DE3104007C2 - - Google Patents

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DE3104007C2
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Takashi Yokosuka Kanagawa Jp Omata
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Canon Inc
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5972728A (ja) * 1982-10-20 1984-04-24 Canon Inc 自動整合装置
JPS5979527A (ja) * 1982-10-29 1984-05-08 Hitachi Ltd パタ−ン検出装置
JPS5990929A (ja) * 1982-11-17 1984-05-25 Canon Inc 投影露光装置のピント合わせ方法
JPS5998525A (ja) * 1982-11-26 1984-06-06 Canon Inc 分割焼付け装置のアライメント方法
US4845373A (en) * 1984-02-22 1989-07-04 Kla Instruments Corporation Automatic alignment apparatus having low and high resolution optics for coarse and fine adjusting
JPS60186842A (ja) * 1984-03-06 1985-09-24 Canon Inc 露光装置
JPS60223122A (ja) * 1984-04-19 1985-11-07 Canon Inc 投影露光装置
US4682037A (en) * 1984-07-10 1987-07-21 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus having an alignment light of a wavelength other than that of the exposure light
JPS61121437A (ja) * 1984-11-19 1986-06-09 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影型露光装置
US4780615A (en) * 1985-02-01 1988-10-25 Canon Kabushiki Kaisha Alignment system for use in pattern transfer apparatus
JPS61203640A (ja) * 1985-03-07 1986-09-09 Hitachi Ltd 光露光装置
JPS61166027A (ja) * 1985-11-22 1986-07-26 Hitachi Ltd 縮小投影露光装置
JPS62281422A (ja) * 1986-05-30 1987-12-07 Canon Inc 露光装置
JPS62293718A (ja) * 1986-06-13 1987-12-21 Canon Inc 露光装置
JPS637618A (ja) * 1986-06-27 1988-01-13 Nippon Tairan Kk 半導体製造装置におけるレ−ザビ−ム位置決め装置
JPH0789536B2 (ja) * 1986-08-28 1995-09-27 株式会社ニコン 投影露光装置
JP2658051B2 (ja) * 1987-05-15 1997-09-30 株式会社ニコン 位置合わせ装置，該装置を用いた投影露光装置及び投影露光方法
JPH065663B2 (ja) * 1987-06-30 1994-01-19 株式会社日立製作所 半導体露光方法及びその装置
JPH0743245B2 (ja) * 1987-07-03 1995-05-15 キヤノン株式会社 アライメント装置
US5094539A (en) * 1988-03-07 1992-03-10 Hitachi, Ltd. Method of making semiconductor integrated circuit, pattern detecting method, and system for semiconductor alignment and reduced stepping exposure for use in same
US5260771A (en) * 1988-03-07 1993-11-09 Hitachi, Ltd. Method of making semiconductor integrated circuit, pattern detecting method, and system for semiconductor alignment and reduced stepping exposure for use in same
USRE36799E (en) * 1990-06-13 2000-08-01 Nikon Corporation Projection optical apparatus using plural wavelengths of light
JP3033135B2 (ja) * 1990-06-13 2000-04-17 株式会社ニコン 投影露光装置及び方法
US5231467A (en) * 1990-09-20 1993-07-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Reflective alignment position signal producing apparatus
US5204535A (en) * 1991-05-31 1993-04-20 Nikon Corporation Alignment device having irradiation and detection light correcting optical elements
JP2994991B2 (ja) * 1995-09-19 1999-12-27 ウシオ電機株式会社 マスクとワークの位置合わせ方法および装置
JP2863725B2 (ja) * 1995-11-10 1999-03-03 株式会社日立製作所 半導体露光方法とその装置
JP4496565B2 (ja) * 1999-06-04 2010-07-07 株式会社ニコン 重ね合わせ測定装置及び該装置を用いた半導体デバイス製造方法
US6478136B2 (en) 2001-01-08 2002-11-12 Nikon Corporation Method and apparatus for automatically transporting and precisely positioning work pieces at processing stations
US7113258B2 (en) * 2001-01-15 2006-09-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
US6768539B2 (en) * 2001-01-15 2004-07-27 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
US6995791B2 (en) * 2002-04-02 2006-02-07 Freescale Semiconductor, Inc. Automatic white balance for digital imaging

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3897138A (en) * 1971-11-24 1975-07-29 Canon Kk Projection lens for mask pattern printing
JPS5429901B2 (US07709020-20100504-C00041.png) * 1972-02-23 1979-09-27
JPS4928362A (US07709020-20100504-C00041.png) * 1972-07-05 1974-03-13
JPS4928363A (US07709020-20100504-C00041.png) * 1972-07-05 1974-03-13
JPS51140488A (en) * 1975-05-30 1976-12-03 Hitachi Ltd Mask alignment device
NL7606548A (nl) * 1976-06-17 1977-12-20 Philips Nv Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat.
DE2845603C2 (de) * 1978-10-19 1982-12-09 Censor Patent- und Versuchs-Anstalt, 9490 Vaduz Verfahren und Einrichtung zum Projektionskopieren
FR2450470A1 (fr) * 1979-02-27 1980-09-26 Thomson Csf Systeme optique de projection en photorepetition
DD144690A1 (de) * 1979-07-02 1980-10-29 Rainer Dastis Einrichtung zur kompensation der chromatischen laengsabweichung eines projektionsobjektives

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Publication number Publication date
JPS56110234A (en) 1981-09-01
JPH0140490B2 (US07709020-20100504-C00041.png) 1989-08-29
US4492459A (en) 1985-01-08
DE3104007A1 (de) 1981-12-03

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