DE3125726A1 - Optisches inspektionsverfahren zur bestimmung einer maschinellen bearbeitbarkeit - Google Patents
Optisches inspektionsverfahren zur bestimmung einer maschinellen bearbeitbarkeitInfo
- Publication number
- DE3125726A1 DE3125726A1 DE19813125726 DE3125726A DE3125726A1 DE 3125726 A1 DE3125726 A1 DE 3125726A1 DE 19813125726 DE19813125726 DE 19813125726 DE 3125726 A DE3125726 A DE 3125726A DE 3125726 A1 DE3125726 A1 DE 3125726A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- carrier
- light beam
- medium
- examination
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/0016—Technical microscopes, e.g. for inspection or measuring in industrial production processes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/002—Scanning microscopes
- G02B21/0024—Confocal scanning microscopes (CSOMs) or confocal "macroscopes"; Accessories which are not restricted to use with CSOMs, e.g. sample holders
- G02B21/0052—Optical details of the image generation
- G02B21/0056—Optical details of the image generation based on optical coherence, e.g. phase-contrast arrangements, interference arrangements
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49764—Method of mechanical manufacture with testing or indicating
- Y10T29/49769—Using optical instrument [excludes mere human eyeballing]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
US-Ser.No. 164,687
AT: 30. Juni 1980 RCA 74262/Sch/Ro.
RCA Corporation, New York, N. Y. (V.St.A.)
Optisches Inspektionsverfahren zur Bestimmung einer maschinellen Bearbeitbarkeit.
Die Erfindung bezieht sich allgemein auf Verfahren zur Bestimmung der maschinellen Bearbeitbarkeit eines Schneidmaterials
und insbesondere auf Verfahren zur Bestimmung der Bearbeitbarkeit eines Substrats, welches beim Masterverfahren
zur Herstellung von Aufzeichnungen hoher Informationsdichte,
wie etwa Bildplattenaufzeichnungen der in der US-PS Nr.3 842 (Erfinder: J.K. Clemens) beschriebenen Art benutzt wird.
Bei bestimmten Aufnahme/Wiedergabesystemen für Information hoher Dichte wird Videoinformation in Form relativ kurzer
(beispielsweise O,6-1,6|j.m) Änderungen der Reflexions- oder
Transmissionsverhältnisse oder des Reliefs entlang einer Informationsspur aufgezeichnet. Als Beispiel sei auf ein Aufzeichnungsverfahren
verwiesen, wie es in der US-PS 4 044 379 (Erfinder: J.B. Halter) dargestellt ist. Danach zeichnet ein
elektromechanisch angetriebener Stichel (etwa aus Diamant), der durch ein Bild- und Tonsignalgemisch gesteuert wird, relativ
kurze geometrische Veränderungen, welche die zeitlichen Änderungen des Signals darstellen, auf einer Oberfläche eines
Metallsubstrats auf. Nach der elektromechanischen Aufzeichnung
trägt die Aufzeichnungsoberfläche des Metallsubstrats ein
Reliefmuster, welches dem letztlich gewünschten Muster der fertigen Platte entspricht. Von diesem Substrat werden Master
hergestellt und von den Mastern werden Abgüsse zur Herstellung von Stempeln gemacht, die für die fabrikatorische Herstellung
der Platten benutzt werden, und von einem nach einem solchen Abguß hergestellten Stempel wird schließlich eine Vinylplatte
geformt, welche das gewünschte Reliefmuster aufweist»
Damit die feine Rillen- und Signalstruktur, die typischerweise bei einer Bildplatte vorkommt (beispielsweise 10000 Windungsrillen pro Zoll oder 394 Windungsrillen pro Millimeter) aufgezeichnet
werden kann, muß die maschinelle Bearbeitbarkeit der Aufzeichnungsoberfläche des Substrates derart sein, daß der
Aufzeichnungsstichel die Rille und die Signalinformation schneiden kann, ohne daß die Oberfläche beim Aufzeichnungsvorgang
reißt, zerdrückt oder zerschlagen wird, springt oder abblättert. Die geometrischen Änderungen längs der Rille sollten
eine im wesentlichen genaue Wiedergabe des darin aufgezeichneten modulierten Signals sein.
Hält man sich die extrem dichte Rillenstruktur einer Bildplatte vor Augen, dann versteht man, daß die Herstellung von Substraten
brauchbarer Bearbeitbarkeit beim Masterprozeß für die Platte kritisch ist. Jegliches nennenswerte Auftreten von Bearbeitungsungenauigkeiten
in der fertigen Oberfläche führt zu einem Substrat, welches für die Herstellung von Platten derart
hoher Rillendichte unbrauchbar ist. Es ist daher außerordentlich wertvoll, eine Angabe über die Bearbeitbarkeit des Substrates
zu haben, ehe man versucht, eine Rillen- und Signalelementstruktur in eine Substratoberfläche zu schneiden ο
Im Stande der Technik gibt es eine Vielzahl von Versuchen zur Auswahl von Substraten, welche sich brauchbar bearbeiten lassen.
Beispielsweise kann ein Laser-Fehlerdetektor benutzt werden, um die Rillen- und Signalelementstruktur nach dem Aufzeichnungsvorgang
zu untersuchen. Diesbezüglich sei auf die US-PS Nr. 4 030 835 verwiesen, welche unter der Bezeichnung "Defect
Detection System" für den Erfinder A.H. Firester, ausgegeben worden ist und wo ein Rillenfehlerdetektorgerät erläutert ist.
Nach einem weiteren Versuch wird ein Testband auf einer Oberfläche des Substrats außerhalb der normalen Aufzeichnungsfläche
aufgezeichnet, und nach der Aufzeichnung kann dieses Testband mit einem optischen Bildplattenwiedergabesystem abgespielt
werden, von dem ein Typ in der US-PS Nr. 4 065 786 beschrieben ist, die unter der Bezeichnung "Video Disc Playback System"
für den Erfinder W.C. Stewart, ausgegeben worden ist.
Vom Kosten- und Zeitstandpunkt aus ist es wünschenswert, schlecht bearbeitbares Substrat frühzeitig im Masterprozeß
festzustellen. Bei den beiden vorerwähnten Möglichkeiten, insbesondere aber bei dem Laser-Fehlerdetektor, wird eine
erhebliche Menge Arbeit für das Substrat aufgewendet, ehe dessen Bearbeitbarkeit bestimmt wird. Außerdem lassen sich
nach diesen Verfahren nicht alle Fehlerarten feststellen.Großflächige
(also mehr als 10μΐη) flache Fehler werden von dem
Laser-Fehlerdetektor nicht immer erfaßt, und bei dem anderen Verfahren kann es sein, daß die Aufzeichnungsfläche für das
Testband nicht für die gesamte Substratoberfläche repräsentativ ist.
Erfindungsgemäß ist nun ein Verfahren zur Bestimmung der Bearbeitbarkeit
eines Bildplattensubstrats vorgesehen, das diese eben erläuterten Einschränkungen nicht aufweist.
Gemäß einem Gesichtspunkt der Erfindung ist ein Verfahren vorgesehen
zur Auswahl eines Aufzeichnungsmediums für die Verwendung in einem elektromechanischen Aufzeichnungsgerät, bei
dem ein Stichel benutzt wird, um eine durch ein Videosignal modulierte Nut oder Rille in eine Oberfläche des Mediums einzuschneiden«
Bei diesem Verfahren ist eine Oberfläche eines Trägers mit einer Metallschicht überzogen= Beispielsweise kann
der Träger aus Aluminium bestehen und mit einer Kupferschicht von etwa 0,3 mm Dicke überzogen sein- Die Metallschicht wird
so bearbeitet, daß die überzogene Oberfläche des Trägers eben ist. Dann wird die bearbeitete Oberfläche mit Hilfe eines
Mikroskops auf Eindrückungen untersucht, wobei eine Differenz-Interferenz-Kontrastmethode
angewandt wird, und die Anzahl von festgestellten Eindrückungen ist ein Zeichen für die Bearbeitbarkeit
des beschichteten Trägers»
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung werden aus der folgenden detailierten Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform,
den beiliegenden Ansprüchen und Zeichnungen noch genauer verständlicho in den beiliegenden Zeichnungen
zeigen;
Fig. 1 eine schematische Veranschaulichung eines Differenz-Interferenz-Kontrastmikroskops
für die Verwendung zur Untersuchung von Substraten gemäß der Erfindung und
Fig. 2 Photographien verschiedener Fehlerwerte, die auf Substraten
beobachtet worden sind, welche mit der Anordnung gemäß Fig. 1 untersucht worden sind.
Bei dem Masterverfahren für Bildplatten kann ein Substrat, auf welchem Information hoher Dichte in Form von Änderung relativ
kurzer Wellenlänge aufgezeichnet ist, aus einem dünnen Schneidmaterial oder -medium aus Metall oder einem anderen Material
bestehen, das eine sehr homogene, scheinbar fehlerfreie und
extrem feine Konstruktur (beispielsweise Kupfer) auf einer Substratscheibe (beispielsweise aus Aluminium) besteht. Alter-
nativ kann das Substrat auch eine solide Platte aus einem Schneidmedium mit einer homogenen und feinkörnigen Struktur
sein. Bei der bevorzugten Ausführungsform wird eine dünne
Ablagerung aus Kupfer (beispielsweise etwa 0,3 mm) elektrisch auf eine Aluminiumsubstratplatte aufgebracht. Die Kupferablagerung
wird dann plan bearbeitet, damit die Aufzeichnungsoberflache
eben wird. Materialien mit Eigenschaften, welche sich so bearbeiten lassen, daß sie eine sehr feine kristalline
Struktur aufweisen (beispielsweise Kupfer, Nickel,Zinn, Aluminium
und einige ihrer Legierungen) eignen sich für die hier beschriebene Aufzeichnungstechnik.
Nach der Plan-Bearbeitung wird eine Rille mit einer Ruhe-Rillentiefe
von weniger als 1 μΐη geschnitten, und gleichzeitig
wird eine kurzwellige Modulation der Rillentiefe auf der flachen Substratoberflache geschnitten. Es sei hier Bezug genommen
auf die ÜS-PS Nr. 4 044 379 (Erfinder: J.B. Halter) für die Erläuterung des Rillen- und SignaIschneidvorgangs.
Die elektromechanische Aufzeichnung einer Modulation kurzer Wellenlänge in einem metallischen Medium ergibt ein hohes
Signal/Rausch-Verhältnis im Vergleich zu anderen bekannten Aufzeichnungstechniken, jedoch kann die Bearbeitbarkeit des
metallischen Mediums wegen gradueller Schwankungen der Ablagerungsparameter variieren, und diese Variationen können
die Qualität des Endproduktes beeinflussen.
Die mit einer Aufzeichnung versehene Oberfläche des Schneidmediums
sollte eine genaue Wiedergabe der Geometrie und Bewegung des Schneidwerkzeugs sein. Die Einbringung jeglicher
Oberflächenmerkmale, die in keiner Beziehung zur Werkzeuggeometrie
und Bewegung stehen, ist schädlich. Es hat sich gezeigt, daß Metallsubstrate schlechter Bearbeitbarkeit sich
recht zuverlässig durch das erfindungsgemäße Verfahren erkennen
lassen. Nachdem die Kupferoberfläche durch Bearbeitung mit
einem Diamantwerkzeug von großem Radius (beispielsweise größer als 3 mm) vorbereitet worden ist, und ehe der Rillen/Signal-Schneidvorgang
beginnt, wird die Metalloberfläche mit einem optischen Mikroskop mit einer etwa 200- bis 250-fachen Vergrößerung
untersucht, wobei eine Differenz-Interferenz-Kontrasttechnik
angewandt wird. Flache Defekte von typischerweise 5-15μΐη Breite, die gewöhnlich als ringförmige Eindrückungen
erscheinen, können nach dem Diamant-Abdrehverfahren, bei dem
beispielsweise ein Werkzeug von 6 mm Radius verwendet wird, beobachtet werden. Diese Fehler sind im allgemeinen symptomatisch
für ein schlecht bearbeitbares Substrat: Spätere Schwierigkeiten bei der Rillen- und Signalaufzeichnung lassen sich
im allgemeinen bis zum Auftreten von Fehlern bei der Inspektion zurückverfolgen„
Fig. 1 veranschaulicht ein optisches Mikroskopsystem (beispielsweise
unter Verwendung eines Differenz-Interferenz-Kontrastsystems
nach Normarski), welches zur Untersuchung eines Substrats 1 benutzt wird. Das von einer Quelle 3 kommende Licht,
welches einen Polarisator 5 durchläuft, wird auf einen halbversilberten Spiegel 7 gerichtet, so daß es durch ein Wollaston-Prisma
9 und eine Objektivlinse 10 auf das Substrat 1 auftrifft. Nach Reflexion von der Oberfläche des Substrats 1 kehrt das
Licht durch das Objektiv 10 und das Wollaston-Prisma 9 zurück und trifft auf den halbdurchlässigen Spiegel 7 auf. Der
interessierende Lichtstrahl durchläuft den halbdurchlässigen Spiegel 7 durch einen Analysator 11 zum Okular 13.
Im Betrieb polarisiert der Polarisator 5 das von der Quelle 3 stammende unpolarisierte Licht in einer Ebene» Wenn das polarisierte
Licht das Wollaston-Prisma 9 zum ersten Mal durchläuft, spaltet das Wollaston-Prisma 9 wegen seiner Doppelbrechungseigenschaf
ten die auftreffende Lichtwelle in zwei Komponenten,
deren Polarisationsebenen (Schwingungsebenen) rechtwinklig
aufeinander stehen. Die beiden Strahlkomponenten wandern entlang parallelen Wegen, die seitlich etwas gegeneinander verschoben
sind, wenn sie aus dem Objektiv 10 austreten. Sie werden von der Substratoberfläche reflektiert und konvergieren
am Wollaston-Prisma 9, wo sie wieder in einen einzigen Strahl zusammengefaßt werden. Hier bilden die beiden Komponenten
zwar einen einzigen Strahl, aber sie sind noch eben polarisiert, und ihre Schwingungsebenen stehen rechtwinklig aufeinander.
Damit nun die beiden Komponenten den gewünschten Interferenzeffekt in einer Zwischenbildebene hervorrufen, müssen ihre
Schwingungsebenen zusammenfallen. Dies erreicht man mit dem
Analysator 11, der in den Lichtweg zwischen Prisma 9 und Okular 13 eingefügt ist. Das resultierende Zwischen-Interferenzbild
kann durch das Okular 13 betrachtet werden. Bei geeigneter Auswahl und Anordnung der optischen Komponenten läßt sich die
seitliche Versetzung der beiden aus dem Objektiv 10 austretenden Strahlen in der gleichen Größenordnung wie die Auflösung
des optischen Systems wählen. In diesem Falle ist der Abstand zwischen benachbarten Interferenzstreifen größer als die
Breite des Blickfeldes des Okulars 13, und man erhält einen
Differenz-Interferenz-Kontrast nach Nomarski. Die Unterschiede
der optischen Weglänge und der Reflexionsphasenverzögerung auf der untersuchten Oberfläche werden in. Helligkeitsunterschiede
umgewandelt. Diese Differenzen erhöhen die Klarheit des Mikroskopbildes, das wegen bestimmter Schatteneffekte
fast dreidimensional erscheint.
Veranschaulichungen verschiedener Pehlerwerte (defect levels) auf mit Diamant abgedrehten Metallsubstratoberflächen sind in
den Photographien a bis f der Fig. 2 gezeigt. Die Vergrößerung der Oberflächen in Fig. 2 ist als Beispiel etwa 200-fach gewählt.
Die Linien 23 veranschaulichen Werkzeugspuren, die sich von
Spirale zu Spirale auf der Oberfläche eines Substrats wiederholen. Fehler 21 variieren von null Fehlern in dem Feld, welches
durch die Photographie der Fig. 2a gezeigt wird, oder einem Fehler pro Feld der Photographie der Fig. 2b bis zu
vielen tausend sich überlappenden Fehlern pro Feld, wie es die Photographie 2f zeigt.
Die Fehlerpegel oder Fehlerwert kann von der Mitte eines Substrats zum Rand variieren. Für eine präzise Fehlerzählung
sollten daher mehrere Punkte auf der Substratoberfläche untersucht
werden.
Die Wahrscheinlichkeit eines schlecht bearbeiteten Substrats bei einer bestimmten Fehlerrate (vorstehend als Fehlerwert
oder Fehlerpegel bezeichnet) ist in der nachstehenden·Tabelle dargestellt.
Anzahl von Fehlern pro Sicht feld bei etwa 200-facher Ver größerung |
Bearbeitbarkeit |
1 | Substrat ist schlecht bear beitbar . |
0,1 | Mehr als 50% Wahrscheinlich- keit, daß sich das Substrat schlecht bearbeiten läßt. |
0,01 | Substrat kann sich schlecht bearbeiten lassen. |
Claims (4)
- Patentansprüche/ 1.)/Verfahren zum Auswählen eines Mediums zur Verwendung bei "einem elektromechanischen Aufzeichnungsgerät, bei dem ein Stichel zum Einschneiden einer durch ein Videosignal modulierten Nut oder Rille auf das Medium benutzt wird, gekennzeichnet durch die folgenden SchrittesBeschichtung der Oberfläche eines Trägers mit einem Metallüberzug,Abdrehen des Metallüberzuges, bis die beschichtete Oberfläche des Trägers im wesentlichen eben ist,untersuchung der abgedrehten Oberfläche auf Eindrückungen mit einem Mikroskop unter Verwendung einer Differenz-Interferenz-Kontrasttechnik und312572SAuswählen des beschichteten Trägers für die weitere Bearbeitung im elektromechanischen Aufzeichnungsgerät auf Grundlage der Anzahl von bei der Untersuchung festgestellten Eindrückungen, wobei die Anzahl des während des UntersuchungsSchritts festgestellten Eindrückungen ein Maß für die Bearbeitbarkeit des beschichteten Trägers ist.
- 2.) Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem der Träger ein plattenförmiges Aluminiumsubstrat ist, dadurch gekennzeichnet , daß der Träger bei dem Beschichtungsschritt mit einer Kupferschicht von etwa 0,3 mm Dicke überzogen wird.
- 3.) Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Bearbeitung durch Abdrehen die folgenden Schritte aufweist:Befestigen des Trägers auf einer Metallformungsmaschine,Befestigung eines Schneidwerkzeugs mit etwa 6 mm Radius an der Schneidspitze an der Metallformungsmaschine in einer Schneidposition bezüglich des befestigten Trägers undEinstellung einer Relativbewegung zwischen dem befestigten Träger und dem befestigten Schneidwerkzeug derart, daß die Kupferschicht zu einer im wesentlichen flachen und glatten Oberfläche geformt wird.
- 4.) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Untersuchung der abgedrehten Oberfläche die folgenden Schritte aufweist:Erzeugung eines polarisierten Lichtstrahles,Aufspaltung des polarisierten Lichtstrahles in eine erste und eine zweiten Lichtstrahlkomponente, von denen die erste rechtwinklig zur Polarisationsrichtung der zweiten polarisiert ist,Reflexion der beiden Lichtstrahlkomponenten auf einer Oberfläche des Mediums,Kombinierung der ersten und zweiten Lichtstrahlkomponten zu einem einzigen Lichtstrahl zur Bildung eines Differenz-Interferenz-Kontrastbildes der Oberfläche des Mediums unduntersuchung des Bildes der Oberfläche des Mediums auf Eindrückungen O
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/164,687 US4320567A (en) | 1980-06-30 | 1980-06-30 | Optical inspection method for determining machinability |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3125726A1 true DE3125726A1 (de) | 1982-03-04 |
Family
ID=22595622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19813125726 Withdrawn DE3125726A1 (de) | 1980-06-30 | 1981-06-30 | Optisches inspektionsverfahren zur bestimmung einer maschinellen bearbeitbarkeit |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4320567A (de) |
JP (1) | JPS5794904A (de) |
DE (1) | DE3125726A1 (de) |
FR (1) | FR2485778A1 (de) |
GB (1) | GB2078978A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102018201935A1 (de) * | 2018-02-08 | 2019-08-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Vermessung von Strukturen auf einem Substrat für die Mikrolithographie |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3371559D1 (en) * | 1982-10-08 | 1987-06-19 | Nat Res Dev | Irradiative probe system |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3842194A (en) * | 1971-03-22 | 1974-10-15 | Rca Corp | Information records and recording/playback systems therefor |
US3796495A (en) * | 1972-05-30 | 1974-03-12 | Zenith Radio Corp | Apparatus and methods for scanning phase profilometry |
US3958884A (en) * | 1974-04-24 | 1976-05-25 | Vickers Limited | Interferometric apparatus |
US4044379A (en) * | 1975-06-30 | 1977-08-23 | Rca Corporation | Method and apparatus for electromechanical recording of short wavelength modulation in a metal master |
US4065786A (en) * | 1975-09-30 | 1977-12-27 | Rca Corporation | Videodisc playback system |
US4030830A (en) * | 1976-01-05 | 1977-06-21 | Atlantic Research Corporation | Process and apparatus for sensing defects on a smooth surface |
US4030835A (en) * | 1976-05-28 | 1977-06-21 | Rca Corporation | Defect detection system |
US4197011A (en) * | 1977-09-22 | 1980-04-08 | Rca Corporation | Defect detection and plotting system |
DE2851750B1 (de) * | 1978-11-30 | 1980-03-06 | Ibm Deutschland | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Ebenheit der Rauhigkeit oder des Kruemmungsradius einer Messflaeche |
JPS567006A (en) * | 1979-06-22 | 1981-01-24 | Ibm | Method of extending measurement range of interference |
-
1980
- 1980-06-30 US US06/164,687 patent/US4320567A/en not_active Expired - Lifetime
-
1981
- 1981-06-26 JP JP56100390A patent/JPS5794904A/ja active Pending
- 1981-06-26 GB GB8119854A patent/GB2078978A/en not_active Withdrawn
- 1981-06-29 FR FR8112760A patent/FR2485778A1/fr not_active Withdrawn
- 1981-06-30 DE DE19813125726 patent/DE3125726A1/de not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102018201935A1 (de) * | 2018-02-08 | 2019-08-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Vermessung von Strukturen auf einem Substrat für die Mikrolithographie |
DE102018201935B4 (de) | 2018-02-08 | 2022-12-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Vermessung von Strukturen auf einem Substrat für die Mikrolithographie |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2485778A1 (fr) | 1981-12-31 |
US4320567A (en) | 1982-03-23 |
GB2078978A (en) | 1982-01-13 |
JPS5794904A (en) | 1982-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2909770C2 (de) | Aufzeichnungsträgerkörper, der aus einem runden scheibenförmigen Substrat besteht, und Vorrichtung zum Einschreiben in einen und Auslesen aus einem solchen Aufzeichnungsträger | |
DE69021741T2 (de) | Magnetischer Aufzeichnungsträger und Verfahren zum magnetischen Aufzeichnen und Wiedergeben von Daten. | |
DE2851750C2 (de) | ||
DE68921518T2 (de) | Vorrichtung zur Detektion eines photoakustischen Signals. | |
DE69030647T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Untersuchung eines Halbleiters | |
DE2246152C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum gegenseitigen Ausrichten von Halbleiterplättchen und Masken | |
DE102008045716B4 (de) | Höhenpositionsdetektor für ein auf einem Einspanntisch gehaltenes Werkstück | |
DE602004000552T2 (de) | Anti-Streu-Beschichtung für Fenster von Polierkissen | |
DE69801778T2 (de) | Optischer Abtastkopf kompatibel mit beschreibbarer Compact Disk und Digitaler Video Disk ebene parallele Platten benutzend | |
EP0105961B1 (de) | Verfahren zum Messen der abgetragenen Schichtdicke bei subtraktiven Werkstückbearbeitungsprozessen | |
DE20004439U1 (de) | Sondenkartenuntersuchungssystem zur Bestimmung der Relativpositionen von Sondenspitzen | |
DE102006053794A1 (de) | Optisches Proben-Charakterisierungssystem | |
DE102009028792A1 (de) | Laserbearbeitungseinrichtung und Laserbearbeitungsverfahren | |
DE69011751T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Markierung und Spaltung von monokristallinen halbleitenden Plättchen. | |
DE3872907T2 (de) | Kopiervorlage fuer eine scheibe. | |
DE102012201779A1 (de) | Laserstrahlanwendungsmechanismus und Laserbearbeitungsvorrichtung | |
DE69321938T2 (de) | Optisches informationsaufzeichnungsmedium und verfahren zum lesen derselben information | |
DE2854057A1 (de) | Ebenheits-messeinrichtung | |
DE102018205546B4 (de) | Detektionsverfahren für eine position eines bündelpunkts | |
DE69123192T2 (de) | Optischer Kopf für magnetooptisches Informationswiedergabegerät | |
DE69223124T2 (de) | System für magneto-optischen Kopf | |
DE69127857T2 (de) | Magnetplatte, Verfahren zu deren Herstellung und Magnetplattengerät welches eine Magnetplatte enthält | |
DE69721150T2 (de) | Optische abtasteinrichtung und optisches element dafür | |
DE3125726A1 (de) | Optisches inspektionsverfahren zur bestimmung einer maschinellen bearbeitbarkeit | |
DE3303876A1 (de) | Holografisches differenzverfahren |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |