DE3000326A1 - Durch licht vernetzbare schicht auf druckformen und verfahren zur herstellung von offset-druckplatten - Google Patents

Durch licht vernetzbare schicht auf druckformen und verfahren zur herstellung von offset-druckplatten

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DE3000326A1 DE19803000326 DE3000326A DE3000326A1 DE 3000326 A1 DE3000326 A1 DE 3000326A1 DE 19803000326 DE19803000326 DE 19803000326 DE 3000326 A DE3000326 A DE 3000326A DE 3000326 A1 DE3000326 A1 DE 3000326A1
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DE19803000326
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Josef Kreuzlingen Hasek
Sheik Abdul-Cader Dr. Oberwil Zahir
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Novartis AG
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Ciba Geigy AG
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
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  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

  • Durch Licht vernetzbare Schicht auf Druckformen und Verfahren zur
  • Herstellung von Offset-Druckplatten.
  • Es sind bereits durch Licht vernetzbare Schichten und Massen bzw. Mischungen bekannt, bei weichen nach der Belichtung die nicht belichteten und somit unvernetzten Teile mittels wässriger, alkalischer Entwickler-Lösungen entfernt werden. Als besonders einschlägiger Stand der Technik ist hier dieJP -Offenlegungsschrift Sho 49-44801 (27. April 1974) anzuführen, welche eine photoempfindliche Schicht für Druckformen und insbesondere eine entsptechende Herstellung von Offset-Druckplatten betrifft. Die photoempfindliche Schicht besteht im wesentlichen aus einem photopolymerisierbaren Epoxyacrylatharz und einem Copolymer, welches durch wässrig alkalische Lösungen unter Salzbildung löslich ist. Diese Copolymeren enthalten mindestens ein alkalisch-wässrig lösliches Comonomer einpolymerisiert. Als Beispiele für solche Copolymere werden in derJP -OS u.a. Copolymere von Styrol mit Maleinsäureanhydrid und Copolymere von Methylmethacrylat mit Maleinsäureanhydrid angeführt.
  • Weiter enthält die lichtempfindliche Schicht auch noch Photoinitiatoren, thermische Polymerisationsinhibitoren und gegebenenfalls Farbstoffe. Das in der Schicht enthaltene alkalisch-wässrig lösliche Copolymer ist während der Belichtung der Schicht mit dem Epoxyacrylat weiter copolymerisierbar. Das Gewichtsverhältnis dieses Copolymeren zu dem Epoxyacrylatharz beträgt 10 bis 60:40. Es wird ausdrücklich betont, dass die Anwendung geringerer Mengen als .0 Gewichtsteile des wasserlöslichen Copolymers sich nachteilig auf das Herstellungsverfahren der Offset-Druckplatten auswirkt. Die wässrige Entwicklung mit alkalischen Lösungen ist dann schwieriger durchführbar Weiterer Stand der Technik ist auch die DE-OS 2 843 762, welche eine Offsetdruckplatte betrifft. Letztere enthält als eigentliche photopolymerisierbare obere Schicht ein Gemisch aus verschiedenen Harzen, welche teilweise eine entsprechende Lichtempfindlichkeit aufweisen, Photoinitiatoren und ein wasserlösliches Celluloseharz. Ausserdem enthält die Offsetdruckplatte noch eine lichtempfindliche Zwischenschicht auf der Basis von, vorzugsweise wasserlöslichen, Diazoverbindungen. Auffallend ist, dass auch hier, wie bei der vorher besprochenen JA-Offenlegungsschrift, in der photopolymerisierbaren Schicht eine wasserlösliche Verbindung (das Celluloseharz) enthalten ist. Der Zweck ist offensichtlich auch hier die Verbesserung der Entwicklung auf wässriger Basis.
  • Es wurde nun gefunden, dass Schichten auf Druckformen, welche im wesentlichen lediglich aus einem Gemisch aus durch Licht vernetzbaren Epoxyacrylaten und bestimmten Photoinitiatoren bestehen und welche im Gegensatz zu den Systemen der JP-OS Sho 49-44801 und denen der DE-OS 2 843 762 überhaupt keine Copolymeren, welche unter Salzbildung wässrig-alkalisch auslösbar sind, oder wasserlösliche Celluloseharze enthalten, überraschend auch besonders gut für die Herstellung von Offset-Druckplatten, unter Anwendung wässriger Entwicklungsverfahren geeignet sind. Derartige Schichten sind sehr lichtempfindlich und liefern letztlich klare Bilder mit scharfen Konturen.
  • Die Haftung des entsprechenden Films ist besonders gross. Derartige Schichten weisen eine gegenüber den Systemen des Standes der Technik verbesserte Langzeitlagerfähigkeit der fertigen Druckplatte auf. Die mögliche Lagerzeit beträgt ohne Anwendung von irgendwelchen Schutzschichten mehr als 6 Monate. Bei bekannten Systemen beträgt diese Zeit nur 2 Wochen, was zur Folge hat, dass hier Schutzschichten, wie beispielsweise PVA-Filme, angebracht werden müssen.
  • Das Auffinden dieser neuen Schichten auf Druckformen musste insbesondere deshalb ausserordentlich überraschen, da die oben erwähnte Jp-OS lehrt, dass solche Schichten, in denen der angegebene minimale Anteil des alkalisch-wasserlöslichen Copolymeren unterschritten ist, praktisch unbrauchbar für Herstellungsverfahren von Offset-Druckplatten sind, bei denen wässrig-alkalisch entwickelt wird.
  • Gegenstand der Erfindung ist eine lichtvernetzbare, homogene Schicht auf Druckformen, welche nach der Photoanwendung wässrig entwickelbar ist und welche dadurch gekennzeichnet ist, dass sie a) eine monomere oder oligomere, olefinisch ungesättigte, radikalisch zu einem vernetzten Polymeren polymerisierbare Verbindung auf der Basis Acryl- oder Methacrylsäure modifizierte Epoxidharze mit einer Säurezahl von <0,2, vorzugsweise (0,1, Val/kg, und b) mindestens einen bei Bestrahlung anregbaren Initiator und/oder Sensibilisator, und c) gegebenenfalls Hilfsstoffe, wie Polymerisationsinhibitoren, Farbstoffe, -Verlaufmittel und dergleichen enthält, wobei das Gewichtsverhältnis der unter a) genannten ungesättigten Verbindung zu dem unter b) genannten Initiator und/oder Sensibilisator 100 zu 30 bis 100 zu 0,1 beträgt, und dass die Schicht frei von Verbindungen, insbesondere von Polymeren, ist, welche aus nicht belichteten bzw. nicht vernetzten Bereichen der Schicht noch wässrig entfernbar sind.
  • Bevorzugt ist eine solche erfindungsgemässe, lichtvernetzbare Schicht, welche als die unter a) genannte, ungesättigte Verbindung ein Reaktionsprodukt aus einem Epoxidharz und Acrylsäure oder Methacrylsäure enthält.
  • Technisch besonders günstig ist auch eine lichtvernetzbare, erfindungsgemässe Schicht, welche als die unter a) genannte, ungesättigte Verbindung ein Reaktionsprodukt aus einem Epoxidharz und Acrylsäure oder Methacrylsäure, welches durch Reaktion mit einer Verbindung aus der Gruppe Crotonsäure, Sorbinsäure und Monoaddukt aus Male in säure- oder Phthalsäureanhydrid mit Hydroxyalkylacrylat oder -methacrylat modifiziert worden ist, enthält, wobei das Mol-Verhältnis der Acryl- oder Methacrylsäure zu der für die Modifizierung verwendeten Verbindung 500/1 bis 0,05/1 vorzugsweise 4/1, beträgt.
  • Eine weitere Vorzugsform der Erfindung ist eine lichtvernetzbare Schicht, welche dadurch gekennzeichnet ist, dass sie als die unter a) genannte, ungesättigte Verbindung ein Epoxyacrylat oder -methacrylat enthält, welches noch freie Epoxidgruppen aufweist, und dass die Schicht zusätzlich Härter und gegebenenfalls Beschleuniger für Epoxidharze enthält.
  • Geeignete bei Bestrahlung anregbare Initiatoren, wie sie unter b) angeführt werden, sind z.B. folgende Verbindungen: Benzoine, wie Benzoin, Benzoinmethyläther, Benzoinäthyläther, Benzoinisobutyläther, Benzoinisopropyläther, a-Methylbenzoin, a-Aethylbenzoin, a-Phenylbenzoin, a-Allylbenzoin; Anthrachinone, wie Anthrachinon, Chloranthrachinon, Methylanthrachinon, Aethylanthrachinon, Diketone, wie Benzil, Benzilketale, wie Benzildimethylketal, Diacetyl, 2,2-dialkoxysubstituierte Acetophenone, wie 2,2-Diäthoxy-acetophenon; 2, 2-dialkoxy-2-phenyl-substituierte Acetophenone, wie 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenon; Disulfide, wie Diphenyldisulfide, Tetraäthylthiuramdisulfide; 2-Naphthalin-sulfonylchlorid. Grundsätzlich kann erfindungsgemäss auch ein Gemisch mehrerer Initiatoren und/oder mehrerer Sensibilisatoren eingesetzt werden.
  • Bevorzugt enthält die erfindungsgemässe Schicht als den unter b) genannten Initiator und/oder Sensibilisator Benzildimethylketal in Kombination mit Michler's Keton im Molverhältnis 100 bis l, vorzugs-1 1 weise 5 bis 2.
  • 1 1 Zu den gegebenenfalls zusetzbaren Hilfsstoffen ist folgendes näher auszuführen. Geeignete Polymerisationsinhibitoren sind beispielsweise 4-Methoxyphenol, 2,6-Di-tert. -butyl-p-kresol, Hydrochinone, 2,5-Di-tert.-butyl-hydrochinon und substituiertes oder unsubstituiertes Phenothiazin. Beispiele für in der erfindungsgemässen Schicht verwendbare Farbstoffe sind Bengalrosa, Brillantgrün, Kristallviolett, und Rhodamin. Als geeignete Verlaufsmittel sind insbesondere nichtionogene Benetzungsmittel anzuführen. Bekannte Handelsnamen für Verlaufsmittel sind AntaroxQ Gafenund SolvophenQ Als Hilfsstoffe besonderer Art sind lichtempfindliche, d.h.
  • photohärtbare Diazoverbindungen herauszustellen. Es handelt sich im wesentlichen um folgende Verbindungen: o- oder p-Chinondiazidester oder -amide von Sulfon- oder Carbonsäuren, o-Diazoanisidin, Diazostilben, das tetraazotierte Di-o-anisidin-Zink-Doppelsalz und Kondensationsprodukte aus einem p-Diazidodiphenylamin und einer aktiven Carbonylverbindung. Zu diesen Produkten zählen Säure-Kondensationsprodukte eines Diazoniumsalzes von 4-Amino-l,l'-diphenylamin, z.B. l,l'-Diphenylamin-4-diazoniumhalogenid oder 1,1 1-Diphenylamin-4-diazoniumphosphat, kondensiert in Gegenwart einer Säure mit Aldehyden, z.B.
  • Paraformaldehyd oder Formaldehyd, die in ein Doppelsalz überführt werden, beispielsweise ein Chlorzinkat oder Fluorborat. Bei diesen erfindungsgemäss verwendbaren Harzen handelt es sich um übliche bekannte Harze, deren Herstellung bekannt ist, beispielsweise aus dem Buch von Kosar, Light-Sensitive Systems, (New York 1965), Seiten 323 bis 324 und aus der US-PS 3 235 384.
  • Der Effekt der Einwirkung von Licht auf lichtempfindliche Diazoharze ist bekannt. Dabei werden negativ arbeitende Bilder erhalten, d.h. bei einer bildweisen Exponierung einer derartigen Harzschicht erfolgt eine Quervernetzung unter Erzeugung eines in Wasser unlöslichen Polymeren. Die nicht exponierten Bezirke des Originals bleiben vorzugsweise in Wasser löslich und sind abwaschbar, wenn sie mit einem geeigneten Lösungsmittel behandelt werden.
  • Diese Diazoverbindungen sind teilweise zwar auch wasserlösliche Substanzen. Die zugesetzten Mengen beschränken sich jedoch auf maximal 3 Gew.-%, bezogen auf die gesamte lichtvernetzbare Schicht.
  • Bei der Herstellung der erfindungsgemässen Schicht erfolgt der Zusatz der Diazoverbindungen in Forni einer Wasser enthaltenden Lösung zu der Ausgangslösung für den Beschichtungsvorgang.
  • Die zugesetzten Diazoverbindungen führen zu folgenden Verbesserungen. Sie bewirken eine vollständigere Vernetzung der Schicht durch die W-Belichtung gegenüber lichtempfindlichen Schichten, bei denen dieser Hilfsstoff fehlt. Dies hat wiederum zur Folge, dass die Oberfläche nicht "aktiv" ist und dass die Farbaufnahme sehr gut ist.
  • Da bei der Belichtung der Diazokörper ein Farbwechsel auftritt, erübrigt sich in der Schicht ein zusätzlicher Farbstoff.
  • Eine erfindungsgemässe, lichtvernetzbare Schicht, welche eine oder mehrere der beschriebenen Diazoverbindungen als Hilfsstoff in einer Konzentration bis zu 3 Gew.-% enthält, stellt eine weitere Vorzugsform der Erfindung dar.
  • Die Druckformen, auf denen sich die erfindungsgemässen, lichtempfindlichen Schichten befindensind insbesondere Zylinder oder Platten bzw. Bahnen aus Aluminium, Zink, Kupfer, Chrom oder Magnesium.
  • Bevorzugt sind es Metallplatten, welche für den Offset-Druck geeignet sind. Grundsätzlich können es auch mehrschichtige Platten aus verschiedenen Metallen sein. Die Metalle sind vorzugsweise chemisch, elektrisch oder mechanisch vorbehandelt. So sind dieselben meistens oberflächlich chemisch oder anodisch oxidiert und vielfach mechanisch aufgerauht, um die Haftung der erfindungsgemässen Schicht zu optimieren. Geeignet für die Druckformen sind auch autotypischer Tiefdruck, Siebdruck sowie KLischee am Zink oder Magnesium und Hochdruckreliefplatten.
  • Die Träger der lichtempfindlichen Schicht können aber auch Papierbahnen sein, welche vorzugsweise mit Copolymeren aus Vinyläthern und Maleinsäureanhydrid (z.B. mit Gantrez % oder mit Polyvinylalkohol imprägniert sind. Grundsätzlich sind auch Polyester- oder Polyamidfolien als Träger anwendbar.
  • Die erfindungsgemässen, lichtempfindlichen Schichten sind empfindlich gegen UV-Licht, insbesondere von Wellenlängen zwischen 280 und 500 nm. Die optimale Empfindlichkeit liegt bei etwa 350 nm.
  • Weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Offset-Druckplatten, welches dadurch gekennzeichnet ist, dass man 1. eine vorzugsweise auf der Oberfläche vorbehandelte Metallplatte mit einer 1- bis 30-gewichtsprozentigen Lösung einer lichtvernetzbaren Mischung, welche die Zusammensetzung der erfindungsgemässen lichtvernetzbaren Schicht aufweist, in einem organischen Lösungsmittel, vorzugsweise Glykolmonoäthyläther, in einer solchen Menge beschichtet, dass letztlich nach Entfernung des Lösungsmittels eine Schichtstärke von 1 bis 3 e resultiert.
  • 2. den so erhaltenen Film bei Temperaturen zwischen 40 und 1000C trocknet, und 3. nach Aufbringung eines Negativfilms auf die Platte mittels einer W-Lampe belichtet, und 4. abschliessend nach Entfernung des Negativfilms aus der teilweise belichteten Platte die Schicht mittels eines wässrigen Entwicklers mit einem pH-Wert bis 14, vorzugsweise 1 bis 13,5, entwickelt und die Oberfläche trocknet.
  • Bei dem erfindungsgemässen Verfahren kann die Beschichtung der Metallplatte mit der Lösung der jeweiligen lichtvernetzbaren Masse nach verschiedenen Verfahren erfolgen. Als Beispiele für solche Beschichtungsverfahren sind das Coaten mittels Walzen (Rollcoating), das Vorhanggiessen, das elektrostatische Auftragen und die Beschichtung mittels einer Zentrifuge anzuführen.
  • Geeignete wässtig-alkalische Entwickler sind Lösungen von Na-, Li-, K- und Ca-Verbindungen, so z.B. von NaOH, Na-Silikaten, wie Na SiO3 5H20, Na-Azetaten, Na3 P04 12H20, aber auch von Aminen, wie Aethanolamin. Der pH-Wert liegt vorzugsweise bei 8 bis 13.
  • Erfindungsgemäss können überraschend auch saure, wässrige Entwickler eingesetzt werden. So beispielsweise-wässrige Lösungen von Phosphorsäuren, Salzsäure, Schwefelsäure, Salpetersäure, Ammoniumphosphat, Ammoniumnitrat, Aluminiumnitrat usw. Bevorzugt wird hier eine 0,5 bis 5%ige H3PO4-Lösung.
  • Selbstverständlich sind sowohl bei den alkalischen als auch bei den sauren Entwicklern auch Lösungen von entsprechenden Mischungen der aufgezählten alkalischen bzw. sauren Verbindungen verwendbar.
  • Enthält die erfindungsgemässe, lichtvernetzbare Schicht als Hilfsstoff eines der beschriebenen Kondensationsprodukte auf der Basis p-Diazidodiphenylamin und einer aktiven Carbonylverbindung, so kann nach. der Belichtung nur mittels wässriger Säure (z.B. l%ige H3P04) entwickelt werden. Bei den übrigen 3 Typen von Diazoverbindungen kann sowohl wässrig-alkalisch als auch wässrig-sauer entwickelt werden.
  • Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen weiter näher erläutert.
  • Beispiele I. Herstellung von durch Licht vernetzbaren Epoxyacrylaten oder -methacrylaten Harze A: 2 kg eines flüssigen Bisphenol-A-diglycidyläther-Harzes (Epoxygehalt: 5,27 Val/kg) werden in einen 4-Halsglaskolben mit Rührer, Thermometer, Rückflusskühler und Tropftrichter gegeben.
  • Mittels Oelbades wird das Harz unter Rührung auf 804C erhitzt. Es werden 1,69 g Phenothiazin und 4,57 g Benzyl-trimethyl-ammoniumchlorid zugegeben. Die Erwärmung wird fortgesetzt bis eine Temperatur von llO"C erreicht ist. Innerhalb von 1 1/2 Stunden werden aus dem Tropftrichter bei 1100C 722 g Acrylsäure langsam zugegeben. Das Rühren bei 1100C wird solange fortgesetzt, bis eine Säurezahl von 0,11 Val/kg erreicht wird. Danach wird unter Rührung auf 1000C abgekühlt. 680 g Glykol-monoethyläther werden zugegeben. Es entsteht so eine 80%ige Harzlösung, welche einen Epoxidgehalt von 0,2 Va1/kg und eine Säurezahl von 0,07 Val/kg aufweist.
  • Harz B: Es wird das gleiche Harz A nach obigem Rezept hergestellt.
  • Nach Zugabe des Lösungsmittels Glykol-monoethyläther am Ende der Reaktion werden 21 g (0,14 Val/kg) Triethanolamin zwecks Neutralisation von restlichen Acrylsäuregruppen zugegeben. Die so entstandene Lösung des Harzes B weist eine Säurezahl von 0,07 Va1/kg auf.
  • Harz C: Es wird wie bei dem Verfahren zur Herstellung des Harzes A verfahren, nur mit folgenden Unterschieden. Es werden 570 g Acrylsäure 1,6 g Phenothiazin und 3,6 g Benzylt-imethyl-ammoniumchlorid zugegeben. 4 1/2 Stunden nach Zugabe der Acrylsäure ergibt sich eine Säure zahl von 0,1 Val/kg. Nach Kühlung au 900C werden 642 g Glykol-monoethyläther zugegeben. Die so entstandene 80%-ige Harzlösung weist einen Epoxidgehalt von 0,69 Val/kg und eine Säurezahl von 0,001 Val/kg auf.
  • Harz D: 500 g eines flüssigen Bisphenol-F-Epoxidharzes (Epoxidgehalt 6,06 Val/kg) werden gemäss dem Verfahren zur Herstellung des Harzes A mit 213 g Acrylsäure umgesetzt. Der Gehalt an dem zugesetzten Phenothiazin beträgt 0,715 g, der an Benzyl-trimethyl-ammoniumchloyid 1,345. Die Zugabe der Acrylsäure bei 1100C dauert 1 1/2 Stunden. Dadurch wird 30 Min. bei 1100C weitergerührt. Dann wird auf 1150C erhöht und 4 1/2 Stunden weitergerührt. Es ergibt sich eine Säurezahl von 0,16 Val/kg. Nach Kühlung weist das hochviskose Harz einen Epoxidwert von 0,14 Val/kg und nunmehr eine Säurezahl von 0,10 Val/kg auf.
  • Harz E: Es wird nach dem Verfahren zur Herstellung des Harzes A verfahren, nur mit folgenden Unterschieden. 2,5 kg eines flüssigen Epoxidharzes (Epoxidgehalt 7,3 Val/kg), hergestellt durch Umsetzung von Neopentylglykol mit Epichlorhydrin, werden mit 722 g Acrylsäureumgesetzt. Die Menge an Phenothiazin beträgt 3,78 g, die an Benzyltrimethyl-ammoniumchlorid 8, 12 g. Die Reaktion ist bei Erreichung einer Säurezahl von 0,16 Va1/kg beendet. Nach Kühlung des Produktes ergibt sich ein Epoxidgehalt von 0,24 Val/kg und eine Säurezahl von 0,03 Val/kg. Das Produkt ist niedrig-viskos; Viskosität: 1250 cP bei 250C.
  • Harz F: 136,6 g eines Epoxidharzes, hergestellt durch p-Hydroxybenzoesäure mit Epichlorhydrin (Ueberschuss) mit einem Epoxidwert von 7,32 Val/kg werden nach dem Verfahren zur Herstellung von Harz A mit 72 g Acrylsäure umgesetzt. Die zugegebene Menge an Phenothiazin beträgt 0,104 g, die an Benzyl-trimethyl-ammoniumchlorid 0,45 g. Die Reaktion erfolgt bei 100°C solange, bis eine Säurezahl von 0,15 Val/kg erreicht wird. Nach Kühlung auf Raumtemperatur ergibt sich ein Epoxidgehalt von 0,08 Val/kg und eine Säurezahl von 0,06 Val/kg. Die Viskosität bei 400C beträgt 13000 cP.
  • Harz G: 500 g des zur Herstellung des Harzes E verwendeten Epoxidharzes auf Neopentylglykol-Basis werden mit 200 g Bisphenol-A versetzt.
  • Das Reaktionsgemisch wird auf 800C erhitzt und es werden 0,05 g 2-Phenyl-imidazol zugegeben. Die Temperatur der so erhaltenen klaren Lösung wird langsam auf 1300C erhöht und sie wird 45 Min. auf dieser Temperatur gehalten. Durch die Reaktion ergibt sich ein Epoxidwert von 2,75 Val/kg. Nach Kühlung auf 1100C werden 0,83 g Phenothiazin und 0,82 g Benzyl-trimethylammoniumchlorid zugegeben. Bei 1100C werden innerhalb von 1 Stunde 130 g Acrylsäure zugegeben. Danach wird die Temperatur auf 1150C erhöht und die Umsetzung bei 1150C 4 1/2 Stunden weitergeführt. Es ergibt sich so eine Säurezahl von 0,18 Val/kg. Nach Zugabe von 205 g Glykol-monoethyläther und Kühlung auf Raumtemperatur ergibt sich eine 80%-ige Lösung des Harzes G. Der Epoxidwert dieser Lösung beträgt 0,10 Val/kg, die Säurezahl 0,10 VaI/kg.
  • Harz H: 560 g eines flüssigen Bisphenol-A-Epoxidharzes (Epoxidgehalt 5,13 Val/kg) und 25 g eines festen Bisphenol-A-Epoxidharze (Epoxidgehalt 1,86 Val/kg) werden in dem 4-Halskolben auf 1100C erwärmt und gerührt, bis eine homogene Lösung erhalten wird. 0,35 g Phenothiazin und 1,13 g Benzyl-triethyl-ammoniumchlorid werden zugegeben. Bei 1100C werden danach innerhalb von 1 1/2 Stunden 179 g Acrylsäure zugegeben.
  • Danach läuft die Reaktion noch weitere 2 Stunden bei 110°C, und dann noch weitere 3 Stunden bei 1150C. Es ergibt sich so eine Säurezahl von 0,06 Val/kg. Nach Zugabe von 176 g Glykol-monoethyläther liegt eine 80%-ige Lösung des Harzes H vor. Diese Lösung weist einen Epoxidgehalt von 0,14 Val/kg und eine Säurezahl von 0,04 Val/kg auf.
  • Harz J: 500 g eines flüssigen Bisphenol-A-Epoxidharzes (Epoxidgehalt 5,13 Va1/kg) und 100 g eines festen Bisphenol-A-Epoxidharzes (Epoxidgehalt 1,86 Val/kg) werden gemischt und gemäss dem Verfahren zur Herstellung des Harzes H mit 188,5 g Acrylsäure zur Reaktion gebracht.
  • Nach Erreichen einer Säurezahl von 0,11 Val/kg wird mit 197 g Glykolmonoethyläther verdünnt. Die so erhaltene 80%-ige Harzlösung weist nach Kühlung auf Raumtemperatur einen Epoxidwert von 0,15 Val/kg und eine Säurezahl von 0,06 Val/kg auf.
  • II. Wässrige Entwickler für das erfindungsgemässe Verfahren.
  • Entwickler a: 1%-ige H3P04 Entwickler b: Bei der Herstellung geht man von einer Grundlösung aus, welche wie folgt hergestellt wird. 140 g NaOH, 140 g Na2SiO35H2O, 32 g Na3P04-12H20 und 32 g Na-Polyphosphat werden in Wasser bis zu einem Gesamtvolumen von 10 1 gelöst. Der pH-Wert der so entstandenen Lösung liegt bei 12. Diese Grundlösung wird im Verhältnis 1:3 mit Wasser verdünnt. Die so verdünnte Lösung wird als Entwickler b bezeichnet.
  • III. Erfindungsgemässe lichtvernetzbare Schichten auf Druckformen und Herstellung von Offset-Druckplatten.
  • Beispiele 1 bis 19: Die Beispiele sind in der nachfolgenden Tabelle veranschaulicht. Bei den Versuchen wird jeweils wie folgt verfahren.
  • Nach Herstellung der gewünschten Lösung des durch Licht vernetzbaren Epoxyacrylates werden verschiedene Mengen von Photoinitiatoren zugegeben. Oberflächlich oxidierte, aber sonst nicht vorbehandelte Aluminiumplatten werden in einer waagrecht laufenden Zentrifuge, welche eine Temperatur von 450C aufweist, in waagrechter Anordnung befestigt.
  • Unter Rotation wird die jeweilige Harzlösung zentral auf die Platte gegeben. Es wird mit 70 Umdrehungen pro Minute bei 450C zentrifugiert bis eine trockene, nicht klebrige Oberfläche vorliegt. Die so beschichtete Al-Platte wird mit einem Negativfilm und am Rande mit einem UGRA-Offset-Testkeil (Erklärung unten) bedeckt und in einem Vakuum-Rahmen untergebracht. Zum Zwecke optimalen Kontaktes zwischen Al-Platte und Negativfilm wird Vakuumangelegt. Im Abstand von 120 cm wird mit einer 5000 W Metallhalogenid-Lampe 25 bis 60 Sek. lang belichtet. Danach wird die jeweilige teilweise belichtete Platte mittels der wässrigen Entwickler a oder b entwickelt. Es wird die erforderliche Mindest-Entwicklungszeit in Sek. gemessen. Nach Fertigstellung der jeweiligen Offset-Druckplatte wird dieselbe einem Test der UGRA, (Verein zur Förderung wissenschaftlicher Untersuchungen im graphischen Gewerbe EMPA-C, Postfach 977, CH-9001 St.Gallen) unter Anwendung des "UGRA-Offset-Testkeils" unterworfen. Die Methode ist in einer Technischen Beschreibung dieses Vereins genauer erläutert. Im vorliegenden Falle kommt der Halbton-Keil zur Anwendung. Die verhältnismässig hohen Werte der jeweiligen Stufe (siehe die Tabelle) deuten auf eine hohe Empfindlichkeit hin.
  • Tabelle
    Bei- Ausgangslösung des Photoinitiateren Bestrahlung mit Entwickler und Halbton bei An- Beurteilung der
    spiel durch Licht vernetz- UV-Licht (5000 Mindest-Ent- wendung des UGRA- Offset-Druck-
    baren Epoxyacrylates W-Metallhalo- wicklungszeit Testkeils platte
    genid-lampe
    Sek.
    Harz- Lösungs- Konzen- Benzidi- Michler's a b Stufe
    Type mittel tration methylke- Keton Gew.-% Sek. Sek.
    Gew.-% tal Gew.-% bezogen auf
    bezogen Epoxyacrylat
    auf Epoxy-
    acrylat
    1 A Glykol- 4 10 2 30 10 8 Gutes optisches
    mono- Auflösungsvermö-
    ethyl- gen, ausgezeich-
    äther netes Farbauf-
    nahmevermögen
    60 10 10 "
    2 A " 4 10 2 30 15 8 "
    60 15 10 "
    3 B " 4 10 2 30 10 8 "
    60 10 9 "
    4 B " 4 10 2 30 10 8 "
    60 10 9 "
    5 C " 4 10 2 30 15 6 "
    60 15 8 "
    Tabelle (Forts.)
    Bei- Ausgangslösung des Photoinitiateren Bestrahlung mit Entwickler und Halbton bei An- Beurteilung der
    spiel durch Licht vernetz- UV-Licht (5000 Mindest-Ent- wendung des UGRA- Offset-Druck-
    baren Epoxyacrylates W-Metallhalo- wicklungszeit Testkeils platte
    genid-lampe
    Sek.
    Harz- Lösungs- Konzen- Benzidi- Michler's a b Stufe
    Type mittel tration methylke- Keton Gew.-% Sek. Sek.
    Gew.-% tal Gew.-% bezogen auf
    bezogen Epoxyacrylat
    auf Epoxy-
    acrylat
    6 Glykol- 4 10 2 30 15 6 Gutes optisches
    mono- Auflösungsvermö-
    ethyl- gen, ausgezeich-
    äther netes Farbauf-
    nahmevermögen
    60 15 8 "
    7 E " 5 10 5 30 4 4/5 "
    8 E " 5 10 5 60 10 6 "
    9 F " 5 10 5 45 10 7 "
    10 90 " 5 10 5 60 10 6 "
    Gew.-
    % F
    10
    Gew.-
    % E
    Tabelle (Forts.)
    Bei- Ausgangslösung des Photoinitiateren Bestrahlung mit Entwickler und Halbton bei An- Beurteilung der
    spiel durch Licht vernetz- UV-Licht (5000 Mindest-Ent- wendung des UGRA- Offset-Druck-
    baren Epoxyacrylates W-Metallhalo- wicklungszeit Testkeils platte
    genid-lampe
    Sek.
    Harz- Lösungs- Konzen- Benzidi- Michler's a b Stufe
    Type mittel tration methylke- Keton Gew.-% Sek. Sek.
    Gew.-% tal Gew.-% bezogen auf
    bezogen Epoxyacrylat
    auf Epoxy-
    acrylat
    11 90 Glykol- 5 10 5 25 10 8 Gutes optisches
    Gew.- mono- Auflösungsvermö-
    % A ethyl- gen, ausgezeich-
    10 äther netes Farbauf-
    Gew.- nahmevermögen
    % E
    12 90 " 5 10 5 30 10 8 "
    Gew.-
    % D
    10
    Gew.-
    % E
    13 H " 5 10 5 30 12 4/5 "
    14 H " 5 10 5 30 8 4/5 "
    15 H " 5 10 5 60 12 6 "
    Tabelle (Forts.)
    Bei- Ausgangslösung des Photoinitiateren Bestrahlung mit Entwickler und Halbton bei An- Beurteilung der
    spiel durch Licht vernetz- UV-Licht (5000 Mindest-Ent- wendung des UGRA- Offset-Druck-
    baren Epoxyacrylates W-Metallhalo- wicklungszeit Testkeils platte
    genid-lampe
    Sek.
    Harz- Lösungs- Konzen- Benzidi- Michler's a b Stufe
    Type mittel tration methylke- Keton Gew.-% Sek. Sek.
    Gew.-% tal Gew.-% bezogen auf
    bezogen Epoxyacrylat
    auf Epoxy-
    acrylat
    16 I Glykol- 5 10 5 60 8 4 Gutes optisches
    mono- Auflösungsvermö-
    ethyl- gen, ausgezeich-
    äther netes Farbauf-
    nahmevermögen
    17 I " 5 10 5 60 5 4 "
    18 G " 8 16 8 60 10 6 "
    19 90 " % 10 5 60 10 6 "
    Gew.-
    % G
    10
    Gew.-
    % E

Claims (9)

  1. Patentansprüche 1. Eine lichtvernetzbare, homogene Schicht auf Druckformen, welche nach der Photoanwendung wässrig entwickelbar ist, dadurch gekennzeichnet, dass sie a) eine monomere oder oligomere, olefinisch ungesättigte, radikalisch zu einem vernetzten Polymeren polymerisierbare Verbindung auf der Basis von Acryl- oder Methacrylsäure modifizierte Epoxidharze mit einer Säurezahl von (0,2, vorzugsweise (0,1 Val/kg, und b) mindestens einen bei Bestrahlung anregbaren Initiator und/oder Sensibilisator, und c) gegebenenfalls Hilfsstoffe, wie Polymerisationsinhibitoren, Farbstoffe, Verlaufmittel und dergleichen enthält, wobei das Gewichtsverhältnis der unter a) genannten ungesättigten Verbindung zu dem unter b) genannten Initiator und/oder Sensibilisator 100 zu 30 bis 100 zu 0,1 beträgt, und dass die Schicht frei von Verbindungen, insbesondere von Polymeren, ist, welche aus nicht belichteten bzw. nicht vernetzten Bereichen der Schicht noch wässrig entfernbar sind.
  2. 2. Eine lichtvernetzbare Schicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie als die unter a) genannte, ungesättigte Verbindung ein Reaktionsprodukt aus einem Epoxidharz und Acrylsäure oder Methacrylsäure enthält.
  3. 3. Eine lichtvernetzbare Schicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie als die unter a) genannte, ungesättigte Verbindung ein Reaktionsprodukt aus einem Epoxidharz und Acrylsäure oder Methacrylsäure, welches durch Reaktion mit einer Verbindung aus der Gruppe Crotonsäure, Sorbinsäure und Monoaddukt aus Maleinsäure- oder Phthalsäureanhydrid mit Hydroxyalkylacrylat oder -methacrylat modifiziert worden ist, enthält, wobei das Mol-Verhältnis der Acryl- oder Methacrylsäure 500 0,05 zu der für die Modifizierung verwendeten Verbindung 1 bis 1 4 vorzugsweise 1, beträgt.
  4. 4. Eine lichtvernetzbare Schicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie als die unter a) genannte, ungesättigte Verbindung ein Epoxyacrylat oder -methacrylat enthält, welches noch freie Epoxidgruppen aufweist, und dass die Schicht zusätzlich Härter und gegebenenfalls Beschleuniger für Epoxidharze anthält.
  5. 5. Eine lichtvernetzbare Schicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie als den unter b) genannten Initiator und/oder Sensibilisator Benzildimethylketal in Kombination mit Michler's Keton im 100 bis 1 5 2 Molverhältnis 1 bis bis vorzugsweise 1 bis 21, enthält.
  6. 6. Eine lichtvernetzbare Schicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie als eine der unter c) genannten Hilfsstoffe eine photohärtbare Diazoverbindung aus der Gruppe o- oder p-Chinondiazidester, oder -amide von Sulfon- oder Carbonsäuren, o-Diazoanisidin, Diazostilben, tetraazotiertes Di-o-anisidin-Zink-Doppelsalz und Kondensationsprodukte aus einem p-Diazidodiphenylamin und einer aktiven Carbonylverbindung, in einer Menge bis zu 3 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgemisch, aus dem die Schicht besteht, enthält.
  7. 7. Verfahren zur Herstellung von Offset-Druckplatten, dadurch gekennzeichnet, dass man 1.) eine vorzugsweise auf der Oberfläche vorbehandelte Metallplatte mit einer 1- bis 30-gewichtsprozentigen Lösung einer lichtvernetzbaren Mischung, welche die Zusammensetzung der lichtvernetzbaren Schicht nach Anspruch 1 aufweist, in einem organischen Lösungsmittel, vorzugsweise Glykolmonoäthyläther, in einer solchen Menge beschichtet, dass letztlich nach Entfernung des Lösungsmittels eine Schichtstärke von 1 bis 3 gm resultiert, 2.) den so erhaltenen Film bei Temperaturen zwischen 40 und 1000C trocknet, und 3.) nach Aufbringung eines Negativfilms auf die Platte mittels einer UV-Lampe belichtet, und 4.) abschliessend nach Entfernung des Negativfilms aus der teilweise belichteten Platte die Schicht mittels eines wässrigen Entwicklers mit einem pH-Wert bis 14, vorzugsweise 1 bis 13,5 entwickelt und die Oberfläche trocknet.
  8. 8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass man als wässrigen Entwickler eine Lösung einer oder mehrerer alkalischer Verbindungen mit einem pH-Wert zwischen 8 und 13 einsetzt.
  9. 9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass man als wässrigen Entwickler eine H3P04-Lösung, vorzugsweise 0,5 bis 5%ig, einsetzt.
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