DE2753781C2

DE2753781C2 -

Info

Publication number: DE2753781C2
Application number: DE2753781A
Authority: DE
Inventors: Ragnar Dipl.-Ing. Forshufvud; Arnold Johansson; Erland Dipl.-Ing. Karlskoga Se Petterson
Original assignee: Bofors AB
Current assignee: Saab Bofors AB
Priority date: 1976-12-02
Filing date: 1977-12-02
Publication date: 1988-02-25
Also published as: GB1596543A; JPS628753B2; FR2373074B1; NL7713211A; NO774116L; JPS5382100A; DE2760430C2; FR2373074A1; NO149712B; NO149712C; CH625335A5; IT1090717B; DE2753781A1

Description

Die Erfindung betrifft ein optisches Gerät mit einer Meßeinrichtung zum Erfassen der Lageabweichung einer Strahlungsquelle von einem angewählten Zielpunkt, mit einer gemeinsam fokussierenden Objektivoptik für die Strahlung der Strahlungsquelle und das vom Zielpunkt kommende sichtbare Licht, einem in einer Bildebene der Objektivoptik angeordneten Strichträger zur Fest legung der Visierlinie, und einem Strahlteiler zum Leiten des sichtbaren Lichtes in eine Okularoptik und der Strahlung zu einem Detektor.The invention relates to an optical device with a Measuring device for detecting the position deviation of a Radiation source from a selected target point, with a jointly focusing lens optics for the Radiation from the radiation source and that from the target point coming visible light, one in an image plane the lens optics arranged line carrier for fixed laying the line of sight, and a beam splitter for Guiding the visible light into an eyepiece optics and the radiation to a detector.

Ein derartiges optisches Gerät ist insbesondere für Waffensysteme zum Führen eines sich bewegenden Objektes, z. B. eines Geschosses, zu einem Ziel geeignet. Dabei wird das optische Gerät auf einem Punkt auf dem Ziel gerich tet, und die Bedienungsperson richtet die Visierlinie permanent auf das Ziel. Wenn nun das sich bewegende Objekt mit Mitteln zum Abgeben von Strahlung versehen ist, kann die Abweichung der Strahlungsmittel von der Visierlinie mittels der Meßeinrichtung bestimmt werden, die auf die emittierte Strahlung anspricht. Die Strahlung kann durch eine Strahlungsquelle erzeugt werden, die innerhalb des Gehäuses des sich bewegenden Objektes an gebracht ist, oder sie kann durch die Antriebseinrichtung des sich bewegenden Objektes erzeugt werden, die dann als infrarote Strahlung vorliegt. Die Strahlung kann je doch auch von Reflektoren ausgehen, die auf dem sich bewegenden Objekt angeordnet sind. In diesem Fall wird die Strahlung durch eine Strahlungsquelle erzeugt, die z. B. am Ort des optischen Gerätes angeordnet ist. Die Strahlung wird dann zum sich bewegenden Objekt übertra gen und dann über Reflektoren zum optischen Gerät zurück geführt.Such an optical device is particularly for Weapon systems for guiding a moving object, e.g. B. a floor, suitable for a target. Doing so the optical device at a point on the target tet, and the operator sets the line of sight permanently on target. If now the moving Provide the object with means for emitting radiation is the deviation of the radiation medium from the Line of sight can be determined using the measuring device, that responds to the emitted radiation. The radiation can be generated by a radiation source which inside the housing of the moving object is brought, or it can by the drive device of the moving object, which are then generated is present as infrared radiation. The radiation can ever but also start from reflectors that are on the moving object are arranged. In this case the radiation generated by a radiation source which e.g. B. is arranged at the location of the optical device. The Radiation is then transmitted to the moving object gene and then back to the optical device via reflectors guided.

Ein optisches Gerät der eingangs genannten Art ist aus der US-PS 39 89 947 bekannt. Bei dieser bekannten Vor richtung wird die eintreffende Strahlung durch eine ge meinsame Objektivoptik fokussiert und einem dichroitischen Spiegel zugeführt, der für sichtbares Licht transparent ist und Infrarotstrahlung reflektiert. Das sichtbare Licht gelangt dann über einen weiteren Spiegel und eine Visierhilfe, d. h. einem Fadenkreuz, zur Okularoptik. Die Infrarotstrahlung wird zusätzlich durch den dichroiti schen Spiegel, der zur optischen Achse geneigt und dreh bar angeordnet ist, moduliert und einem Detektor zugeführt.An optical device of the type mentioned is out the US-PS 39 89 947 known. With this well-known before direction is the incoming radiation by a ge common lens optics focused and a dichroic Mirror fed, which is transparent to visible light and reflects infrared radiation. The visible Light then passes through another mirror and one Sighting aid, d. H. a crosshair, for eyepiece optics. The infrared radiation is additionally generated by the dichroiti mirror that inclines and rotates to the optical axis bar is arranged, modulated and fed to a detector.

Einerseits bringt dieses System zwar den Vorteil, daß das einfallende Licht durch eine gemeinsame Optik fokussiert wird, andererseits sind aber die Meßeinrich tungen, d. h. das Fadenkreuz und der geneigte rotierende Spiegel in Verbindung mit dem Detektor, voneinander ge trennt angeordnet, so daß die relativen Stellungen der Einrichtungen durch mechanische Verformungen, Temperatur wechsel, Erschütterung und dgl. beeinflußt wird. Um eine ausreichende Meßgenauigkeit zu erhalten, ist es deshalb erforderlich, Einrichtungen zum Kontrollieren und Ein justieren der Visierlinie und der optischen Achse des Meßsystems vorzusehen.On the one hand, this system has the advantage that the incident light through a common optic is focused, but on the other hand are the measuring device tungen, d. H. the crosshair and the inclined rotating one Mirror in connection with the detector, from each other separated, so that the relative positions of the Mechanisms caused by mechanical deformation, temperature change, vibration and the like. is influenced. To one It is therefore necessary to obtain sufficient measuring accuracy required facilities for checking and on adjust the line of sight and the optical axis of the Measuring system to provide.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein gattungs gemäßes optisches System zu schaffen, das bezüglich der Meßgenauigkeit weitgehend unempfindlich gegen äußere Ein flüsse wie mechanische Verformungen, Temperaturwechsel, Erschütterungen oder dgl. ist und bei dem auf aufwendige Einstellarbeiten verzichtet werden kann. The invention has for its object a genus to create an appropriate optical system that is related to the Measuring accuracy largely insensitive to external input flows such as mechanical deformations, temperature changes, Shocks or the like is and in the case of elaborate Adjustment work can be dispensed with.

Die Lösung der Aufgabe erfolgt durch die im Patentan spruch 1 angegebenen Merkmale. Die Unteransprüche be treffen vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung.The problem is solved by the in Patentan pronounced 1 characteristics. The subclaims be meet advantageous embodiments of the invention.

Bei dem erfindungsgemäßen optischen Gerät werden die Bildebenen für das sichtbare Licht und die Infrarot strahlung voneinander getrennt, so daß die Visierhilfe und die Meßmaske für die infrarote Strahlung sich nicht gegenseitig beeinflussen, ohne daß zwischen den beiden Einrichtungen zusätzliche Strahlteiler oder dgl. ange ordnet werden müssen, die zusätzliche Fehlerquellen mit sich bringen.In the optical device according to the invention Image layers for visible light and infrared radiation separated from each other so that the sighting aid and the measuring mask for the infrared radiation is not influence each other without any between the two Facilities additional beam splitters or the like must be classified, the additional sources of error entail.

In einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Visierhilfe zusammen mit einer dichroitischen Meß maske auf einer gemeinsamen Glasplatte angeordnet, so daß keine Relativverschiebungen auftreten. Durch die drehbare Meßmaske wird die vom Objekt ausgehende Strah lung durch ein dichroisches Muster moduliert und dann zur weiteren Verarbeitung einem Photodetektor zugeführt. Die Meßgenauigkeit kann dadurch verbessert werden, daß die Kanten des dichroischen Musters mit einer schmalen Schicht zum Verbessern der Schärfe der Kanten versehen sind.In an advantageous embodiment of the invention the sighting aid together with a dichroic measuring mask arranged on a common glass plate, see above that there are no relative shifts. Through the rotatable measuring mask becomes the beam emanating from the object modulated by a dichroic pattern and then fed to a photodetector for further processing. The measuring accuracy can be improved in that the edges of the dichroic pattern with a narrow Layer to improve the sharpness of the edges are provided.

Ausführungsformen der Erfindung werden im folgenden anhand der Zeichnungen erläutert. Es zeigt Embodiments of the invention are described below of the drawings explained. It shows

Fig. 1 in schematischer Darstellung ein erfindungsgemäßes optisches Gerät; Fig. 1 shows a schematic representation of an inventive optical device;

Fig. 2 eine alternative Ausführungsform des Geräts gemäß Fig. 1; FIG. 2 shows an alternative embodiment of the device according to FIG. 1;

Fig. 3 Mittel, durch die das Ausrichten des Geräts er leichtert wird; Fig. 3 means by which it is easier to align the device;

Fig. 4 die Meßeinrichtung; Fig. 4, the measuring means;

Fig. 5 eine weitere Ausführungsform der Erfindung mit einem Photodetektor, dessen empfindliche Oberfläche in zwei getrennte Gebiete aufgeteilt ist; ., A further embodiment of the invention is divided with a photodetector whose photosensitive surface in two separate areas of Figure 5;

Fig. 6 eine vergrößerte Ansicht der Meßeinrichtung; Fig. 6 is an enlarged view of the measuring device;

Fig. 7 eine vergrößerte Schnittansicht des Gebietes zwi schen den durchlässigen und nichtdurchlässigen Bereichen der Meßeinrichtung; und Fig. 7 is an enlarged sectional view of the area rule Zvi the transmissive and non-transmissive areas of the measuring device; and

Fig. 8 eine alternative und verbesserte Ausführungsform in einer Ansicht gemäß Fig. 7. Fig. 8 shows an alternative and improved embodiment, in a view according to Fig. 7.

In Fig. 1 ist schematisch das erfindungsgemäße optische Gerät dargestellt. Wie bereits erwähnt wurde, ist das opti sche Gerät besonders dafür geeignet, in einem optischen Visier eingebaut zu werden. Aus diesem Grund wird es im fol genden in Verbindung mit einem optischen Visier beschrieben werden, das die zwei hauptsächlichen Funktionen hat, daß das Ziel angeschaut und die Visierlinie auf dem Ziel gehalten werden kann und daß die Bahn eines Geschosses mit der Visier linie verglichen und die Abweichung zwischen dem Geschoß und der Visierlinie bestimmt werden kann. Die Art des Meßvor ganges und die Art, wie die Abweichung, die durch den Meßvor gang bestimmt ist, in ein elektrisches Signal umgewandelt wird und wie dieses Signal verarbeitet und ausgewertet wird, bildet keinen Teil der Erfindung und wird daher hier nicht ausführlicher beschrieben.In Fig. 1, the optical device according to the invention is shown schematically. As already mentioned, the optical device is particularly suitable for being installed in an optical visor. For this reason, it will be described in the following in connection with an optical sight which has the two main functions that the target can be viewed and the sight line can be held on the target and that the path of a projectile can be compared with the sight line and the Deviation between the floor and the line of sight can be determined. The type of measurement process and the way in which the deviation, which is determined by the measurement process, is converted into an electrical signal and how this signal is processed and evaluated, does not form part of the invention and is therefore not described in more detail here.

Das optische System umfaßt im wesentlichen eine einzelne optische Eingangsöffnung mit einer Objektivlinse 1, eine Glas platte 2 und ein Prisma 3, um das sichtbare Licht vom Ziel und von seinem Hintergrund und die durch die Strahlungsquelle des Geschosses emittierte Strahlung zu trennen. Die Strahlungs quelle kann z. B. aus einer Laserquelle bestehen, vorzugsweise einer Laserdiode, die am Geschoß auf solche Weise angebracht ist, daß das Laserlicht zum Visier hin ausgesandt wird. Die Objktivlinse 1 sammelt sowohl sichtbares Licht als auch La serlicht und ist so ausgebildet, daß die Brennweite für sicht bares Licht und Laserlicht verschieden ist. Hieraus folgt, daß ein Bild des Ziels und seines Hintergrunds in die Bildebene F ₁ für sichtbares Licht projiziert wird, während ein Bild der Strahlungsquelle in eine andere Bildebene F ₂ für Laserlicht projiziert wird. In Fig. 1 ist der Strahlengang des sichtba ren Lichtes durch gestrichelte Linien angedeutet, während das Laserlicht durch ausgezogene Linien angedeutet ist. Die Strah lengänge werden im Prisma 3 in an sich bekannter Weise ge teilt, so daß sichtbares Licht durch das Prisma hindurch und aus diesem heraus durch ein Okular 4 in die Augen einer Be dienungsperson fällt, während das Laserlicht durch das Prisma 3 reflektiert und aus diesem heraus durch ein Linsensystem 6 zu einem Detektor 7 gelangt.The optical system essentially comprises a single optical input opening with an objective lens 1 , a glass plate 2 and a prism 3 to separate the visible light from the target and its background and the radiation emitted by the radiation source of the projectile. The radiation source can, for. B. consist of a laser source, preferably a laser diode, which is attached to the floor in such a way that the laser light is emitted towards the sight. The objective lens 1 collects both visible light and laser light and is designed so that the focal length for visible light and laser light is different. It follows that an image of the target and its background is projected into the image plane F ₁ for visible light, while an image of the radiation source is projected into another image plane F ₂ for laser light. In Fig. 1, the beam path of the visible light is indicated by dashed lines, while the laser light is indicated by solid lines. The beam paths are divided in the prism 3 in a manner known per se, so that visible light passes through and out of the prism through an eyepiece 4 into the eyes of an operator, while the laser light reflects through the prism 3 and out of it out through a lens system 6 to a detector 7 .

Damit der Verfolgungsvorgang erleichtert wird, ist das optische Gerät mit einem Bezugssymbol für das Sichtvisier versehen, das aus dünnen Linien auf einer Glasoberfläche be steht, die in der Bildebene F ₁ angeordnet ist, so daß die Be dienungsperson das Ziel und seinen Hintergrund zusammen mit dem Bezugssymbol des Sichtvisiers im Okular 4 sehen kann. Das Symbol kann aus einem Kreis 8 oder Bogen 9 oder mehreren konzentrischen Kreisen oder Bögen bestehen (siehe Fig. 3), die als gemeinsamen Mittelpunkt die Visierlinie 10 haben.To make the tracking process easier, the optical device is provided with a reference symbol for the sight, which consists of thin lines on a glass surface be, which is arranged in the image plane F ₁ , so that the operator the target and his background together with the Reference symbol of the sight in the eyepiece 4 can see. The symbol can consist of a circle 8 or arc 9 or more concentric circles or arcs (see FIG. 3), which have the line of sight 10 as a common center.

Die letztgenannte Ausführungsform wird gegenüber konven tionellen gekreuzten Haaren vorgezogen, wenn die Meßeinrich tung, wie weiter unten beschrieben, um die Visierlinie als Drehachse rotiert. Die Linien des Bezugssymbols des Sicht visiers müssen so dünn sein, daß sie nicht die Arbeitsweise der Meßeinrichtung dadurch behindern, daß die Lichtstrahlen unterbrochen werden.The latter embodiment is convent tional crossed hair preferred when the Messeinrich tion, as described below, around the line of sight as Rotation axis rotates. The lines of the reference symbol of the view visiers must be so thin that they do not work hinder the measuring device in that the light rays to be interrupted.

Um die Abweichung des Geschosses von der Visierlinie zu bestimmen, ist das optische Gerät mit einer Meßeinrichtung versehen, die die Form einer Meßmaske 11 (siehe Fig. 4) hat und in der Bildebene F ₂ angeordnet ist. Die Meßmaske kann aus einer Glasplatte mit einem darauf angeordneten dichroischen geometrischen Muster bestehen, das für sichtbares Licht durch lässig, aber für das von der Strahlungsquelle emittierte Laser licht undurchlässig ist. Da dieses Muster für sichtbares Licht durchlässig ist, stört es das optische Bild und das Bezugs symbol des Sichtvisiers sogar dann nicht, wenn die Maske be wegt wird.In order to determine the deviation of the projectile from the sight line, the optical device is provided with a measuring device which has the shape of a measuring mask 11 (see FIG. 4) and is arranged in the image plane F ₂ . The measuring mask can consist of a glass plate with a dichroic geometric pattern arranged thereon, which is transparent to visible light but opaque to the laser emitted by the radiation source. Since this pattern is transparent to visible light, it does not interfere with the optical image and the reference symbol of the sight, even when the mask is moved.

Die Entfernung zwischen den beiden Bildebenen F ₁ und F ₂ ist so groß, daß die Abdeckungseffekte, die durch die Linien des Bezugssymbols des Sichtvisiers verursacht werden, klein sind, während gleichzeitig die Meßmaske und das Bezugssymbol des Sichtvisiers auf demselben optischen Element angeordnet sind, z. B. auf jeder Seite der Glasplatte 2, deren Seitenflächen mit den Ebenen F ₁ und F ₂ zusammenfallen. Da die Glasplatte gemein sames Element für die Funktionen sowohl des Zieles als auch des Ortsmessens ist, führt jede Änderung im optischen System zu den gleichen Änderungen in beiden Einrichtungen, während die relative Einstellung dieser beiden Einrichtungen unver ändert bleibt. Irgendwelche Mittel zum Kontrollieren und Ein stellen der Visierlinie und der Achsen der Meßeinrichtung sind nicht notwendig.The distance between the two image planes F ₁ and F ₂ is so great that the covering effects caused by the lines of the reference symbol of the sight are small, while the measuring mask and the reference symbol of the sight are arranged on the same optical element, e.g. . B. on each side of the glass plate 2 , the side surfaces of which coincide with the levels F ₁ and F ₂ . Since the glass plate is a common element for the functions of both the target and the location measurement, every change in the optical system leads to the same changes in both devices, while the relative setting of these two devices remains unchanged. Any means of checking and setting the line of sight and the axes of the measuring device are not necessary.

Anstelle von einer gemeinsamen Glasplatte können zwei Glas platten 13, 14 benutzt werden (siehe Fig. 2). In diesem Falle fällt die Bildebene F ₁′ für das sichtbare Licht vorzugsweise mit der Oberfläche der Glasplatte 13 zusammen, die zur Be dienungsperson hingerichtet ist. Die Bildebene F ₂′ für das Laserlicht sollte analog mit der Oberfläche der Glasplatte 14 zusammenfallen, die zum Detektor 7 gerichtet ist. Auch andere Ausführungsformen mit zwei Glasplatten sind möglich; die ein zige Bedingung, die beachtet werden muß, ist jedoch die, daß die Glasoberflächen, auf denen das Bezugssymbol für das Sichtvisier und die Meßmaske angebracht sind, mit der entspre chenden Bildebene zusammenfallen und daß beide Glasplatten so verbunden sind, daß sie relativ zueinander nicht bewegt werden können. Für das Arbeiten des Visiers ist es notwendig, daß die Glasplatte 14 rotiert. Die Glasplatte 13 kann mit der Glasplatte 14 starr verbunden sein und mit derselben Drehge schwindigkeit rotieren. Sie kann jedoch auch feststehen; in diesem Falle kann das Bezugssymbol aus gekreuzten Haaren be stehen.Instead of a common glass plate, two glass plates 13, 14 can be used (see Fig. 2). In this case, the image plane F ₁ 'for visible light preferably coincides with the surface of the glass plate 13 which is executed for the operator. The image plane F ₂ 'for the laser light should coincide analogously with the surface of the glass plate 14 which is directed towards the detector 7 . Other embodiments with two glass plates are also possible; the only condition that must be observed, however, is that the glass surfaces on which the reference symbol for the sight and the measuring mask are attached coincide with the corresponding image plane and that both glass plates are connected so that they are not relative to each other can be moved. To work the visor, it is necessary that the glass plate 14 rotate. The glass plate 13 can be rigidly connected to the glass plate 14 and rotate at the same speed. However, it can also be fixed; in this case the reference symbol can be made of crossed hair.

Fig. 3 zeigt eine Ansicht der Glasoberfläche, die in der Bildebene F ₁ angeordnet ist, mit dem Bezugssymbol des Sicht visiers, das konzentrische Kreise 8 und Bögen 9 um einen Mit telpunkt umfaßt, der auf der Visierlinie 10 liegt. Der Mittel punkt ist vorzugsweise durch einen kleinen Punkt 15 angedeu tet. Der unscharfe Fleck 16 hängt mit dem Bild der Strahlungs quelle zusammen, das in der Bildebene F ₁ unscharf ist, aber in der Bildebene F ₂ scharfe Begrenzungen aufweist. In diesem Falle ist angenommen, daß die Wellenlänge der durch die Strah lungsquelle emittierten Strahlung im sichtbaren Bereich des Spektrums liegt. Es kann jedoch auch vorteilhaft sein, die Wellenlänge der ausgesandten Strahlung außerhalb des sichtba ren Bereichs des Spektrums zu wählen, wobei dann kein un scharfes Bild in der Bildebene F ₁ erscheint. Fig. 3 shows a view of the glass surface, which is arranged in the image plane F ₁ , with the reference symbol of the sight, which includes concentric circles 8 and arcs 9 around a center, which lies on the line of sight 10 . The center is preferably indicated by a small point 15 . The blurred spot 16 is related to the image of the radiation source, which is blurred in the image plane F ₁ , but has sharp boundaries in the image plane F ₂ . In this case it is assumed that the wavelength of the radiation emitted by the radiation source lies in the visible region of the spectrum. However, it can also be advantageous to choose the wavelength of the emitted radiation outside the visible range of the spectrum, in which case no unsharp image appears in the image plane F ₁ .

Fig. 4 zeigt eine Ansicht der Glasoberfläche, die in der Bildebene F ₂ angeordnet ist, mit der Meßmaske 11, die aus einer Glasplatte besteht, die ein dichroisches geometrisches Muster trägt. Die gesamte Oberfläche der Glasplatte ist für sichtbares Licht durchlässig. Das darauf angeordnete Muster ist jedoch für Strahlung, die durch die Strahlungsquelle emittiert wird, undurchlässig. Die Grenzlinie 17 des undurch lässigen Musters kann eine solche Form aufweisen, daß Infor mation bezüglich der Stellung der Strahlungsquelle aus der Beziehung zwischen den auftretenden Fluktuationen der Strah lungsintensität und der Winkelstellung der Maske gewonnen werden kann. Dies ist in der gleichzeitig eingereichten Pa tentanmeldung P 27 53 782.8, die der schwedischen Patentanmeldung 76 13 514-4 entspricht, deutlicher beschrieben. Fig. 4 shows a view of the glass surface, which is arranged in the image plane F ₂ , with the measuring mask 11 , which consists of a glass plate which bears a dichroic geometric pattern. The entire surface of the glass plate is transparent to visible light. However, the pattern placed thereon is opaque to radiation emitted by the radiation source. The boundary line 17 of the opaque pattern can have a shape such that information regarding the position of the radiation source can be obtained from the relationship between the fluctuations occurring in the radiation intensity and the angular position of the mask. This is more clearly described in the simultaneously filed patent application P 27 53 782.8, which corresponds to the Swedish patent application 76 13 514-4.

Um ein niedriges Rauschniveau und eine entsprechend hohe Empfindlichkeit des Detektors 7′ zu erhalten, ist der Detek tor in einer Bildebene F ₃ (siehe Fig. 5) auf solche Weise an geordnet, daß die Bildebene F ₂ mit der Ortsmeßeinrichtung mit der größtmöglichen Größenverkleinerung auf die Detektorober fläche abgebildet wird. Die gesamte Strahlung, die durch die Meßmaske hindurchgeht, wird in diesem Falle den Detektor 7′ erreichen. Die empfindliche Oberfläche des Detektors ist in zwei oder mehr getrennte Gebiete aufgeteilt, wobei jedes die ser getrennten Gebiete einem gewissen Bereich von Winkeln ent spricht, in dem der Ort der Strahlungsquelle bestimmt werden kann. Vorzugsweise besteht die Oberfläche des Detektors aus einer innigen mittigen Oberfläche und einer äußeren ring förmigen Oberfläche, da ein derartiger Detektor insbesondere für eine Messung in verschiedenen Entfernungsmeßbereichen ge eignet ist. In order to obtain a low noise level and a correspondingly high sensitivity of the detector 7 ', the detector is arranged in an image plane F ₃ (see FIG. 5) in such a way that the image plane F ₂ with the location measuring device with the largest possible size reduction the detector surface is imaged. The entire radiation that passes through the measuring mask will reach the detector 7 ' in this case. The sensitive surface of the detector is divided into two or more separate areas, each of these separate areas corresponding to a certain range of angles in which the location of the radiation source can be determined. Preferably, the surface of the detector consists of an intimate central surface and an outer ring-shaped surface, since such a detector is particularly suitable for measurement in different distance measuring ranges.

Es ist wichtig, um eine genaue Messung des Ortes des Ge schosses zu erhalten, daß die Grenzlinie 17, d. h. der Über gang zwischen dem durchlässigen Teil 12 und dem opaken Teil 18 der Maske klar begrenzt ist. In der Praxis ist dies jedoch schwierig zu erreichen, da das dichroische Muster aus mehreren dünnen dielektrischen Schichten besteht, die aufeinander ange ordnet sind. Daraus ergibt sich eine Übergangszone zwischen den durchlässigen und opaken Gebieten der Maske, in der sich die Durchlässigkeit allmählich von einem hohen Wert zu einem niedrigen Wert ändert. It is important in order to obtain an accurate measurement of the location of the projectile that the boundary line 17 , ie the transition between the permeable part 12 and the opaque part 18 of the mask is clearly limited. In practice, however, this is difficult to achieve since the dichroic pattern consists of several thin dielectric layers which are arranged one on top of the other. This results in a transition zone between the permeable and opaque areas of the mask, in which the permeability gradually changes from a high value to a low value.

Aus Fig. 7, die eine vergrößerte Querschnittsansicht des Gebietes zwischen den transparenten und opaken Gebieten der Maske zeigt, ist ersichtlich, daß das dichroische Muster 12 aus einer Anzahl von Schichten 23 besteht, die normalerweise aus dielektrischem Material bestehen, die auf der Glasplatte angeordnet sind und zusammen eine die fragliche Strahlung un terbrechende Schicht bilden. Aufgrund der großen Zahl von Schichten, die im Muster enthalten sind, tritt eine Übergangs zone d auf. Wie bereits erwähnt wurde, ist eine solche Über gangszone dann nicht zufriedenstellend, wenn der Ort des Ob jektes genau bestimmt werden soll. Als Beispiel der Größe der Genauigkeit, die benötigt wird, kann erwähnt werden, daß für eine Änderung der durchgelassenen Strahlungsintensität von 90% eine Ortsveränderung des Geschosses von maximal 0,05 mrad erlaubt ist.From Fig. 7, which shows an enlarged cross-sectional view of the area between the transparent and opaque areas of the mask, it can be seen that the dichroic pattern 12 consists of a number of layers 23 , usually made of dielectric material, arranged on the glass plate and together form a layer which interrupts the radiation in question. Due to the large number of layers contained in the pattern, a transition zone d occurs. As already mentioned, such a transition zone is unsatisfactory if the location of the object is to be determined precisely. As an example of the level of accuracy that is required, it can be mentioned that for a change in the transmitted radiation intensity of 90%, a change in location of the projectile of a maximum of 0.05 mrad is permitted.

Um die Schärfe der Kante des dichroischen Musters zu ver bessern und um damit diese Übergangszone zu verkleinern, ist die Kante des Musters, die an den durchlässigen Teil der Maske angrenzt, mit einer Schicht 24 versehen, die für die fragliche Strahlung undurchlässig ist (siehe Fig. 6). Diese Kanten schicht erstreckt sich entlang der Grenzlinie des Musters und ist so eng, daß, wenn die Maske rotiert, die Einrichtung wei terhin durchsichtig ist. Die Kantenschicht besteht vorzugswei se aus einem Metall, das sehr genau ausgeformt werden kann, z. B. Aluminium. Aus Fig. 8 ist ersichtlich, daß die Metall schicht oben auf den dielektrischen Schichten angeordnet ist. Es ist jedoch auch möglich, die Kantenschicht unter den di elektrischen Schichten entlang ihren Grenzlinien anzuordnen.In order to improve the sharpness of the edge of the dichroic pattern and thus to reduce this transition zone, the edge of the pattern which adjoins the permeable part of the mask is provided with a layer 24 which is opaque to the radiation in question (see Fig . 6). This edge layer extends along the boundary line of the pattern and is so narrow that when the mask rotates, the device remains transparent. The edge layer is preferably made of a metal that can be shaped very precisely, e.g. B. aluminum. From Fig. 8 it can be seen that the metal layer is arranged on top of the dielectric layers. However, it is also possible to arrange the edge layer under the dielectric layers along their boundary lines.

Claims

1. Optical device with a measuring device for detecting the positional deviation of a radiation source from a selected target point, with a joint focus on the objective optics for the radiation of the radiation source and the visible light coming from the target point, a line carrier arranged in an image plane of the objective optics for determining the Line of sight, and a beam splitter for guiding the visible light into an eyepiece optics and the radiation to a detector, characterized in that the objective optics ( 1 ) have different focal lengths for the visible light and the radiation from the radiation source and the radiation in one from the image plane (F ₁ , F ₁ ') of visible light, different image plane (F ₂ , F ₂ ') and that part of the measuring device for the position deviation of the radiation source forming mask ( 11 ) is arranged in the image plane of the radiation .

2. Optical device according to claim 1, characterized in that the distance between the first (F ₁ , F ₁ ') and the second (F ₂ , F ₂ ') image plane is so large that the influence of the mask ( 11 ) on the sight is small.

3. Optical device according to one of claims 1 and 2, characterized in that the line marks carrier is a glass plate ( 2 ), the reference symbol ( 8, 9, 15 ) of the sight and the mask on each of the two opposite side surfaces carries, which are arranged in the two picture planes (F ₁ and F ₂ ).

4. Optical device according to one of claims 1 and 2, characterized in that the dash mark carrier ( 2 ) includes two parallel glass plates ( 13, 14 ), of which a glass plate ( 13 ) has a side surface which in the first image plane (F ₁ ') is arranged in which the reference symbol ( 8, 9, 15 ) of the sight is located, and of which the other glass plate ( 14 ) has a side surface which is arranged in the other image plane (F ₂ ') in which the mask ( 11 ) is located.

5. Optical device according to claim 4, characterized in that the reference symbol ( 8, 9, 15 ) of the sight and the mask ( 11 ) are arranged on two side surfaces which are directed towards each other.

6. Optical device according to one of claims 1 to 5, characterized by a photodetector ( 7 ' ) which is arranged in or near an image plane (F ₃ ) of the optical device and is provided with a surface which is sensitive to that of the Radiation source is emitted radiation.

7. Optical device according to one of claims 1 to 6, characterized in that the Meßeinrich device consists of a rotating measuring mask ( 11 ) having a surface on which a dichroic pattern is attached and arranged so that the entire upper surface the mask is transparent to visible light and partially impermeable to the radiation emitted by the radiation source.

8. Optical device according to one of claims 1 to 7, characterized in that the dichroic pattern ( 12 ) at its boundary line ( 17 ) which adjoins the part of the mask surface which is transparent to radiation emitted by the radiation source, with a narrow Layer ( 18 ) is provided to improve the sharpness of the edge of the dichroic layer ( 12 ).

9. Optical device according to one of claims 1 to 8, characterized in that the reference symbol for the sight is made of a circle or several circles ( 8 ) or arcs ( 9 ) which have the axis of rotation of the measuring mask ( 11 ) as the center.

10. Optical device according to one of claims 1 to 9, there characterized in that the radiation source Laser light is emitted.