DE3003133C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE3003133C2
DE3003133C2 DE3003133A DE3003133A DE3003133C2 DE 3003133 C2 DE3003133 C2 DE 3003133C2 DE 3003133 A DE3003133 A DE 3003133A DE 3003133 A DE3003133 A DE 3003133A DE 3003133 C2 DE3003133 C2 DE 3003133C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
pattern
television camera
base plate
color
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE3003133A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3003133A1 (de
Inventor
Hajime Tokio/Tokyo Jp Yoshida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HAJIME INDUSTRIES Ltd TOKIO/TOKYO JP
Original Assignee
HAJIME INDUSTRIES Ltd TOKIO/TOKYO JP
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP54011101A external-priority patent/JPS5922371B2/ja
Priority claimed from JP1110079A external-priority patent/JPS55103724A/ja
Application filed by HAJIME INDUSTRIES Ltd TOKIO/TOKYO JP filed Critical HAJIME INDUSTRIES Ltd TOKIO/TOKYO JP
Publication of DE3003133A1 publication Critical patent/DE3003133A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3003133C2 publication Critical patent/DE3003133C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95607Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method

Description

Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Ermittlung von Män­ geln in Mustern gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Beispielsweise bei Herstellung von Halbleitern oder gedruck­ ten Schaltungen ist es üblich, eine Fotomaske zu verwenden, die ein bestimmtes Muster enthält. Ein Mangel in dem Muster der Fotomaske verursacht Ausschußprodukte, weshalb die Untersu­ chung auf Mängel und deren Ermittlung ein sehr wesentlicher Vorgang sind.
Bei der eingangs genannten bekannten Vorrichtung gemäß der US-PS 35 60 093 wird eine teilweise reflektierende Platte zwi­ schen zwei zu überprüfende Masken eingefügt. Sich gegenüber­ liegende Seiten der Maske und der partiell reflektierenden Plattenanordnung werden abwechselnd beleuchtet. Eine Fernseh­ kamera nimmt ein Bild der Masken von einer Seite her auf. Bei Betrachtung von der Fernsehkamera her liefert die Reflektion von der partiell reflektierenden Platte ein Bild der Maske zwischen der partiell reflektierenden Platte und der Fernseh­ kamera. Bei Betrachtung von der anderen Seite ermöglichen zueinander ausgerichtete transparente Bereiche der beiden Mas­ ken einen Lichtdurchtritt, während Muster jeder Maske den Lichtdurchtritt verhindern. Auf diese Weise sind Unterschiede zwischen den beiden Masken auf dem Fernsehschirm als Flimmern erkennbar, das auf die Differenz zwischen dem reflektierten Bild, das die der Fernsehkamera näherliegende Maske zeigt, und dem beide Masken zeigenden übertragenen Bild zurückgeht. Diese Vorgehensweise ist ziemlich aufwendig und für den Betrachter äußerst anstrengend. Darüber hinaus ist eine automatische Auswertung des Fernsehbildes auf einfache Weise nicht mög­ lich.
Eine weitere eine Auswertung ermöglichende Vorrich­ tung ist aus der US-PS 41 23 170 bekannt.
Als Beispiel wird die bekannte Vorrichtung nach der US-PS 41 23 170 zur Ermittlung von Mängeln an Mustern nachfolgend anhand der Fig. 1, 2 und 3 erläutert.
Die Fig. 1 und 2 zeigen einen Abschnitt einer Photomaske 1 bzw. 1′, die durch ein Mikroskop vergrößert ist und die aus durchsichtigem Material wie Glas oder dgl. aufgebaut ist. Ein Muster 2, 2′ ist beispielsweise mit verdampftem Metall oder dgl. auf den Photomasken 1 und 1′ gebildet, wobei durchsich­ tige Abschnitte 3 der durchsichtigen Grundplatte der Photo­ masken 1 und 1′ und durch das aufgedampfte Material nicht transparente oder undurchsichtige Abschnitte 4 gebildet sind. In Fig. 2 sind A und B Stellen, an denen das verdampfte Material unnötigerweise verbleibt, und C und D Stellen, an denen das notwendige Aufdampfmaterial fehlt. Dementsprechend ist die Photomaske 1′, welche das in Fig. 2 gezeigte Muster 2′ aufweist, ein Ausschußprodukt. Andererseits ist die in Fig. 1 gezeigte Photomaske 1 ein vollständiges, normales Produkt. Zur Untersuchung wird gemäß Fig. 3 eine Standard­ maske 6, welche ein vollständiges Muster aufweist (z. B. das in Fig. 1 gezeigte Muster 2), an einer vorgegebenen Stelle auf einer transparenten Unterlage 5 aufgelegt, wogegen eine Maske 7, welche zu untersuchen ist (z. B. die mangelhafte Maske, wie in Fig. 2 gezeigt), an einer anderen vorgegebenen Stelle auf die Unterlage 5 gelegt wird, wo beide durch ein Binokularmi­ kroskop 8 betrachtet werden. Fig. 3 zeigt Objektivlinsen 9 und 10 für die Standardmaske 6 sowie auch für die zu unter­ suchende Maske 7, Spiegel 11 und 12 für beide Masken 6 und 7, halbdurchlässige Spiegel 13 und 14 für die Masken 6 und 7, ein gemeinsames Okular 15, eine Lichtquelle 16 wie beispielsweise ein Rotlicht, das die Standardmaske 6 bestrahlt, und eine andere Lichtquelle 17, die beispielsweise ein grünes Licht ausstrahlt, welches die Komplementärfarbe zu Rot ist, und die die zu untersuchende Maske 7 bestrahlt. Daher verlaufen die Lichtstrahlen, die von den Lichtquellen 16 und 17 ausgestrahlt werden, durch die Unterlage 5, die Masken 6 und 7, die Linsen 9 und 10, die Spiegel 11 und 12, die halbdurchlässigen Spiegel 13 und 14 und verlaufen weiter durch die Linse 15 des Bino­ kularmikroskops 8, um in dem beobachtenden Auge 18 oder einer Fernsehkamera (US-PS 41 23 170) ein Bild zu formen, das die Untersuchung der Maske 7 ermöglicht. Falls die untersuchte Maske 7 einen Mangel aufweist, wie beispielsweise bei den Stellen A und B in Fig. 2 gezeigt, wird das grüne Licht, das von der Lichtquelle 17 ausgestrahlt wird, durch diese Stel­ len A und B abgeschirmt, so daß nur das rote Licht, welches von der Lichtquelle 16 abgestrahlt wird, zu dem beobachten­ den Auge 18 kommt, und folglich erscheinen diese Stellen A und B in roter Farbe. Andererseits wird an den Stellen C und D das rote Licht von der Lichtquelle 16 abgeschirmt, und nur das grüne Licht von der Lichtquelle 17 kommt zu dem beobachtenden Auge 18, so daß diese Stellen C und D in grüner Farbe erschei­ nen. Für die anderen Abschnitte, welche dem durchsichtigen Be­ reich 3 entsprechen, kommen die von den Lichtquellen 16 und 17 ausgestrahlten roten bzw. grünen Lichtstrahlen zu dem beobach­ tenden Auge 18 gleichzeitig an, und dementsprechend erscheinen diese Abschnitte allgemein als weiß, und bezüglich des un­ durchsichtigen Abschnitts 4 werden sowohl die grünen als auch die roten Lichtstrahlen abgeschirmt und gehen nicht durch, weshalb dieser Abschnitt allgemein schwarz erscheint. Mit anderen Worten: wenn das gesamte Bild weiß oder schwarz er­ scheint, ist kein Mangel an der untersuchten Maske 7 vorhan­ den, wogegen, wenn auch nur eine leichte Schattierung von roter oder grüner Farbe erscheint, die untersuchte Maske 7 einen Mangel enthält.
Aus der US-PS 37 13 741 ist eine Anordnung zur Überprüfung von reflektierenden Lötmustern auf einer eine Farbe aufweisenden Schaltungsplatte bekannt. Überprüft wird dadurch, daß die Schaltungsplatte mit Licht einer Farbe beleuchtet wird, die komplementär zur Farbe der Schaltungsplatte ist, wodurch le­ diglich reflektierte Lötmuster einen Teil des Lichtes der zweiten Farbe zurückkehren lassen. Auf einem Betrachtungs­ schirm wird ein Abbild des Lötmusters gebildet, wobei die Schaltungsplatte keinen Einfluß hat. Über das Abbild wird eine positive ode negative das Muster farbig enthaltende Maske ge­ legt. Bei Mangelfreiheit ist lediglich das Muster durch die Maske auf dem Betrachtungsschirm sichtbar. Würde eine Fern­ sehkamera verwendet werden, so würde deren Ausgangssignal das Lötmuster auf der Schaltungsplatte liefern.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Anordnung der ein­ gangs genannten Art so weiterzubilden, daß nicht nur einfache und ermüdungsfreie Auswertbarkeit, sondern auch Automatisier­ barkeit möglich sind.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.
Die Erfindung wird durch die Merkmale des Unteranspruches weitergebildet.
Wesentlich bei der vorliegenden Erfindung ist, daß bei män­ gelfreiem Objekt ein einheitliches (monochromatisches) Bild von der Fernsehkamera empfangen wird und daher ein einheit­ liches Signal an ein Prüfgerät abgegeben wird. Sofern ein Mangel auftritt, wird dieses einheitliche Abbild gestört und wird auch das einheitliche Signal gestört, was in einfacher Weise ermittelt werden kann. Die erfindungsgemäße Vorgehens­ weise erlaubt demgemäß auch eine Automatisierung, da ledig­ lich im Hinblick auf das Auftreten einer Schwankung im Fern­ sehkamera-Ausgangssignal geprüft werden muß.
Die Erfindung wird anhand der in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiele näher erläutert. Es zeigen
Fig. 1, 2 und 3 schematische Diagramme zur Erläuterung einer bekannten Vor­ richtung zur Ermittlung von Mängeln an Mustern; und
Fig. 4 und 5 schematische Darstellungen zweier Ausführungsformen der Erfindung.
Fig. 4 zeigt ein zu untersuchen­ des Objekt 20 wie beispielsweise eine gedruckte Schaltung oder dgl., welche aus einer Grund­ platte 21 besteht sowie aus einem Muster 22, das auf der Grundplatte 21 zum Beispiel durch Aufdampfen von Metall ge­ bildet ist. Eine optische Referenz- Maske 23 für das zu untersuchende Objekt 20 besteht aus einer durchsichtigen oder transparenten Grundplatte 24 wie zum Beispiel Glas, die mit einem Bezugsmuster 25 versehen ist, das auf der Grundplatte 24 durch Verdampfungsmaterial wie zum Beispiel Metall gebildet ist. Während in diesem Fall die Farbe des Materials, das das Bezugsmuster 25 auf der durchsichtigen Grund­ platte 24 der optischen Maske 23 bildet, gleich der Farbe der Grundplatte 21 des Objekts 20 gewählt ist, ist es erforderlich, daß sich diese Farbe von der Farbe des Materials unterschei­ det, das das Muster 22 auf der Grundplatte 21 bildet.
Nachfolgend wird für den Fall, daß das Grundmaterial oder die Platte 21 des untersuchten Objekts 20 undurchsichtig ist, die Untersuchung von Mängeln wie beispielsweise "Graten" oder "Fäden (Haaren)" des Musters 22 beschrieben, welche auf dem untersuchten Objekt 20 überschüssig sind.
Zunächst werden das oben erwähnte Muster 22 auf der Grundplat­ te 21 des untersuchten Objekts 20 und das Bezugsmuster 25 auf der durchsichtigen Grundplatte 24 der optischen Maske 23 so auf­ gelegt, daß beide Muster 22 und 25 bei der Lichtachse einer Fernsehkamera 30 übereinander liegen, zum Beispiel in der in Fig. 4 gezeigten Reihenfolge. Eine Lichtquelle 40 wird, wie in der Zeichnung gezeigt, angeordnet, durch welche die optische Maske 23 von der Seite der Fernsehkamera 30 bestrahlt wird. Dann werden die optische Maske 23 und das Objekt 20 durch die Fernsehkamera 30 aufgenommen. Wenn nun angenommen wird, daß das Muster 22 des untersuchten Objekts 20 ein voll­ ständiges Produkt ist, ist das Licht, welches in die Fernseh­ kamera 30 eintritt, derartiges Licht, welches von der Licht­ quelle 40 emittiert wird, durch die transparente Grund­ platte 24 der optischen Maske 23 hindurchgeht an Stellen, wo kein undurchsichtiges Material oder Bezugsmuster 25 aufgedampft ist, an der Oberfläche der Grundplatte 21 reflektiert wird bei dem Abschnitt, wo das zu untersuchende Muster 22 nicht vorhanden ist, und wieder durch die oben erwähnte transparente Platte 24 hindurchgeht, sowie auch ein Licht­ strahl von der Lichtquelle 40, welcher an der Oberfläche des Materials reflektiert wird, welches das Bezugsmuster 25 bildet (in Fig. 4 sind das untersuchte Objekt 20 und die optische Maske 23 auf der Lichtachse der Fernsehkamera 30 voneinander entfernt angeordnet, aber bei der praktischen Anwendung sind beide allgemein in Kontakt miteinander). Dementsprechend ist in dem obigen Fall das Licht, welches in die Fernsehkamera 30 eintritt, im wesentlichen auf Licht gleicher Farbe beschränkt, und folglich wird das Ausgangssignal von der Fernsehkamera 30 ein über die gesamte Oberfläche einheitliches Signal. Wenn das Ausgangssignal von der Fersehkamera 30 über die gesamte Oberfläche einheitlich ist, ist daher das untersuchte Objekt 20 ein vollständiges Produkt.
Wenn jedoch ein überschüssiger "Grat" oder "Faden" oder dgl. als Mangel an Abschnitten auftreten, welche das Muster 22 auf der Grundplatte 21 des untersuchten Objekts 20 bilden, wird das Licht von der Lichtquelle 40 außer von der Ober­ fläche der Grundplatte 21 auch an dem defekten Abschnitt reflektiert und tritt dann in die Fernsehkamera 30 ein. Wie oben erwähnt, ist die Farbe des Materials, welches das Muster 22 auf der Grundplatte 21 bildet, unterschiedlich gewählt zu der Farbe des Materials, welches das Bezugsmuster 25 auf der Grundplatte 24 bildet, so daß bei Auftreten eines Mangels wie beispielsweise eines Grates oder Fadens an dem zu unter­ suchenden Muster 22 das Ausgangssignal von der Fernsehkamera 30 nicht einheitlich ist, da verschiedene Farben in die Fern­ sehkamera 30 gelangen und folglich an dem den Mängeln ent­ sprechenden Stellen eine Variation in dem Signalpegel be­ wirkt wird. Das heißt, das untersuchte Objekt 20 ist ein mangelhaftes Produkt, wenn in dem Ausgangssignal der Fernsehkamera 30 eine Pegeländerung eintritt. Dementsprechend kann ein gutes von einem schlechten Objekt unterschieden werden, wenn das Ausgangssignal von der Fersehkamera 30 einem Prüfgerät 50 wie beispielsweise einer Differenzier­ schaltung, einem Pegelkomparator oder dgl. zugeführt wird.
In der Zeichnung bezeichnet das Bezugszeichen 60 ein optisches Filter, welches vor der Fernsehkamera 30 angeordnet wird, so daß der Mangelabschnitt von den umgebenden Abschnitten deut­ licher unterschieden werden kann.
Wenn das Material der Grundplatte 21 des untersuchten Objekts 20 durch­ sichtig ist, kann, falls eine Reflexionsplatte 70 mit der gleichen Farbe wie das Material, welches das Bezugsmuster 25 bil­ det, aber mit einer von der Farbe des Materials, welches das Muster 22 bildet, verschiedenen Farbe unter der Grundplatte 21 des untersuchten Objekts 20 angebracht wird (in der Zeich­ nung sind die Grundplatte 21 und die Reflexionsplatte 70 als voneinander entfernt dargestellt, aber bei der tatsäch­ lichen Anwendung sind sie allgemein in Kontakt), die Ermittlung von Mängeln an dem untersuchten Objekt 20 durch die Fernsehkamera 30 auf die gleiche Weise durchgeführt werden, wie oben erwähnt.
In diesem Fall kann eine ähnliche Untersuchung durchgeführt werden, wenn anstelle der Installation der Reflexionsplatte 70 die Lichtquelle 40 in der Zeichnung unter dem untersuchten Objekt 20 angeordnet wird.
Fig. 5 zeigt eine andere Ausführungsform, bei welcher die gleichen Bezugszeichen wie in Fig. 4 die gleichen Elemente bezeichnen. In dieser Ausführungsform ist die optische Maske 23 für das untersuchte Objekt 20 ebenfalls aus einer transparenten Grundplatte 24 wie beispielsweise Glas oder dgl. sowie dem Bezugsmuster 25 gebildet. In diesem Fall sind die optischen Charakteristiken des Bezugsmusters 25 im Unter­ schied zur Ausführungsform der Fig. 4 völlig unterschiedlich zu denen des zu untersuchenden Musters 22 auf der Grundplatte 21 gewählt. Beispielsweise ist es so eingerichtet, daß bei dem Abschnitt auf der transparenten Grundplatte 24, welcher dem Verdampfungsmaterialmuster 22 (wie beispielsweise undurchsich­ tiges Material) auf der Grundplatte 21 entspricht, kein Ver­ dampfungsmaterial für das Bezugsmuster 25 vorhanden ist (dement­ sprechend ist der entsprechende Abschnitt auf der transparenten Grundplatte 24 durchsichtig, und anders ausgedrückt ist die Beziehung zwischen den beiden die gleiche wie zwischen einem Positiv und einem Negativ). Ferner ist die Farbe des Materials, welche das Muster 22 auf der Grund­ platte 21 bildet, gleich der Farbe des Materials gewählt, welches das Bezugsmuster 25 auf der transparenten Grundplatte 24 bildet, wogegen es erforderlich ist, daß die Oberflächenfarbe der Grundplatte 21, auf welchem das Muster 22 gebildet ist, sich von der ersteren Mustermaterialfarbe unterscheidet.
Die Ermittlung von Mängeln wie Sprüngen oder Öffnungen in dem Objekt 20 durch das in Fig. 5 gezeigte Ausführungsbei­ spiel wird erläutert für den Fall, daß die Grundplatte 21 des untersuchten Objekts 20 nicht transparent oder undurchsich­ tig ist. Zunächst werden, wie oben im Zusammenhang mit Fig. 4 erwähnt, das Muster 22 auf der Grundplatte 21 des untersuch­ ten Objekts 20 und das Bezugsmuster 25 auf der transparenten Grund­ platte 24 der optischen Maske 23 so angeordnet, daß die Muster 22 und 25 in derselben Beziehung sind wie ein Positiv und ein Negativ, beispielsweise auf der optischen Achse der monochromen Fernsehkamera 30 beispielsweise in der in der Zeichnung angedeuteten Reihenfolge. Dann wird auch die Licht­ quelle 40 angeordnet, wie in der Zeichnung gezeigt, durch welche die optische Maske 23 von der Seite der Fernsehkamera 30 bestrahlt wird. Dann werden die optische Maske 23 usw. durch die Fernsehkamera 30 aufgenommen. Wird nun angenommen, daß das Muster 22 des untersuchten Objekts 20 ein vollstän­ diges Produkt ist, sind die Lichtstrahlen, welche in die Fernsehkamera 30 eintreten, nur diejenigen Lichtstrahlen, von denen einer von der Lichtquelle 40 kommend an dem un­ durchsichtigen Material des Bezugsmusters 25 auf der transparenten Grundplatte 24 der optischen Maske 23 reflektiert wird, und von denen der andere durch die Abschnitte der transparenten Grundplatte 24 hindurchgeht an den Stellen, an denen kein Material vorhanden ist, welches das Bezugsmuster 25 bildet, dann an dem Material reflektiert wird, welches das Muster 22 auf dem Grundmaterial 21 des Objekts 20 bildet, und schließlich wieder durch den transparenten Abschnitt der Grundplatte 24 hindurchgeht (Fig. 5 zeigt einen Zwischenraum zwischen dem untersuchten Objekt 20 und der optischen Maske 23 auf der optischen Achse der Fernsehkamera 30, aber bei der praktischen Anwendung sind beide Platten allgemein in Kontakt miteinander angeord­ net). Dementsprechend ist das Licht, das in die Fernseh­ kamera 30 eintritt, allgemein Licht von nur einer Farbe, und das Ausgangssignal von der Fernsehkamera 30 ist ein einheitliches Signal. Anders ausgedrückt ist das untersuchte Objekt 20 ein voll­ ständiges Produkt, wenn das Ausgangssignal von der Fernseh­ kamera 30 über die gesamte untersuchte Oberfläche gleichför­ mig ist.
Wenn jedoch ein Riß, eine Öffnung oder dgl. als Mangel vor­ handen ist in dem Material, welches das Muster 22 auf der Grundplatte 21 des untersuchten Objekts 20 bildet, geht der Lichtstrahl von der Lichtquelle 40 durch einen solchen mangelhaften Abschnitt des Musters 22 hindurch, wird an der Grundplatte 21 reflektiert und tritt dann in die Fernseh­ kamera 30 ein. Die Oberflächenfarbe der Grundplatte 21 des Objekts 20 ist unterschiedlich zu der Farbe des Materials gewählt, welches die Muster 22 und 25 bildet, so daß bei Vorhandensein eines Risses, einer Öffnung oder dgl. in dem untersuchten Muster 22 das Ausgangssignal von der Fernseh­ kamera 30 nicht gleichförmig ist und im Pegel gestört wird an den Stellen, welche dem Mangel entsprechen. Das heißt, daß ein Mangel an dem untersuchten Objekt 20 vorhan­ den ist, wenn eine Pegeländerung oder Variation in dem Ausgangs­ signal von der Fernsehkamera 30 auftritt. Daher kann ähnlich wie bei der Ausführungsform von Fig. 4 die gute oder schlech­ te Qualität des untersuchten Objekts 20 unterschieden werden, wenn das Ausgangssignal von der Fernsehkamera 30 dem Prüf­ gerät 50 zugeführt wird.
In den obigen Ausführungsformen besteht die optische Maske 23 oder das Standardobjekt aus der transparenten Grundplatte 24, und die Grundplatte 24 ist mit dem Bezugsmuster 25 be­ schichtet oder bedampft, aber es kann natürlich eine opti­ sche Maske verwendet werden, welche aus durchsichtigem Mate­ rial und undurchsichtigem Material hergestellt ist, um ein einfaches Bezugsmuster zu bilden.
Ferner können, während die Lichtquelle 40 in den oben erwähn­ ten Ausführungsbeispielen an der Seite der Fernsehkamera 30 angeordnet ist, Vielfachlichtquellen oder ein halbdurch­ lässiger Spiegel oder dgl. verwendet werden, um nach Bedarf die Höhenachse der Lichtquelle 40 und die optische Achse in Übereinstimmung zu bringen.
Es erübrigt sich zu sagen, daß, obwohl nicht in der Zeich­ nung angedeutet, bei Bedarf eine Antriebseinrichtung vor­ gesehen ist, welche das untersuchte Objekt 20 sowie die optische Maske 23 an vorgegebenen Stellen hält und sie fördert.
Oben sind lediglich bevorzugte Ausführungsformen der Erfin­ dung beschrieben worden, und es ist offensichtlich, daß viele Variationen oder Modifikationen von einem Fachmann vorgenom­ men werden können, ohne von dem Rahmen oder Gedanken der Erfindung abzuweichen.
Beispielsweise ist die Oberflächenfarbe der Grundplatte 21 gleich der Farbe des Materials gewählt, welche das Bezugsmuster 25 auf der transparenten Grundplatte 24 bildet, während die Farbe des Materials, welche das Muster 22 bildet, in dem Ausführungsbeispiel von Fig. 4 in der Farbe unterschiedlich ist und die Farben der Materialien, welche die Muster 22 und 25 bilden, in dem Beispiel von Fig. 5 gleich gewählt sind, aber statt das obige auf die gleiche Farbe oder verschiedene Farben zu beschränken, können die optischen Charakteristiken beispielsweise aufgrund von Lichtreflexion oder -absorption gleich oder verschieden sein, um die gleichen Resultate zu erhalten.

Claims (3)

1. Anordnung zur Ermittlung von Mängeln in Mustern mit
  • a) einer Lichtquelle (40), die ein Objekt (20) bestrahlt, welches auf einer Grundplatte (21) ein aus einem licht­ durchlässigen Material bestehendes zu überprüfendes Muster (22) aufweist,
  • b) einer Fernsehkamera (30), welche ein Bild des von der Lichtquelle (40) her bestrahlten Objekts (20) aufnimmt,
  • c) einem Prüfgerät (50), welches ein Ausgangssignal von der Fernsehkamera (30) für die Überprüfung des Objekts (20) erhält,
  • d) einer optischen Maske (23), die aus einer transparen­ ten Grundplatte (24) und einem darauf angeordnetem, aus einem lichtundurchlässigen Material bestehenden Bezugs­ muster (25), das dem zu prüfenden Muster (22) ent­ spricht oder zu diesem komplementär ist, besteht und die als Bezugseinrichtung bei der Ermittlung von Män­ geln des Objekts (20) dient,
  • e) einer Einrichtung, welche die optische Maske (23) zwi­ schen der Fernsehkamera (30) und dem Objekt (20) auf einer optischen Achse der betreffenden Fernsehkamera (30) derart trägt, daß die Muster (22) des betreffen­ den Objekts (20) und der optischen Maske (23) auf der optischen Achse der Fernsehkamera (30) zueinander pas­ send übereinanderliegen,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Farbe des Musters (22) des Objekts (20) verschie­ den ist von der Farbe der Grundplatte (21)
und daß die Farbe des Bezugsmusters (25) der optischen Maske (23) gleich jener der Grundplatte (21) oder des Mu­ sters (22) des Objekts (20) ist,
wobei bei mängelfreiem Objekt (20) die Fernsehkamera (30) ein über die gesamte Fläche von Objekt (20) und Maske (23) einheitliches Signal aus Licht gleicher Farbe aufnimmt.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei lichtdurchlässiger Grundplatte (21) des Objekts (20) diese eine Reflektionsplatte (70) auf der der Fern­ sehkamera (30) abgewandten Seite und in der von der Farbe des Musters (22) des Objekts (20) verschiedenen Farbe auf­ weist.
DE19803003133 1979-02-01 1980-01-29 Vorrichtung zur untersuchung von maengeln an mustern Granted DE3003133A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP54011101A JPS5922371B2 (ja) 1979-02-01 1979-02-01 パタ−ンの欠陥検査装置
JP1110079A JPS55103724A (en) 1979-02-01 1979-02-01 Pattern defectiveness inspecting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3003133A1 DE3003133A1 (de) 1980-08-07
DE3003133C2 true DE3003133C2 (de) 1989-03-23

Family

ID=26346485

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19803003133 Granted DE3003133A1 (de) 1979-02-01 1980-01-29 Vorrichtung zur untersuchung von maengeln an mustern

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4330712A (de)
CA (1) CA1126854A (de)
DE (1) DE3003133A1 (de)
FR (1) FR2448147A1 (de)
GB (1) GB2043884B (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0617777B2 (ja) * 1984-06-02 1994-03-09 大日本スクリーン製造株式会社 プリント配線板の撮像方法
JPS62180250A (ja) * 1986-02-05 1987-08-07 Omron Tateisi Electronics Co 部品実装基板の検査方法
US4908702A (en) * 1988-04-29 1990-03-13 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Real-time image difference detection using a polarization rotation spacial light modulator
JPH02170279A (ja) * 1988-12-23 1990-07-02 Hitachi Ltd 被検査対象パターンの欠陥検出方法及びその装置
GB9008632D0 (en) * 1990-04-17 1990-06-13 Leicester Polytechnic Inspecting garments
DE4102122C2 (de) * 1990-12-08 1994-02-17 Schoeller Felix Jun Papier Verfahren zur visuellen Kontrolle der Formation von einer in einer Richtung bewegten Bahn aus fotografischem Basispapier oder Basiskarton
US5642198A (en) * 1995-04-03 1997-06-24 Long; William R. Method of inspecting moving material
JP2003503905A (ja) * 1999-06-28 2003-01-28 アノト・アクティエボラーク 情報の記録
US10557803B2 (en) * 2018-06-26 2020-02-11 Onto Innovation Inc. Surface height determination of transparent film

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2827822A (en) * 1953-02-02 1958-03-25 Ross L Timms Apparatus for identifying printed documents and the like as genuine
GB873790A (en) * 1957-10-29 1961-07-26 Fernseh Gmbh Improvements in or relating to apparatus for the comparison of objects
US3411007A (en) * 1964-10-27 1968-11-12 Bunker Ramo Radiation sensitive optical system for matching complementary codes
US3560093A (en) * 1968-07-16 1971-02-02 Western Electric Co Superimposed common carrier mask inspection system
US3698821A (en) * 1971-08-19 1972-10-17 Burroughs Corp Method and apparatus for inspecting plated-through printed circuit board holes
US3713741A (en) * 1972-01-03 1973-01-30 Western Electric Co Methods of and apparatus for locating solder faults
US3778166A (en) * 1973-02-26 1973-12-11 Gte Sylvania Inc Bipolar area correlator
JPS5265671A (en) * 1975-11-26 1977-05-31 Nippon Jidoseigyo Ltd Apparatus for testing defects in pattern

Also Published As

Publication number Publication date
CA1126854A (en) 1982-06-29
GB2043884B (en) 1983-04-20
GB2043884A (en) 1980-10-08
US4330712A (en) 1982-05-18
DE3003133A1 (de) 1980-08-07
FR2448147B1 (de) 1983-06-10
FR2448147A1 (fr) 1980-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69912577T2 (de) Vorrichtung und verfahren zur optischen inspektion
DE3608284C2 (de)
DE3422395C2 (de)
DE2617457C3 (de) Vorrichtung zum Prüfen von durchsichtigen, axial symmetrischen Gegenständen auf Fehler
EP0277629B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Feststellen von Fremdkörpern in Fluiden
EP0162120B1 (de) Verfahren und Einrichtung zur Oberflächenprüfung
DE3839682A1 (de) Flaschenboden-pruefgeraet
DE2658239B2 (de) Vorrichtung zur Feststellung von Fehlern in einem Muster bzw. einer Schablone
DE3119688A1 (de) Vorrichtung zur ueberpruefung eines objektes auf unregelmaessigkeiten
DE2830846A1 (de) Vorrichtung zum ermitteln von fehlern in flaechenhaften mustern, insbesondere in photomasken
DE2602001A1 (de) Pruefverfahren zum getrennten erfassen von unterschiedlichen werkstueckoberflaechenfehlern und anordnung zur durchfuehrung des verfahrens
DE19809505A1 (de) Einrichtung zum Prüfen optischer Elemente
DE3813662C2 (de)
DE3003133C2 (de)
DE19605255B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Betrachten von Beschaltungs- bzw. Verdrahtungsmustern in einer gedruckten Schaltungsplatte
DE102007060008A1 (de) Bestimmung und Überwachumg von Laserenergie
DE19740391A1 (de) Beobachtungsvorrichtung für verdeckte Markierungen und Linsenmeßgerät mit Beobachtung verdeckter Markierungen
DE69629139T2 (de) Farbmessvorrichtung für einen Anzeigeschirm
DE2415450A1 (de) Verfahren zur untersuchung von materialfehlern
DE4434474C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur vollständigen optischen Qualitätskontrolle von Gegenständen
DE3942678A1 (de) Belichtungssystem
DE2653590A1 (de) Vorrichtung zum ermitteln von fehlern in flaechenhaften mustern, insbesondere in photomasken
DE2729403A1 (de) Verfahren zur untersuchung der frontscheibe einer kathodenstrahlroehre auf zu beanstandende schlieren
DE4434473A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Qualitätskontrolle von Gegenständen mit polarisiertem Licht
DE3108878A1 (de) Verfahren zur untersuchung des benetzungszustands und/oder des benetzungsverlaufs einer konvexen oberflaeche und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8125 Change of the main classification

Ipc: G01B 11/30

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee