DE2753607A1 - MONOLITHIC INTEGRATED BIPOLAR MEMORY - Google Patents
MONOLITHIC INTEGRATED BIPOLAR MEMORYInfo
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Description
München, den 1. Dezember 1977 Anwaltsaktenz.: 27 - Pat. l8lMunich, December 1, 1977 Lawyer files: 27 - Pat. 18l
Raytheon Company,.lk\ Spring Street, Lexington, Mass. 02173» Vereinigte Staaten von AmerikaRaytheon Company ,. lk \ Spring Street, Lexington, Mass. 02173 »United States of America
Die Erfindung betrifft monolithisch integrierte bipolare Festwert- oder Nur-Lesespeicher (ROM) und programmierbare Pestwertspeicher (PROM). Sie bezieht sich insbesondere auf eine Schaltung zur Steuerung der RuheverlustIeistung in ROM- bzw. PROM-Bausteinen und eine Schaltung zur Steuerung der Programmierung in PROM-Bausteinen.The invention relates to monolithically integrated bipolar read-only or read-only memories (ROM) and programmable pest value memories (PROM). It relates in particular to a circuit for controlling the power loss in the ROM or PROM modules and a circuit for controlling the programming in PROM blocks.
Bekanntlich werden monolithisch integrierte bipolare ROM- und PROM-Bausteine in großem Umfang zur Speicherung von Programmund Mikroprogramm-Steuerbefehlen verwendet, da sie vergleichsweise schnell und nicht-flüchtig sind und die gespeicherten Steuerbefehle auch dann nicht verlieren, wenn die Versorgungs-As is known, monolithically integrated bipolar ROM and PROM modules are used to a large extent for storing program and microprogram control commands, since they are comparatively fast and non-volatile and the stored ones Do not lose control commands even if the supply
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spannung ausfällt. Monolithisch integrierte bipolare RON- und PROM-Bausteine umfassen im allgemeinen ein Feld von Speicherelementen, das im folgenden auch als kurz als "Speicherfeld" bezeichnet wird und das mit einer Adressierschaltung und einer Ausgangsschaltung verbunden ist. Eine derartige Adressierschaltung beinhaltet npn-Ausgangstransistoren, deren Emitterelektrode mit einer Erdleitung, deren Kollektorelektrode mit der +V -Leitung und deren Basiselektrode mit einem Steuersignal verbunden sind. In Abhängigkeit von diesem Steuersignal können die einzelnen Transistoren zwischen dem "EIN"- oder Sättigungszustand und dem "AUS"-Zustand selektiv umgeschaltet werden. Um die von der Adressierschaltung verbrauchte Ruheverlustleistung eines nicht ausgewählten Speicherbausteine zu verringern, besitzt der Speicherbaustein eine entsprechende Vorbereitungsschaltung zur Steuerung der Ruheverlustleistung, die im folgenden auch als "Ruheleistungssteuerschaltung" bezeichnet wird. Der betreffende Schaltvorgang ist unter der Bezeichnung "Leistungsschalter bekannt. Wenn ein solcher Speicherbaustein sich im Ruhezustand befindet, tritt bisher trotz der Ruheleistungssteuerschaltung ein unerwünscht hoher Leistungeverbrauch - typisch in der Größenordnung von 0,5 W pro Baustein - auf. Eine bekannte Ruheleistungssteuerschaltung verwendet einen pnp-Schalttransistor, dessen Emitterelektrode mit dem positiven Pol einer Versorgungsspannung V' verbunden ist, dessen Basiselektrode mit einer Steuereignalquelle und über einen Widerstand ebenfalls mit der Versorgungsspannung v'cc und dessen Kollektorelektrode mit der +V0Q-Leitung des Speicherbausteins verbunden sind. Um eine möglichst kleine Zugriffszeit für den ROM- bzw. PROM-Baustein zu erreichen, sollte der pnp-Schalttransistor ein schnellschaltender Typ sein. Eine Klasse von sehr schnellen Hochstrom-Transistonra besitzt zwischen der Basis- und der Kollektorzone eine Schottky-Klemmdiode. Derartige Schottky-Klemmdioden können in monolithisch integrierten Schaltungen von pnp-Transistoren zwar leicht ausgebildet werden, indem unter dem metallischen Kontakt der Basiszone eine Platin-Siliciumsohicht angeordnet wird, die sich unterhalb dieses Kontakte von einem Teil der Basiszone aus p-leitendem zu einem benachbarten Teil der Kollektorzone aus η-leitendem Material erstreckt. Die Wechsel-voltage fails. Monolithically integrated bipolar RON and PROM components generally comprise an array of memory elements, which is also referred to below as a "memory array" for short, and which is connected to an addressing circuit and an output circuit. Such an addressing circuit contains npn output transistors whose emitter electrode is connected to a ground line, whose collector electrode is connected to the + V line and whose base electrode is connected to a control signal. Depending on this control signal, the individual transistors can be selectively switched between the "ON" or saturation state and the "OFF" state. In order to reduce the quiescent power loss of an unselected memory module consumed by the addressing circuit, the memory module has a corresponding preparation circuit for controlling the quiescent power loss, which is also referred to below as a "quiescent power control circuit". The switching process in question is known as "power switch. If such a memory module is in the idle state, an undesirably high power consumption - typically of the order of 0.5 W per module - has hitherto occurred despite the idle power control circuit. A known quiescent power control circuit uses a pnp -Schalttransistor whose emitter electrode 'is connected with its base electrode having a Steuereignalquelle and via a resistor also v to the supply voltage' to the positive pole of a supply voltage V cc and the collector electrode are connected to the + V 0Q -Leitung of the memory device. to a possible To achieve a short access time for the ROM or PROM component, the pnp switching transistor should be of a fast switching type.A class of very fast high-current transistors has a Schottky clamping diode between the base and the collector zone en can easily be formed in monolithic integrated circuits of pnp transistors by placing a platinum-silicon layer under the metallic contact of the base zone, which extends below these contacts from a part of the base zone of p-conducting to an adjacent part of the collector zone of η -conductive material extends. The alternate
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wirkung zwischen dem Platin und dem n-leitfähigen Silicium bildet eine Diode zwischen der Basis- und der Kollektorzone des Transistors. Diese Fertigungstechnik ist jedoch zur Ausbildung von pnp-Transistoren mit Schottky-Dioden nicht anwendbar.effect between the platinum and the n-conductive silicon a diode between the base and collector of the transistor. However, this manufacturing technique cannot be used for the formation of pnp transistors with Schottky diodes.
Eine weitere Ruheleistungssteuerschaltung verwendet einen als Emitterfolger arbeitenden npn-Transistor mit einem zwischen der Basiselektrode und dem positiven Pol V' der Versorgungsspan-Another quiescent power control circuit uses an npn transistor operating as an emitter follower with an between the Base electrode and the positive pole V 'of the supply voltage
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nung geschalteten Widerstand, der im folgenden als ''Ansprechwiderstand" bezeichnet wird. Die Emitterelektrode dieses npn-Transistors ist mit der +V„ -Leitung, seine Kollektorelektrodevoltage-switched resistor, which is referred to below as the `` response resistance ". The emitter electrode of this npn transistor is connected to the + V" line, its collector electrode
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mit dem positiven Pol der Versorgungsspannung V verbunden.connected to the positive pole of the supply voltage V.
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Der npn-Transistor befindet sich im "AUS"-Zustand (und damit ist der Speicherbaustein stromlos), wenn seiner Basiselektrode ein Signal mit niedrigem Pegelwert zugeführt wird. Dabei entsteht jedoch Leistungsverbrauch im Ansprechwiderstand, wenn eich der Speicherbaustein im Ruhezustand befindet. Der Widerstandewert des Ansprechwiderstandes soll niedrig sein, um den Spannungsabfall Vri-, zwischen den Spannungen V' _ und +V__ so niedrigThe npn transistor is in the "OFF" state (and thus the memory module is de-energized) when a signal with a low level value is fed to its base electrode. However, this results in power consumption in the response resistor when the memory module is in the idle state. The resistance value of the response resistance should be low, around the voltage drop V ri -, between the voltages V '_ and + V__ as low
UiJ CC CCUiJ CC CC
wie möglich zu halten, wenn der Speicherbaustein aktiviert ist. Die Verringerung des Widerstandswertes des Ansprechwiderstandes führt jedoch zu einem höherem Leistungsverbrauch in diesem Widerstand, wenn der Speicherbaustein sich im Ruhezustand befindet.as possible when the memory module is activated. The reduction in the resistance value of the response resistor, however, leads to a higher power consumption in this resistor when the memory module is in the idle state.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die sich aus den vorangehend beschriebenen Problemen ergebenden Schwierigkeiten zu besieitigen und eine verbesserte Anordnung zur Speichereinschaltung und insbesondere eine verbesserte Ruheleistungssteuerschaltung zu schaffen, die sich für die Verwendung in sehr schnellen Speichern und zur Herstellung als monolithisch integrierte Schaltung eignen sollen. Außerdem soll die Erfindung einen Weg zur Schaffung verbesserter monolithisch integrierter bipolarer ROM- bzw. PROM-Bausteine mit einer sehr schnell arbeitenden Ruheleistungssteuerschältung aufzeigen. Diese Aufgabe wird durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 genannten Merkmale gelöst.The invention is based on the problem of solving the difficulties arising from the problems described above and to provide an improved memory power-up arrangement and, in particular, an improved quiescent power control circuit which is suitable for use in very high-speed applications Save and should be suitable for manufacture as a monolithic integrated circuit. The invention is also intended to provide a way to Show creation of improved monolithically integrated bipolar ROM or PROM modules with a very fast idle power control circuit. This task is carried out by the in the characterizing part of claim 1 mentioned features solved.
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Gemäß der Erfindung wird das in einer monolithisch integrierten Schaltung enthaltene Speicherfeld mittels eines Transistors, zwischen dessen Basis- und Kollektorzone eine Schottky-Diode ausgebildet ist, selektiv und in Abhängigkeit von einem Steuersignal an eine Erdleitung angeschaltet oder von ihr abgetrennt.According to the invention, the memory field contained in a monolithically integrated circuit is generated by means of a transistor, a Schottky diode is formed between its base and collector zone, selectively and as a function of a control signal connected to or disconnected from an earth line.
In einer bevorzugten AusfUhrungsform umfaßt die monolithisch integrierte Schaltung ein Halbleitersubstrat, einen ersten auf diesem Halbleitersubstrat ausgebildeten Leiter, über den die Schaltung mit einem positiven Potential einer Versorgungsquelle verbindbar ist, einen zweiten auf dem Halbleitersubstrat ausgebildeten Leiter, der als Erdleiter fungiert und durch die Schaltung mit einem negativen Pol der Versorgungsquelle verbindbar ist, einen dritten Leiter, ein auf dem Halbleitersubstrat ausgebildetes Speicherfeld, eine aus einer Vielzahl von miteinander verbundenen auf dem Halbleitersubstrat ausgebildeten aktiven und passiven Elementen bestehende Adressierschaltung mit einer Vielzahl von Ausgangstransistoren, deren jeder in Abhängigkeit von seiner Basis zuführbaren Steuersignalen zwischen einem leitenden und einem nichtleitenden Zustand umschaltbar ist, wobei die Kollektorelektrode jedes dieser Ausgangstransistoren mit dem ersten und seine Emitterelektrode mit dem dritten Leiter verbunden ist, sowie eine auf dem Halbleitersubstrat ausgebildete Ruheleistungssteuerschaltung, die ein Paar von Tran sistoren beinhaltet, die in einer aktiven Ansprechkonfiguration angeordnet sind, wobei einer von ihnen * mit der Emitterelektrode an den als Erdleiter fungierenden zweiten Leiter und mit der Kollektorelektrode an den dritten Leiter angeschlossen ist und zwischen der Kollektor« und der Basiszone dieses Transistors eine Schottky-Diode ausgebildet ist. In a preferred embodiment, the monolithic integrated circuit comprises a semiconductor substrate, a first conductor formed on this semiconductor substrate, via which the circuit can be connected to a positive potential of a supply source, a second conductor formed on the semiconductor substrate, which functions as a ground conductor and is connected by the circuit can be connected to a negative pole of the supply source, a third conductor, a memory field formed on the semiconductor substrate, an addressing circuit consisting of a multiplicity of interconnected active and passive elements formed on the semiconductor substrate with a multiplicity of output transistors , each of which can be supplied depending on its base Control signals can be switched between a conductive and a non-conductive state, the collector electrode of each of these output transistors being connected to the first conductor and its emitter electrode to the third conductor and a quiescent power control circuit formed on the semiconductor substrate and including a pair of transistors arranged in an active response configuration, one of them having the emitter electrode connected to the second conductor functioning as a ground conductor and the collector electrode connected to the third conductor is connected and a Schottky diode is formed between the collector and the base zone of this transistor.
Ia folgenden sei die Erfindung anhand des in der Zeichnung dar gestellten AusfUhrungsbeispiels näher erläutert: In the following, the invention will be explained in more detail with reference to the exemplary embodiment shown in the drawing:
Fig. 1 zeigt ein Blockschaltbild eines programmierbaren Fest wertspeichers (PR(Mf) gemäß der Erfindung,Fig. 1 shows a block diagram of a programmable read-only memory (PR (Mf) according to the invention,
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Fig. 2 zeigt ein Diagramm, das die Beziehung zwischen Fig. 2A und 2B darstellt,Fig. 2 is a diagram showing the relationship between Figs. 2A and 2B,
Fig. 2A zeigen - zusammengesetzt - ein Schaltschema des in 1111(1 2B Fig. 1 dargestellten PROM 1S2A show - put together - a circuit diagram of the PROM 1 S shown in 1111 (1 2B FIG. 1
Fig. 3 zeigt - in etwas verzerrter Darstellung - einen Querschnitt durch einen pnp-Transistor, der bei dem in Fig. dargestellten PROM Verwendung findet,Fig. 3 shows - in a somewhat distorted representation - a cross section through a pnp transistor, which in the case of the one shown in Fig. PROM shown is used,
Fig. 4 zeigt - in etwas verzerrter Darstellung - einen Querschnitt durch einen npn-Transistor, der bei dem in Fig. 1 dargestellten PROM Verwendung findet.Fig. 4 shows - in a somewhat distorted representation - a cross section through an npn transistor, which in the in Fig. 1 shown PROM is used.
Der in Fig. 1 dargestellte programmierbare Festwertspeicher (PROM) 10 ist unter Anwendung üblicher Fertigungsverfahren zur Herstellung monolithisch integrierter Schaltungen auf einem einzigen kristallinen Halbleitersubstrat aus p-leltendem Silicium ausgebildet.The illustrated in Fig. 1 programmable read-only memory (PROM) 10 is using conventional manufacturing methods for Manufacture of monolithic integrated circuits on a single crystalline semiconductor substrate made of p-type silicon educated.
Das PROM 10 beinhaltet ein Feld 14 von Speicherelementen zur Speicherung von 2048 Bits in einer Anordnung von 512 Wörtern zu je 4 Bits, eine Adressierschaltung 16 zur Ansteuerung des Speicherfeldes 14 in Abhängigkeit von Binärsignalen, die von einer (nicht dargestellten) Adressensignalquelle an Eingangsanschlüsse Aq bis Aq geliefert werden, eine ROM-Ausgangsaktivierungsschaltung zur Aktivierung eines ausgewählten Exemplars der 512 Vier-Bit-Wörter, das über Ausgangspufferschaltungen 20a bis 2Od mit Ausgangsanschlüssen O1 bis O^ zu verbinden ist, eine ROM-Programmaktivierungsschaltung zur Einspeicherung von Bit-Informationen in das Speicherfeld 14 in Abhängigkeit von einem an einem Aktivierungsanschluß E angelegten Programmaktivierungssignal, eine Schaltung 24' zur Leistungsanschaltung, mittels derer die Adressierschaltung 16 in Abhängigkeit von einem von einer (nicht dargestellten) Ruhe- oder Chip-Steuerungssignalquelle an den Aktivierungsanschluß E gelieferten Ruhe-The PROM 10 includes an array 14 of memory elements for storing 2048 bits in an arrangement of 512 words of 4 bits each, an addressing circuit 16 for controlling the memory array 14 as a function of binary signals sent from an address signal source (not shown) to input connections Aq to Aq, a ROM output activation circuit for activating a selected copy of the 512 four-bit words, which is to be connected to output terminals O 1 to O ^ via output buffer circuits 20a to 20d, a ROM program activation circuit for storing bit information in the Memory field 14 as a function of a program activation signal applied to an activation connection E, a circuit 24 'for switching on the power, by means of which the addressing circuit 16 is supplied to the activation connection E as a function of an idle or chip control signal source (not shown).
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oder Chip-Steuersignal an eine (nicht dargestellte) +5V-Versorgungsspannung anschaltbar ist, eine +VÄ -Leitung 26 zuror the chip control signal can be connected to a (not shown) + 5V supply voltage, a + V Ä line 26 for
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Zuführung des positiven Potentials der +SV-Versorgungsspannung über einen mit "V." bezeichneten Anschluß, sowie einen Erdleiter 28 zur Zuführung des negativen Potentials (Nasse) der +SV-Versorgungsspannung über einen mit "GND" bezeichneten Anschluß. Die einzelnen Schaltfunktionen werden weiter unten erläutert.The positive potential of the + SV supply voltage is supplied via a "V." designated connection, as well as a ground conductor 28 for supplying the negative potential (wet) of the + SV supply voltage via a connection labeled "GND". The individual switching functions are explained below.
Die Adressierschaltung 16 beinhaltet eine X-Adresseninverterschaltung 30, eine X-Decodierschaltung 32, eine Y-Adresseninverterschaltung 34 sowie eine Y-Decodierschaltung 36, deren Einzelheiten in Fig. 2A dargestellt sind.The addressing circuit 16 includes an X address inverter circuit 30, an X decoding circuit 32, a Y address inverter circuit 34 and a Y decoding circuit 36, whose Details are shown in Figure 2A.
Zunächst sei die X-Adresseninverterschaltung 30 näher beschrieben. Sie umfaßt eine Mehrzahl (im Beispiel 5) von X-Adresseninvertern 38a bis 38e, die in der dargestellten Weise mit den betreffenden Eingangsanschlüssen A^ bis Ag verbunden sind. Der X-Adresseninverter 38e ist beispielhaft dargestellt. Er besitzt einen pnp-Transistor 40, dessen Basiselektrode 40b mit dem Eingangsanschluß Ag, dessen Emitterelektrode 4Oe über einen Widerstand 42 mit der +V_ -Leitung und dessen Kollektor-First, the X address inverter circuit 30 will be described in more detail. It comprises a plurality (in example 5) of X-address inverters 38a to 38e, which in the manner shown with the respective input terminals A ^ to Ag are connected. The X address inverter 38e is shown as an example. It has a pnp transistor 40, the base electrode 40b of which with the input terminal Ag, whose emitter electrode 4Oe via a resistor 42 to the + V_ line and whose collector
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elektrode 40c mit dem Erdleiter 28 in Verbindung stehen. Die Ausbildung eines derartigen Transistor 40 in dem Halbleitersubstrat 12 ist in Fig. 3 dargestellt. Der Transistor ist von anderen in dem Substrat 12 gebildeten aktiven Elementen durch p+ -leitende Regionen 42 elektrisch isoliert, die in eine η-leitende Epitaxie-Schicht 44 in der dargestellten Weise eindiffundiert sind. Eine n+-leitende Region 46, die in der dargestellten Weise in die Epitaxie-Schicht 44 eindiffundiert ist, bildet die Basiszone des Transistors 40. Eine in der dargestellten Weise in die Epitaxie-Schicht 44 eindiffundierte p-leitende Region 48 bildet die Emitterzone des Transistors Die Basiselektrode 40b ist über der Oxidschicht 49 ausgebildet und steht in ohmschen Kontakt mit der Basiszone 46. Die Emitterelektrode 4Oe steht in der dargestellten Weise in ohmschenElectrode 40c with the ground conductor 28 are in connection. The formation of such a transistor 40 in the semiconductor substrate 12 is shown in FIG. 3. The transistor is electrically isolated from other active elements formed in the substrate 12 by p + -conducting regions 42 which are diffused into an η -conducting epitaxial layer 44 in the manner shown. An n + -conducting region 46, which is diffused into the epitaxial layer 44 in the illustrated manner, forms the base zone of the transistor 40. A p -conducting region 48 diffused into the epitaxial layer 44 in the illustrated manner forms the emitter zone of the Transistor The base electrode 40b is formed over the oxide layer 49 and is in ohmic contact with the base zone 46. The emitter electrode 40e is in ohmic contact in the manner shown
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Kontakt mit dem p+-leitenden Isolationsbereich. Zur Herstellung finden die üblichen Fertigungsverfahren für monolithisch integrierte Schaltungen Anwendung. Das p-leitende Substrat 12 bildet daher die Kollektorzone des Transistors 40, die Kollektorelektrode 40c ist mit dem Erdleiter 56 (Fig. 2A) verbunden und steuert damit das Zusammenschalten zwischen dem Erdleiter 28 und der Kollektorzone des Transistors 40 (d.h. dem Substrat 12) über den p+-leitenden Isolationsbereich 42.Contact with the p + -conducting insulation area. The usual manufacturing processes for monolithically integrated circuits are used for production. The p-conducting substrate 12 therefore forms the collector zone of the transistor 40, the collector electrode 40c is connected to the ground conductor 56 (FIG. 2A) and thus controls the interconnection between the ground conductor 28 and the collector zone of the transistor 40 (ie the substrate 12) the p + -conducting insulation region 42.
Es sei noch einmal auf den in Fig. 2A dargestellten X-Adresseninverter 38e Bezug genommen: Die Emitterelektrode 4Oe des Transistors 40 ist ferner mit der Basiselektrode eines npn-Vielfachemittertransistors 48 verbunden, der mit einer Schottky-Klemmdiode ausgestattet ist. Die Kollektorelektrode des Transistors 48 ist über einen Widerstand 43 mit der +V_ -LeitungAgain, the X-address inverter shown in Fig. 2A Referring to Fig. 38e, the emitter electrode 40e of transistor 40 is also connected to the base electrode of an npn multiple emitter transistor 48 connected, which is equipped with a Schottky clamp diode. The collector electrode of the transistor 48 is connected to the + V_ line via a resistor 43
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verbunden. Eine Emitterelektrode des Transistors 48 ist mit einem Schaltungspunkt 54 mit der Kollektorelektrode eines Transistors 52 verbunden. Der Schaltungspunkt 54 ist über einen Widerstand 45 an die +V -Leitung 26 sowie an eine Leitung Ä'Q ange-tied together. An emitter electrode of the transistor 48 is connected at a node 54 to the collector electrode of a transistor 52. The circuit point 54 is connected via a resistor 45 to the + V line 26 and to a line A ' Q
CC OCC O
schlossen. Der zweite Emitter des Transistors 48 steht mit der Basiselektrode des Transistors 52 sowie über einen Widerstand 47 mit einem geschalteten Erdleiter 56 in Verbindung. Die Emitterelektrode des Transietors 52 ist ebenfalls mit dem geschalteten Erdleiter 56 verbunden. Es sei hier unter Hinweis auf Fig. 1 erwähnt, daß der in der Adressierschaltung vorgesehene schaltbare Erdleiter 56 von der Schaltung 24 zur Leistungsanschaltung mit dem Erdleiter 28 verbunden wird, wenn das PROM 10 aktiviert wird, und daß der geschaltete Erdleiter von der Schaltung 24 zur Leistungsanschaltung von dem Erdleiter 28 wieder abgetrennt wird, wenn das PROM 10 in den Ruhezustand gelangen soll. Diese Schaltzustände werden von einem Ruhe- oder Chip-Steuersignal gesteuert, das dem Anschluß 1 zugeführt wird. Die Art dieser Steuerung wird weiter unten erläutert. Hier sei nur soviel erwähnt, daß dann, wenn der geschaltete Erdleiter 56 mit dem Erdleiter 28 verbunden (und damit das PROM 10 aktiviert) ist, das PROM 10 an die (nicht dargestellte) +5V-Versorgungsspannung angeschlossen ist. Das closed. The second emitter of transistor 48 is connected to the base electrode of transistor 52 and, via a resistor 47, to a switched ground conductor 56. The emitter electrode of the transit gate 52 is also connected to the switched ground conductor 56. It should be mentioned here, with reference to FIG. 1, that the switchable earth conductor 56 provided in the addressing circuit is connected from the circuit 24 for power connection to the earth conductor 28 when the PROM 10 is activated, and that the switched earth conductor from the circuit 24 to Power connection is disconnected from the earth conductor 28 again when the PROM 10 is to go into the idle state. These switching states are controlled by an idle or chip control signal that is fed to terminal 1. The nature of this control is explained below. Suffice it to say here that when the switched ground conductor 56 is connected to the ground conductor 28 (thus activating the PROM 10), the PROM 10 is connected to the + 5V supply voltage (not shown). That
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auf der Leitung Ä'8 erscheinende Signal ist dann aus folgenden Gründen das Komplement des an dem Eingangsanschluß Ag anliegenden Signals: (1) Wenn das Signal an dem Eingangsanschluß AQ einen hohen Pegelwert besitzt (also eine logische W1W darstellt), gelangt der Transistor 40 in seinen "AUS"-Zustand und die Transistoren 48 und 52 in ihren "EIN"-Zustand und verbinden damit den Schaltungspunkt 54 mit dem geschalteten Erdleiter und daher mit Erdpotential, so daß auf der Leitung Ä'g ein niedriger Pegelwert (d.h. eine logische "0")erzeugt wird; (2) wenn das Signal an dem Eingangsanschluß A3 einen niedrigen Pegelwert hat, wird der Transistor 40 eingeschaltet und steuert die Transistoren 48 und 52 in den "AUS"-Zustand, wodurch der Schaltungspunkt 54 von der Leitung 56 abgetrennt wird und ein Signal mit hohem Pegelwert auf der Leitung Ä'g erzeugt. Wenn das PROM sich im Ruhezustand befindet und der geschaltete Erdleiter 56 von dem Erdleiter 28 abgetrennt ist, sind die Transistoren 48 und 52 im wesentlichen nichtleitend, so daß an den Widerständen 43, 45 und 47 im wesentlichen auch kein Leistungsverlust auftritt. Die Kollektorelektrode des Transistors 48 ist in der dargestellten Weise Über einen Widerstand 57 mit der Basiselektrode des Transietors 50 verbunden. Die Kollektorelektrode des Transistors 50 ist mit der Basiselektrode eines Transistors 60 und Über einen Widerstand 58 mit der +νΛ -Leitung 26 verbunden. Eine Emitterelektrode des Transistors 50 ist mit der Emitterelektrode 60 und am Schaltungspunkt mit der Kollektorelektrode des Transistors 62 verbunden. Eine zweite Emitterelektrode des Transistors 50 ist mit der Basiselektrode des Transistors 62 und Über einen Widerstand 66 mit dem geschalteten Erdleiter 56 verbunden. Die Emitterelektrode des Transistors 62 steht ebenfalls mit dem geschalteten Erdleiter 56 in Verbindung. Die Leitung A'8 ist mit dem Schaltungspunkt 54 verbunden; wenn der geschaltete Erdleiter durch die Schaltung 24 zur Leistungsanschaltung (Fig. 1) mit dem Erdleiter 28 zusammengeschaltet 1st, stimmt das Signal auf dieser Leitung A1Q Bit dem Signal am Eingangsanschluß A8 Uberein. Die Arbeitsweise der Transistoren 50 und 62 in AbhängigkeitThe signal appearing on the line A ' 8 is then the complement of the signal present at the input terminal Ag for the following reasons: (1) If the signal at the input terminal A Q has a high level value (i.e. represents a logical W 1 W ), the Transistor 40 in its "OFF" state and transistors 48 and 52 in their "ON" state, thereby connecting node 54 to the switched ground conductor and therefore to ground potential, so that a low level value (ie a logic "0") is generated; (2) When the signal at the input terminal A 3 is low, the transistor 40 is turned on and controls the transistors 48 and 52 in the "OFF" state, whereby the node 54 is disconnected from the line 56 and a signal with generated high level value on the line Ä'g. When the PROM is idle and the switched ground conductor 56 is disconnected from the ground conductor 28, the transistors 48 and 52 are essentially non-conductive so that there is essentially no power loss across the resistors 43, 45 and 47 either. The collector electrode of the transistor 48 is connected to the base electrode of the transistor 50 via a resistor 57 in the manner shown. The collector electrode of the transistor 50 is connected to the base electrode of a transistor 60 and via a resistor 58 to the + ν Λ line 26. An emitter electrode of the transistor 50 is connected to the emitter electrode 60 and to the collector electrode of the transistor 62 at the node. A second emitter electrode of the transistor 50 is connected to the base electrode of the transistor 62 and via a resistor 66 to the switched ground conductor 56. The emitter electrode of transistor 62 is also connected to switched ground conductor 56. Line A ' 8 is connected to node 54; if the switched earth conductor is interconnected with the earth conductor 28 by the circuit 24 for power connection (FIG. 1), the signal on this line A 1 Q bit matches the signal at the input terminal A 8. The operation of the transistors 50 and 62 as a function
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von dem Signal an der Basiselektrode des Transistors 50 ist mit der Arbeitsweise der Transistoren 48 und 52 in Abhängigkeit von dem Signal an der Basiselektrode des Transistors 48 äquivalent. Wenn sich das PROM 10 im Ruhezustand befindet, der geschaltete Erdleiter 56 also von dem Erdleiter 28 abgetrennt ist, sind die Transistoren 50, 60 und 62 im wesentlichen nichtleitend und somit findet in den Widerständen 57, 58 und im wesentlichen kein Leistungsverbrauch statt.the signal at the base electrode of transistor 50 is dependent on the operation of transistors 48 and 52 from the signal at the base electrode of transistor 48 is equivalent. When the PROM 10 is idle, the switched Ground conductor 56 is thus separated from ground conductor 28, transistors 50, 60 and 62 are essentially non-conductive and thus there is essentially no power consumption in the resistors 57, 58 and.
Im folgenden sei die Y-Adresseninverterschaltung 34 näher betrachtet: Sie umfaßt eine Vielzahl von (im Beispiel 4) identisch aufgebauten Y-Adresseninvertem 70a bis 7Od. Diese Inverter 70a bis 7Od sind in der dargestellten Weise mit den betreffenden Eingangsanschlüssen AQ bis A, verbunden. Ein Exemplar der Inverter 70a bis 7Od - nämlich der Inverter 7Od - ist ausführlicher dargestellt: Er umfaßt einen pnp-Transistor 72, der in ähnlicher Weise ausgebildet ist, wie der Transistor 40 (Fig. 3). Die Basiselektrode dieses Transistors 72 ist in der dargestellten Weise mit dem Eingangsanschluß A* verbunden. Seine Kollektorelektrode ist über einen Widerstand mit der +V„ -Leitung 26 sowie mit der Basiselektrode eines TransistorsThe Y address inverter circuit 34 is considered in more detail below: It comprises a multiplicity of (in example 4) identically constructed Y address inverters 70a to 70d. These inverters 70a to 70d are connected to the relevant input connections A Q to A in the manner shown. One example of the inverters 70a to 70d - namely the inverter 70d - is shown in more detail: it comprises a pnp transistor 72 which is designed in a similar manner to the transistor 40 (FIG. 3). The base electrode of this transistor 72 is connected to the input terminal A * as shown. Its collector electrode is connected via a resistor to the + V "line 26 and to the base electrode of a transistor
74 verbunden. Dessen Kollektorelektrode ist sowohl mit der Basiselektrode eines Transistors 76 als auch über einen Widerstand 73 mit der +V_ -Leitung 26 verbunden. Die Emitterelektro-74 connected. Its collector electrode is connected both to the base electrode of a transistor 76 and via a resistor 73 connected to the + V_ line 26. The emitter electro
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de des Transistors 74 ist mit der Basiselektrode eines Traneistors 78 und über einen Widerstand 80 mit dem geschalteten Erdleiter 56 verbunden. Die Kollektorelektrode des Transistors 76 ist mit der +V„ -Leitung 26 verbunden, seine Emitterelektro-De of the transistor 74 is connected to the base electrode of a transistor 78 and via a resistor 80 to the switched ground conductor 56. The collector electrode of the transistor 76 is connected to the + V "line 26, its emitter electrode
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de ist über eine Schottky-Diode 86 mit einem Schaltungspunkt 84 verbunden. Die Kollektorelektrode des Transistors 78 ist mit dem Schaltungspunkt 84, seine Emitterelektrode mit dem geschalteten Erdleiter 56 verbunden. Die Leitung Ä'* ist an den Schaltungspunkt 84 angeschlossen. Wenn das PROM 10 aktiviert, d.h. der geschaltete Erdleiter 56 mit dem Erdleiter 28 zusammengeschaltet ist, ist das Signal auf der Leitung Ä', aus folgenden Gründen das Komplement des Signals am Eingangs- de is connected to a circuit point 84 via a Schottky diode 86. The collector electrode of the transistor 78 is connected to the node 84, and its emitter electrode is connected to the switched ground conductor 56. The line Ä '* is connected to the circuit point 84. When the PROM 10 is activated, that is, the switched earth conductor 56 is interconnected with the earth conductor 28, the signal on the line 'is the complement of the signal at the input - for the following reasons
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- JT-- JT-
AS 27S3607 AS 27S3607
anschluß A,: (1) Wenn das Signal am Eingangsanschluß A, einen hohen Pegelwert hat, gelangt der Transistor 72 in seinen "AUS"-Zustand, und die Transistoren 74 und 78 werden eingeschaltet und verbinden den Schaltungspunkt 84 mit Erdpotential; (2) wenn das Signal am Eingangsanschluß A, einen niedrigen Pegelwert hat, wird der Transistor 72 eingeschaltet, wodurch die Transistoren 74 und 78 in ihren nichtleitenden Zustand gesteuert werden, so daß der Schaltungspunkt 84 auf einen hohen Pegelwert gelangt. Das Signal am Schaltungspunkt 84 wird der Basiselektrode des Transistors 74f über eine Schottky-Diode 90 und einen Widerstand 92 zugeführt. (Der gemeinsame Verbindungspunkt zwischen der Schottky-Diode 90 und dem Widerstand 92 ist über einen Widerstand 94 in der dargestellten Weise mit der +V„ -Leitung 26 verbunden.) Die Transistoren 74', 76' und 78',Terminal A,: (1) When the signal at input terminal A, is high, transistor 72 becomes "OFF" and transistors 74 and 78 are turned on and connect node 84 to ground potential; (2) When the signal at input terminal A i is low, transistor 72 is turned on, thereby driving transistors 74 and 78 to their non-conductive state so that node 84 goes high. The signal at node 84 is fed to the base electrode of transistor 74 f via a Schottky diode 90 and a resistor 92. (The common connection point between the Schottky diode 90 and the resistor 92 is connected to the + V "line 26 via a resistor 94 in the manner shown.) The transistors 74 ', 76' and 78 ',
die Widerstände 80', 73* und die Diode 86* sind genauso angeordnet wie die oben beschriebenen Transistoren 74, 76 und 78, die Widerstände 80, 73 und die Diode 86. Daraus folgt, daß dann, wenn das PROM 10 sich im Arbeitszustand befindet,(d.h., -der geschaltete Erdleiter 36 mit dem Erdleiter 28 zusammengeschaltet ist), das Signal auf Leitung A1, (das 1st das Signal an der Kollektorelektrode des Transistors 78') genau dem Signal am Eingangsanschluß A^ entspricht. In gleicher Weise folgt daraus, daß dann, wenn das PROM 10 sich im Ruhezustand befindet im wesentlichen keine Leistung in den Widerständen 73' und 80' verbraucht wird.the resistors 80 ', 73 * and the diode 86 * are arranged in the same way as the above-described transistors 74, 76 and 78, the resistors 80, 73 and the diode 86. It follows that when the PROM 10 is in the working state , (ie, switched ground conductor 36 is interconnected with ground conductor 28), the signal on line A 1 (which is the signal on the collector electrode of transistor 78 ') corresponds exactly to the signal on input terminal A ^. Likewise, it follows that when PROM 10 is idle, essentially no power is consumed in resistors 73 'and 80'.
Iiο folgenden sei nun die X-Decodierschaltung 32 näher beschrieben: Sie beinhaltet eine Vielzahl von (hier 32) identisch aufgebauten logischen NAND-Gliedern 100Q bis ICK)51. Das NAND-Glied 10Oq ist exemplarisch dargestellt; Es umfaßt einen Vielfachemitter-Eingangstransistor 102, dessen Basiselektrode Über einen Widerstand 104 mit der +V- -Leitung 26 verbunden ist.The X decoding circuit 32 will now be described in more detail below: It contains a multiplicity of (here 32) identically constructed logic NAND gates 100 Q to ICK) 51 . The NAND element 10Oq is shown as an example; It comprises a multiple emitter input transistor 102, the base electrode of which is connected to the + V- line 26 via a resistor 104.
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In der vorliegenden Darstellung besitzt der Transistor 102 fünf Emitterelektroden, von denen jede über eine Verbindungsanordnung 105 an einen der X-Adresseninverter 38a bis 38e angeschlossen ist. Die Verbindungsanordnung 103 umfaßt eineIn the present illustration, the transistor 102 has five emitter electrodes, each of which via a connection arrangement 105 to one of the X-address inverters 38a to 38e connected. The connector assembly 103 includes a
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Vielzahl von (nicht dargestellten) Verbindern. Diese dienen zur Verbindung der Leitungen 51^, ^'5» ^'6' ^V 1^10 ^'θ m** ^e~ weile einer" der fünf Emitterelektroden des Transistors 102. Die Kollektorelektrode des Transistors 102 ist über einen Widerstand 110 mit der Basiselektrode eines Transistors 108 verbunden. Die Kollektorelektrode des Transistors 108 steht über einen Widerstand 112 mit der +V„ -Leitung 26 und überVariety of connectors (not shown). These serve to connect the lines 5 1 ^, ^ '5 »^' 6 '^ V 1 ^ 10 ^' θ m ** ^ e ~ while one" of the five emitter electrodes of the transistor 102. The collector electrode of the transistor 102 is via a Resistor 110 is connected to the base electrode of a transistor 108. The collector electrode of transistor 108 protrudes through a resistor 112 to the + V "line 26 and over
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eine Schottky-Diode 116 mit der Kollektorelektrode eines Transistors 11A in Verbindung. Die Emitterelektrode des Transistors 108 ist mit der Basiselektrode des Transistors 114 und über einen Widerstand 117 mit dem geschalteten Erdleiter 56 verbunden. Die Emitterelektrode des Transistors 114 ist mit dem geschalteten Erdleiter 56 verbunden, seine Kollektorelektrode steht mit der +V_ -Leitung 26 in Verbindung. Wenna Schottky diode 116 in communication with the collector electrode of a transistor 11A. The emitter electrode of the transistor 108 is connected to the base electrode of the transistor 114 and via a resistor 117 to the connected earth conductor 56 connected. The emitter electrode of transistor 114 is connected to switched ground conductor 56, its collector electrode is in communication with the + V_ line 26. if
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das PROM 10 aktiviert ist, d.h. der geschaltete Erdleiter 56 mit dem Erdleiter 58 zusammengeschaltet ist, wird der Transistor 114 in Abhängigkeit von Signalen mit hohem Pegelwert auf Jeder der Leitungen Ä'^, Ä1,-, Ä·/-, £'„ und £'» in seinen leitenden Zustand gesteuert. Er gelangt wieder in seinen "AUS"-Zustand, wenn das Signal auf irgendeiner dieser Leitungen einen niedrigen Pegelwert annimmt. Das Signal an der Kollektorelektrode des Transistors 114 wird an die Leitung Rq weitergegeben. Die Leitung Rq hat deshalb einen niedrigen Pegelwert wenn an den EingangsanschlUssen A^ bis Ag ein Binärwort 00000 erscheint. FUr Jedes andere Binärwort an diesen EingangsanschlUssen besitzt das Signal auf Leitung Rq hingegen einen hohen Pegelwert. Wenn das PROM 10 aktiviert ist, liefern die NAND-Glieder 10Oq bis 10Oz1 in Abhängigkeit von den an den EingangsanschlUseen A^ bis Ag anliegenden Binärsignalen auf den Leitungen Rq bis Signale mit hohem Pegelwert nach folgender Tabelle *the PROM 10 is activated, ie the switched earth conductor 56 is interconnected with the earth conductor 58, the transistor 114 is activated in response to signals with a high level value on each of the lines '^, 1 , -, · / -, £'" and £ '»controlled in its conducting state. It returns to its "OFF" state when the signal on any of these lines goes low. The signal at the collector electrode of transistor 114 is passed on to line Rq. The line Rq therefore has a low level value when a binary word 00000 appears at the input connections A ^ to Ag. For every other binary word at these input connections, however , the signal on line Rq has a high level value. When the PROM 10 is activated, the NAND gates 10Oq to 10Oz 1 deliver, depending on the binary signals present at the input connections A ^ to Ag, on the lines Rq to signals with a high level value according to the following table *
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Binärsignale an Leitung mit niedri- Leitungen mit hohem Eingangsanschlüssen gern Signalpegel SignalpegelBinary signals on line with low lines with high Input terminals like signal level signal level
A4 *5 A6 OOOOO R0 A 4 * 5 A 6 OOOOO R 0
10 0 0 0 R1 R0, R2 -R31 10 0 0 0 R 1 R 0 , R 2 -R 31
0 1111 R30 R0 -R29, R31 0 1111 R 30 R 0 -R 29 , R 31
11111 R31 R0-R30 11111 R 31 R 0 -R 30
Die Leitungen R0 bis R31t die mit den Auegangssignalen der NAND-Glieder 100Q bis 10O31 beaufschlagt werden, sind mit dem Speicherfeld 14 verbunden. Wenn das PROM 10 sich im Ruhezustand befindet, sind die Transistoren 102, 108 und 114 nichtleitend, deshalb wird in den Widerständen 104, 110, 112 und 117 im wesentlichen keine Leistung verbraucht.The lines R 0 to R 31 t to which the output signals of the NAND elements 100 Q to 10 O 31 are applied are connected to the memory field 14. When the PROM 10 is idle, transistors 102, 108 and 114 are non-conductive, so there is essentially no power dissipation in resistors 104, 110, 112 and 117.
Bevor die Einzelheiten des Y-Multiplexers und der Decodierechaltung 36 erläutert werden, sei erwähnt, daß das Speicherfeld 14 vier identisch ausgebildete Diodenmatrizan 400a bis 40Od besitzt. Die exemplarisch dargestellte Diodenmatrix 400c besteht aus einer rechtwinkligen Matrix von Zellen- und Spaltenleitern,und zwar besitzt sie 32 Zeilenleiter, die in der dargestellten Weise mit den Leitungen R0 bis R31 verbunden sind, und sechzehn mit C0 bis C1C bezeichnete Spaltenleiter. Die Zeilen- und Spaltenleiter sind vor der Programmierung an den Kreuzungspunkten mit Üblichen schmelzbaren Leitungen und Dioden miteinander verbunden, wie dies beispielsweise in der Literaturstelle "The Integrated Circuit Catalogue For Design Engineers", Texas Instruments, Incorporated, Dallas, Texas, page 9-366, beschrieben ist. Das Programmleren und Auslesen des Speicher-Before the details of the Y multiplexer and the decoding circuit 36 are explained, it should be mentioned that the memory field 14 has four identically designed diode matrices 400a to 40Od. The diode matrix 400c shown as an example consists of a right-angled matrix of cell and column conductors, namely it has 32 row conductors, which are connected to lines R 0 to R 31 as shown , and sixteen column conductors labeled C 0 to C 1 C . The row and column conductors are connected to one another at the crossing points prior to programming with conventional fusible lines and diodes, as described, for example, in the reference "The Integrated Circuit Catalog For Design Engineers", Texas Instruments, Incorporated, Dallas, Texas, page 9-366 is described. The programming and reading of the memory
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feldes wird weiter unten erläutert; hier genügt es darauf hinzuweisen, daß das Speicherfeld 14 dadurch programmiert wird, daß durch ausgewählte Exemplare der schmelzbaren Verbindungen Ströme hindurchgeschickt werden, durch welche diese schmelzbaren Verbindungen aufgetrennt werden, und daß die Daten aus dem Speicherfeld ausgelesen werden, indem festgestellt wird, ob eine ausgewählte schmelzbare Verbindung aufgetrennt ist.field is explained below; here it suffices to point out that the memory field 14 is programmed in that currents are passed through selected specimens of the fusible links which break those fusible links and that the data is read from the memory array by determining whether a selected fusible link is broken.
Im folgenden seien der Y-Multiplexer und die Decodierschaltung 36 näher erläutert: Letztere beinhaltet eine Mehrzahl von (im hier vorliegenden Beispiel 4) identisch ausgebildeten Dioden-Decodierschaltungen 402a bis 402d. Die exemplar-ische Darstellung der Decodierschaltung 402c zeigt einen Dioden-Decodierer 404, der über eine Verbindungsanordnung 406 mit der +Vcc-Leitung 26 und den Signalen auf den Leitungen A'q,. Ä'q» A1^, 1'^1 A'2, Ä'2, Af, und Α1, verbunden ist. Der Diodendecodierer besteht aus einer Matrix von sechzehn Spaltenleitungen 408q bis 4Oe15 und acht Zeilenleitern 410Q bis 41Oy. Die Zeilenleiter 41O0 bis 41O7 sind ^jwöIIs mit einer der Leitungen A'q bis A', und ä'q bis Ä', über die Verbindungsanordnung 406 gemäß folgender Tabelle verbunden:The Y-multiplexer and the decoding circuit 36 are explained in more detail below: The latter contains a plurality of (in the present example 4) identically designed diode decoding circuits 402a to 402d. The exemplary illustration of the decoder circuit 402c shows a diode decoder 404 which is connected to the + V cc line 26 and the signals on the lines A'q,. Ä'q »A 1 ^, 1 '^ 1 A' 2 , Ä ' 2 , A f , and Α 1 , is connected. The diode decoder consists of a matrix of sixteen column lines 408q to 40e 15 and eight row conductors 410 Q to 41Oy. The row conductors 41O 0 to 41O 7 are connected to one of the lines A'q to A ', and ä'q to Ä', via the connection arrangement 406 according to the following table:
A'o - 41O4 A ' o - 41O 4
*f0 * 41O5* f 0 * 41O 5
A^ -> 41O2 A ^ -> 41O 2
A'2 -* 41O0 A ' 2 - * 41O 0
i'2 ·» 41O1 i ' 2 · »41O 1
41O6 41O 6
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Die Spaltenleiter 408q bis 408,.- sind in der dargestellten Weise Jeweils mit der Basiselektrode eines der TransistorenThe column conductors 408q to 408, .- are shown in FIG Way, each with the base electrode of one of the transistors 41 2q bis 4^2,.C verbunden. Die Emitterelektroden der Transistoren41 2q to 4 ^ 2, .C connected. The emitter electrodes of the transistors 412q bis ^12^c sind mit jeweils einer der Leitungen Cq bis C1C verbunden. Die Kollektorelektroden der Transistoren 412 bis 412.]c sind gemeinsam mit einer Leitung 416Q verbunden. Die Leitung 416„ führt zu einer Ausgangspufferschaltung 20c (Fig. 1), die ihrerseits mit dem Ausgangsanschluß 0, (Fig. 1) verbunden ist. Die Arbeitsweise sowie der Aufbau der Ausgangspufferschaltung wird weiter unten erläutert; hier genügt es, darauf hinzuweisen, daß dann, wenn das PROM412q to ^ 1 2 ^ c are each connected to one of the lines Cq to C 1 C. The collector electrodes of the transistors 412 to 412.] c are connected in common to a line 416 Q. The line 416 ″ leads to an output buffer circuit 20c (FIG. 1), which in turn is connected to the output terminal 0, (FIG. 1). The mode of operation and the structure of the output buffer circuit are explained below; Suffice it to say here that when the PROM zur Programmierung aktiviert ist, Strom von einer (nicht dargestellten) mit dem Ausgangsanschluß 0, verbundenen +20 V-Versorgungsspannung über Leitung 416c zu einem ausgewählten Exemplar der Transistoren 412Q bis 412^e und über diesen zu einem ausgewählten Exemplar der sechzehn Spaltenleiter Cq bis C^c in der Diodenmatrix 400c fließt. Das entsprechende Exemplar der Transistoren 412Q bis 412^ wird in Abhängigkeit von den Signalen auf den Leitungen A'q bis A1, und ä'q bis Ä', ausgewählt. Die folgende Tabelle zeigt die Beziehung zwischen den Signalen auf den Leitungen A'q bis A1, und i'o bis Ä', und dem jeweils ausgewählten Exemplar der Transistoren 412Q bis 41215:is activated for programming, current from a (not shown) connected to the output terminal 0, +20 V supply voltage via line 416c to a selected copy of the transistors 412 Q to 412 ^ e and via this to a selected copy of the sixteen column conductors Cq to C ^ c flows in the diode matrix 400c. The appropriate copy of the transistors 412 Q to 412 ^ is selected as a function of the signals on the lines A'q to A 1 , and A'q to A '. The following table shows the relationship between the signals on lines A'q to A 1 , and i ' o to Ä', and the selected example of transistors 412 Q to 412 15 :
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A'o Ä'o A ' o Ä' o
412 412412 412
14 1314 13
412412 412412 412412 412412 412,412, 412( 412 (
412«412 «
412^412 ^
412: 412 :
412 j412 j
412! 412, 412! 412,
11 1011 10
L - niedriger Signalpegel H - hoher SignalpegelL - low signal level H - high signal level
Durch das ausgewählte Exemplar der Transistoren 412 bis 412^- und damit durch ein ausgewähltes Exemplar der sechzehn SpaltenBy the selected copy of the transistors 412 to 412 ^ - and thus through a selected copy of the sixteen columns
leiter Cn bis Cheads C n to C
der Matrix 40Oc fließt Strom über eincurrent flows through the matrix 40Oc
ausgewähltes Exemplar der Zeilenleiter Rq bis IU1 Über die schmelzbare Verbindung, die zwischen dem ausgewählten Zeilenleiter und dem ausgewählten Spaltenleiter liegt. Dieser Strom besitzt eine ausreichende Größe, um die schmelzbare Verbindungselected copy of row conductors Rq to IU 1 via the fusible link that lies between the selected row conductor and the selected column conductor. This stream is of sufficient size to create the fusible link
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aufzutrennen. Einer der zweiunddreißig Zeilenleiter wird ausgewählt, indem der Transistor 114 in einem der 32 NAND-Glieder 10Oq bis 100,.. in seinen leitenden Zustand gesteuert wird. Wenn beispielsweise der mit der Leitung Rq verbundene Zeilenleiter ausgewählt werden soll, haben die Eingangssignale an den Eingangsanschlüssen A^ bis Ag den Wert 00000. Daher haben die Signale auf den Leitungen X V bis Ä'g einen hohen Pegelwert, der Transistor 102 wird in seinen nichtleitenden und der Transistor 114 in seinen leitenden Zustand gesteuert, (unter der Annahme, daß das PROM 10 aktiviert, d.h. der geschaltete Erdleiter 56 mit dem Erdleiter 28 verbunden ist). Wenn also die schmelzbare Verbindung F "geöffnet" werden soll müssen an den Eingangsanschlüssen Aq bis A» die Binärsignale 111100000 anliegen. Strom fließt von der (nicht dargestellten) +20 V-Versorgungsspannung, die mit dem Ausgangsanschluß O^ verbunden ist, zu der Ausgangspufferschaltung 20c, dann zur Leitung C1Ct über die schmelzbare Verbindung F, über die Leitung Rq, den Transistor 114, den geschalteten Erdleiter 56, die Schaltung (24) zur Leistungsanschaltung (Fig. 1) zum Erdleiter 28 und schließlich zu dem (nicht dargestellten) Erdanschluß der +20 V-Versorgungsspannung. Auf diese Weise liefern die Auegangspufferschaltungen 402a bis 402d die "Spaltenadressen" für die schmelzbaren Verbindungen in den betreffenden Matrizen 400a bis 40Od. Die "Zeilenadressen" der schmelzbaren Verbindungenin allen Matrizen 400a bis 40Od werden durch die Signale auf den Leitungen Rq bis R^1 ausgewählt, da diese Leitungen in der dargestellten Weise mit allen Matrizen 400a bis 40Od verbunden sind.to separate. One of the thirty-two row conductors is selected by controlling the transistor 114 in one of the 32 NAND gates 10Oq to 100, .. into its conductive state. For example, if the row conductor connected to line Rq is to be selected, the input signals at input terminals A ^ to Ag have the value 00000. Therefore, the signals on lines XV to Ä'g have a high level value, transistor 102 becomes non-conductive and transistor 114 is driven into its conductive state (assuming PROM 10 activated, ie, switched ground conductor 56 is connected to ground conductor 28). If the fusible connection F is to be "opened", the binary signals 111100000 must be present at the input connections Aq to A ». Current flows from the +20 V supply voltage (not shown) connected to output terminal O ^ to output buffer circuit 20c, then to line C 1 Ct via fusible link F, via line Rq, transistor 114, den connected earth conductor 56, the circuit (24) for power connection (Fig. 1) to the earth conductor 28 and finally to the (not shown) earth connection of the +20 V supply voltage. In this way, the output buffer circuits 402a to 402d provide the "column addresses" for the fusible links in the relevant matrices 400a to 40od. The "row addresses" of the fusible links in all of the matrices 400a through 40Od are selected by the signals on lines Rq through R ^ 1 , since these lines are connected to all of the matrices 400a through 40Od as shown.
In Fig. 2B ist exemplarisch eine der Ausgangspufferschaltungen 20a bis 2Od - nämlich die Ausgangspufferschaltung 20c -dargestellt. Sie umfaßt einen Programmierabschnitt 502 und einen Leseabschnitt 504. Der Programmierabschnitt 502 beinhaltet ein Transistorpaar 506, 508, das in Darlingtonschaltung angeordnet ist. Die Emitterelektrode des Transistors 508 istFIG. 2B exemplifies one of the output buffer circuits 20a to 20d - namely the output buffer circuit 20c - shown. It comprises a programming section 502 and a reading section 504. The programming section 502 includes a pair of transistors 506, 508 which are Darlington connected is arranged. The emitter electrode of transistor 508 is
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mit Leitung 416c verbunden, die Kollektorelektroden der Transistoren 506 und 508 sind mit dem Ausgangsanschluß 0, verbunden. Die Emitterelektrode des Transistors 506 ist in der dargestellten Weise mit einer Diode 510 und der Basiselektrode des Transistors 508 verbunden. Die Basiselektrode des Transistors 506 ist über einen Widerstand 514 und eine Diode 516 mit der zu dem Ausgang der PROM-ProgrammaktierungsschaBung 22 führenden Leitung 512 verbunden. Die Kathoden der Dioden 516 und 510 sind miteinander und mit der Leitung 512 verbunden. Der Leseabschnitt 504 beinhaltet einen Transistor 522, dessen Emitterelektrode mit dem Erdleiter 28 und dessen Kollektorelektrode mit einer Schottky-Diode 524 und dem Ausgangsanschluß 0, verbunden sind. Seine Basiselektrode ist über einen Widerstand 526 mit dem Erdleiter 28, über den Widerstand 530 mit der Basis eines Transistors 528 sowie mit dem Emitter dieses Transistors 528 verbunden. Die Kollektorelektrode des Transistors 528 ist mit der Basiselektrode eines Transistors 534 und der Anode einer Schottky-Diode 536 sowie über einen Widerstand 532 mit der +V„ -Leitung 26 verbunden. Die Kollektorelektrcde des Transistors 534 ist über einen Widerstand 538 mit der +V -Leitung 26 verbunden. Dieconnected to line 416c, the collector electrodes of the transistors 506 and 508 are connected to the output terminal 0 i. The emitter electrode of transistor 506 is shown in FIG Connected to a diode 510 and the base electrode of transistor 508. The base electrode of transistor 506 is across a resistor 514 and a diode 516 with the line 512 leading to the output of the PROM program activation circuit 22 tied together. The cathodes of diodes 516 and 510 are connected to one another and to line 512. The reading section 504 includes a transistor 522, the emitter electrode of which is connected to the ground conductor 28 and the collector electrode of which is a Schottky diode 524 and the output terminal 0 are connected. Its base electrode is connected to the earth conductor 28 via a resistor 526, Connected via the resistor 530 to the base of a transistor 528 and to the emitter of this transistor 528. the The collector electrode of transistor 528 is connected to the base electrode of a transistor 534 and the anode of a Schottky diode 536 and connected to the + V "line 26 via a resistor 532. The collector electrode of transistor 534 is over a resistor 538 is connected to the + V line 26. the
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Emitterelektrode des Transistors 534 ist mit der Anode der Schottky-Diode 524 verbunden. Die Basiselektrode des Transistors 528 ist über eine Diode 542 und einen Widerstand 541 mit der Emitterelektrode eines Transistors 540 verbunden. Die Kollektorelektrode des Transistors 540 ist über einen Widerstand 544 mit der +V„ -Leitung 26 verbunden. Die BasiselektrodeThe emitter electrode of the transistor 534 is connected to the anode of the Schottky diode 524. The base electrode of the transistor 528 is connected to the emitter electrode of a transistor 540 via a diode 542 and a resistor 541. the The collector electrode of the transistor 540 is connected to the + V "line 26 via a resistor 544. The base electrode
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des Transistors 540 schließlich ist über einen Widerstand 546of transistor 540 is finally via a resistor 546
mit der +V^ -Leitung 26, über die Schottky-Diode 548 und die ccwith the + V ^ line 26, via the Schottky diode 548 and the cc
Diode 550 mit der Kathode der Diode 536 und über die Schottky-Diode 542 mit der Leitung 416c verbunden. Die Einzelheiten der PROM-Programmaktivierungsschaltung 22 und der Schaltung 24 zur Leistungsanschaltung werden weiter unten beschrieben. Es genügt hier, darauf hinzuweisen, ^aß dann, wenn dem Anschluß E ein Programmaktivierungssignal zugeführt wird, auf Leitung 512 eine Spannung, im vorliegenden Beispiel +21 V, auftritt und daß der Erdleiter 28 von der Schaltung 24 zur Leistungsan-Diode 550 to the cathode of diode 536 and across the Schottky diode 542 connected to line 416c. The details of the PROM program activation circuit 22 and circuit 24 for Power connections are described below. It suffices here to point out that ^ ate when the connection E was a Program activation signal is supplied, a voltage, in the present example +21 V, occurs on line 512 and that the earth conductor 28 from the circuit 24 to the power
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schaltung mit dem geschalteten Erdleiter 56 verbunden wird. Infolge dieser Spannung von +21 V auf Leitung 512 erhalten die Transistoren 506 und 508 Basisstrom. Daraufhin fließt von dem positiven Pol der (nicht dargestellten) mit dem Ausgangsanschluß 0, verbundenen Versorgungsspannung Strom über die Transistoren 506 und 508 zur Leitung 416c und zum Erdleiter 28 (d.h. zum negativen Pol der Versorgungsspannung), wodurch eine ausgewählte schmelzbare Verbindung in der Matrix 400c in der oben beschriebenen Weise aufgetrennt wird. Während dieses Programmierungevorgangs erzeugt die ROM-Ausgangsaktivierungsschaltung 18 aus Gründen, .die anschließend erläutert werden, auf der Leitung 520 eine Spannung mit niedrigem Pegelwert. Die Leitung 520 ist in der dargestellten Weise mit der Kathode der Diode 550 und der Kathode der Schottky-Diode verbunden. Daher spannt die während des Programmiervorgangs auf Leitung 520 liegende niedrige Spannung die Dioden 548 und 550 in Durchlaßrichtung vor, wodurch der Transistor 540 in seinen nichtleitenden Zustand gesteuert wird, während die Diode 542 in Sperr-Richtung vorgespannt wird. Da der Transistor 540 ausgeschaltet ist, werden die Transistoren und 522 in ihren nichtleitenden Zustand gesteuert und verhindern so, daß der positive Pol der (nicht dargestellten) mit dem Ausgangsanschluß 0, verbundenen Versorgungsspannung über den Transistor 522 an den Erdleiter 28 angeschaltet wird.circuit is connected to the switched ground conductor 56. As a result of this +21 V voltage on line 512, transistors 506 and 508 receive base current. Thereupon flows from the positive pole of the supply voltage (not shown) connected to the output terminal 0, current via transistors 506 and 508 to line 416c and to ground conductor 28 (i.e. to the negative pole of the supply voltage), whereby a selected fusible link in matrix 400c is severed in the manner described above. While this programming process generates the ROM output enable circuit 18 for reasons explained below become a low voltage on line 520. The line 520 is in the manner shown with the The cathode of the diode 550 and the cathode of the Schottky diode are connected. Hence the tension during the programming process The low voltage on line 520 will forward diodes 548 and 550, causing transistor 540 is controlled in its non-conductive state while the diode 542 is reverse biased. Since transistor 540 is off, the transistors become and 522 are controlled in their non-conductive state and thus prevent the positive pole of the (not shown) with the output terminal 0, connected supply voltage is connected to ground conductor 28 via transistor 522.
Wenn die Operation "Lesen" gewählt wird, befindet sich die Leitung 512 in einem offenem Stromkreis. Daher fließt kein Steuerstrom zu den Transistoren 506 und 508. Außerdem hat das Signal auf Leitung 520 einen hohen Pegelwert, so daß die Dioden 548, 550 und 536 gesperrt sind. Deshalb kann der Transistor 540 in Abhängigkeit von den Signalpegel auf Leitung 416c ein- oder ausgeschaltet werden. Der Signalpegel auf Leitung 416c hängt davon ab, ob die durch die Signale an den EingangsanschlUssen A0 bis A8 ausgewählte schmelzbare Verbindung aufgetrennt ist oder nicht. Falls beispielsweise dasWhen the "read" operation is selected, line 512 is open circuit. Therefore, no control current flows to transistors 506 and 508. In addition, the signal on line 520 is high, so that diodes 548, 550 and 536 are blocked. Therefore, transistor 540 can be turned on or off depending on the signal levels on line 416c. The signal level on line 416c depends on whether or not the fusible link selected by the signals at input terminals A 0 through A 8 is broken. For example, if that
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PROM 10 aktiviert,(d.h. der geschaltete Erdleiter 56 mit dem Erdleiter 28 verbunden) ist, ist einer der ausgewählten Zeilenleiter (d.h. eine der Leitungen Rq bis R,,.) über den eingeschalteten Transistor 114 mit dem geschalteten Erdleiter 56 verbunden und hat deshalb einen niedrigen Signalpegel. Außerdem kann Strom durch ein ausgewähltes Exemplar der Spaltenleiter C0 bis C1J- fließen. Wenn also beispielsweise der Spaltenleiter Rq und der Leiter C^c ausgewählt sind, wird in Abhängigkeit davon, ob die schmelzbare Verbindung F aufgetrennt ist oder nicht, durch den Transistor 412.^ Strom fließen oder nicht. Der Signalpegel auf Leitung 416c ist deshalb niedrig, wenn die Verbindung F nicht aufgetrennt ist, so daß der Transistor 540, der Transistor 528 und der Transistor 522 ausgeschaltet sind und am Ausgangsanschluß 0, eine Spannung mit hohem Pegelwert erzeugt wird. Falls hingegen die Verbindung F aufgetrennt ist, fließt über den Transistor 412^ kein Strom zur Leitung 416c, die Transistoren 540, 528 und 522 sind leitend und erzeugen damit an dem Ausgangsanschluß 0, mit niedrigem Pegelwert.PROM 10 is activated (ie, switched ground conductor 56 is connected to ground conductor 28), one of the selected row conductors (ie, one of lines Rq to R ,,.) Is connected to switched ground conductor 56 via switched-on transistor 114 and therefore has one low signal level. In addition, current can flow through a selected one of the column conductors C 0 to C 1 J-. Thus, for example, when the column conductor Rq and the conductor C ^ c are selected, depending on whether the fusible link F is broken or not, current will flow through the transistor 412. ^ or not. The signal level on line 416c is therefore low when connection F is not disconnected, so that transistor 540, transistor 528 and transistor 522 are switched off and a voltage with a high level value is generated at output terminal 0 ,. If, however, the connection F is broken, no current flows through the transistor 412 ^ to the line 416c, the transistors 540, 528 and 522 are conductive and thus generate 0 at the output terminal with a low level value.
Im folgenden sei diePROM-Programmaktivlerungsschaltung 22 näher beschrieben: Sie beinhaltet eine Zenerdiode 600 (die im vorliegenden Beispiel eine Zenerspannung von 6 V besitzt), eine Diode 602 und einen Widerstand 604. Alle diese Elemente sind in der dargestellten Weise zwischen den Aktivierungsanschluß E und die Eingangsklemme 606 der Schaltung 24 zur Leistungsanschaltung geschaltet. Die Leitung 512 führt zu dem Verbindungspunkt zwischen der Zenerdiode 600 und der Diode 602. Die ROM-Ausgangsaktivierungsschaltung 18 umfaßt einen Vielfachemitter-Traneistor 607, (der in ähnlicher Weise ausgebildet ist wie der Transistor 40 in Fig. 3), dessen Basiselektrode mit den Aktivierungsanschluß E und dessen Kollektorelektrode mit dem Erdleiter 28 verbunden ist. Eine seiner Emitterelektroden ist über einen Widerstand 608 mit der +V„ -Leitung 26 und Über eine Schottky-The PROM program activation circuit 22 will now be described in detail described: It contains a Zener diode 600 (which in the present example has a Zener voltage of 6 V), a diode 602 and a resistor 604. All of these elements are connected as shown between the activation terminals E and the input terminal 606 of the circuit 24 is switched for switching on the power. Line 512 leads to the connection point between the zener diode 600 and the diode 602. The ROM output activation circuit 18 comprises a multiple emitter transistor 607 (which is designed in a similar manner to the transistor 40 in FIG. 3), the base electrode of which is connected to the activation connection E and the collector electrode of which is connected to the ground conductor 28 connected is. One of its emitter electrodes is connected to the + V "line 26 via a resistor 608 and via a Schottky
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Seine zweite Emitterelektrode ist in der dargestellten Weise mit der Basiselektrode des Transistors 610 verbunden. Die Kollektorelektrode dieses Transistors 610 ist mit der Baisselektrode des Transistors 614 und über einen Widerstand 613 mit der +V„,,-Leitung 26 verbunden. Die Kollektorelektrode des TransistorsIts second emitter electrode is in the manner shown connected to the base electrode of transistor 610. The collector electrode of this transistor 610 is with the base electrode of the transistor 614 and via a resistor 613 to the + V "" - line 26 connected. The collector electrode of the transistor
614 ist ebenfalls mit der +V. -Leitung 26 verbunden. Seine614 is also with the + V. Line 26 connected. His
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Emitterelektrode ist über eine Schottky-Diode 618 mit der Kollektorelektrode des Transistors 616 und über eine Schottky-DiodeThe emitter electrode is connected to the collector electrode of the transistor 616 via a Schottky diode 618 and via a Schottky diode
617 mit der Kollektorelektrode des Transistors 619 verbunden. Die Basiselektrode des Transistors 616 ist mit der Emitterelektrode des Transistors 610, über einen Widerstand 620 mit der Basiselektrode des Transistors 610, über einen Widerstand 623 mit der Basiselektrode des Transistors 619 und über einen Widerstand 621 mit der Erdleitung 28 verbunden. Die Emitterelektrode des Transistors 619 1st ebenfalls mit dem Erdleiter 28 verbunden. Die Basiselektrode des Transistors 619 1st über eine Schottky-Diode 640 mit der Kollektorelektrode des Transistors 642 verbunden. Die Basiselektrode des Transistors 642 ist über einen Widerstand 646 mit seiner Emitterelektrode und über einen Widerstand 644 mit der Leitung 512 verbunden. Die Emitterelektrode des Transistors 642 ist mit dem Erdleiter 28 verbunden. Die Emitterelektrode des Transistors 616 ist ebenfalls mit dem Erdleiter 28 verbunden. Die Schottky-Diode617 connected to the collector electrode of transistor 619. The base electrode of the transistor 616 is connected to the emitter electrode of the transistor 610, via a resistor 620 with the base electrode of transistor 610, through a resistor 623 is connected to the base electrode of the transistor 619 and to the ground line 28 via a resistor 621. The emitter electrode of transistor 619 is also connected to the ground conductor 28 connected. The base electrode of the transistor 619 is connected to the collector electrode of the via a Schottky diode 640 Transistor 642 connected. The base electrode of the transistor 642 is connected to its emitter electrode via a resistor 646 and connected to line 512 via resistor 644. The emitter electrode of transistor 642 is connected to the ground conductor 28 connected. The emitter electrode of transistor 616 is also connected to ground conductor 28. The Schottky diode
618 ist mit der Kollektorelektrode des Transistors 616 verbunden, die außerdem unmittelbar mit der Leitung 520 und über einen Widerstand 624 mit der +V. -Leitung 26 in Verbindung618 is connected to the collector electrode of transistor 616, which is also connected directly to line 520 and across a resistor 624 to the + V. Line 26 in connection
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steht.stands.
Die Schaltung 24 zur Leistungsanschaltung beinhaltet einen Transistor 700. Dessen Basiselektrode ist über einen von einer Schottky-Diode 704 überbrückten Widerstand 702 mit der Klemme 606 verbunden, seine Kollektorelektrode steht mit der Basiselektrode eines Transistors 707 und über einen Widerstand 706 mit der +V -Leitung 26 in Verbindung. Die EmitterelektrodeThe circuit 24 for switching on the power includes a transistor 700. Its base electrode is via one of one Schottky diode 704 bridged resistor 702 is connected to the terminal 606, its collector electrode is connected to the base electrode of a transistor 707 and via a resistor 706 with the + V line 26 in connection. The emitter electrode
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des Transistors 700 ist mit der Basiselektrode eines Transistors 710 und über einen Widerstand 708 mit dem Erdleiter 28 ver-of transistor 700 is connected to the base electrode of a transistor 710 and connected to the earth conductor 28 via a resistor 708
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bunden. Die Kollektorelektrode des Transistors 707 ist mit der +V -Leitung 26 verbunden, während seine Emitterelektrode mit der Basiselektrode eines Transistors 712 und über einen Widerstand 714 mit der Emitterelektrode des Transistors 712 verbunden ist. Die Kollektorelektrode des Transistors 712 ist mit der +V -Leitung 26 verbunden. Der Transistor 710bound. The collector electrode of transistor 707 is connected to the + V line 26, while its emitter electrode with the base electrode of a transistor 712 and via a resistor 714 with the emitter electrode of the transistor 712 connected is. The collector electrode of transistor 712 is connected to the + V line 26. The transistor 710
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ist mit seiner Emitterelektrode mit dem Erdleiter 28 und mit seiner Kollektorelektrode mit dem Widerstand 71A und ...einem Schaltungspunkt 715- mit der Emitterelektrode des Transistors 712 verbunden. Der Schaltungspunkt 715 steht mit dem geschalteten Erdleiter 56 in Verbindung.is with its emitter electrode with the earth conductor 28 and with its collector electrode with the resistor 71A and ... one Circuit point 715- connected to the emitter electrode of transistor 712. The circuit point 715 is with the switched ground conductor 56 in connection.
Während der Operation "Programmieren" wird an den Aktivierungsanschluß Ε ein +27 V-Signal einer (nicht dargestellten) Versorgungsspannung angelegt, deren Gegenpol mit dem Erdleiter 28 verbunden ist. Durch dieses +27 V-Signal wird der Transistor 642 in seinen leitenden Zustand gesteuert, wodurch der Transistor 619 nichtleitend wird. Infolgedessen fließt Strom über die Zenardiode 600, die Diode 602, den Widerstand 604 und den Widerstand 702, durch den die Transistoren 700 und 710 in ihren leitenden Zustand gesteuert werden. Hierdurch wird (1) an Leitung 112 ein +21 V-Signal angelegt und (2) der geschaltete Erdleiter 56 über den Transistor mit dem Erdleiter 28 verbunden, wodurch das PROM 10 aktiviert wird. Es sei noch bemerkt, daß der Transistor 607 ausgeschaltet und die Transistoren 610 und 616 eingeschaltet werden, wodurch die Leitung 520 auf einen niedrigen Signalpegel gebracht wird. Wegen des +21 V-Signals auf Leitung 512 und des niedrigen Signalpegels auf Leitung 520 fließt ein Strom von einer (nicht dargestellten) +20 V-Spannungsversorgung, die zwischen die Ausgangsanschlüsse O^ bis O^ und den Erdleiter 28 geschaltet ist, über den Programmierungsabschnitt 502 der Ausganpjspufferschaltungen 20a bis 2Od, wodurch in der oben beschriebenen "Weise schmelzbare Verbindungen in den Diodenmatrlzen des Speicherfeldes ausgewählt werden.During the "programming" operation, a +27 V signal from a (not shown) Supply voltage applied, the opposite pole of which is connected to the ground conductor 28. This +27 V signal makes the Transistor 642 is controlled in its conductive state, whereby transistor 619 becomes non-conductive. Consequently current flows through the zenard diode 600, the diode 602, the Resistor 604 and resistor 702, by means of which the transistors 700 and 710 are controlled in their conducting state. This applies (1) a +21 V signal to line 112 and (2) the switched ground conductor 56 through the transistor connected to ground conductor 28, thereby activating PROM 10. Note that transistor 607 is off and transistors 610 and 616 are turned on, causing line 520 to go low is brought. Because of the +21 V signal on line 512 and the low signal level on line 520, a current flows from a (not shown) +20 V voltage supply, which is connected between the output terminals O ^ to O ^ and the Ground conductor 28 is connected, via the programming section 502 of the output buffer circuits 20a to 20d, whereby fusible connections in the diode matrices of the memory array are selected in the manner described above will.
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Während des Lesevorgangs wird dem Aktivierungsanschluß E eine Spannung mit niedrigem Pegelwert (im vorliegenden Beispiel +0,3 V) zugeführt, durch die die Zenerdiode 600 gesperrt wird, so daß die Leitung 512 potentialfrei wird. Hierdurch wird erreicht, daß (1) der Transistor 642 in seinen nichtleitenden Zustand gesteuert wird und (2) der Programmierungsabschnitt der Ausgangspufferschaltungen 20a bis 2Od in ihren inaktiven Zustand gesteuert wird. (In diesem Fall ist selbstverständlich keine Versorgungsquelle mit den Ausgangsanschlüssen O1 bis O^ verbunden, da diese Ausgangsanschlüsse logische Signale zu liefern haben, die den einzelnen Bits des aus dem programmierten PROM 10 auszulesenden Vier-Bit-Wortes entsprechen). Das +0,3 V-Signal an dem Aktivierungsanschluß E steuert den Transistor in seinen leitenden Zustand, so daß die Transistoren 610, 616 und 619 nichtleitend werden und die Leitung 520 einen hohen Signalpegel führt.Durch den eingeschalteten Transistor 614 und die in Durchlaßrichtung gepolte Diode 617 wird auch die Klemme 606 auf einen hohen Signalpegel "gezogen". Da die Leitung potentialfrei ist und die Leitung 520 eich auf einem hohen Sign alpegelbe findet, liefert der Leseabschnitt 504 der Ausgangspufferschaltungen 20a bis 2Od Ausgangssignale an die Ausgangsanschlüese O1 bis 0^, die mit den Signalen auf den Leitungen 416a bis 416d übereinstimmen. Diese Signale hängen von dem Zustand (stromführend oder aufgetrennt) der schmelzbaren Verbindungen ab, die in der oben beschriebenen Weise durch die Signale an den Eingangsanschlüssen A0 bis A7 adressiert sind. Das PROM 10 ist aktiviert, d.h. der geschaltete Erdleiter 56 ist über den Traneistor 710 mit dem Erdleiter 28 verbunden), weil die Transistoren 610, 616 und 619 nichtleitend werden, und dadurch über den leitenden Transistor 614 ein hoher Signalpegel an der Anschlußklemme 606 entsteht, sobald der Transistor 607 durch den niedrigen Signalpegel (+0,3 V) an dem Aktivierungsanschluß E eingeschaltet wird. Durch den Signalpegel an der Anschlußklemme 606 wird der Transistor 700 in seinen leitenden Zustand gesteuert undDuring the reading process, the activation terminal E is supplied with a voltage with a low level value (in the present example +0.3 V), by means of which the Zener diode 600 is blocked, so that the line 512 becomes floating. What is achieved hereby is that (1) the transistor 642 is controlled in its non-conducting state and (2) the programming section of the output buffer circuits 20a to 20d is controlled in its inactive state. (In this case, of course, no supply source is connected to the output connections O 1 to O ^, since these output connections have to supply logic signals which correspond to the individual bits of the four-bit word to be read out from the programmed PROM 10). The +0.3 V signal at the activation terminal E controls the transistor in its conductive state, so that the transistors 610, 616 and 619 become non-conductive and the line 520 carries a high signal level. Through the switched-on transistor 614 and the polarized in the forward direction Diode 617 will also "pull" terminal 606 to a high signal level. Since the line is floating and the line 520 is calibrated to a high signal, the reading section 504 of the output buffer circuits 20a to 20d provides output signals to the output terminals O 1 to 0 ^ which match the signals on the lines 416a to 416d. These signals depend on the state (energized or disconnected) of the fusible links which are addressed in the manner described above by the signals at the input connections A 0 to A 7 . The PROM 10 is activated, i.e. the switched earth conductor 56 is connected to the earth conductor 28 via the transistor 710), because the transistors 610, 616 and 619 become non-conductive, and a high signal level arises at the connection terminal 606 via the conductive transistor 614, as soon as the transistor 607 is switched on by the low signal level (+0.3 V) at the activation terminal E. The signal level at the connection terminal 606 controls the transistor 700 in its conductive state and
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schaltet seinerseits den Transistor 710 ein, durch den das PROM 10 aktiviert wird.in turn turns on transistor 710, which activates PROM 10.
Um das PROM 10 zu inaktivieren oder in seinen Ruhezustand zu steuern (d.h. um die Verbindung zwischen dem geschalteten Erdleiter 56 und dem Erdleiter 28 aufzutrennen), wird dem Aktivierungsanschluß E ein Signal mit hohem Pegelwert (das sind 3,5 V) zugeführt. Dadurch wird die Zenerdiode 600 gesperrt, so daß die Leitung 512 potentialfrei und der Transistor 642 nichtleitend wird. Der Transistor 607 wird durch den hohen Signalpegel ebenfalls in seinen nichtleitenden Zustand gesteuert, so daß die Transistoren 610, 616 und 619 leitend werden. Die Umschaltung des Transistors 710 in seinen nichtleitenden Zustand und damit die Inaktivierung des PROM 10 gehen wegen der aktiven Ansprechkonfiguration der Transistoren 712 und 710 und wegen der dem Transistor 710 zugeordneten Schottky-Klemmdiode sehr rasch vonstatten.To disable the PROM 10 or put it in its quiescent state (i.e., the connection between the switched ground wire 56 and the earth conductor 28) becomes the activation connection E is supplied with a high level signal (that is, 3.5 V). This blocks the Zener diode 600, so that the line 512 is floating and the transistor 642 is non-conductive. The transistor 607 is through the high Signal level is also controlled in its non-conductive state, so that the transistors 610, 616 and 619 are conductive will. The switching of the transistor 710 into its non-conductive state and thus the inactivation of the PROM 10 go because of the active response configuration of transistors 712 and 710 and because of those associated with transistor 710 Schottky Clamp Diodes run very quickly.
Fig. 4 zeigt den Aufbau des Transistors 710: Zu seiner Ausbildung auf dem Substrat 12 wird in dieses eine n+-leitende Subkollektorzone 800 eindiffundiert. Auf das Substrat 12 ist eine η-leitende epitaktische Schicht 44 aufgewachsen. Es sei erwähnt, daß während dieses Fertigungsechrittes bekanntlich eine geringe Diffundierung aus der Subkollektorzone 800 in die epitaktische Schicht 44 stattfindet. Rund um den Transistor 710 werden Isolationsbereiche 42' gebildet, indem man p+-leitendes Material durch die epitaktische Schicht 44 zu dem Substrat 12 diffundieren läßt. In der epitaktischen Schicht wird eine Basiszone 802 gebildet, indem man p-leitendes Material in die epitaktische Schicht 44 eindiffundieren läßt. Die Emitterzone 804 und die Kollektorzone 808 werden dadurch gebildet, daß man n+-leitendee Material in die Basiszone 802 bzw. in die epitaktische Schicht 44 hineindiffundieren läßt. Anschließend wird Über der Oberfläche eine Schicht aus Sillciua-Dioxid SiO2 gebildet und in der epitaktischen Schicht 44 In einer der Üblichen Weisen ein Fenster 812 angebracht.4 shows the structure of the transistor 710: In order to form it on the substrate 12, an n + -conducting subcollector zone 800 is diffused into the latter. An η-conductive epitaxial layer 44 is grown on the substrate 12. It should be mentioned that, as is known, slight diffusion from the subcollector zone 800 into the epitaxial layer 44 takes place during this production step. Isolation regions 42 ′ are formed around transistor 710 by diffusing p + -type material through epitaxial layer 44 to substrate 12. A base region 802 is formed in the epitaxial layer by allowing p-type material to diffuse into the epitaxial layer 44. The emitter zone 804 and the collector zone 808 are formed in that n + -conducting material is allowed to diffuse into the base zone 802 or into the epitaxial layer 44. Subsequently, a layer of silicon dioxide SiO 2 is formed over the surface and a window 812 is made in the epitaxial layer 44 in one of the usual ways.
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Dieses in der Schicht 810 angebrachte Fenster 812 erstreckt sich in der dargestellten Weise über einen Teil der Basiszone 802 und über einen angrenzenden Teil der epitaktischen Schicht 44. Nach einem der bekannten Verfahren wird in dem von dem Fenster 812 freigelegten Bereich ein Film aus Platinsilizid ausgebildet. In der SiOg-Schicht 810 werden weitere Fenster 820 und 822 über der Emitterzone 804 bzw. der Kollektorzone 808 ausgebildet. Anschließend werden metallische Kontaktierungen 710b, 71Oe und 710c für die Basis-, die Emitter- bzw. die Kollektorzone ausgebildet, die als Basis-, Emitter-, bzw. Kollektorelektrode des Transistors 710 dienen. Der Platin-Silizid-Film 814 bildet eine Schottky-Klemmdiode zwischen der Basis- und der Emitterzone des Transistors 710.This window 812 made in layer 810 extends extends over a portion of the base region 802 and over an adjacent portion of the epitaxial layer as shown 44. One of the known methods is a film of platinum silicide in the area exposed by window 812 educated. Further windows 820 and 822 are formed in the SiOg layer 810 over the emitter zone 804 and the collector zone, respectively 808 trained. Then metallic contacts 710b, 71Oe and 710c are made for the base, emitter and the collector zones are formed, which serve as the base, emitter and collector electrodes of the transistor 710. The platinum silicide film 814 forms a Schottky clamp diode between the Base and emitter regions of transistor 710.
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Claims (13)
/ und seinem nichtleitenden Zustand umschaltbar ist..conducting
/ and its non-conductive state can be switched.
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