DE3235493C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3235493C2 DE3235493C2 DE3235493A DE3235493A DE3235493C2 DE 3235493 C2 DE3235493 C2 DE 3235493C2 DE 3235493 A DE3235493 A DE 3235493A DE 3235493 A DE3235493 A DE 3235493A DE 3235493 C2 DE3235493 C2 DE 3235493C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor wafer
- plastic
- wiring
- semiconductor
- openings
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 32
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 21
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 21
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 2
- 238000005496 tempering Methods 0.000 claims description 2
- ZFLIKDUSUDBGCD-UHFFFAOYSA-N parabanic acid Chemical compound O=C1NC(=O)C(=O)N1 ZFLIKDUSUDBGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000009975 flexible effect Effects 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 101100400378 Mus musculus Marveld2 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1876—Particular processes or apparatus for batch treatment of the devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/02002—Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations
- H01L31/02005—Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations for device characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02008—Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations for device characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells or solar cell modules
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/048—Encapsulation of modules
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1804—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic Table
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Verdrahtung für Solarzellen nach dem
Oberbegriff des Patentanspruchs 1, wie sie aus der US-PS 37 80 424
bekannt ist, sowie ein Verfahren zur Herstellung der Ver
drahtung.
Für die Herstellung von Solarpanels müssen Solarzellen aus Silicium
scheiben, die einen Durchmesser von etwa 7,5 cm oder 10 cm besitzen,
miteinander verdrahtet werden, wobei die einzelnen Solarzellen in
Reihe oder parallel geschaltet werden.
Bei der aus der genannten
US-PS 37 80 424 bekannten Verdrahtung für Solarzellen sind die Halb
leiterscheiben mit den Leiterbahnen zwischen zwei Kunststoffolien
angeordnet. Zur Bildung einer Reihenschaltung führt eine Leiterbahn
von der der Sonneneinstrahlung ausgesetzten Oberseite einer Solar
zelle zur Unterseite der nächsten, nachgeschalteten Solarzelle. Für
die Leiterbahnen zwischen den einzelnen Solarzellen, also als Ver
drahtungselemente zwischen den einzelnen Siliciumscheiben, werden
Drähte oder Bänder verwendet, die an den entsprechenden Kontakt
stellen der Siliciumscheiben mit den auf diese aufgedampften Lei
terbahnen verlötet oder verschweißt werden. Dabei müssen die Lei
terbahnen auf den Halbleiterscheiben und die von den Solarzellen
wegführenden elektrischen Anschlüsse allerdings in gesonderten
Arbeitsgängen angeordnet werden.
Bei der aus der US-PS 40 19 924 bekannten Verdrahtung für Solarzel
len ist ein elektrisch leitendes Verbindungsmuster zwischen zwei
isolierenden Kunststoffolien angeordnet. Durch Öffnungen in der
einen Folie werden Verbindungsstreifen nach außen geführt, so daß
sie mit den auf den Halbleiterscheiben angebrachten Leiterbahnen ver
bunden werden können. Somit sind auch bei dieser Anordnung die elek
trischen Verbindungen nur in gesonderten Arbeitsgängen herstellbar.
Die Verdrahtung der einzelnen Solarzellen mittels der genannten Mon
tage- und Verbindungsprozesse ist relativ aufwendig und schwierig zu
automatisieren, was letztlich darauf beruht, daß für die Anbrin
gung der Leiterbahnen auf der Oberfläche der Siliciumscheibe,
die sogenannten Grid-Leiterbahnen, und für die Verbindung der
Solarzellen mittels der Verdrahtungselemente verschiedene Pro
zesse angewandt werden.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Verdrahtung für
Solarzellen zu schaffen, die eine Automatisierung ohne großen
Aufwand erlaubt; außerdem soll ein Verfahren zur Herstellung
einer solchen Verdrahtung angegeben werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Verdrahtung nach
dem Anspruch 1 bzw. durch ein Verfahren nach dem Anspruch 3
gelöst.
Wenigstens ein Kunststoffband kann in vorteilhafter Weise aus
Polyimid oder polymerisierter Polyparabansäure oder Polyamid be
stehen.
Ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Verdrahtung zeichnet
sich dadurch aus, daß die Halbleiterscheibe im Anschluß an deren
letzte Temperung mit Temperaturen über 300°C zwischen den beiden
Kunststoffbändern eingeklebt oder eingeschweißt wird,
und daß auf einer Oberseite der Halb
leiterscheibe die Leiterbahnen in einem Arbeitsgang hergestellt
werden.
Eine Oberseite der Halbleiterscheibe und ein Kunststoffband wird nach
Aufbringen einer Siebdruckabdeckung mit einem Metall bedampft, um auf der
Halbleiterscheibe und dem Kunststoffband Leiterbahnen zu erzeu
gen. Damit ist es möglich, gleichzeitig die Verdrahtungselemente
zwischen den einzelnen Halbleiterscheiben und die Grid-Leiter
bahnen herzustellen. Die andere Oberseite der Halbleiterscheibe
und das andere Kunststoffband werden ganzflächig mit Metall be
dampft. Zum Verstärken können sodann die Vorderseite und die
Rückseite des Folienbandes durch ein Lötbad geschickt werden.
Für das Metall wird in vorteilhafter Weise CrNi-Ni oder CrNiCu
verwendet.
Nachfolgend wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung an
Hand der Figur näher erläutert, in der eine Solarzelle im
Schnitt gezeigt ist:
Zwei Kunststoffbänder 1 und 2 aus einer 25 µm dic
ken Polyimidfolie sind miteinander durch Klebstoff 3 ver
klebt und weisen jeweils kreisförmige Öffnungen 4, 5 auf,
in die eine Siliciumscheibe 6 eingelegt ist. Die Ränder
der Kunststoffbänder 1, 2 übergreifen dabei in den Öff
nungen 4, 5 den Rand der Siliciumscheibe 6.
Die Siliciumscheibe 6 wird dabei nach der letzten Tempe
rung mit Temperaturen über 300°C zwischen die beiden
Kunststoffbänder 1, 2 mittels des Klebers 3 eingeklebt
oder mit FEP eingeschweißt, um so ein Fo
lienband bzw. eine Verbundfolie zu bilden. Die Öffnungen
4, 5 können in die Kunststoffbänder 1, 2
durch Ausstanzen eingebracht werden. Die Größe dieser
Öffnungen ist so bemessen, daß nur ein schmaler Rand der
Siliciumscheibe 6 abgedeckt wird, so daß diese keine ins
Gewicht fallende Abdeckung erhält.
Die Kontaktierung der Siliciumscheibe 6 geschieht in folgender
Weise:
Auf die der Sonneneinstrahlung auszusetzende Oberseite
der Siliciumscheibe 6 wird eine Siebdruckmaske 7 aufge
bracht. Anschließend wird auf dieser Oberseite sowie auf
der Oberseite des damit verbundenem Kunststoffbandes 1
eine Metallschicht 8 durch Besputtern oder Bedampfen auf
gebracht, wobei für das Metall CrNi-Ni oder CrNiCu ver
wendet werden kann. Nach Abheben der Siebdruckmaske 7
verbleiben auf der Oberfläche der Siliciumscheibe 6 Grid-
Leiterbahnen 9 und auf der Kunststoffolie 1 als Verdrah
tungselement dienende Leiterbahnen 10.
Anschließend werden die Rückseite der Halbleiterscheibe 6
sowie die freiliegende Oberseite des Kunststoffbandes 2
ganzflächig mit dem gleichen Metall bedampft, um so eine
Metallschicht 11 zu erzeugen. Die Leiterbahnen 9, die
Verdrahtungselemente 10 und die Metallschicht 11 können
sodann noch mittels eines Lötbades verstärkt werden, in
dem die gesamte Anordnung durch dieses geschickt wird.
Alternativ ist es möglich, mittels einer Leitpaste in ei
nem Verarbeitungsschritt die Grid-Leiterbahnen und die
Verdrahtungselemente bei einer Einbrenntemperatur unter
300°C gleichzeitig zu erzeugen.
Die einzelnen Siliciumscheiben mit den daran angebrachten
Verdrahtungselementen werden sodann abgestanzt, wodurch
Solarzellen entstehen, die infolge ihrer anhängenden fle
xiblen Leiterbahnstreifen 13, 14 auf den Kunststoffbän
dern 1, 2, den Metallschichten 10, 11 und der Klebstoff
schicht 3 leicht montierbar sind. Wenn die einzelnen So
larzellen parallelgeschaltet werden, ist das Abstanzen
nicht erforderlich, so daß in diesem Fall der Verbin
dungsaufwand weiter verringert wird.
Die Erfindung ermöglicht so eine hervorragend automati
sierbare Verdrahtung von Solarzellem, die eine Weiterver
arbeitung am Band erlaubt und bei der durch die Abdeckung
des Randes der Halbleiterscheibe eine Verminderung der
Bruchgefahr erreicht wird. Auch werden breite, flexible
und gut automatisch montierbare Leiterbahnanschlüsse er
reicht.
Claims (7)
1. Verdrahtung für Solarzellen mit einer Halbleiter-Scheibe (6),
die zwischen zwei Kunststoffbändern (1, 2) eingeklebt oder einge
schweißt ist und mit Leiterbahnen, die auf die Halbleiter-Schei
be (6) aufgebracht sind und von der Halbleiter-Scheibe (6) als
elektrische Anschlüsse wegführen,
dadurch gekennzeichnet, daß die beiden
Kunststoffbänder (1, 2) derart geformte Öffnungen aufweisen, daß
Vorder- und Rückseite der Halbleiter-Scheibe (6) freiliegen und
nur deren Rand durch die beiden Kunststoffbänder (1, 2) abge
deckt sind, und daß die von einer Oberseite der Halbleiter-
Scheibe (6) wegführenden elektrischen Anschlüsse (10) auf dem
den Rand dieser Oberseite der Halbleiter-Scheibe (6) abdeckenden
Kunststoffband (1) aufgebracht sind.
2. Verdrahtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens
ein Kunststoffband (1, 2) aus Polyimid oder polymerisierter Poly
parabansäure oder Polyamid besteht.
3. Verfahren zur Herstellung der Verdrahtung nach Anspruch 1
oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Halblei
ter-Scheibe (6) im Anschluß an deren letzte Temperung mit
Temperaturen über 300°C zwischen den beiden Kunststoffbändern
(1, 2) eingeklebt oder eingeschweißt wird und daß auf einer
Oberseite der Halbleiter-Scheibe (6) die Leiterbahnen (9, 10)
in einem Arbeitsgang hergestellt werden.
4. Verfahren nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß bei kreis
förmigen Halbleiter-Scheiben (6) die Öffnungen kreisförmig und
bei quadratischen Halbleiter-Scheiben (6) die Öffnungen quadra
tisch sind.
5. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Ober
seite der Halbleiter-Scheibe (6) und ein Kunststoffband (1) nach Auf
bringen einer Siebdruckabdeckung (7) mit einem Metall bedampft wird, um auf
der Halbleiter-Scheibe (6) und dem Kunststoffband (1) Leiterbah
nen (9, 10) zu erzeugen.
6. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die andere
Oberseite der Halbleiter-Scheibe (6) und das andere Kunststoff
band (2) ganzflächig mit Metall bedampft werden.
7. Verfahren nach Anspruch 5 oder 6,
dadurch gekennzeichnet, daß das Metall
CrNi-Ni oder CrNiCu ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823235493 DE3235493A1 (de) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | Verdrahtung fuer solarzellen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823235493 DE3235493A1 (de) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | Verdrahtung fuer solarzellen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3235493A1 DE3235493A1 (de) | 1984-03-29 |
DE3235493C2 true DE3235493C2 (de) | 1991-09-12 |
Family
ID=6174114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823235493 Granted DE3235493A1 (de) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | Verdrahtung fuer solarzellen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3235493A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT408158B (de) * | 1998-12-28 | 2001-09-25 | Kroener Friedrich Dr | Maske zur strukturierten, elektrochemischen bearbeitung eines siliziumplättchens für die solarzellenherstellung |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3511082A1 (de) * | 1985-03-27 | 1986-10-02 | Telefunken electronic GmbH, 7100 Heilbronn | Solarzelle |
DE69222549T2 (de) * | 1991-02-20 | 1998-03-05 | Canon Kk | Solarzellenmodul mit Schutzelement |
JP3061954B2 (ja) * | 1991-08-20 | 2000-07-10 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JP3332308B2 (ja) * | 1995-11-07 | 2002-10-07 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
DE19652810A1 (de) * | 1996-12-18 | 1998-07-02 | Priesemuth W | Verfahren zum Herstellen einer Solarzelle sowie eines Solarmoduls und Solarzelle sowie Solarmodul |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3780424A (en) * | 1970-10-26 | 1973-12-25 | Nasa | Method of making silicon solar cell array |
US4019924A (en) * | 1975-11-14 | 1977-04-26 | Mobil Tyco Solar Energy Corporation | Solar cell mounting and interconnecting assembly |
JPS5669874A (en) * | 1979-11-13 | 1981-06-11 | Fuji Electric Co Ltd | Amorphous semiconductor solar cell |
US4331703A (en) * | 1979-03-28 | 1982-05-25 | Solarex Corporation | Method of forming solar cell having contacts and antireflective coating |
-
1982
- 1982-09-24 DE DE19823235493 patent/DE3235493A1/de active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3780424A (en) * | 1970-10-26 | 1973-12-25 | Nasa | Method of making silicon solar cell array |
US4019924A (en) * | 1975-11-14 | 1977-04-26 | Mobil Tyco Solar Energy Corporation | Solar cell mounting and interconnecting assembly |
US4331703A (en) * | 1979-03-28 | 1982-05-25 | Solarex Corporation | Method of forming solar cell having contacts and antireflective coating |
JPS5669874A (en) * | 1979-11-13 | 1981-06-11 | Fuji Electric Co Ltd | Amorphous semiconductor solar cell |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT408158B (de) * | 1998-12-28 | 2001-09-25 | Kroener Friedrich Dr | Maske zur strukturierten, elektrochemischen bearbeitung eines siliziumplättchens für die solarzellenherstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3235493A1 (de) | 1984-03-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3303926C2 (de) | ||
DE2411259C3 (de) | Verfahren zur Herstellung integrierter Schaltkreise | |
DE2810054C2 (de) | Elektronische Schaltungsanordnung und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE2843581C2 (de) | Elektrischer Schichtkondensator und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE4000089C2 (de) | ||
DE68908808T2 (de) | Verfahren zum Montieren elektronischer Mikrokomponenten auf einer Unterlage und Zwischenprodukt. | |
DE1765434A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von flexiblen elektrischen Flachkabeln | |
DE102006041046A1 (de) | Solarzelle, Verfahren zur Herstellung von Solarzellen sowie elektrische Leiterbahn | |
EP0016925B1 (de) | Verfahren zum Aufbringen von Metall auf Metallmuster auf dielektrischen Substraten | |
DE4203114C2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Bandträgervorrichtung für Halbleitereinrichtungen | |
DE2315711A1 (de) | Verfahren zum kontaktieren von in einem halbleiterkoerper untergebrachten integrierten schaltungen mit hilfe eines ersten kontaktierungsrahmens | |
DE3235493C2 (de) | ||
EP0017979A1 (de) | Elektrisches Netzwerk und Herstellungsverfahren | |
DE1909480C2 (de) | Trägeranordnung und Verfahren zur elektrischen Kontaktierung von Halbleiterchips | |
DE200232T1 (de) | Entkopplungskondensator und verfahren zu seiner herstellung. | |
DE1915148C3 (de) | Verfahren zur Herstellung metallischer Höcker bei Halbleiteranordnungen | |
DE1564066B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von elektrischen Verbindungen zu Kontaktschichten an der Oberfläche des Halbleiterkörpers von Halbleiteranordnungen | |
DE2528000B2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Lötfläche relativ großer Abmessungen | |
DE102010015942A1 (de) | Solarmodul und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE69331649T2 (de) | TAB Band und sein Herstellungsverfahren | |
DE1439529B2 (de) | : Halbleiterbauelement mit einem planaren Halbleiterelement auf einer Kontaktierungsplatte und Verfahren zum Herstellen desselben | |
DE69303837T2 (de) | Gedruckter Schaltungsträger mit vorspringender Elektrode und Verbindungsverfahren | |
DE2411690C3 (de) | Verfahren zum Aufbringen eines Kontaktsystems auf die Oberflache einer Solarzelle | |
DE2023680A1 (de) | Anordnung zur Kontaktierung von Halbleiterbauelementen | |
DE2411690B2 (de) | Verfahren zum aufbringen eines kontaktsystems auf die oberflaeche einer solarzelle |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |