DE3040188C2 - Optische Übertragungsfaser und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

Optische Übertragungsfaser und Verfahren zu ihrer Herstellung

Info

Publication number
DE3040188C2
DE3040188C2 DE3040188A DE3040188A DE3040188C2 DE 3040188 C2 DE3040188 C2 DE 3040188C2 DE 3040188 A DE3040188 A DE 3040188A DE 3040188 A DE3040188 A DE 3040188A DE 3040188 C2 DE3040188 C2 DE 3040188C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
glass
sio
core
refractive index
doped
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE3040188A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3040188A1 (de
Inventor
Takao Mito Ibaraki Edahiro
Shiro Kurosaki
Minoru Yokohama Kanagawa Watanabe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP13701279A external-priority patent/JPS5662204A/ja
Priority claimed from JP2335980A external-priority patent/JPS56121002A/ja
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp, Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Publication of DE3040188A1 publication Critical patent/DE3040188A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3040188C2 publication Critical patent/DE3040188C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00Fibre or filament compositions
    • C03C13/04Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C03C13/045Silica-containing oxide glass compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/44Mechanical structures for providing tensile strength and external protection for fibres, e.g. optical transmission cables
    • G02B6/4401Optical cables
    • G02B6/4429Means specially adapted for strengthening or protecting the cables
    • G02B6/44382Means specially adapted for strengthening or protecting the cables the means comprising hydrogen absorbing materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/02Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/12Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/14Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with boron and fluorine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/20Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
    • C03B2201/28Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/31Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/32Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/40Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/40Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
    • C03B2201/42Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn doped with titanium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10Internal structure or shape details
    • C03B2203/22Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10Internal structure or shape details
    • C03B2203/22Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • C03B2203/225Matching coefficients of thermal expansion [CTE] of glass layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

bestehen.
2. Optische Übertragungsfaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Kern (1) mit hohem Brechungsindex aus GeO2-SiO2-GIaS oder Sb2Os-SiO2-Glas, die Zwischenschicht (2) mit niedrigerem Brechungsindex als der Kern (1) aus F-SlO2-GIaS, F-B2O1-SiO2-GIaS oder F-F2O^-SiO2-GIaS und
die Umhüllung (3) mit höherem Brechungsindex als die Zwischenschicht (2) aus Quarzglas, mit AI2Oi dotiertem Quarzglas, mit TlO2 dotiertem Quarzglas, mit ZrO2 dotiertem Quarzglas oder mit HfO. dotiertem Quarzglas
bestehen.
3. Verfahren zur Herstellung der optischen Übertragungsfaser nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß unter Anwendung des axialen-Dampfphasen-Abscheidungsverfahrens oder des außenseitigen Dampfphasen-Oxldatlonsverfahrens ein transparenter Glasstab aus einem auf SiO2 basierenden Glas, das lediglich ein Dotierungsmittel aus der Gruppe GeO2, As2O,, Sb2O5, SnO2, TlO2, PbO und Bi2O3 enthMt, hergestellt wird,
der Glasstab mit geschmolzenem, auf SIO2 basierendem Glas; -Jas F, B2O3ZF und/oder F/P2O5 enthalt, beschichtet wird unter Bildung eines überzogenen Glasstabes, und
der überzogene Glasstab mit geschmolzenem Quarzglas und/oder geschmolzenem Quarzglas, das mit Al2O3, TlO2, ZrO2 und/oder HfO2 dotiert Ist, beschichtet wird unter Bildung eines beschichteten Glasstabes, der durch Schmelzspinnen In eine Faser überführt wird.
4. Verfahren zur Herstellung der optischen Übertragungsfaser nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß auf die innere Oberfläche einer SlO2-Glasröhre eine Schicht aus einem auf SiO2 basierenden, mit F dotierten Glas, aus einem auf SlO2 basierenden, mit F und B2Oi dotierten Glas oder aus einem auf SlO2 basierenden, mit F und P2O5 dotierten Glas aufgebracht wird,
innerhalb der SlO^-Glasröhre unter Anwendung des axialen Dampfphasen-Abscheidungsverfahrens oder des außenseitigen Dampfphasen-Oxldationsverfahrens ein transparenter Stab aus auf SlO2 basierendem Glas, das lediglich ein Dotierungsmittel aus der Gruppe GeO2, As2Oi, Sb2O5, SnOj, TiO2, PbO und Bl2O3 enthält, gebildet wird,
der Stab zusammengedrückt wird, um einen einheitlich zusammengesetzten Stab zu bilden, und auf die äußere Oberfläche des Stabes eine geschmolzene Schicht aus mit Al2Oi, TiO2, ZrO2 oder HfO2 dotiertem Quarzglas aufgebracht wird zur Herstellung einer transparenten Glasstab-Vorform, die durch Schmelzspinnen in eine Faser überführt wird.
Die Erfindung betrifft eine optische Übertragungsfaser, die einen Kern aus einem dotierten Glas mit hohem Brechungsindex, eine Zwischenschicht aus einem dotierten Glas, das einen niedrigeren Brechungsindex als der Kern aufweist, und eine Umhüllung, die einen höheren Brechungsindex als die Zwischenschicht aufweist, enthält, sowie Verfahren zu ihrer Herstellung.
Bei der Entwicklung von verlustarmen optischen Fasern für die Verwendung In der Nachrichtenübermittlung sind In den letzten Jahren bemerkenswerte Fortschritte erzielt worden. Auch hat die kommerzielle Herstellung solcher optischer Übertragungsfasern bereits begonnen. Als Lichtquellen werden Licht emittierende Dioden (LED) oder Laser-Dioden (LD) verwendet und die optischen Übertragungsfasern sind so konzipiert, daß sie eine verlustarme Übertragung über einen breiten Frequenzbereich gewährleisten.
Die bisher bekannten optischen Übertragungsfasern bestehen aus einem Kern mit einem Durchmesser von bis zu 50 um und einer Umhüllung, deren Brechungsindex um nur etwa 1% von demjenigen des Kerns abweicht.
Optische Übertragungsfasern weisen verschiedene Vorteile auf, wie z. B. eine geringe Empfindlichkeit gegenüber äußerer lnfluenzwlrkung, eine hohe Flexibilität, ein geringes Gewicht und eine große Übertragungskapazität. Um diese Vorteile voll ausnutzen zu können, wird die Anwendung von optischen Übertragungsfasern auf Computer, Instrumentenausrüstungen, Kontrollsysteme und graphische Nachrichtenübertragungen ausgeweitet. Bei diesen Anwendungen Ist man bestrebt, die Kosten für die Herstellung eines Übertragungssystems, das eine
to Lichtquelle, optische Übertragungsfasern und einen Lichtenipfanger oder ein System umfaßt, das ein solches Übertragungssystem plus Abzweigungs- und Mehrfachanschlüsse beinhaltet, niedrig zu halten. In solchen Systemen werden als Lichtquelle kostensparende LED verwendet und innerhalb der Systeme werden geringe Übertragungsverluste dadurch er/ielt, daß die Oberiragungvcrluste auf die Kupplung der Lichtquelle und der optischen
Faser reduziert werden.
Selbstverständlich müssen die in solchen Systemen verwendeten Übertragungsfasern auch eini hohe Gebrauchsfestigkeit besitzen und eine weitere wichtige Forderung Ist die, daß sie geringe Übenragungsverluste aufweisen.
Aus der »Schoit-Information« 2/1976, Seiten 7, 8 und 17, sind bereits optische Übenragungsfasern bekannt. ^ die aus einem Kern aus einem dotierten Glas mit hohem Brechungsindex, einer Zwischenschicht aus einem dotierten Glas mit einem niedrigeren Brechungsindex als der Kern und einer Umhüllung aus einem Glas mit einem höheren Brechungsindex als die Zwischenschicht bestehen. Diese bekannten optischen Übertragungsfasern besitzen jedoch eine unzureichende mechanische Festigkeit und ihre Oberfläche ist nicht glatt genug, da sie sogenannte Griffice-Risse aufweisen. w
Aus der DE-AS 25 38 313 sind optische Übertragungsfasern bekannt, die aus drei Schichten bestehen, wobei der Kern aus mit Ti, Ge, Al oder Ga dotiertem SlO2 und die Umhüllung aus F enthaltendem SiO2 bestehen. Auch diese Fasern weisen eine unzureichende mechanische Festigkeit auf. Dies gilt auch für die aus den DE-OS 20 07 058, 29 19 080 und 29 06 523 bekannten optischen Übertragungsfasern, die aus Mehrkomponentengläsern aufgebaut sind. Diese bekannten optischen Übertragungfasern enthalten jedoch in der Umhüllung Alkalimetalle, i> so daß sie zusätzlich zu Ihrer unzureichenden mechanischen Festigkeit auch eine ungenügende Wasserbeständigkeit aufweisen, die ihre Verwendungsmöglichkelten In der Praxis stark einschränken.
Die bisher gebräuchlichen optischen Übertragungsfasern, die pro Kilometer einen Übertragungsverlsut von nicht mehr als 1OdB, einen Kerndurchmesser von etwa 100 \im und einen Brechungsindexunterschied zwischen dem Kern und dem Überzug von etwa 2% aufweisen, werden wie folgt hergestellt: ein Pulver eines Kernglases 2n (P2Os-GeO2-SiO2) wird durch Flammenhydrolyse und unter Anwendung des außenseiligen Dampfphasenoxidationsverfahrens (OVPO) auf ein Trägerelemeni aufgetragen und das Kernglas wird mit einem Pulver eines Überzugsglases (B2O)-SiO2) beschichtet. Nach dem Entfernen des Trägerelements wird das Laminat gesintert unter Bildung einer Vorform, die zu Fasern versponnen wird.
Die bei diesem Verfahren erhaltenen Fasern bestehen aus einem Kern aus einem GeO2-SlO2- oder :? GeO2-P2O5-SiO2-GIaS mit einem Durchmesser von 100 pm und einem Überzug aus einem B20)-Si0;-Glas, wobei die Gesamtfaser einen Durchmesser von 140 pm (Kerndurchmesser plus Durchmesser des Überzugs) aufweist und der Brechungsindex des Überzugs um etwa 2% von demjenigen des Kerns abweicht.
Es Ist allgemein üblich, die Brechungslndices des Kerns und des Überzugs durch Zumischen einer Dotierung, wie GeO2, B2O) oder P2Os, zu SlO2 zu steuern. Ein hoher Brechungsindex kann erhalten werden durch Verwen- 3<i dung von P2O5, GeO2, Al2Oi und TiO2 als Dotierungsmittel, das einzige Oxid, das jedoch als Dotierungsmittel zur Erzielung eines niedrigeren Brechungsindex zur Verfügung steht. Ist B2O). Das DoUerungsmittel wirkt sich aber auf die physikalischen Eigenschaften des Primärmaterials SiO2 aus: es reduziert die Viskosität und steigert den thermischen Expansionskoeffizienten von reinem SiO:-G!as, dem es zugesetzt wird. Deshalb nimmt dann, wenn der Kern In dem Bestreben, seinen Brechungsindex zu erhöhen, mit einer großen Menge GeO2 oder P:05 dotiert wird, die Viskosität des Kernglases ab und der thermische Expansionskoeffizient des Kernglases steigt. Da der Unterschied in der Restspannung zwischen dem Kern und dem Überzug auf ein Minimum reduziert werden muß, müssen die Viskosität und der thermische Expansionskoeffizient des Überzugs kontrolliert werden, um so die Veränderung auszugleichen, die auf die verringerte Viskosität und den erhöhten thermischen Expansionskoeffizienten des Kerns zurückzuführen ist. Daher wird dann, wenn der Kern mit etner großen -w Menge P2O5 oder GeO2 dotiert wird, um den Brechungsindex des Kerns zu erhöhen, der Überzug gleichzeitig in entsprechender Weise mit einer großen Menge an B2Oi dotiert, was jedoch zur Folge hat, daß durch die verminderte Viskosität und den erhöhten thermischen Expansionskoeffizienten eine optische Faser von geringer Festigkeit erhalten wird. Hinzu kommt, daß das B;Oi-SlO2-Glas des äußeren Überzugs eine geringe Wasserbeständigkeit aufweist, so daß in einer nassen oder feuchten Umgebung große statische Ermüdungserscheinungen auftreten.
Wie bereits erwähnt. Ist B2Oi das bisher einzige zur Verfügung stehende Oxid-Dotierungsmittel, mit dessen Hilfe der Brechungsindex herabgesetzt werüen kann. Daher enthalten die Überzüge sämtlicher herkömmlicher optischer Übertragungsfasern B2Oi als DoUerungsmittel und diese weisen somit eine geringe Wasserbeständigkeit auf.
Es Ist auch nicht möglich, dieses Problem durch Umhüllen der Glasfaser mit einem wasserbeständigen Überzug zu lösen, da es bisher keine wasserbeständige Glaszusammensetzung gibt, deren Viskosität und thermischer Expansionskoeffizient mit denjenigen eines Weichkerns und eines Überzugs, der eine große Menge Dotlerungsmlttel enthält, übereinstimmen.
Aufgabe der Erfindung war es daher, eine optische Übertragungsfaser zu entwickeln, die nicht nur eine höhere Festigkeit als die bisher üblichen optischen Übertragungsfasern, sondern auch eine größere Wasserbeständigkeit sowie einen geringen Brechungsindexunterschied zwischen Kern und Überzug (etwa K) aufweisen.
Es wurde nun gefunden, daß diese Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst werden kann, daß man bei einer optischen Übertragungsfaser des eingangs genannten Aufbaus die Dotierung auf ein Minimum reduziert, um die gewünschte Härte des Kerns und des Überzugs zu erhalten, das die Viskosität des Glases herabsetzende B:0i als <*> Dotierungsmittel nicht verwendet, um eine Viskosität und einen thermischen Expansionskoeffizienten zu erhalten, die denjenigen von reinem SlO;-Glas so nahe wie möglich kommen, so daß Insgesamt eine optische Übertragungsfaser mit einem Brechungsindexunterschied zwischen Kern und Überzug, von etwa 1%, einer höheren Festigkeit und einer größeren Wasserbeständigen erhalten wird.
Gegenstand der Erfindung Ist eine optische Übertragungsfaser, die einen Kern aus einem dotierten Glas mit <>5 hohem Brechungsindex, eine Zwischenschicht aus einem dotierten Glas, das einen niedrigeren Brechungsindex als der Kern aufweis1, und eine Umhüllung, die einen höheren Brechungsindex als die Zwischenschicht aufweist, enthält und Jiidurch gekennzeichnet. Ist, daß
1) der Kern aus einem auf SiO; basierenden Glas, das lediglich ein Doüerungsmitlel aus der Gruppe GeO;, AI;O., Sb2O,, SnOj. TiO3, PbO und Bl2O, enthält,
2) die Zwischenschicht aus einem auf SiOj basierenden Glas, das F, B2O,/F und/oder F/P2O< enthält, und
3) die Umhüllung aus Quarzglas oder einem mit AI2O1, TlO2, ZrO2 und/oder HfO2 dotierten Quarzglas oder aus einer Mischung aus Quarzglas und dem dotierten Quarzglas
bestehen.
Die erfindungsgemäße optische Übertragungsfaser zeichnet sich aus durch eine ausgezeichnete Festigkeit und große Wasserbeständigkeit bei gleichzeitig geringen Übertragungsverlusten, wobei der Brechungsindexunterschied zwischen Kern und Überzug nur etwa \% beträgt, !n der erfindungsgemäßen optischen Übertragungsfaser wird der Brechungsindex der Umhüllung so niedrig wie möglich gehalten, was durch Zugabe von Fluor erreicht wird. Dadurch wird die Erhöhung des Brechungsindex im Kern auf ein Minimum reduziert und es braucht nur ein einziges Dotierungsmittel dem Kern zugesetzt zu werden. Das zur Herstellung der äußeren Umhüllung der erfindungsgemäßen optischen Übertragungsfaser verwendete speziell dotierte Quarzglas schmilzt leicht, so daß es leicht versponnen werden kann, und es besitzt eine große Beständigkeit gegen Wasser. Durch das in der äußersten Schicht verwendete Doüerungsmütel wird der thermische Expansionskoeffizlent herabgesetzt und eine Restspannung auf der Oberfläche nach der Faserbildung erzeugt. Da nämlich die Dotierungsmittelmenge im Kern gering Ist, wird die auf der Oberfläche zurückbleibende Restspannung weniger auf den Kern übertragen, wenn die äußere Schicht aus Quarzglas besteht.
Eine besonders vorteilhafte optische Übertragungsfaser wird erhalten, wenn der Kern mit hohem Brechungsindex aus GeO;-SiO2-Glas oder Sb2O5-SiO2-GIaS, die Zwischenschicht mit niedrigerem Brechungsindex als der Kern aus F-SiO.-Glas, F-B2O1-SlO2-GIaS oder F-P2O5-SlO2-GUiS und die Umhüllung mit höherem Brechungsindex als die Zwischenschicht aus Quarzglas, mit AI2O) dotiertem Quarzglas, mit TiO2 dotiertem Quarzglas, mit ZrO2 dotiertem Quarzglas oder mit HfO2 dotiertem Quarzglas bestehen.
Die erfindungsgemäße optische Übertragungsfaser kann nach Verfahren hergestellt werden, die einen weiteren Gegenstand der vorliegenden Erfindung bilden:
a) Unter Anwendung des axialen Dampfphasen-Abscheidungsverfahrens (VAD) oder des außenseitigen Dampfphasen-Oxidationsverfahrens (OVPO) wird ein transparenter Glasstab aus einem auf SlO2 basierenden Glas, das lediglich ein Dotierungsmittel aus der Gruppe GeO2, As2Oi, Sb2O5, SnO2, TiO2, PbO und Bl2O, enthält, hergestellt,
der Glasstab wird mit geschmolzenem, auf SiO2 basierendem Glas, das F, B2O)/F und/oder F/P2O5 enthält, beschichtet unter Bildung eines überzogenen Glasstabes, und
der überzogene Glasstab wird mit geschmolzenem Quarzglas und/oder geschmolzenem Quarzglas, das mit Al2O). TiO2, ZrO2 und/oder HfO2 dotiert ist, beschichtet unter Bildung eines beschichteten Glasstabes, der durch Schmelzspinnen in eine Faser überführt wird;
b) auf die innere Oberfläche einer SiO2-Glasröhre wird eine Schicht aus einem aui SiO2 basierenden, mit F dotierten Glas, aus einem auf SlO2 basierenden, mit F und B2O, dotierten Glas oder aus einem auf SiO2 basierenden, mit F und P2O5 dotierten Glas aufgebracht,
innerhalb der SlO2-Glasröhre wird unter Anwendung des axialen Dampfphasen-Abscheldungsverfahrens (VAD)
■»υ oder des außenseitigen Dampfphasen-Oxidationsverfahrens (OVPO) ein transparenter Stab aus auf SiO2 basierenden Glas, das ledglich ein Dotierungsmittel aus der Gruppe GeO2, As2O1, Sb2O5, SnO2, TiO2, PbO und Bi2O1 enthält, gebildet,
der Stab wird zusammengedrückt, um einen einheitlich zusammengesetzten Stab zu bilden, und
auf die äußere Oberfläche des Stabes wird eine geschmolzene Schicht aus mit Al2O1, TiO2, ZrO2 oder HfO2 dotiertem Quarzglas aufgebracht zur Herstellung einer transparenten Glasstab-Vorform, die durch Schmelzspinnen in eine optische Übenragungsfaser überführt wird.
Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert. Diese zeigt einen Querschnitt der erfindungsgemäßen optischen Übertragungsfaser und die Brechungsindexverteilung der Faser.
In der Zeichnung besieht der Kern U aus SlO2-GIaS, das dem Kern eine ausreichende Härte verleiht und ein Dotierungsmittel aus der Gruppe GeO2, As2O1, Sb2O5. SnO2, TiO2, PbO und Bi2O) enthält, um einen hohen Brechungsindex zu erzeugen für beispielsweise GeO2-SiO2-, As2O1-SiO2-, SnO2-SiO2-, Sb2O5-SiO2-, TiO2-SiO2-, PbO-StO2- und Bi2O1-SiO2-Systeme. In der nachstehenden Tabelle I sind die Schmelzpunkte, die Viskosität und die thermischen Expansionskoeffizienten typischer Beispiele der obengenannten Systeme angegeben. Wie aus dieser Tabelle hervorgeht, weisen diese Systeme niedrigere Schmelzpunkte, Viskositäten und thermische Expan-
-S5 sionskoeffizienten auf als andere Glassysteme.
Tabelle I
SiO2
TiO2- GeO2- As2O3- SnOi- Sb2Os- B2Oi- P2O
SiO2 SiO2 SiO2 SiO2" SiO: SiO2 SiO
Menge des Dotierungs- 10% 10% 10% 10% 10% 10% 10%
mittels (Gew.-%)
Brechungsindex 1,458 1,490 1,473 - 1,475 1.478 1,457 1,464
Schmelzpunkt (° C) 1713 1690 1650 1550 1670 1600 1410 1400
Viskosität hart hart hart äußerst hart äußerst weich weich
hart hart
Thermischer Expan- 5,5 x 107 1,2x10' I1IxIO7 - 1,3 x 107
sionskoeffizient ]?
Es gibt zwar auch noch andere Dotierungsmittel, die einen hohen Brechungsindex ergeben können, nämlich Al2O3 und Ga2Oj, diese kristallisieren jedoch aus, wenn sie In großen Mengen eingesetzt werden, so daß eine Versteinerung des Glases auftritt.
Die Schicht 12 der In der belllegenden Zeichnung dargestellten erfindungsgemäßen optischen Ubertragungsfaser besteht aus SlO2-GIaS, das mit einer geringen Menge F oder F/B2Oi dotiert ist. Die Glaszusammensetzung des mit F dotierten SlO2-Glases Ist so, daß ein Teil des Sauerstoffs durch F ersetzt ist, um einen Brechungsindex zu schaffen, der niedriger Ist als der von reinem SiO2. Dabei sind die physikalischen Konstanten (d. h. der Schmelzpunkt, die Viskosität und der thermische Expansionskoeffizient) des mil F dotierten SiO2-Glases praktisch die gleiche wie diejenigen von reinem SlO2. Eine Kombination der beiden Dotierungsmittel F und B2O3 liefert ebenfalls eine Glaszusammensetzung mit den gewünschten physikalischen Konstanten. Gewünschtenfalls kann das B2O3 darin auch durch P2O5 ersetzt werden. Da P2O5 einen leicht erhnhten Brechungsindex ergibt. Ist die Verwendung von B2O3 als Dotierungsmittel zur Herstellung eines niedrigeren Brechungsindex bevorzugt. Der Vorteil der Verwendung von P2O5 besteht jedoch darin, daß eine geringe Menge an P2O5 den Erweichungspunkt des Glases um einen größeren Betrag herabsetzt als B2O1. so daß die Herstellung einer Vorform und die .w Zieharbeit dadurch erleichtert werden.
Die Zusammensetzung des Umhüllungsglascs wird durch die Weichheil des Kerns und der Zwischenschicht bestimmt. Wenn die Zusammensetzung des Kerns und der Zwischenschicht nahezu reinem SiO2 gleich kommt, kann die Umhüllung ebenfalls aus SiO2 bestehen. 1st jedoch der Kern oder die Zwischenschicht eher weich, muß ein Dotierungsmittel verwendet werden, um eine Umhüllung zu erhalten, deren Viskosität im wesentll- -> chen gleich der des Kerns oder der Zwischenschicht ist. In diesem Falle wird der Brechungsindex der Umhüllung bei einem Wert gehalten, der höher als der der Zwischenschicht ist, wohingegen der thermische Expansionskoeffizient der Umhüllung bei einem Wert gehalten wird, welcher geringfügig niedriger ist als der der Zwischenschicht. Auf diese Weise liefern der Kern, die Zwischenschicht und die Umhüllung während des Schmelzens eine einander gleichkommende Viskositätsfestigkeit, so daß ein erleichtertes Spinnen erreicht wird. Das Umhüllungsglas wird während des Schmelzens ausreichend weich, um eine glatte Oberfläche zu liefern, wohingegen der thermische Expansionskoeffizient des Umhüllungsglases so klein Ist, daß, wenn das Laminat des Kernes, der Zwischenschicht und der Umhüllung zu Fasern versponnen wird, sich auf der Oberfläche eine restliche Druckspannung entwickelt und die Faser mechanisch stark und wenig empfindlich gegenüber Ermüdungsbruch ist. Ein weiterer Vorteil ist, daß der Unterschied im Brechungsindex zwischen dem Kern und der Zwischenschicht in aureichendem Maße gesteigert werden kann, vorausgesetzt, daß der Brechungsindex der Umhüllung nicht kleiner Ist als der der Zwischenschicht.
Ein auf SiO2-basierendes Glas, das AI2O1, TiO2, ZrO2 und/oder HfO2 enthält, kann In vorteilhafter Weise als Zusammensetzung verwendet werden, welche wasserbeständig ist und die oben aufgeführten Anforderungen hinsichtlich Viskosität, Brechungsindex und thermischem Expansionskoeffizient erfüllt. Die Umhüllung kann mit einer lichtabsorbierenden Funktion ausgestattet werden, indem beispielsweise eine geringe Menge eines ubergangsmetaiis, wie etwa Fe2O3, eingearbeitet wird. Die Umhüllung kann aus einer inneren SiOj-Giasschicht und einer äußeren, auf SiO2-basierenden Glasschicht, welche Al2O3, TiO2, ZrO2 und/oder HfO2 enthält, bestehen. Ein Beispiel einer Faserzusammensetzung, welche die In der Figur gezeigten Brechungsindexverteilung aufweist, aus einem Kern 11, der zusammengesetzt ist aus einem mit 10 Gew.-% GeO2 dotierten SiO2-GIaS, einer Zwischenschicht 12, die zusammengesetzt Ist aus einem mit 3 Gew.-% F dotierten, auf SiO2-basierenden Glas und aus einer Umhüllung 13, die zusammengesetzt 1st aus einem mit 3 Gew.-% TiO2 dotierten, auf SiO2-basierenden Glas.
Nachstehend werden zwei typische Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Faser beschrieben, jedoch kann die erfindungsgemäße Faser auch nach anderen Verfahren hergestellt werden. Zuerst wird ein Glas für den Bereich mit hohem Brechungsindex wie folgt hergestellt: Ein Halogenid, wie etwa SiCl4 oder GeCl4, ein Hydrid, wie etwa SiH4 oder GeH4 oder eine organische Verbindung, wie etwa Si(OC2H5) 4 oder Ge(OC2Hs)4 wird als Dampf in eine H2-O2-Flamme oder CmHn-O2-Flamme eingeführt, um eine Reaktion hervorzurufen, bei der fein verteiltes GeO2-SiO2-GIaS gebildet wird, welches axial auf einem Dorn aus Sillciumdioxid-Glas (VAD-Verfahren) oder radial auf einem mit Kohlepulver beschichteten Dorn (OVPO-Verfahren) gezüchtet wird, wobei fein verteiltes Glas erhalten wird. Die nach dem VAD-Verfahren hergestellten Glaspartikel werden als solche gesintert und zusammengedrückt, um einen transparenten GeOr-SiO2-Glasstab zu bilden. Das Ausgangsmaterial wird von den Glaspartikeln, die nach dem OVPO-Verfahren hergestellt worden sind, entfernt, bevor die Partikel
gesintert und zusammengedrückt werden, um einen transparenten GeO2-SiO2-Glasstab zu bilden. Der so hergestellte Glasstab wird wahlweise geschliffen und poliert, um einen fehlerfreien Zylinder zu erzeugen, welcher bevor er den darauffolgenden Verarbeitungsstufen ausgesetzt wird, mit Fluorwasserstoffsäure, Salzsäure, Salpetersäure, Phosphorsäure oder Schwefelsäure gewaschen wird. In der nächsten Stufe wird H2O, HCl, Cl2, HF oder F2-GaS oder eine gasförmige fluorhalttge Verbindung, wie etwa SF,,, CF4 oder CC2F2 zusammen mit wahlweise Helium oder Sauerstoffgas In eine Hochfrequenz-Plasmaflamme eingeführt, um eine Plasmaflamme zu erzeugen, welcher der rotierende Glasstab ausgesetzt wird, um durch longitudlnales Bewegen der Flamme über dem Glasstab [äußeres Plasma-Abscheldungsverfahren (POD)] eine Flammenpolierung auszuführen. Anschließend, wenn SlF4, SF1,, CF4 oder CCl2F2 zusammen mit Sauerstoffgas eingeführt wurde, wird ein Halogenid, wie etwa SiCl4 oder ein Hydrid, wie etwa SlH4 oder eine organische Verbindung, wie etwa Sl (OC2Hj)4 In gasförmigem Zustand als ein SiO2-bildendes Material In eine Hochfrequenz-Plasmaflamme eingeführt, um ein mit F dotiertes SiO2-Glas mit niederem Brechungsindex zu bilden. Das erhaltene Glas wird In geschmolzenem Zustand auf der Peripherie des Glasstabes, welcher als Bereich mit hohem Brechungsindex dient, gezüchtet. Ein mit P2O5 als auch mit F dotiertes SlO2-GIaS kann sowohl durch Zuführen des Gases, das als ein SiO2blldendes Material dient als auch des Gases eines Halogenide, wie etwa BCI, oder BF1, eines Hydrids, wie etwa B2H1, oder einer organischen Verbindung, wie etwa Si (OCH-,)«, hergestellt werden. Zur Herstellung von mit P2O, als auch mit F dotiertem SlO2-GIaS kann sowohl das Gas, welches als SlO2-bildendes Material dient als auch das Gas eines Halogenide, wie etwa POCl5 oder PF1, eines Hydrids, wie etwa PH, oder einer organischen Verbindung, wie etwa P (OCHj)5, eingeführt werden.
Zur Bildung eines Glases, das als Umhüllung dient, wird das Gas, welches als SlO2-bildendes Material dient, In kontrollierter Menge und das Gas, welches als Dotierung dient, wie etwa TlCI4, AlCl3, ZrCl4 oder HfCl4, in kontrollierter Menge zugeführt. In diesem Falle wird die Zuführung der gasförmigen F-enthaltenden Verbindung gestoppt und, wenn eine Co-Dotlerung mit F und B2O, in einer vorangehenden Stufe ausgeführt wurde, wird die Zuführung des Dotierungsgases ebenso gestoppt. Das so hergestellte SlO2-GIaS, das eine Dotierung, die etwa TlO2 enthält, wird In geschmolzenem Zustand auf der Peripherie der Schicht mit niederem Brechungsindex gezüchtet. Auf diese Weise wird eine Vorform, welche den Kern, der mit dem Überzug und der Umhüllung in dieser Reihenfolge überschichtet Ist, umfaßt, hergestellt. Dieses Verfahren erfordert eine vorsichtige Temperaturkontrolle, um die Bildung von Keimen oder Blasen Infolge überschüssigen Erhltzens des Kerns zu vermelden. Wird festgestellt, daß sich ein Keim oder eine Blase In dem Kern, der mit einem Überzug überschichtet ist, entwickelt, muß einige geringe Menge an B2O, als Co-Dotlerung verwendet werden, um bei relativ niederer Temperatur geschmolzenes Glas zu erzeugen, ebenso Ist es notwendig, eine erhöhte Menge an Dotierung in dem Material für die Umhüllung zu verwenden, um wiederum bei relativ niederer Temperatur geschmolzenes Glas zu erzeugen.
Ein anderes Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen optischen Faser ist nachstehend beschrieben: Zuerst wird eine Slliciumdloxid-Glasröhre mit Gasen versehen, welche als Material für Glas dienen (die gleichen, wie oben beschrieben) und von außen (modifiziertes CVD-Verfahren) oder von innen (Plasma-CVD-Verfahren) erhitzt, um eine Reaktion zu verursachen, bei der eine Abscheidung von entweder F-SiO2, F-B2O)-SlO2 oder F-P2O5-SiO2-GIaS auf der inneren Wand der Röhre gebildet wird. Ein Glasstab, der als Bereich mit hohem Brechungsindex dient und dieselbe Zusammensetzung hat, wie oben definiert, wird In die Röhre eingesetzt, die wiederum auf einer Glasdrehbank befestigt ist und von außen erhitzt wird, um den Einsatz zusammenzudrücken zur Herstellung eines integral zusammengesetzten Glasstabes. Falls erwünscht, kann eine zur obenbeschriebenen Identische Technik verwendet werden, um den Stab mit SiO2-GIaS, das entweder Al2O,, TlO2, ZrO2 oder HfO2 enthält, zu beschichten, wobei eine Vorform eines transparenten Glasstabes erhalten wird. Diese Vorform wird dann durch Schmelzspinnen in Fasern überführt.
Nachstehend wird eine bevorzugte Ausführungsform des Verfahrens zur Herstellung der erfindungsgemäßen optischen Faser beschrieben. Vier Vorformen wurden nach den OVPO-Verfahren, dem VAD-Verfahren und dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt. Jede Vorform wurde zu Fasern versponnen, unmittelbar danach wurde die Faser mit einem Silikonharz einer Dicke von 150 μηι grundiert und mit einem Polyamid durch Extrusion beschichtet, um einen Gesamtdurchmesser von 0,9 mm zu liefern. Der Aufbau, die Übertragungscharakteristika und die Festigkeit jeder der hergestellten Fasern sind In der nachstehenden Tabelle II gezeigt.
Tabelle II
Probe Nr.
Glas
Größe An
(μπι0) (%)
Herstell. Verfahren
Übertra- Durch- Bruchfegungsverlust schnittliche stigkeit λ =0,85 μΐη
(dB/km)
Bruchfestigkeit (kg/Filament)
nach Eintauchen in Wasser
100 Std.)
1) Kern: 32 Gew.-% GeO2-SiO2 100
Überzug: 20 Gew.-% B2O3-SiO2 140
65 2) Kern: 28 Gew.-%GeO2/ 100
6 Gew.-% P2O5-SiO2
Überzug: 22 Gew.-% B2O3-SiO2 140
2,0
1,9
OVPO
VAD
5,5
5,0
Tabelle 11 (Fortsetzung)
Probe Nr.
Glas
Größe Δη (μΓΠ 0) (%)
Herstell.
Verfuhren
Überlra- Durch- Bruchlegungsverlust schnittliche stigkeit λ = 0,85 μΐη
(dB/km)
Bruchfestigkeit
(kg/Filament)
nach Eintauchen in Wasser
100 Std.)
3) Kern: a)
b)
10 Gew.-% GeO2-SiO2 100 VAD
Überzug 2,5 Gew.-% F-SiO2 135 2,0 POD 4,0
Umhül
lung
5 Gew.-% TiO2-SiO2 140 POD
4) Kern: 12 GeO2-SiO2 90
Überzug 2,5
2
Gew.-% F/
Gew.-% P2O5-SiO2
100
2,1
modifiziert 3,5
Umhül
lung
5 SiO2
TiO2-SiO2
140
145
CVD
POD
»X« bedeutet:
»O« bedeutet:
schwach
gut
7,0
6,5
Wie die Tabelle II zeigt, ergibt die erfindungsgemäße Faser (3) oder (4) pro Kilometer (/. = 0,85 μηι) einen Übertragungsverlust von nur 4,0 dB und besitzt eine durchschnittliche Bruchfestigkeit In der Höhe von 6,0 kg pro.Filament. Weiterhin 1st hervorzuheben, daß die erfindungsgemäße Faser eine bedeutend erhöhte Bruchfestigkeit in Wasser besitzt als die Vergleichsfasern (1) und (2).
Die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer optischen Faser können wie folgt zusammengefaßt werden.
(1) Es wird eine Faser zur Verfügung gestellt, die einen Kern von angemessener Größe aufweist, dessen Brechungsindex sich von dem des Überzuges sehr untersclieidet und dessen physikalische Eigenschaften sich denen des Überzuges und der Umhüllung angleichen.
(2) Das Verhältnis von Dotierungsmitteln zu SiO2-GIaS In dem Kern beträgt weniger als die Hälfte von dem, wie herkömmlich erforderlich. Die hergestellte Faser zeigt einen geringen Verlust aufgrund von Rayleigh-Streuung und somit geringen Übertragungsverlusi.
(3) Das Glas aus dem die Umhüllung hergestellt wird, wird bei Spinntemperatur weich und liefert eine glatte Oberfläche. Die erhaltene Faser zeigt auf der Oberfläche restliche Druckspannung, um so eine hohe Festigkeit zu schaffen.
(4) Mit der Umhüllung, die aus SiO2, ZrO2-SlO2, Al2O1-SiO,, TiO2-SiO: oder HfO2-SiO2 hergestellt Ist. besitzt die Faser eine sehr wasserbeständige Oberfläche.
(5) Die verringerte Anwendung einer Dotierung, wie etwa GeO2, B2Oi oder PjO5 hat eine Kostenreduzierung zur Folge.
Hierzu 1 Blatt Zeichnung

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Optische Über.ragungsfaser, enthaltend einen Kern aus einem dotierten Glas mit hohem Brechungsindex, eine Zwischenschicht aus einem dotierten Glas, das einen niedrigeren Brechungsindex als der Kern aufweist, und eine Umhüllung, die einen höheren Brechungsindex als die Zwischenschicht aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß
1) der Kern aus einem auf SiO2 basierenden Glas, das lediglich ein Dotierungsmittel aus der Gruppe GeO2, As2Oj, Sb2O5, SnO2, TlO2, PbO und Bi2O3 enthält,
ίο 2) die Zwischenschicht aus einem auf SlO2 basierenden Glas, das F, B2O3/F und/oder F/P2OS enthält, und 3) die Umhüllung aus Quarglas oder einem mit Al2O3, TlO2, ZrO2 und/oder HfO2 dotierten Quarzglas oder aus einer Mischung aus Quarzglas und dem dotierten Quarzglas
DE3040188A 1979-10-25 1980-10-24 Optische Übertragungsfaser und Verfahren zu ihrer Herstellung Expired DE3040188C2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13701279A JPS5662204A (en) 1979-10-25 1979-10-25 Optical transmission fiber and its manufacture
JP2335980A JPS56121002A (en) 1980-02-28 1980-02-28 Optical fiber for light transmission and its manufacture

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3040188A1 DE3040188A1 (de) 1981-05-07
DE3040188C2 true DE3040188C2 (de) 1984-08-23

Family

ID=26360713

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3040188A Expired DE3040188C2 (de) 1979-10-25 1980-10-24 Optische Übertragungsfaser und Verfahren zu ihrer Herstellung

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4975102A (de)
CA (1) CA1136911A (de)
DE (1) DE3040188C2 (de)
GB (1) GB2065633B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19928970B4 (de) * 1998-06-24 2006-06-08 Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon Lichtleiter zum Einsatz in einem Bragg-Gitter und diesen verwendendes Lichtleiter-Bragg-Gitter

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4439007A (en) * 1981-06-09 1984-03-27 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Low dispersion single mode fiber
JPS6082156A (ja) * 1983-10-13 1985-05-10 ドル−オリバ− インコ−ポレイテツド ハイドロサイクロン
GB2151369A (en) * 1983-10-24 1985-07-17 British Telecomm Optical fibres
DE3376110D1 (en) * 1983-12-22 1988-05-05 Shinetsu Chemical Co A method for the preparation of synthetic quartz glass suitable as a material of optical fibers
DE3731604A1 (de) * 1987-09-19 1989-03-30 Philips Patentverwaltung Verfahren zur herstellung einer monomode-lichtleitfaser
DE3936006A1 (de) * 1989-10-28 1991-05-02 Rheydt Kabelwerk Ag Verfahren zum herstellen von vorformen fuer daempfungsarme optische fasern
US5043002A (en) 1990-08-16 1991-08-27 Corning Incorporated Method of making fused silica by decomposing siloxanes
FR2677349B1 (fr) * 1991-06-05 1993-09-10 Cabloptic Sa Procede de fabrication d'une fibre optique.
FR2679548B1 (fr) * 1991-07-25 1994-10-21 Alsthom Cge Alcatel Procede de fabrication de fibres optiques actives.
US5241615A (en) * 1992-06-18 1993-08-31 Corning Incorporated Optical waveguide fiber with very thin titania-silica outer cladding layer
US5262362A (en) * 1992-06-22 1993-11-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Coatings for SiO2 optical fibers
US5796903A (en) * 1992-07-06 1998-08-18 Infrared Fiber Systems, Inc. Heavy metal-oxide glass optical fibers for use in laser medical surgery and process of making
GB9312634D0 (en) * 1993-06-18 1993-08-04 Tsl Group Plc Improvements in vitreous silica manufacture
FR2730505B1 (fr) * 1995-02-14 1997-04-04 Alcatel Fibres Optiques Procede de traitement de surface d'une preforme, procede de realisation d'une preforme comprenant un tel procede de traitement de surface, preforme realisee par la mise en oeuvre de tels procedes
US5809199A (en) * 1995-09-21 1998-09-15 Infrared Fiber Systems, Inc. Biocompatible optical fiber tip for in vivo laser surgery
FR2741061B1 (fr) * 1995-11-13 1998-03-20 Alcatel Fibres Optiques Procede de fabrication d'une fibre optique monomode et amplificateur optique utilisant une telle fibre
US6009222A (en) * 1997-09-12 1999-12-28 Dong; Liang Optical fibre and optical fibre grating
CA2247970A1 (en) * 1997-10-29 1999-04-29 Corning Incorporated Method of making segmented core optical waveguide preforms
CN1125788C (zh) * 1998-02-03 2003-10-29 住友电气工业株式会社 光纤母材的制造方法
KR100333897B1 (ko) * 1998-06-24 2002-07-31 광주과학기술원 스트레스이완된장주기광섬유격자
KR100322135B1 (ko) * 1999-03-11 2002-02-04 윤종용 잔류 기계적 스트레스를 최대화하는 광섬유 및 이를 이용한 광섬유 격자 제작방법
WO2001020370A2 (en) * 1999-09-17 2001-03-22 Corning Incorporated Method for creating codoped layers and fibers containing codoped layers
US6460378B1 (en) * 2000-02-29 2002-10-08 Xiaoyuan Dong Collapsing a multitube assembly and subsequent optical fiber drawing in the same furnace
AU2002322549A1 (en) * 2001-07-20 2003-03-03 Nufern Optical fiber grating having high temperature insensitivity
US20030200771A1 (en) * 2002-04-30 2003-10-30 Burke Gerald E. Method of manufacturing phosphosilicate optical fibers and optical fibers formed therefrom
US6904214B2 (en) * 2002-05-14 2005-06-07 Nufern Method of providing an optical fiber having a minimum temperature sensitivity at a selected temperature
JP3910486B2 (ja) * 2002-05-17 2007-04-25 株式会社フジクラ 光ファイバ及び光伝送路
DE202004021665U1 (de) * 2003-04-26 2009-11-26 Schott Ag Glaskörper aus dotiertem Quarzglas
US7582057B2 (en) * 2004-02-24 2009-09-01 Japan Atomic Energy Research Institute Endoscopic system using an extremely fine composite optical fiber
DE102005015706B4 (de) * 2005-04-05 2008-07-03 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung einer Vorform für optische Fasern
US8526773B2 (en) * 2010-04-30 2013-09-03 Corning Incorporated Optical fiber with differential birefringence mechanism
DE102012100233B4 (de) 2012-01-12 2014-05-15 Schott Ag Hochtransmittive Gläser mit hoher Solarisationsbeständigkeit, ihre Verwendung und Verfahren zu ihrer Herstellung
US9919955B2 (en) * 2015-07-24 2018-03-20 Ofs Fitel, Llc Optical fiber with low loss and nanoscale structurally homogeneous core

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3630765A (en) * 1969-02-24 1971-12-28 Corning Glass Works Photochromic glass containing tantalum oxide for optical fiber fabrication
US4165152A (en) * 1972-11-25 1979-08-21 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Process for producing optical transmission fiber
DE2536456C2 (de) * 1975-08-16 1981-02-05 Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau Halbzeug für die Herstellung von Lichtleitfasern und Verfahren zur Herstellung des Halbzeugs
DE2538313C3 (de) * 1975-08-28 1981-11-05 Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau Verfahren zur Herstellung eines Vorproduktes für die Erzeugung eines optischen, selbstfokussierenden Lichtleiters
DE2648702C3 (de) * 1976-10-27 1980-08-21 Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz Infrarotdurchlässige Lichtleitfaser aus sauerstoffarmem bzw. sauerstofffreiem GUs und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2727054A1 (de) * 1977-06-15 1978-12-21 Siemens Ag Verfahren zur herstellung eines glasfaserlichtleiters
JPS54112218A (en) * 1978-02-20 1979-09-03 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Production of optical fiber
US4249925A (en) * 1978-05-12 1981-02-10 Fujitsu Limited Method of manufacturing an optical fiber
FR2432478B1 (de) * 1978-07-31 1982-03-12 Quartz & Silice
US4243298A (en) * 1978-10-06 1981-01-06 International Telephone And Telegraph Corporation High-strength optical preforms and fibers with thin, high-compression outer layers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19928970B4 (de) * 1998-06-24 2006-06-08 Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon Lichtleiter zum Einsatz in einem Bragg-Gitter und diesen verwendendes Lichtleiter-Bragg-Gitter

Also Published As

Publication number Publication date
GB2065633B (en) 1984-03-21
US4975102A (en) 1990-12-04
DE3040188A1 (de) 1981-05-07
CA1136911A (en) 1982-12-07
GB2065633A (en) 1981-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3040188C2 (de) Optische Übertragungsfaser und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE69017397T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer optischen Faser und nach diesem Verfahren hergestellte Faser.
EP0086533B1 (de) Verfahren zur Herstellung von fluordotierten Lichtleitfasern
DE2930398C2 (de)
DE60025823T2 (de) Optische wellenleiterfaser mit niedrigem wasserpeak und verfahren zu ihrer herstellung
EP1000909B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Substratrohr
EP0023066B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern
DE2906070C2 (de) Verfahren zum Herstellen von optischen Wellenleitern
DE2364782B2 (de) Optischer Wellenleiter aus Glas mit einem GeO2 enthaltenden Kernglas
DE69031607T2 (de) Faseroptisches Bündel zur Bildübertragung und sein Herstellungsverfahren
EP1286926A1 (de) Verfahren für die herstellung einer optischen faser
WO2003037808A1 (de) Verfahren zur herstellung eines rohres aus quarzglas, rohrförmiges halbzeug aus porösem quarzglas und verwendung desselben
EP0731368A1 (de) Zylinderförmiger Lichtwellenleiter
DE60200195T2 (de) Verfahren zum Herstellen von Vorformen hoher Kapazität mittels MCVD
US5033815A (en) Optical transmission fiber and process for producing the same
EP0198118B1 (de) Einwelliger Lichtwellenleiter aus Quarzglas und Verfahren zu dessen Herstellung
WO2001040126A1 (de) Quarzglas-vorform für eine lichtleitfaser und verfahren zu ihrer herstellung
EP2545009B1 (de) Verfahren sowie rohrförmiges halbzeug zur herstellung einer optischen faser
DE2939339C2 (de)
DE60200189T2 (de) Verfahren zum Herstellen von optischen Fasern aus Vorformen mittels Regulierung des Partialdrucks des Sauerstoffes während der Dehydratisierung der Vorform
EP0127227B1 (de) Verfahren zur Herstellung von optischen Wellenleitern
DE19952821B4 (de) Verfahren zur Herstellung einer Quarzglas-Vorform für Lichtleitfasern
DE3820217A1 (de) Lichtwellenleiter, insbesondere einmodenfaser
DE60211350T2 (de) Verfahren zur herstellung einer stabförmigen vorform sowie aus einer derartigen vorform hergestellte lichtleitfasern
WO2007009450A1 (de) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON GLASFASERPREFORMEN MIT EINEM GROßEN KERNDURCHMESSER

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD., OSAKA, JP NIPP

8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: GRUENECKER, A., DIPL.-ING. KINKELDEY, H., DIPL.-ING. DR.-ING. STOCKMAIR, W., DIPL.-ING. DR.-ING. AE.E. CAL TECH SCHUMANN, K., DIPL.-PHYS. DR.RER.NAT. JAKOB, P., DIPL.-ING. BEZOLD, G., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. MEISTER, W., DIPL.-ING. HILGERS, H., DIPL.-ING. MEYER-PLATH, H., DIPL.-ING. DR.-ING. KINKELDEY, U., DIPL.-BIOL. DR.RER.NAT. BOTT-BODENHAUSEN, M., DIPL.-PHYS. DR.RER.NAT., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN

8331 Complete revocation