DE3134907A1 - Verfahren zur verminderung von alkaliverlusten der alkalihalogenid enthaltenden metallhalogenidlampen - Google Patents

Verfahren zur verminderung von alkaliverlusten der alkalihalogenid enthaltenden metallhalogenidlampen

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DE3134907A1
DE3134907A1 DE19813134907 DE3134907A DE3134907A1 DE 3134907 A1 DE3134907 A1 DE 3134907A1 DE 19813134907 DE19813134907 DE 19813134907 DE 3134907 A DE3134907 A DE 3134907A DE 3134907 A1 DE3134907 A1 DE 3134907A1
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DE19813134907
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Miklós 1021 Budapest Csapody
Ferenc 1025 Budapest Nágel
István 1147 Budapest Szendró
László 1056 Budapest Ugrósdy
Dénes Dr.-Ing. 1026 Budapest Vida
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/30Vessels; Containers
    • H01J61/35Vessels; Containers provided with coatings on the walls thereof; Selection of materials for the coatings

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  • Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)

Description

  • VERFAHREN ZUR VERMINDERUNG VON ALKALIVERLUSTEN DER
  • ALKALIHALOGENID enthaltenden METALLHALOGENIDLAMPEN Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verminderung von Alkaliverlusten der Alkalihalogenid enthaltenden Metallhalogenidlampen, wobei ein Entladungsgefäß in der Metallhalogenidlampe mit einem Uberzug zur Verminderung der Alkaliverluste versehen wird. Das erfindungsgemäße Verfahren sichert eine beaeutende Verminderung der Alkaliverluste von Natriumhalogenid enthaltenden Metallhalogenidlampen, wobei aber die Verluste von anderen alkalischen Metallen auch bedeutend vermindert werden können.
  • Die Metallhalogenidlampen enthalten ein Entladungsgefäß, das aus einem das Licht durchlassenden, hohe Wärmebeständigkeit besitzenden Material, vorzugsweise aus Quarz hergestellt wird, elektrode zur Zufuhr des elektrischen Stroms, die im Entladungsgefäß eingelötet sind, Tragdrähte und andere bekannte Elemente, wobei der Innenraum des Entladungsgefäßes mit einem Alkalihalogenid und insbesondere Natriumhalogenid enthaltenden Gas erfüllt ist. Das Entladungsgefäß wird in einer äußeren Glocke angeordnet, die mit einem Gas gefullt und zum Vakuum abgesaugt wird.
  • Es ist bekannt, daß die Lebensdauer und die Farbenbeständigkeit der Metallhalogenidlampen in bedeutendem Maße durch die Alkaliverluste des allgemein aus Quarz hergestellten Entladungsgefäßes der Lampe beeinflußt wird. Als Folge vieler Standpunkte entstand die Praxis der Anwendung von Natriumhalogenid zur Füllung des Entladungsgefäßes, da der Verlust des Natriumhalogenids einen noch annehmbaren Wert annimmt. Obwohl die Anuendung von Lithiumhalogeniden aus mehreren Standpunkten günstiger sein wurde, bewirkt der kleine Iondurchmesser, daß der Verlust des Lithiums bedeutende Werte annimmt.
  • Die Alkaliverluste können'durch verschiedene Mechanismen erläutert werden. Nach einer und in der Literatur als wichtigste benannten Erläuterung wird die äußere Oberfläche des Entladungsgefäßes durch aus den in der Glocke der Lampe angeordneten äußeren Elementen ausgestrahlte Photoelektronen erreicht, die elektrolytisch leiten die Ionen des Natriums /und noch menr des Lithiums/ durch den Stoff des Entladungsgefäßes, d.h. den Quarz lassen. hindurch. Die die Oberfläche des Entladungsgefäßes erreichenden Ionen werden durch die Photoelektronen neutralisiert und die neutralen Atome als Teilchen eines Dampfes verlassen die Oberfläche.
  • Falls als Ladungsträger lediglich Elektronen auftreten, bildet der Quarz einen ausgezeichneten Isolator. Jedoch werden die Ladungen auch durch die Natriumionen getragen, vermindert sich seine Isolationseffektivität, da die Natriumionen im Quarz mit hoher Beweglichkeit versehen sind. Statt Quarz kann hartes Glas oder Aluminiumoxid /als Saphir/ angewendet werden zur Begrenzung der obengenannten Möglichkeit, jedoch sind diese Stofe entweder relativ sehr kostspielig oder bedeutend gasdurchlässig.
  • Die Verminderung der Alkaliverluste wurde schon mehrmals Di als Ziel gesetzt. /US-PS 4 171 498 beschreibt eine Lösung, degemäß ein aus Quarz oder Hartglas hergestelltes Rohr auf die inneren Bestandteile der Lape oder auf ihre niit dem Entladungsgefäß benachbarten Teile . aufgezogen wird. DE-OS 16 39 084 enthält den Vorschlag, zum selben Zweck ein aus Aluminiumoxid hergestelltes Rohr anzuwenden. Diese Lösungen können nur bei manchen Bestandteilen effektiv sein, und bei kompliziertem Aufbau, insbesondere im Falle der Anwendung einer Zündungselektrode ist die Benutzung der Rohren praktisch nicht annehmbar. Bei Serienerzeugung von Lampen bewirkt das Aufziehen der Ronre technologische Schwierigkeiten.
  • In der US-PS 4 047 067 wird eine andere Lösung offenbart, nähmlich die Anwendung eines aus Aluminiumoxid oder aus Aluminiumsilikat bestehenden Überzugs auf der äußeren Oberfläche der des Entladungsgefäßes. Bei /US-PS 3 988 628 wurde das selbe Problem durch Anwendung von Titanverbindungen bei Ausbildung des Überzugs gelöst. Die vorgeschlagenen Überzüge könnten die Anforderungen nur teilweise erfüllen, da auf der Oberfläche des Quarzes die Uberzuge bei hoher Arbeitstemperatur des Entladungs- gefäßes praktisch immer Spalten aufweisen. Die benötigte Dicke der Schicht wirft auch Probleme auf. der Wie es aus /DE-OS 2 049 731 folgt, kann alile aus Siliziumnitrid auf der inneren Oberfläche des Entladungsgefäßes hergestellte Schicht zweckmäßig sein, da sie den Schutz des StolÏes, insbesondere des Quarzes des Entladungsgefäßes gegen die Einwirkungen des verschmutzten Lichtbogens oder des Lichtbogens der nicht wohl zugesetzten Entladungslampe gewährleistet. Die erwhhnten Lichtbogen neigen zur Einengung und demzufolge zur Ausoiegung: der ausgebotene Lichtbogen bewirkt bei der Wand eine hohe termische Belestung des Entladungsgefäßes oder einige Dissotiationsprodukte können die Gasentladungsstrecke verlassen und die Wand angreifen. Das Siliziumnitrid wird in Form einer Suspension auf die innere Wand des Entladungsgefäßes auebracht und mit Wärmebehandlung befestigt. Die genannte uS enthalt keine Informationen darüber, auf solche Weise die Siliziumnitridschicht auf weiteren Bestandteilen der Metallhalogenidlampe und insbesondern auf der Kathode hergestellt werden soll. Zur Beschichtung der inneren Oberfläche des Entladungsgefäßes wird die Methode des Niederschlags aus Dampf vorgeschlagen, jedoch dauert die derartige Herstellung der Schicht zumindest 30 stunden, was in der Massenerzeugung keineswegs annehmbar sein kann.
  • Der Erf-ndung liegt die Aufgabe zugrunde, das Problem des Älkaliverlustes bei den Metallhalogenidlenpen noch weiter zu vermindern, unter Sicherung der die erforderlichen optischen Eigenschaften der Lampen.
  • Die Erfindung beruht auf der aus der Halbleitertechnik wohl bekannten Erkenntnis, daß das Siliziumnitrid eine elektrisch wohl isolierende Schicht bildet, die auch bei relativ hohen Temperaturen stabil verbleibt. Die Beweglichkeit der Natriumionen in dem Siliziamnitrid ist klein, und die Schicht ist relativ leicht herstellbar nicht nur auf der Oberfläche des Quarzes sondern auch auf metallischen Bestandteilen, Das Wesen der Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß die Siliziumnitridschicht nicht im Innenraum, sondern auf der äußeren Oberfläche des Entladungsgefäßes herzustellen ist, noch vor der Absaugung der Lampe.
  • Die Dicke des Uberzuges beträgt vorzugsweise zwischen 30 und 200 nm.
  • Es kann zweckmäßig sein, die metallischen Bestandteile vor der Herstellung der Silizimnitridschicht mit einem Glasprekursor oder mit Aluminiumoxid zu beschichten.
  • Die aus Siliziumnitrid bestehende Schicht kann aus der Dampfphase leicht hergestellt werden und sichert eine so bedeutende Verminderung der Alkaliverluste, daß sogar die Anwendung von Litnium ermöglicht wird.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren wird weiter anhand beispielhafter Ausführungen ., mit Hinweise auf die beiliegende Zeichnung näher erläutert. Es Zeigt i'ig. 1 das Schema einer Hochdruck-Metallhalogenidlampe, und Fig. 2 einen vergrößerten Ausschnitt der Hochdruck-Eetallhalogenldlampe.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren wird bei der Erzeugung von Metallhalogenidlampen /Fig. 1/ verwirklicht. Im Innenraum der Lampe ist ein Entladungsgefäß 3 angeordnet, das mit einer äußeren Glocke 4 umgeben wird. Die Lampe wird mittels eines Kopfes 5 gespeist.
  • Von dem Kopf 5 werden Tragdrähte zum Entladungsgefäß 3 geführt, die als Stromzufuhr des Entladungsgefäßes 3 dienen. Das Entlsdungsgefäß 3 wird von einer Seite mit einer in einer Haspe 9 angegriE.enen und mit einem Band 8 gefangenen Kathode, und von der anderen Seite mit einer anderen Haspe 9 und mit einer oberen Stütze 10 gestützt. Die Kathode ist mit einem Zündungswiderstand 11 und einem Bimetall 14 verbunden und ein Getter 12 wird im Innenraum der Lampe angeordnet, Es kann zweckmäßig sein eine wärmereflektierende Schicht 15 auf dem Entladungsgefäß 3 anzuordnen und an den Tragdraht 6 und insbesondere an dessen bei dem Entladungsgefäß 3 liegenden Teil ein Quarzroiir 13 ocier ein keramisches Rohr aufzuziehen J2ig. 2./.
  • Bei Verwirklichung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird eine Siliziumnitridscnicht 1 auf der äußeren Oberfläche des Entladungsgefäßes 3, des Halterdrahts 6, der in der Haspe 9 angegriffenen Kathode, der das Entladungsgefäß 3 von außen haltendea Haspe 9 und des Quarzrohrs 13 oder des keramischen Rohrs hergestellt. Auf den metallischen Elementen kann eine aus Glasprekursor oder aus Aluminiumoxid hergestellte Schicht 2 vorhanden sein.
  • Zur radikalen Verminderung der Alkaliverluste wäre es am meisten zweckmäßig eine genügend dicke Siliziumnitridschicht 1 auf der Oberfläche des Entladungsgefäßes 3 auszubilden. Diese Schicht darf jedoch nicht hergestellt werden, da die Quarzoberfläche zum Tragen von Schichten mit einer einige Hunderte nm ausmachenden Dicke nicht geeignet ist: die Schicht bekommt bei hoher Temperatur des Quarzes Risse. Die so dicke Schicht führt selbst zur Verschlechterung der optischen Eigenschaften und dieser Prozeß wird mit demEntstehen der Risse noch weiter vertieft.
  • Ein weiteres Problem besteht darin, daß bei Temperaturen des Quarzes die Durchschlagfestigkeit der inneren Bestandteile der Lampe den notwendigen, zumindest 300...600 V betragenden Wert nicht erreichen kann. Deswegen besteht die zweckmäßige Lösung in Vorbereitung einer Schicht mit kleineren, von 3u bis zu 200 nm betragenden Dicke auf dem Entladungsgefäß 3 und einer Isolierung auf den metallischen Bestandteilen. Die beiden Schichten werden aus Siliziumnitrid hergestellt. Falls die Metallhalogenidlampe derart aufgebaut wird, daß während ihrer Arbeit die Temperatur der metallischen Bestandteile einen hohen sogar 500 0C überschreitenden Wert annimmt, wollen diese Bestandteile allgemein aus Eisen, Nickel oaer olibdänhergestellt werden, bei den die Anwendung vom Siliziumnii;rid.mit der Gefahr der Entstehung von Metallischen begleitet wird. In diesem Falle könne es zweckmäßig sein, die Oberfläche der metallischen Bestandteile zu oxidieren, oder mit einem Glasprekursor oder mit A1203 zu beschichten. Auf den metallischen Bestandteilen sind die Siliziumnitridchichten mit benötigter Dicke vorzubereiten, da bei diesen Teilen die optischen Forderungen keine Rolle spielen. Die Vorbereitung und Anwendung von Glasprekursoren wurde in der Fachliteratur, z.B. DE-OS 29 31 062 oder US-PS 3 927 224 beschrieben.
  • Falls die Metallhalogenidlampe in einer Umgebung von hoher Temperatur angewendet wird, oder manche ihrer Bestandteile eine hohe Arbeitstemperatur aufweisen, sollen die in der Nachbarschaft des £ntladungsgefäßes 3 angeordneten metallischen Bestandteile intensid von der Temperatur geschützt werden. Zum Schutz kann zweckmäßig ein Quarzrohr 13 oder ein keramisches Rohr angewendet werden, das von außen und auf der inneren Oberfläche mit einer Siliziurnnitridschicht versehen wird. In diesem Falle vergrößert sich die Durchschlagfestigkeit des Innerraums der Metallhalogenidlampe, aa das Quarzrohr 13 oder das keramische Rohr werden des Vorhandenseins der Siliziumnitridschicht 1 den Weg der Natriumionen zum Stoff des Rohrssperrt und diese Ionen zu keinen Ladungsträgern werden können.
  • der Die Siliziumnitridschicht wird zweckmäßig aus Dampfphase abgesondert. Das Herstellungaverfahren ist in der Halbleitertechnologie wohl bekannt.
  • Beispiel 1 Zur Prüffung des Verfahrens werden je 10 Metallhalogenidlampen in drei gruppen vorbereitet. Die Gas--füllung der Lampen enthält als Zusatzstoffe NaJ, TlJ und InJ. Das Indium wird zweckmäßig iu metallischem und nicht in halogenisiertem Zustand eingeführt.
  • In erster Gruppe bekommen das Entladunusgefäß 3 und die benachbarten Elemente keinen Schutz. In der zweiten Gruppe wird der Tragdraht 6 bei dem Entladungsgefäß 3 mit einem Quarzrohr 13 versehen In der dritten Gruppe wird aus Dampfphase eine entspre- chende Schicht aus Siliziumnitrid auf dem Entladungsgefäß 3 hergestellt, und der Tragäraht 6 mit einem getrockneten Glasprexursor gemäß der DE-OS 29 31 062 beschichtet und nachdem mit Siliziumnitridschicht überzogen. Vor der Montage werden uie Uberzuge der ditten Gruppe in den Schweißpunkten entfernt, wird in der notwendigen Stelle das quarzrohr 13 eingezogen, wobei das Quarzrohr 13 dem Entladungsgefäß 3 ähnlich mit einer Siliziumnitridschicht versehen wird.
  • Aus den vorigen Untersuchungen ist wohl bekannt, daß auf die Alkaliverluste die Ein- und Ausschaltungen keine Wirkung machen, deswegen konnen die Lampen in einem kontinuierlichen Betrieb kontrolliert werden. Die Bemessungen bewiesen, daß die Lampen der ersten Gruppe hohe Alkaliverluste schon nach den ersten 500 Arbeitsstunden zeigen, die Farbe der Lampe verändert sich in bedeutendem Maße, und falls im Raum der Glocke 4 kein Getter 12 vorhanden ist, häuft sich das Hydrogen in einer relativ großen Menge zusammen.
  • In der zweiten Gruppe werden die Veränderungen lediglich nach 1500 bis 2000 Arbeitsstunden wichtig und in der dritten Gruppe lediglich nach etwa 6000 Arbeitsstunden. Falls die äußere Glocke mit einem entsprechenden Gas gefüllt wird, vergrößern sich die erwähnten Zeitdauern mit etwa mindestens 50 %.
  • Die Me tsllhal ogenidlampeu, die mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellt werden, zeigen eine bedeutende Ver...inderung der Alkaliverluste und durdh Anwenaung des vorgeschlagenen Verfahrens wird die Anwendung des Lithiums auch ermöglicht.
  • L e e r s e i t e

Claims (7)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Verfahren zur Verminderung von Alkaliverlusten der Alkalihalogenid enthaltenen Metallhaloenidlampen, insbesondere bei Erzeugung von Metallhalogenidlampen, wobei ein Entladungsgefäß in der Metallhalogenidlampe mit einem Überzug zur ver£ni£ derung der Alkaliverluste versehen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die äußere Oberfläche des Entladungsgefäßes, die das Entladungsgefäß tragenden und zu ihm die Stromzufuhr sichernden memetallischen Bestandteile sowie die Isolatoren mit Siliziumnitrid überzogen wird.
  2. 2. Verwahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Überzug aus Siliziumnitrid mit einer Dicke im Bereich von 30 bis zu 200 nm besteht.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, audurcn gekennzeichnet, daß die metallischen Bestandteile zuerst mit einem Glasprekursor beschichtet werden und darauf der Überzug aus Siliziumnitrid aufgebracht wird.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch geKennzeichnet, daß die metallischen Bestandteile zuerst mit einer Aluminiumoxidschicht versehen werden und darauf der Überzug aus Siliziumnitrid aufgebracht wird0
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminiumoxidschicht mit einer Dioke von 2O bis zu 50 µm hergestellt wird.
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der metallischen Bestandteile vor der Herstellung des Überzugs aus Siliziumnitrid oxidiert wird.
  7. 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6 dadurcn ge- kennzeichnet, daß an die neben des Entladungsgefäßes angeordneten metallischen Bestandteilen ein Quarzrohr oder ein keramisches Rohr aufgezogen wird, das mit Siliziumnitrid beschichtet wird.
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