoxyalkylierten Harz
reagiert haben kann.
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Strahlungsempfindliche, gegenüber wäßrigem Alkali empfindliche Bestandteile
sind bekannt. Zu diesen Bestandteilen gehören monomere und polymere Diazoniumverbindungen
wie das Reaktionsprodukt von p-Diazodiphenylamin mit Paraformaldehyd, die Azidopyrene,
beispielsweise 1-Azidopyren, 6-Nitro-1-azidopyren, 1,6-Diazidopyren, 1,8-Diazidopyren,
l-Propionyl-6-azidopyren, 1-Acetyl-6-azidopyren, 1-n-Butyryl-6-azidopyren, 1-n-Propionyl-8-brom-6-azidopyren
und 8-n-Propionyl-1,6-diazidopyren; 4-Diazodiphenylaminsulfat; 1-Diazo-4-N,N-dimethylaminobenzol
Zinkchlorid; 1-Diazo-4-N,N-diethylaminobenzol: Zinkchlorid; 1-Diazo-(4-N-ethyl-N-hydroxyethyl)-aminobenzol
y in 1/2 Zinkchlorid; 1-Diazo-(4-N-methyl-N-hydroxyethyl)-aminobenzol C 1/2 Zinkchlorid,
l-Diazo-2,5-diethoxy-(4-benzoylamino)-benzol . 1/2 Zinkchlorid; l-Diazo-4-N-benzylaminobenzol
1/2 Zinkchlorid; 1-Diazo-4-N,N-dimethylaminobenzol - Borfluorid; 1-Diazo-4-morpholinobenzol
. 1/2 Zinkchlorid; 1-Diazo-4-morpholinobenzolborfluorid; 1-Diazo-2, 5-dimethoxy-4-(p-tolylmercapto)-benzol
.1/2 Zinkchlorid: 1-Diazo-2-ethoxy-4-N,N-dimethylaminobenzol 91/2 Zinkchlorid; 4-Diazo-N,N-dimethylanilin;
1/2
Zinkchlorid; 1-Diazo-4-(N,N-diethylamino)-benzol 1/2 Zinkchlorid; 1-Diazo-2,5-dibutoxy-4-morpholinobenzolsulfat:
1-Diazo-2,5-diethoxy-4-morpholinobenzol 1/2 Zinkchlorid; 1-Diazo-2,5-dimethoxy-4-morpholinobenzol,
Zinkchlorid; 1-Diazo-2,5-diethoxy-4-morpholinobenzolborfluorid, 2-Diazo-1-naphthol-5-sulfonsäure-Natriumsalz;
1-Diazo-4-N,N-diethylaminobenzolborfluorid; 1-Diazo-2,5-diethoxy-4-p-tolylmercaptobenzol
1/2 Zinkchlorid; 1-Diazo-3-ethoxy-4-(N-methyl-N-benzylamino)-benzol | 1/2 Zinkehlorid;
1-Diazo-3-chlor-4-(N,N-diethylamino)-benzol 1/2 Zinkchlorid; 1-Diazo-3-methyl-4-pyrrolidinobenzolchlorid
. Zinkchlorid; 1-Diazo-3-methyl-4-pyrrolidinobenzolborfluorid; 1-Diazo-2-chlor-4-(N,
N-dimethylamino)-5-methoxybenzolborfluorid; 1-Diazo-3-methoxy-4-pyrrolidinobenzol
Zinkchlorid und das Kondensationsprodukt von 4-Diazodiphenylaminsulfat mit Formaldehyd
und Zinkchlorid sowie die auf den Seiten 201 bis 214 der Druckschrift Light-Sensitive
Systems, von Jaromir Kosar, John Wiley and Sons, New York 1965,aufgeführten, negativ
abbildenden Diazomassen.
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Eine bevorzugte Diazoniumverbindung für die Verwendung im Rahmen der
Erfindung ist das Produkt der Reaktion von (A) 2-Ethoxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure
mit (B) dem Produkt der Kondensation von p-Diazodiphenylamin mit Formaldehyd.
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Die erfindungsgemäßen, veresterten Harze werden durch bekannte Verfahren
hergestellt, beispielsweise durch Erhitzen einer Lösung, die die organischen Säuren,
die O-epoxyalkylierten Phenolharze und ein geeignetes Lösungsmittel enthält, in
Gegenwart eines Säurekatalysators.
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Für die Herstellung der erfindungsgemäßen Masse geeignete Lösungsmittel
sind bekannt. Bevorzugte Lösungsmittel sind Ethylenglykolmonomethylether und dessen
Acetat, Ethylacetat und Mischungen davon.
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Zu den Säurekatalysatoren, die im Rahmen der Erfindung eingesetzt
werden können, gehören Mineralsäuren wie HC1 und H2S04, organische Säuren, d. h.
Aryl- und Alkylcarbonsäuren wie Benzoesäure und Essigsäure, Sulfonsäuren wie p-Toluolsulfonsäure
und Phosphonsäuren, und vorzugsweise Lewissäuren wie SnCl2, AlCl3 und BF3, die in
ihrer freien Form oder in komplexierter Form eingesetzt werden können. Eine Säure,
die im Rahmen der Erfindung bevorzugt wird, ist SnCl 2> 2H20.
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Die Mengen der Reaktionsteilnehmer werden so gewählt, daß die Endprodukte
ein Carboxyl/Epoxid-Verhältnis von 0,5 bis 1, vorzugsweise etwa 0,7 bis etwa 0,8
und insbesondere etwa 0,8 haben. Das Carboxyl/Epoxid-Verhältnis, bei dem es sich
um einen Durchschnittswert handelt, wird als die Anzahl der in dem Endprodukt vorhandenen
Estergruppen geteilt durch die Epoxidäquivalente des ursprünglich vorhandenen, O-epoxyalkylierten
Harzes definiert. Es ist außerdem erwünscht, daß die Reaktionsmischung und die am
Ende erhaltene Lösung, die die erfindungsgemäße Masse enthält, einen Gehalt an nichtflüchtigen
Bestandteilen oder einen Feststoffgehalt von etwa 50 Gew.-% haben.
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Die Reaktionsmischung enthält üblicherweise auch einen bekannten Inhibitor
für die thermische Polymerisation, um eine Polymerisation der Reaktionsteilnehmer
und/oder der Produkte während der Herstellung der Masse zu verhindern. Bevorzugte
Inhibitoren sind Hydrochinonmonomethylether (MEHQ), Benzyldimethylamin (BDMA) und
Mischungen davon.
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Die Reaktion wird über eine Zeitperiode von etwa 10 bis 26 h durchgeführt,
bis die gewünschte Viskosität und die gewünschte Säurezahl, d. h. die gewünschte
Menge der in der Reaktionsmischung vorhandenen, freien Säure, erhalten werden. Die
Säurezahl beträgt geeigneterweise 1 oder weniger.
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Falls erwünscht, können die erfindungsgemäßen Massen auch Zusatzstoffe
wie andere Harze, reaktionsfähige Verdünnungsmittel, strahlungsempfindliche Polymerisationsinitiatoren
und Sensibilisierungsmittel, Initiatoren für die thermische Polymerisation und Inhibitoren
und Farbmittel enthalten. Die Anzahl und die Art der verwendeten Zusatzstoffe hängen
von dem Endgebrauch ab, für den die Masse bestimmt ist.
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Die Masse würde demnach in Abhängigkeit von der bei dem Bilderzeugungsverfahren
anzuwendenden Strahlungsart auch beispielsweise thermische Initiatoren für die Belichtung
mit thermischen Energiequellen, lichtempfindliche Initiatoren für die Belichtung
mit Strahlungsquellen wie UV-Licht (oder für die Belichtung mit Elektronenstrahlquellen
überhaupt keine Initiatoren? enthalten.
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Zu Strahlungsarten, gegenüber denen die erfindungsgemäßen Massen empfindlich
sein können, gehören beispielsweise UV-, IR- und sichtbares Licht, Radiowellen,
Schallwellen, Elektronenstrahlen und Mikrowellen. Die Masse kann einer oder mehr
als einer Strahlungsart ausgesetzt werden, falls dies erwünscht ist, weshalb die
Masse verschiedene bzw. mehrere Arten von Initiatoren enthalten kann.
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Strahlungsempfindliche Initiatoren und Sensibilisierungsmittel sind
bekannt. Beispiele dafür sind Peroxide wie Benzoylperoxid, Hydroperoxide, Cumol,
Azonitrile,
beispielsweise Azobisisobutyronitril, Diazoniumverbindungen
und Mischungen davon.
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Die anderen Harze, die für die Verwendung in der erfindungsgemäßen
Masse geeignet sind, sind bekannt und können reaktionsfähig oder nicht reaktionsfähig
sein.
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Beispiele für solche Harze sind Epoxyharze, Polyvinylacetale, Polyurethane,
Polyvinylformale und Mischungen davon.
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Gemäß einer anderen Ausführungsform der Erfindung wird ein strahlungsempfindliches
Bilderzeugungselement zur Verfügung gestellt, das aus einem Schichtträger und einer
der vorstehend beschriebenen, erfindungsgemäßen, strahlungsempfindlichen Massen,
die auf mindestens eine Oberfläche des Schichtträgers aufgebracht wurde, besteht.
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Trägermaterialien, die im Rahmen der Erfindung geeignet sind, sind
bekannt, und ihre Auswahl hängt vom Endgebrauch des Bilderzeugungselements ab. Zu
solchen Trägermaterialien gehören Aluminium und dessen Legierungen, Metallfolien-Schichtstoffe
mit Kunststoff oder Papier, Silicium usw.
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Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird eine lithographische
Druckplatte zur Verfügung gestellt, die hergestellt wird, indem man eines der vorstehend
erwähnten, erfindungsgemäßen Bilderzeugungselemente, bei dem das Trägermaterial
für lithographische Zwecke geeignet ist, durch ein Transparentbild hindurch bildmäßig
bestrahlt und das auf diese Weise bestrahlte Bilderzeugungselement zur Entfernung
der nicht bestrahlten Flächen des Bilderzeugungselements mit einem wäßrigen, alkalischen
Entwickler entwickelt. Falls erwünscht,
kann die entwickelte Druckplatte
auch einer Nachbehandlung durch Erhitzen oder durch Bestrahlung der gesamten Oberfläche
unterzogen werden.
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Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert.
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Beispiel 1 Herstellung eines veresterten Harzes g Eine Lösung aus
einem glycidylierten 240,0 TM Phenolharz (Epon 1031, Shell (1,116 Epoxid-Chemical
Co.) Äquivalente) Hydrochinonmonomethylether (MEHQ) 0,155 SnCl2. 2H2O 0,86 Benzyldimethylamin
(BDMA) 1,71 und Ethylacetat 94,4 wurde bis zum Rückfluß erhitzt. Zu der vorstehend
erwähnten Lösung wurde unter Rückfluß eine Mischung zugegeben, die aus 55,0 g wasserfreier
Acrylsäure ("Eis"-Acrylsäure, "AA"; 0,764 Äquivalente) und 17,4 g Pelargonsäure
(PA"; 0,109 Äquivalente) bestand. Die Zugabe war in etwa 1 h beendet. Die Reaktionsmischung
wurde dann unter Rückfluß gehalten, bis die Säurezahl auf weniger als 0,5 gesunken
war (etwa 10 h). Nach dem Abkühlen wurde die Konzentration der Reaktionsmischung
durch Zugabe von Ethylenglykolmonomethylether (EGME) bis zur Erzielung eines Gehalts
an Feststoffen bzw. nichtflüchtigen Bestandteilen von etwa 50 Gew.-% vermindert.
Die Lösung hatte bei einem Feststoffgehalt von 50,6 Gew.-% eine 2 Viskosität (GH
1933-Std.) von 200 mm /s; alle Viskositätswerte
basieren auf dem
Gardner-Holdt 1933-Standard.
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Das Carboxyl/Epoxid-Verhältnis betrug etwa 0,782/1,0.
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Beispiele 2 bis 4 Herstellung von veresterten Harzen Gemäß dem Verfahren
von Beispiel 1 wurden drei Harze hergestellt. Die Reaktionsteilnehmer und die Reaktionsparameter
sind in der folgenden Tabelle angegeben.
Reaktionsmischung Temp.
Säure Glycidyliertes SnCl2 MEHQ BDMA Lösungs-(Anzahl der Harz, Gew. 2H2O mittel*
Beispiel (°C) Äquivalente) (Epoxid-Äquiv.) (g) (g) (g) (g) 2 Rückfluß AA(0,877)
Epon 1031 0,985 0,18 1,97 MCA PA(0,255) 275 g (1,28) 361,2 3 93,5 AA Epon 1031 EGME-(5,868)
1566 g (6,96) 7,0 1,0 14,0 Acetat 4 93,5 AA(1,41) Epon 1031 EGME PA(0,20) 5186 g
(2,3) 1,82 0,33 3,61 657 *MCA = Methyl Cellosolve TM-Acetat; Lösungsmittelmenge
reicht zur Erzielung eines Feststoffgehalts der Charge von 50 Gew.-% bei MCA und
von 40 Gew.-% bei EGME und EGME-Acetat aus Endprodukt Carboxyl/ Reaktions- Viskosität
Epoxid-Ver-Beispiel dauer (h) (mm2/s) Säurezahl hältnis 2 13 95 1.0 0,818 3 11 100
0,37 0,84 4 10 65 0,2 0,7
Beispiel 5 Herstellung eines strahlungsempfindlichen
Bilderzeugungselements I. Herstellung des Schichtträgers Ein Blech aus AATM -3003-Aluminium
wurde unter Verwendung einer 4 gew.-%igen, wäßrigen NaOH-Lösung entfettet und dann
bis zur Erzielung eines Oberflächenrauhigkeitswertes (Ra-Wertes) von 0,4 mechanisch
gekörnt. Das Blech wurde dann 1 min lang bei 25°C in einer 18 gew.-%igen, wäßrigen
H2SO4-Lösung mit 9,29 A/dm anodisiert.
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Das anodisierte Blech wurde anschließend 20 s lang mit Wasser gespült
und 30 s lang bei 70 0C in eine 3 gew.-%ige, wäßrige Natriumsilicatlösung eingetaucht
und dann mit entionisiertem Wasser gespult.
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II. Beschichtung des Schichtträgers a) Eine strahlungsempfindliche
Masse, die aus einer Mischung aus 1) dem Produkt der Reaktion von Gew.-Teile i)
2-Ethoxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfon-säure mit ii) dem Produkt der Kondensation
von p-Diazodiphenylamin mit Formaldehyd 1 2) DVTM521 (einem Polyester, hergestellt
von Polychrome) 0,5 3) dem Produkt von Beispiel 1 0,5 4) OrasolTM Blue GN(einem
Farbstoff) 0,1 5) Methylorange 0,02 6) Ethylendichlorid 55 7) Methanol 22 8) Methyl
Cellosolve M und 18 9) N, N-DimethylforTnamid 2,88
bestand, wurde
auf ein gemäß Abschnitt I hergestelltes Aluminiumblech aufgetragen und getrocknet.
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b) Das Verfahren von Abschnitt II a) wurde wiederholt, wobei das
Produkt von Beispiel 1 jedoch durch TM eine gleiche Menge von Epon um 1031, d. h.
durch eine gleiche Menge des nicht veresterten, O-epoxyalkylierten Phenolharzes,
ersetzt wurde.
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III. Die gemäß Abschnitt II erhaltenen B4lderzeugungselemente wurden
beschleunigten Lagerfähigkeitstesten unterzogen, und nach der Belichtung und der
Entwicklung unter Verwendung einer die folgenden Bestandteile enthaltenden, wäßrigen,
alkalischen Entwicklermischung: Gew.-Teile Wasser 68 n-Propylalkohol 22 Natriumlaurylsulfat
5 Lithiumbenzoat 2 Benzylalkohol 3 wurde die Lebensdauer der erhaltenen lithographischen
Druckplatten beim Druck geprüft. Es wurden die folgenden Ergebnisse erhalten: Bilderzeugungselemente
Beschleunigte LagergåhiWkeit desLebensdauer der von Abschnitt II Bilderzeugungselements
bei 600C Druckplatte beim Druck (Anzahl der guten Kopien a) 8 Tage * 110.000 b)
6 Tage 98.000 * Anmerkung: Ein Tag bei 600C ist mit 6 Monaten bei Raumtemperatur
vergleichbar
Beispiele 6 bis 8 Nach der Verfahrensweise von Beispiel
5, Abschnitt I und II, wurden strahlungsempfindliche Bilderzeugungselement hergestellt,
wobei das Produkt von Beispiel 1 durch die Produkte der Beispiele 2 bis 4 ersetzt
wurde.