DE29706556U1 - Handlingsvorrichtung zum Be- und Entladen einer evakuierbaren Behandlungskammer - Google Patents

Handlingsvorrichtung zum Be- und Entladen einer evakuierbaren Behandlungskammer

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Description

LEYBOLD SYSTEMS GmbH Wilhelm-Rohn-Straße 25
63450 Hanau
Handlingsvorrichtung zum Be- und Entladen einer evakuierbaren Behandlungskammer
Die Erfindung bezieht sich auf eine Be- und Entladevorrichtung für eine evakuierbare Kammer nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Derartige Be- und Entladevorrichtungen dienen dazu, zu bearbeitende Werkstücke, z.B. zu beschichtende Formteile einer Vakuumbeschichtungsanlage zuzuführen bzw. die beschichteten Formteile der Beschichtungsanlage zu entnehmen. Hierzu weisen derartige Beschichtungsanlagen eine Ein-/Ausschleusstation auf, in bzw. aus welcher die Werkstücke transportierbar sind. Der Ein- bzw. Ausschleusvorgang selbst erfordert, daß die Schleusenstation zu belüften bzw. zur Bearbeitung der Werkstücke in der Vakuumkammer zu evakuieren ist.
Bei den bekannten gattungsgemäßen Be-/Entladevorrichtungen (Handlingsvorrichtungen) ist vorgesehen, daß zum Entladen der bereits belüfteten Schleusenstation zunächst die Schleusentür durch seitliches Auffahren geöffnet wird, danach fährt ein Handlingsarm in die Schleusenstation und greift einen die Formteile aufnehmenden Substratträger. Dieser erste Handlingsarm fährt nun aus der Schleusenstation soweit heraus, daß ein zweiter Handlingsarm mit einem unbeschichtete Formteile tragenden Substratträger in die Schleusenstation verfahrbar ist. Der zweite Handlingsarm übergibt danach den Substratträger auf eine Haltevorrichtung in der Schleusenstation. Nach dieser Übergabe wird der zweite Handlingsarm aus der Schleusenstation herausgefahren und diese mit der seitlich verfahrenden Schleusentür geschlossen. Anschließend werden die in die Vakuumkammer eingebrachten Werkstücke innerhalb der Vakuumkammer an eine Bearbeitungsstation übergeben.
Ein Nachteil dieser bekannten Be-/Entladevorrichtung ist, daß die Zeitdauer zum Beschicken bzw. zum Entladen der Schleusenstation im Verhältnis zur gesamten für den Beschichtungsprozeß erforderlichen Bearbeitungszeit groß ist. Insbesondere bei sogenannten Kur&zgr;takt-Beschxchtungsanlagen ist es wünschenswert, die Zykluszeit, d. h. die insgesamt zwischen zwei Beschickungsvorgängen verstreichende Zeit, möglichst gering zu halten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Be-/Entladevorrichtung bereitzustellen, mittels wel-
eher die Zykluszeit des in einer Vakuumanlage durchzuführenden Beschichtungsprozesses unter Verwendung einfacher Mittel minimal gehalten werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Mittel gelöst.
Nach Anspruch 1 besteht eine erfindungsgemäße Be-/Entladevorrichtung im wesentlichen aus mindestens einem um eine raumfeste Achse drehbar gelagerten Schubteil, welches in einer beliebig vorgewählten Rotationsposition radial in Bezug zur Drehachse zwischen einer Offen-Position und einer Geschlossen-Position verschiebbar ist. An dem Schubteil ist der die Be-/Entladeöffnung der Ein-/Ausschleusstation verschließende Deckel angeordnet . Zur Aufnahme und zum Transport der in die Ein-/Ausschleusstation zu transportierenden Werkstücke weist der Deckel eine die zu bearbeitenden, vorzugsweise zu beschichtenden Werkstücke aufnehmende Haltevorrichtung auf. Durch die Ausbildung des Schubteils sowohl als Deckelteil und als die Werkstücke transportierende Haltevorrichtung, besitzt das Schubteil eine Doppe!funktion, die die für die Be- bzw. Entladung der Vakuumkammer erforderliche Zeitdauer vorteilhaft verkürzt und die damit den automatischen Be-/Entladevorgang bei einer Kurztakt-Beschichtungsanlage vorteilhaft erst ermöglicht.
Ein weiterer Vorteil ergibt sich erfindungsgemäß mit den in Anspruch 2 angegebenen Merkmalen. Danach sind mindestens zwei Schubteile vorgesehen, welche vorzugsweise diametral in Bezug zur Drehachse einander gegenüberliegend angeordnet sind. Dies hat den Vorteil, daß die Beladung der Schleusenstation durch das erste Schubteil parallel zur Beladung der Haltevorrichtung des zweiten Schubteils mit in der Vakuumkammer zu behandelnden Werkstücken erfolgen kann. Zum Entladen bzw. neuen Beladen der Schleusenstation wird dann das zweite Schubteil, vorzugsweise fest gekoppelt zum ersten Schubteil synchron mit diesem um die Achse vor die geöffnete Schleusenstation gedreht und die unbeschichteten Werkstücke in die Schleusenstation eingebracht, wobei die Vakuumkammer gleichzeitig evakuierbar verschlossen wird. Durch die Verwendung mehrerer, vorzugsweise synchron betätigter Schubteile erfolgen mehrere Bewegungsabläufe zeitlich parallel zueinander, wodurch eine weitere Senkung der Zykluszeit des Beschichtungsprozesses erreicht wird. Ein weiterer Vorteil hierbei ist, daß die manuelle Beladung der Beschichtungsanlage ohne Zykluszeitvergrößerung möglich ist, da die Werkstückträger nicht mehr in der Schleusenstation, sondern außerhalb an der Be-/Entladevorrichtung gewechselt werden.
Ein weiterer Vorteil ergibt dadurch, daß der am Schubteil ausgebildete Deckel einen Verdrängungskörper {siehe Anspruch 3) aufweist, welcher gemeinsam mit den zu beschichtenden Werkstücken in die Ein-/Ausschleusstation einbringbar ist, wo-
durch das insgesamt zu evakuierende Volumen der Vakuumkammer verringert wird. Hierdurch verringert sich vorteilhaft die zum Erreichen des Arbeitsvakuums erforderliche Abpumpzeit, wodurch eine weitere Verringerung der Zykluszeit bewirkt wird.
Die Erfindung wird im folgenden anhand eines in Zeichnungen dargestellten, besonders bevorzugten Ausführungsbeispiels näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine erfindungsgemäße Be-/Entladevorrichtung in Seitenansicht sowie eine mit Werkstücken zu beschickende, zugeordnete Vakuumkammer;
Fig. 2 einen horizontalen Querschnitt durch eine Be-/Entladevorrichtung mit einem 2-armigen Hebelgetriebe in der Geschlossen-Position;
Fig. 3 eine Querschnittsansicht gemäß Fig. 2 in der Offen-Position der Be-/Entladevorrichtung ;
Fig. 4 eine Querschnittsansicht einer Be-/Entladevorrichtung mit zwei um eine vertikale Achse verschwenkbaren Schubteilen und
Fig. 5 eine Querschnittsansicht der in Fig. 4 dargestellten Be-/Entladevorrichtung nach Verschwenken der Schubteile um 180° um eine vertikal Achse.
In der Fig. 1 ist eine einer mit Werkstücken zu beschickenden Vakuumkammer 2 zugeordneten Be-/Entladevorrichtung 20 dargestellt. Die Vakuumkammer 2 weist mehrere Kammern, nämlich z. B. eine Behandlungsstation, eine Schleusenstation sowie sogenannte Substratkammern auf, von denen jedoch in den Fig. 2 bis 5 lediglich die Ein-/Ausschleusstation 22 dargestellt ist. Zum Beschicken der Schleusenstation 22 mit in der Vakuumkammer 2 zu bearbeitenden Werkstücken 8,8' ist die Be-/Entladevorrichtung 3 0 gegenüber der in der Vakuumkammerwand 3,3', 3' ',3' ' ' eingelassenen Öffnung 24 angeordnet. Die Be-/Entladevorrichtung 30 umfaßt ein Gestell 32,32',32'', welches von rechteckig zueinander angeordneten Gestellbeinen 33,33', welche auf Rollen 35,35' lagern, in seiner flächenmäßigen Ausdehnung begrenzt wird. Mit den Rollen 35,35' ist die Be-/Entladevorrichtung vor der Vakuumkammer 2 verfahrbar, um z. B. den Zugang für Wartungsarbeiten an der Vakuumkammer 2 zu ermöglichen. Während der Be- und Entladevorgänge ist das Gestell 32,32',32'' mit der in diesem integrierten Be-/Entladevorrichtung 30 ortsfest vor der Vakuumkammer 2 positioniert.
Die Be-/Entladevorrichtung 30 umfaßt zwei um 180° rotationssymmetrisch zu einer Vertikalachse 42 angeordnete Schubteile 26,26', welche mit in einer oberen Führungsschiene 47,48 eingreifenden Schlittenkörpern 49,50 sowie in unteren Führungsschienen 47',48' eingreifenden Schlittenkörpern 49',50' in dem Gestell 32,32',32''; 34,34',34'· verschiebbar gelagert sind. Mit der von einem Motor 45 betätig-
ten Antriebsachse 42 ist ein Arm 38 als Teil eines Hebelgetriebes 23 fest verbunden, welcher an seinen beiden Enden über je ein Gelenk 41,41' mit einer Schub-/Zugstange 40,4O1 verschwenkbar verbunden ist, wobei die Schub-/Zugstange 40,40' jeweils mit einem Gelenkkörper 43,43' an den einander in Bezug zur Achse 42 spiegelsymmetrisch zueinander angeordneten Schubteile 14,14' angelenkt sind. Die Schubteile 14,14' sind als Deckel zum Verschließen der Öffnung 24 ausgebildet. Hierzu weisen die Dekkel 14,14' auf den der Vakuumkammer 2 in der Geschlossen-Position P1 zugewandten Seite jeweils Dichtflächen auf, welche in Zusammenwirken mit der Öffnung 24 seitlich zugeordneten Dichtungselementen 16 die Vakuumkammer 2 evakuierbar abdichten. An den Deckeln 14,14' sind Greifarme 10',11' bzw. 10'',1I1' paarig (siehe Fig. 3) angeordnet. Die paarig vorhandenen Greifarme 10',11' bzw. 10' ' ,11' ' sind jeweils über in einem Vorsprung 19,19' des Deckels 14 gelagerte Stangen 17,17' endseitig an diesem befestigt, wodurch die Greifarme 10' und 11' bzw. 10'' und II1' jeweils über die Stange 17 bzw. 17' schwenkbar miteinander gekoppelt sind.
Zum Entladen von in der Vakuumkammer 2 &zgr;. &Bgr;. zu beschichtenden Werkstücken 8 wird die Ein-/Ausschleusstation 22 in ihre Entnahmeposition, wie in Fig. 2 bis 5 dargestellt, durch Drehung des Innenzylinders 4 durch Rotation des angetriebenen Arms 18 von einer in den Zeichnungen nicht dargestellten Welle gefahren. Durch betätigen der Achse 13' werden die Greifarme 10,11 heraufgeschwenkt und
greifen den Substratträger 12 an seitlich an diesen dafür vorgesehenen Halteelementen 7,7' auf. Während dieser Übergabe des Substratträgers 12 an die Greifarme 10,11 wird die Ein-/Ausschleus-Station 22 zeitgleich auf Atmosphärendruck durch Einlassen eines Gases über einen in der Zeichnung nicht dargestellten GaseinlaS belüftet. Nachdem der Druckausgleich in der Ein-/Ausschleusstation 22 hergestellt ist, wird durch Drehung der von der Antriebsvorrichtung 45 (siehe Fig. 1) angetriebenen Welle 42 in die Drehrichtung r' die Schub-/Zugstange 40,40' in dem Gelenk 41,41' verschwenkt, wobei das Schubteil 26 und 26' bewegungssynchron über das Gelenk 43 bzw. 43' auf die Antriebswelle 42 zu verschoben werden. Hierdurch wird der Deckel 14 von der äußeren Vakuumkammerwand 3',3'' abgehoben und zusammen mit den auf dem Substratträger 12 lagernden, beschichteten Werkstücken 8' aus der Ein-/Ausschleusstation 22 entnommen .
Zur Entnahme der beschichteten Werkstücke 8 von dem Subtratträger 12 werden die Schubteile 26,26' gemeinsam mit dem zweiarmigen Hebelgetriebe 23 um die Antriebswelle 42 in Drehrichtung R' um 180° verschwenkt. Das Schleusenhandling 3 0 wird anschließend durch Betätigen des Hebelgetriebes 23, wobei die Antriebswelle 42 um 180° in Drehrichtung r (siehe Fig. 2) gedreht wird, aus der Offen-Position P2 in die in Fig. 2 dargestellte Geschlossen-Position P1 überführt. Alternativ ist auch eine um 180°-fortgesetzte Drehung in Drehrichtung r' möglich. Hierbei wird der von den Greifarmen
10!,11' gehaltene Substratträger 12' mit den auf diesem lagernden, zu beschichtenden Substraten 8' vor die Öffnung 24 positioniert in die Ein-/Ausschleusstation 22 durch Betätigen des Hebelgetriebes 23 überführt und die Öffnung 24 mit der Schleusenklappe 14' sowie von den in der Vakuumkammerwand 3',3'' eingelassenen Dichtungsvorrichtungen 16 vakuumdicht verschlossen.
Anschließend wird der Substratträger 12■ durch Verschwenken der Greifarme 10',11' zum Weitertransport durch Drehung des Innenzylinders 4 (siehe Fig. 5) an die Einschleus-/Ausschleusstation 22 übergeben. Parallel zu dem Übergabevorgang wird die Vakuumkammer 2 mittels einer in den Zeichnungen nicht dargestellten Pumpvorrichtung über den Saugstutzen 20 (siehe Fig. 2 bis 5) auf ihren Arbeitsenddruck evakuiert.
Die zuvor beschichteten, außerhalb der Vakuumkammer befindlichen Substrate 8 können nunmehr gemeinsam mit ihrem Substratträger 12 oder substratweise von dem Substratträger 12 z. B. durch ein Roboterhandling entnommen werden. Das in der Geschlossen-Position P1 befindliche Schubteil 26' steht danach zum Wiederbeladen mit von zu beschichtenden Substraten zur Verfügung.
12 97
Bezugszeichenliste
2 Vakuumkammer, Behandlungskammer
3,3',3 " ,3 " ' Vakuumkammerwand, Außenwand
4 Innenzylinder
6 Substratkammer
7,7' Halteelement
8,8' Substrat, Werkstück
10,10',10" Greifarm
11,11',1I" Greifarm
12,12' Substratträger, Werkstückträger
13 Verbindungsachse
14,14' Schleusenklappe, Deckel
15 Verdrängungskörper
IG Dichtungsvorrichtung, Dichtungselement
17,17' Halteelement
18 Arm
19,19' Vorsprung
2 0 Saugstutzen
21 Verdrängungskörper
22 Ein-/Ausschleusstation
23 Hebelgetriebe
24 Öffnung 26,26' Schubteil
3 0 Schleusenhandling, Be-/Entladevorrichtung 32,32',32" Gestell
33,33' Gestellbein
34,34',34" Gestell
35,35' Rolle
3 6 Plattform
3 8 Arm
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4 0,40' Schub-/Zugstange
41,41' Gelenk
42 Antriebsachse, Welle, Drehachse
43,43' Gelenk
44 Saugstutzen
45 Antriebsvorrichtung, Motor 47,47' Führungsschiene
48,48' Führungsschiene
49,49' Schlittenkörper
50,50' Schlittenkörper
51 Welle
52 Kulisse
A,B,C,D Schubrichtung
R,R1 Drehrichtung des Schubteils 26,26'
r,r' Drehrichtung der Welle
P1 Geschlossen-Position
P2 Offen-Position
P3 Wechsel-Position

Claims (1)

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ansprüche
Vorrichtung zum Be- und Entladen von einer in einer Vakuumkammer (2) angeordneten Bearbeitungsstation mit zu bearbeitenden Werkstücken (8,8'), wobei die Werkstücke (8,8') durch mindestens eine in einer Kammerwand {3,3',3") der Vakuumkammer (2) eingelassene, mit einem Deckel {14,14') verschließbare Öffnung (24) in die Vakuumkammer (2) ein- und ausbringbar sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung mindestens ein um eine in Bezug zur Öffnung (24) raumfeste Drehachse (42) drehbares Schubteil (26,26') aufweist, welches vorzugsweise mittels eines Hebelgetriebes 23, das insbesondere einen einerends an den Dekkel (14,14') und andernends an einen mit der Drehachse (42) fest verbundenen Arm (38) angelenkte Schub-/Zugstange (40,40') aufweist, radial in Bezug zur Achse (42) verschiebbar ist und wobei an dem Schubteil (26,26'), vorzugsweise an dem Deckel (14,14') zur Aufnahme und zum Transport der Werkstücke (8,8') mindestens eine Greifvorrichtung (10,10';11,11' ) angeordnet ist, und wobei durch Drehung der Achse (42) die Schub-/Zugstange (40,40') mit ihrem am Deckel (14,14') angelenkten Ende in radialer Richtung in Bezug zur Achse (42) zwischen einer achsennahen Offen-Position (P2) und einer achsenfernen Schließposition (P1) des Deckels (14,14') in Bezug zur Öffnung
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(24) verschiebbar ist, wobei die Greifvorrichtung (10,10';11,11') derartig am Deckel (14,14') angeordnet ist, daß diese in der Schließposition (P1) des Deckels (14,14') vollständig in die Vakuumkammer (2) hineinragt·
Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens zwei, vorzugsweise in Bezug zur Achse (42) diametral gegenüberliegende Schubteile (26,26') vorgesehen sind, die jeweils einen Deckel (14,14') aufweisen, und welche in Bezug zur Achse (42), vorzugsweise in einer gekoppelten, entgegengerichteten Bewegung radial verschiebbar sind, wobei die Schubteile (26,26') in mindestens einer Drehrichtung (R,R') um die Achse (42) rotierbar sind.
Vorrichtung, insbesondere nach Anspruch 1 und/oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Deckel (14,14') einen Verdrängungskörper (15) aufweist, welcher beim Schließen der Öffnung 24 durch den Deckel (14,14') in die Ein-/Ausschleusstation (22) derartig hineinragt, daß deren evakuierbares Volumen verringert wird.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2005064038A1 (en) * 2003-12-22 2005-07-14 Applied Films Gmbh & Co. Kg Coating plant with a charging lock and device therefor
DE102005040741A1 (de) * 2005-08-26 2007-03-15 Asys Automatic Systems Gmbh & Co. Kg Bearbeitungsanlage modularen Aufbaus für flächige Substrate

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005064038A1 (en) * 2003-12-22 2005-07-14 Applied Films Gmbh & Co. Kg Coating plant with a charging lock and device therefor
US7479189B2 (en) 2003-12-22 2009-01-20 Applied Films Gmbh & Co. Kg Coating plant with a charging lock and device therefor
DE102005040741A1 (de) * 2005-08-26 2007-03-15 Asys Automatic Systems Gmbh & Co. Kg Bearbeitungsanlage modularen Aufbaus für flächige Substrate
DE102005040741B4 (de) * 2005-08-26 2007-06-14 Asys Automatic Systems Gmbh & Co. Kg Bearbeitungsanlage modularen Aufbaus für flächige Substrate

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