DE2742264B2 - Method for imaging an object with low magnification by means of a particle beam device, in particular an electron microscope and particle beam device for carrying out the method - Google Patents

Method for imaging an object with low magnification by means of a particle beam device, in particular an electron microscope and particle beam device for carrying out the method

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Description

die Gesamt-Objektbelastung stark an, so daß selbst bei niedrigstem Strahlstrom empfindliche Objekte thermisch zerstört weiden können.the total object exposure strongly increases, so that even with With the lowest beam current, sensitive objects can graze thermally destroyed.

Ein weiterer Nachteil des bekannten Verfahrens liegt darin, daß infolge der schwachen Erregung der Zwischenlinse Verzeichnung und Bildfeldwölbung merklich vorhanden und speziell bei kleinsten Vergrößerungen sehr störend sind. Außerdem ist bei Abschalten der Objektivlinse eine Nachjustierung der Beleuchtungsrichtung in die Achse der ersten Projektivlinse erforderlich.Another disadvantage of the known method is that as a result of the weak excitation Intermediate lens Distortion and field curvature noticeably present, especially at the smallest magnifications are very annoying. In addition, when the objective lens is switched off, the Direction of illumination in the axis of the first projective lens required.

Es ist auch bekannt (DE-AS 16 14 269) bei einem Elektronenmikroskop zur Erzielung von Übersichtsbildern kleiner Vergrööerung die Objektivlinse schwach so zu erregen, daß ihre bildseitige Brennfläche in die Ebene der Objektbegrenzungsblende zu liegen kommt Dabei entsteht ein schwach vergrößertes virtuelles Zwischenbild des Objektes, das von der nachfolgenden Zwischenlinse reell in die Gegenstandsebene des Projektivs abgebildet wird. Die Beleuchtung des Objektes erfolgt bei diesem bekannten Gerät so, daß auch der Überkreuzungspunkt des Elektronenstrahls in die Objektbegrenzungsblende abgebildet wird. Dabei verläuft der Beleuchtungsstrahlengang zwischen Kondensorsystem und Objekt parallel, so daß also die Objekt-Ausleuchtung durch die (nicht dargestellte) Kondensorblende begrenzt wird. Objekt-Ausleuchtungen mit einem größeren Durchmesser können nur mit einer speziellen Kondensorblende oder bei völlig entfernter Blende erzeugt werden, so daß auch hier die Gesamt-Objektbelastung sehr groß ist.It is also known (DE-AS 16 14 269) in an electron microscope for obtaining overview images small magnification to excite the objective lens weakly so that its image-side focal surface in the The plane of the object delimitation diaphragm comes to rest. A slightly enlarged virtual is created Intermediate image of the object, which is actually from the following intermediate lens into the object plane of the Projective is mapped. In this known device, the object is illuminated in such a way that the crossover point of the electron beam is also imaged in the object delimitation diaphragm. Included the illuminating beam path runs parallel between the condenser system and the object, so that the Object illumination is limited by the (not shown) condenser diaphragm. Object illumination with a larger diameter can only with a special condenser diaphragm or with completely distant diaphragm are generated, so that the total object exposure is very large here too.

Der vorliegenden Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde das Verfahren zur Abbildung eines Objektes mit geringer Vergrößerung mittels eines Korpuskularstrahlgerät, insbesondere eines Elektronen-Mikroskops r. der eingangs genannten Art so auszubilden, daß auch bei Verwendung der bei hohen Vergrößerungen benutzten Kondensorblende ein großes Objektfeld bei minimaler Objektbelastung mit sehr guter Bildqualität und hohem Bildkontrast abgebildet werden kann.The present invention is based on the object of the method for imaging an object with low magnification by means of a particle beam device, in particular an electron microscope r. of the type mentioned in such a way that even when using the at high magnifications used a condenser diaphragm with a large object field with minimal object load and very good image quality and high image contrast can be imaged.

Diese Aufgabe wird durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 angeführten Merkmale gelöst.This object is achieved by the features cited in the characterizing part of claim 1.

Ein wesentlicher, durch die Erfindung erreichter Vorteil liegt darin, daß durch die gewählte Erregung des Kondensorsystems das Objekt mit einem divergenten Beleuchtungskegel beleuchtet wird, so daß auch bei einer sehr kleinen Kondensorblende kein störender Beschnitt des Objektfeldes auftritt. Es ist möglich eine vom Durchmesser der Kondensorblenden-Öffnung unabhängige divergente Objektausleuchtung bis 2 mm w Durchmesser mit sehr geringer Beleuchtungsapertur von 10 ~5 bis 10~6rad zu erreichen. Die Objektbelastung ist dabei bis zu 100 χ geringer als bei einer konvergenten oder parallelen Objektbeleuchtung. Dies macht bei dem neuen Verfahren das Durchmustern von Präparaten bei geringen Vergrößerungen unter bestmöglicher Objektschonung möglich.An essential advantage achieved by the invention is that the selected excitation of the condenser system illuminates the object with a divergent illumination cone, so that even with a very small condenser diaphragm there is no disruptive clipping of the object field. It is possible to achieve a divergent object illumination up to 2 mm w diameter, independent of the diameter of the condenser aperture, with a very small illumination aperture of 10 ~ 5 to 10 ~ 6 rad. The object load is up to 100 χ less than with convergent or parallel object lighting. With the new method, this enables specimens to be screened at low magnifications while being as gentle as possible on the object.

Ein weiterer wesentlicher Vorteil des Verfahrens nach der Erfindung liegt darin, daß ohne Einschränkung Gebrauch von der bekannten Lehre (J. Hillier in Journal feo of Applied Physics, Vol. 17, Nr. 6, June 1946, S. 411 -419) gemacht werden kann wonach die kissenförmige Radialverzeichnung einer Abbildungslinse durch Vorschalten einer zweiten, virtuell abbildeten Linse für einen bestimmten Arbeitspunkt auf ein praktisch b5 vernachlässigbares Minimum kompensierbar ist. Bei der gewählten schwachen Erregung der Objektivlinse erzeugt diese ein virtuellec Objektbild, das von der Zwischenlinse reell abgebildet wird. Man kann durch die Wahl der Erregung des Kondensorsystems den von diesem erzeugten Überkreuzungspunkt der Strahlen so legen, daß genügend Freiheit besteht durch entspre chende Erregung von Objektiv- und Zwischenlinse ein optimal verzeichnungskorrigiertes Bild des Objektes in der Gegenstandsebene des nachfolgenden Projekiivsystems zu erzeugen. Diese Freiheit besteht nicht, wenn die bei dem aus der DE-AS 16 i4 269 bekannten Gerät die bildseitige Brennfläche in eine bestimmte Ebene gelegt wird.Another major advantage of the method according to the invention is that without restriction Use of the known teaching (J. Hillier in Journal feo of Applied Physics, Vol. 17, No. 6, June 1946, pp. 411-419) can be made after which the pincushion-shaped radial distortion of an imaging lens by upstream connection a second, virtually imaged lens for a specific working point on a practically b5 negligible minimum can be compensated. With the chosen weak excitation of the objective lens this generates a virtual object image that is actually imaged by the intermediate lens. You can go through the Choice of the excitation of the condenser system the crossover point of the beams generated by it so put that there is enough freedom by appropriate excitation of the objective and intermediate lens optimally distortion-corrected image of the object in the object plane of the subsequent projection system to create. This freedom does not exist if the device known from DE-AS 16 i4 269 the image-side focal surface is placed in a certain plane.

Die Abbildungs-Apertur kann bei dem neuen Verfahren mittels kleiner Bereichsblenden auf etwa 1 · 10 —♦ rad gebracht werden. Zusammen mit der beschriebenen Erregung der Abbildungslinsen ist damit ein<i kontrastreiche, hochwertige Abbildung von Objektfeldern bis 2 mm Durchmesser möglich.With the new method, the imaging aperture can be approx 1 · 10 - ♦ rad. Together with the described excitation of the imaging lenses, this is a high-contrast, high-quality image of object fields up to 2 mm in diameter possible.

Es ist möglich ein nach dem neuen Verfahren arbeitendes Elektronen-Mikroskop so zu betreiben, daß eine Aufnahmetechnik nach der Fix-Fokus-Methode möglich ist. Darunter versteht man, daß im ganzen, hier angesprochenen Vergrößerungsbereich (z. B. 100 χ bis 1000 x) ein Objektwechsel erfolgen kann, ohne daß eine Nachfokussierung durch die Zwischenlinse erforderlich wird. Ein solches Elektronen-Mikroskop zeichnet sich dadurch aus, daß die Abbildungs-Apertur < ΙΟ-4 rad gewählt ist und die Objektlage beim Wechseln des Objektes auf etwa < 0,2 mm genau reproduzierbar erhalten bleibt. Zum Verständnis soll die folgende beispielsweise Überlegung dienen.It is possible to operate an electron microscope that works according to the new process in such a way that a recording technique using the fixed focus method is possible. This means that an object change can take place in the entire magnification range mentioned here (e.g. 100 to 1000 x) without refocusing through the intermediate lens being necessary. Such an electron microscope is characterized in that the imaging aperture <ΙΟ- 4 is selected wheel and the object location of the object when switching to about <0.2 mm is maintained exactly reproducible. The following considerations, for example, are intended to aid understanding.

Errechnet sich die Bildauflösung bei einer Abbildungs-Apertur von 1 χ ΙΟ"4 ra<j 20 nm,, so beträgt die objektseitige Schärfentiefe ca. 0,2 mm. Die Filmauflösung bei normalem Kleinbildfilm beträgt etwa 20 μίτι, das erfordert bei 20 nm Objektauflösung eine Endbildvergrößerung von M— 1000 x. Für M= 100 χ ist dann der zulässige objektseitige Zerstreuungskreis 10 χ größer, d. h. bei gleicher Abbildungs-Aperiur und Filmauflösung darf die Objektlage sogar um 2 mm schwanken, ohne daß merkbare Unscharfe auftritt. Wenn man also dafür sorgt, daß die Lage des Objektes mit etwa 0,2 mm Toleranz reproduzierbar ist, so ist im gesamten Vergrößerungsbereich (z. B. zwischen 1000 χ und 100 χ) eine richtig fokussierte Abbildung des Objektes ohne Nachstellung der Zwischenlinsen-Fokussierung möglich.If the image resolution is calculated with an imaging aperture of 1 χ ΙΟ " 4 ra < j 20 nm ,, the object-side depth of field is approx. 0.2 mm. The film resolution with normal 35mm film is about 20 μίτι, which requires object resolution at 20 nm a final image magnification of M - 1000 x. For M = 100 χ the permissible object-side circle of confusion is 10 χ larger, ie with the same imaging aperture and film resolution, the object position may even fluctuate by 2 mm without noticeable blurring ensures that the position of the object is reproducible with a tolerance of about 0.2 mm, so a correctly focused image of the object is possible in the entire magnification range (e.g. between 1000 and 100 χ) without readjusting the intermediate lens focusing.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im folgenden anhand der F i g. 1 —4 der Zeichnungen näher erläutert. Im einzelnen zeigtEmbodiments of the invention are described below with reference to FIGS. 1-4 of the drawings explained. In detail shows

Fig. 1 den prinzipiellen Aufbau eines zur Ausübung des Verfahrens dienenden Elektronen-Mikroskops;1 shows the basic structure of an electron microscope used to carry out the method;

Fig.2 den Strahlengang im Elektronen-Mikroskop bei Abbildung eines Objektes mit geringer Vergrößerung; 2 shows the beam path in the electron microscope when imaging an object with low magnification;

F i g. 3 eine vergrößerte Darstellung des Strahlenganges zwischen Objekt und Projektivsystem;F i g. 3 shows an enlarged illustration of the beam path between the object and the projection system;

F i g. 4 ein Ausführungsbeispiel des Beleuchtungs-Strahlenganges zwischen Strahlquelle und Kondensorblende. F i g. 4 shows an exemplary embodiment of the illumination beam path between the beam source and the condenser diaphragm.

In F i g. 1 ist mit 1 ein Elektronen-Mikroskop bezeichnet, dessen Strahlerzeugungssystem aus einer Kathode 2 und einer Beschleunigungs-Elektrode 3 besteht. Die mit 4 und 5 bezeichneten Kondensorlinsen bilden das Kondensorsystem. Mit 6 ist eine Kondensor-Aperturblende bezeichnet. Das abzubildende Objekt 8 ist auswechselbar innerhalb der Objektivlinse 7 angeordnet. In Strahlrichtung gesehen schließt sich an die Objektivlinse 7 eine bei hohen Vergrößerungen alsIn Fig. 1 is denoted by 1 an electron microscope, the beam generation system from a Cathode 2 and an acceleration electrode 3 consists. The condenser lenses labeled 4 and 5 form the condenser system. With a condenser aperture diaphragm is designated. The object to be imaged 8 is arranged exchangeably within the objective lens 7. This is followed when viewed in the direction of the beam the objective lens 7 a at high magnifications than

Bereichsblende wirkende Abbildungs-Aperturblende 9 an. Mit 10 ist die Zwischenlinse und mit 11 das nachfolgende Projektivsystem bezeichnet, das hier einlinsig dargestellt ist. Diese Linsen erzeugen ein Bild des Objektes 8 auf dem Leuchtschirm 12, welcher durch ein Fenster 13 im Gehäuse 1 beobachtbar ist. Unterhalb des Endbild-Leuchtschirms 12 ist eine schematisch angedeutete Kamera 14 zur photographischen Fixierung des Objektbildes angeordnet.Imaging aperture diaphragm 9 acting on the area diaphragm. At 10 it is the intermediate lens and at 11 it is The following projective system is referred to, which is shown here as a single lens. These lenses create an image of the object 8 on the luminescent screen 12, which can be observed through a window 13 in the housing 1. Below of the end screen luminescent screen 12 is a schematically indicated camera 14 for photographic fixation of the object image arranged.

Bei der in Fig.2 dargestellten Betriebsart des Elektronen-Mikroskops wird ein Bild des Objektes 8 mit geringer Vergrößerung auf dem Leuchtschirm 12 erzeugt.In the operating mode of the electron microscope shown in FIG. 2, an image of the object 8 is also included low magnification generated on the luminescent screen 12.

Die Objektivlinse 7 und die Zwischenlinse 10 sind dabei so erregt, daß sie gemeinsam ein optimal verzeichnungskorrigiertes Bild 8" des Objektes 8 in der Gegenstandsebene des Projektivsystems 11 erzeugen. Die Erregung der Objektivlinse 7 ist fest, die Erregung der Zwischenlinse 10 ist zur Scharfstellung des Objektbildes in einem engen Bereich variabel. Das Projektivsystem 11 ist variabel erregbar und erzeugt damit ein Bild 8'" des Objektes 8 mit gewünschter Vergrößerung auf dem Endbildleuchtschirm 12.The objective lens 7 and the intermediate lens 10 are excited in such a way that they jointly produce an optimum Generate distortion-corrected image 8 ″ of the object 8 in the object plane of the projection system 11. The excitation of the objective lens 7 is fixed, the excitation of the intermediate lens 10 is for focusing the Object image variable in a narrow area. The projection system 11 is variably excitable and generated thus an image 8 ′ ″ of the object 8 with the desired magnification on the end screen 12.

Das Kondensorsystem 4, 5 ist so erregt, daß es ;in Bild 2' der Strahlquelle 2 in unmittelbarer Nähe der Ebene der Kondensor-Aperturblende 6 erzeugt. Diese Blende ist gegenüber dem Betrieb des Elektronen-Mikroskops bei hohen Vergrößerungen weder in ihrer Lage noch in ihrer Öffnung geändert. Das Objekt 8 wird mit einem divergenten Beleuchtungskegel beleuchtet, so daß die Blende 6 keinen störenden Beschnitt des beleuchteten Objektfeldes hervorruft.The condenser system 4, 5 is excited so that it; in Figure 2 'of the beam source 2 in the immediate vicinity of the Level of the condenser aperture diaphragm 6 generated. This aperture is opposite to the operation of the electron microscope at high magnifications neither in their position nor in their opening changed. The object 8 will illuminated with a divergent cone of illumination, so that the aperture 6 does not have a disturbing cut of the illuminated object field.

Die Kondensorblende 6 wird von der im Verzeichnungsminimum erregten Objektivlinse 7 in die Bereichsblende 9 abgebildet. Mit den aus F i g. 2 ersichtlichen Bezeichnungen a und b für die Abstände dieser Blenden der Objektivlinse 7 gilt dabei: l/a + Mb = Mfo, wobei fo die Brennweite der Objektivlinse 7 bezeichnet. Die Brennebene der Objektivlinse 7 liegt also etwa in der Mitte zwischen dem Objekt 8 und der Abbildungs-Aperturbiende 9.The condenser diaphragm 6 is imaged into the area diaphragm 9 by the objective lens 7 excited in the minimum distortion. With the from FIG. The designations a and b shown in FIG. 2 for the distances between these apertures of the objective lens 7 apply: l / a + Mb = Mfo, where fo denotes the focal length of the objective lens 7. The focal plane of the objective lens 7 is thus approximately in the middle between the object 8 and the imaging aperture end 9.

Die Erzeugung eines optimal verzeichnungskorrigierten Objektbildes durch zusammenwirkende Abbildung mittels der Objektivlinse 7 und der Zwischenlinse 10 ist ir. Fig.2 ve.größen dargestellt. Die Abbildungs-Apertür hängt vom Durchmesser der Abbildungs-Aperturblende 9 und deren Abstand vom virtuellen Objektbild 8' ab. Bei einem Abstand von etwa 100 mm und einem Durchmesser der Blendenöffnung 9 von 0,02 mm ergibt sich die Beleuchtungs-Apertur zu 1 χ 10-4 rad. DieThe generation of an optimally distortion-corrected object image by interacting imaging by means of the objective lens 7 and the intermediate lens 10 is shown in FIG. 2 in different sizes. The imaging aperture depends on the diameter of the imaging aperture diaphragm 9 and its distance from the virtual object image 8 '. At a distance of about 100 mm and a diameter of the aperture 9 of 0.02 mm results in the illumination aperture to 1 χ 10- 4 rad. the

ίο Linsenberrationen sind bei solch geringen Aperturwinkeln sehr klein, so daß sich großflächige Objektabbildungen geringer Vergrößerungen mit sehr guter Qualität erzeugen lassen.ίο lens overrations are at such small aperture angles very small, so that large-area object images of low magnifications with very good Let quality be produced.

Von ganz besonderem Vorteil ist es das Kondensor-Of particular advantage is the condenser

!5 system 4, 5 so zu erregen, wie dies in F i g. 4 dargestellt ist. In diesem Fall erzeugt das System ein Bild 2' der Strahlquelle 2 in der Ebene der Kondensor-Aperturblende 6. Wie man erkennt, erfolgt sowohl im Fall der F i g. 2 als auch der F i g. 4 die Beleuchtung des Objektes 8 mit einem divergenten Beleuchtungskegel, d. h. das Objekt 8 wird großflächig beleuchtet, ohne daß eine Ausleuchtungsbegrenzung durch die Kondensorblende 6 auftritt. Im Ausführungsbeispiel der Fig.4 ist überhaupt keine Ausleuchtungsbegrenzung durch die! 5 system 4, 5 to be excited as shown in FIG. 4 is shown. In this case the system generates an image 2 'of the Beam source 2 in the plane of the condenser aperture diaphragm 6. As can be seen, both in the case of F i g. 2 as well as FIG. 4 the illumination of the object 8 with a divergent illumination cone, d. H. the Object 8 is illuminated over a large area without the illumination being limited by the condenser diaphragm 6 occurs. In the exemplary embodiment in FIG. 4, there is no illumination limitation at all by the

Blende 6 möglich, da der Überkreuzungspunkt der Beleuchtungsstrahlen exakt in der Ebene dieser Blende liegt.Aperture 6 possible because the point of intersection of the illuminating beams is exactly in the plane of this aperture lies.

Schon im Einfach-Kondensorbetrieb, d. h. bei abgeschalteter erster Kondensorlinse 4 lassen sich zumEven in single condenser operation, i. H. when the first condenser lens 4 is switched off, the

jo Beispiel Beleuchtungsaperturen von 10 ~5 rad erzeugen, während bei Erregung beider Kondensoren 4 und 5 sogar Beleuchtungsaperturen < 10 ~6 rad möglich sind. Dies ermöglicht das Durchmustern von Präparaten bei geringen Vergrößerungen mit geringstmöglicher ther-jo example generate illumination apertures of 10 ~ 5 rad, while with excitation of both condensers 4 and 5 even illumination apertures <10 ~ 6 rad are possible. This enables specimens to be screened at low magnifications with the lowest possible thermal

y, mischer Belastung des Objektes 8. y, mixed load on the object 8.

Durch die dargestellte Betriebsart des Elektronen-Mikroskops lassen sich geringe Vergrößerungen bis 100 χ erzeugen, wobei das Objekt 8 großflächig und mit minimaler Belastung beleuchtet wird und die erzeugten Abbildungen eine sehr gute Qualität und hohen Kontrast aufweisen.The operating mode of the electron microscope shown allows for low magnifications of up to 100 χ, whereby the object 8 is illuminated over a large area and with minimal exposure and the generated images are of very good quality and high contrast.

Hierzu 3 Blatt ZeichnungenFor this purpose 3 sheets of drawings

Claims (7)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Verfahren zur Abbildung eines Objekts mit geringer Vergrößerung mittels eines Korpuskularstrahlgeräts, insbesondere eines Elektronen-Mikroskops, bei dem durch von einer Strahlquelle ausgehende Korpuskularstrahlen über ein Kondensorsystem und eine hinter diesem angeordnete Kondensor-Aperturblende das Objekt beleuchtet wird, dessen Lage unabhängig von der gewählten Vergrößerung gleichbleibt, und bei dem mittels einer Objektivlinse, einer Zwischenlinse und einem Projektivsystem, sowie einer zwischen Objektiv- und Zwischenlinse angeordneten Abbildungs-Aperturblende (Bereichsblende) ein Objektbild in der Endbildebene erzeugt wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Kondensorsystem (4, 5) so erregt wird, daß der von ihm erzeugte Überkreuzungspunkt (2') der von der StrahJqueJJe (2) ausgehenden Strahlen zwischen Objekt (8) und letzter Kondensorlinse (5) in oder in der Nähe der Ebene der in ihrer Lage und öffnung gegenüber dem Betrieb des Korpuskularstrahlgeräts bei hohen Vergrößerungen nicht geänderten Kondensor-Aperturblende (6) liegt, daß die Objektivlinse (7) schwach so erregt wird, daß sie diesen Überkreuzungspunkt (2') reell in die Abbildungs-Aperturblende (9) abbildet, und daß zur Erzeugung eines optimal verzeichnungskorrigierten Bildes (8") des Objekts (8) die Objektivlinse 4 und die Zwischenlinse (10) so erregt werden, daß die Objektivlinse (7) ein schwach vergrößerte virtuelle Objektbild (8') erzeugt, das von der Zwischenünse (10) reell in die Gegenstandsebene des nachfolgenden Projektivsystems (11) abgebildet wird.1. A method for imaging an object with low magnification by means of a corpuscular beam device, in particular an electron microscope, in which the object is illuminated by corpuscular beams emanating from a beam source via a condenser system and a condenser aperture diaphragm arranged behind this, the position of which is illuminated independently of the selected Magnification remains the same, and in which an object image is generated in the final image plane by means of an objective lens, an intermediate lens and a projective system, as well as an imaging aperture diaphragm (area diaphragm) arranged between the objective and intermediate lens, characterized in that the condenser system (4, 5) so is excited that the crossover point (2 ') created by it of the rays emanating from the beam (2) between the object (8) and the last condenser lens (5) in or near the plane of its position and opening in relation to the operation of the Corpuscular beam device at high magnifications not g The changed condenser aperture diaphragm (6) lies in such a way that the objective lens (7) is weakly excited in such a way that it actually images this crossover point (2 ') into the imaging aperture diaphragm (9), and that in order to generate an optimally distortion-corrected image (8 " ) of the object (8) the objective lens 4 and the intermediate lens (10) are excited in such a way that the objective lens (7) generates a slightly enlarged virtual object image (8 '), which from the intermediate lens (10) real into the object plane of the subsequent projection system (11) is shown. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Änderung der Vergrößerung des Objektbildes die Erregung des Projektivsystems (11) geändert wird.2. The method according to claim 1, characterized in that to change the magnification of the Object image the excitation of the projection system (11) is changed. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß vom Kondensorsyslem (4, 5) der Überkreuzungspunkt der Beleuchtungsstrahlen in der Ebene der Kondensor-Aperturblende (6) erzeugt wird.3. The method according to claim 1, characterized in that the condensate system (4, 5) of the Crossover point of the illuminating rays in the plane of the condenser aperture diaphragm (6) generated will. 4. Verfahren nach Anspruch 1 und einem oder mehreren der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß der Durchmesser der öffnung der Kondensor-Aperturblende (6) kleiner als 500 μιη gewählt wird.4. The method according to claim 1 and one or more of the following, characterized in, that the diameter of the opening of the condenser aperture diaphragm (6) is selected to be less than 500 μm. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Beleuchtungsapertur kleiner als 10 -s rad gewählt wird.5. The method according to claim 4, characterized in that the illumination aperture is selected to be smaller than 10 - s rad. 6. Korpuskularstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Lage von Kondensor-Aperturblende (6) und Abbildungs-Aperturblende (9) so gewählt ist, daß sie von der im Verzeichnungsminimum erregten Objektivlinse (7) konjugiert ineinander abgebildet werden.6. corpuscular beam device for performing the method according to claim 1, characterized in that that the position of the condenser aperture diaphragm (6) and imaging aperture diaphragm (9) is chosen so that they are mapped conjugated into one another by the objective lens (7) excited in the minimum distortion will. 7. Korpuskularstrahlgerät nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß zur Vermeidung einer Nachfokussierung der Zwischenlinse (10) beim Wechsel des Objektes (8) die Abbildungsapertur < 10-* rad rad gewählt und die Lage des Objektes (8) bei Objektwechsel auf < 0,2 mm genau reproduzierbar ausgebildet ist.7. corpuscular beam device according to claim 6, characterized in that to avoid a Refocusing of the intermediate lens (10) when changing the object (8) the imaging aperture <10- * rad rad selected and the position of the object (8) is reproducible with an accuracy of <0.2 mm when changing objects. Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abbildung eines Objektes mit geringer Vergrößerung mittels eines Korpuskularsirahlgeräts, insbesondere eines Elektronen-Mikroskops, bei dem durch von einer Strahlquelle ausgehende Korpuskularstrahlen über ein Kondensorsystem und eine hinter diesem angeordnete Kondensor-Aperturblende das Objekt beleuchtet wird, dessen Lage unabhängig von der gewählten Vergrößerung gleichbleibt, und bei dem mittels einer Objektivlinse, einer Zwischenlinse und einem Projektivsystem sowie einer zwischen Objektiv- und Zwischenünse angeordneten Abbildungs-Aperturblende (Bereichsblende) ein Objektbild in der Endbildebene erzeugt wird.The present invention relates to a method for imaging an object with low magnification by means of a Korpuskularsirahlgeräts, in particular an electron microscope, in which by one Corpuscular rays emanating from the beam source via a condenser system and one arranged behind it Condenser aperture diaphragm illuminates the object, the position of which is independent of the selected magnification remains the same, and by means of an objective lens, an intermediate lens and a projection system and an imaging aperture diaphragm (area diaphragm) arranged between the objective lens and the intermediate lens generates an object image in the final image plane will. Neben der hochauflösenden Abbildung von Objektdetails bei hohen Vergrößerungen besteht in der angewandten Elektronen-Mikroskopie oft auch der Wunsch, großflächige Objekte mit geringer Vergrößerung (bis < 100 x) wahrheitsgetreu mit einem Optimum an Informationsgehalt und geringsmöglicher Objektschädigung auf einem photographischen Film abzubilden.In addition to the high-resolution image of object details at high magnifications, the applied electron microscopy often also the desire to large-area objects with low magnification (up to <100 x) truthfully with an optimum of information content and as little as possible To depict object damage on photographic film. Eine solche hochwertige Abbildung großer Objektbereiche mit geringer Vergrößerung ist beispielsweise wichtig für die zusammenhängende, naturgetreue Darstellung großer Zellen oder ausgedehnter Gewebebereiche. Diese Darstellung ist sonst nur durch aufwendige und zeitraubende Montage aus vielen Einzelbildern mittlerer oder hoher Vergrößerung möglich, wobei Bildverzeichnung, Vergrößerungsschwankungen und Schwärzungsunterschiede Probleme aufwerfen. Diese Probleme sind insbesondere bei der dreidimensionalen Objektrekonstruktion aus mehreren nebeneinanderliegenden Serienschnitten des gleichen Objekts gravierend.Such a high-quality image of large object areas with low magnification is, for example important for the coherent, lifelike display of large cells or extensive areas of tissue. This representation is otherwise only through complex and time-consuming assembly from many Medium or high magnification single images are possible, with problems of image distortion, fluctuations in magnification and differences in density raise. These problems are particularly in the three-dimensional object reconstruction from several Serious serial cuts of the same object next to one another. Es besteht der Wunsch, die Abbildung großer Objektbereiche mit geringer Vergrößerung so vorzunehmen, daß die Bildauflösung besser ist als die Filmauflösung, damit bei der Nachvergrößerung aus dem Filmnegativ keine Detailverluste gegenüber elektionenmikroskopischen Aufnahmen mit entsprechend hoher Vergrößerung auftreten.There is a desire to map large object areas with low magnification in such a way that that the image resolution is better than the film resolution, so in the case of re-enlargement the film negative shows no loss of detail compared to electron microscopic images with correspondingly high magnification. Bekannt ist ein Verfahren der eingangs genannten Art zur Abbildung eines Objektes mit gutem Kontrast und geringer Vergrößerung, bei dem die Objektlage beim Übergang von hoher auf geringe Vergrößerung nicht verändert werden muß (DE-FS 23 26 042). Bei diesem Verfahren wird bei der Herstellung von Aufnahmen mit geringer Vergrößerung die Objeklivlinse abgeschaltet und die Objektabbildung durch die schwach erregte Zwischenünse bewirkt. Zugleich wird das Kondensorsystem so eingestellt, daß der Überkreuzungspunkt des Elektronenstrahls in die, vor der Zwischenünse liegende Bereichsblende abgebildet wird.A method of the type mentioned at the outset for imaging an object with good contrast is known and low magnification, in which the object position when changing from high to low magnification does not have to be changed (DE-FS 23 26 042). This process is used in the production of Recordings with low magnification switched off the objective lens and the object image through the causes weakly excited intermittent people. At the same time the condenser system is adjusted so that the crossover point of the electron beam is imaged in the area diaphragm in front of the intermediate lens. Um einen größeren Objektbereich abbilden zu können, ist zugleich die Kondensorblende durch eine Blende mit einem Mindestdurchmesser von 0,5 mm zu ersetzen.In order to be able to depict a larger object area, the condenser diaphragm is also provided with a diaphragm with a minimum diameter of 0.5 mm. Der Hauptnachteil dieses Verfahrens liegt darin, daß infolge des konvergierenden Beleuchtungskegels bei den üblichen Abständen der Linsen der Durchmesser des ausgeleuchteten Objektbereichs etwa nur dem halben Durchmesser der verwendeten Kondensorblende entspricht. So ist zum Beispiel bei einer Kondensorblende von 0,5 mm Durchmesser nur eine Objektaus-The main disadvantage of this method is that due to the converging cone of illumination the usual distances between the lenses, the diameter of the illuminated object area is only about that half the diameter of the condenser diaphragm used. This is the case with a condenser diaphragm, for example 0.5 mm diameter only shows an object b5 leuchtung von etwa 250 μιη Durchmeser möglich. Objektausleuchtungen mit einem Durchmesser von mehr als 1 mm können nur mit ganz entfernter Kondensorblende erzeugt werden. Dadurch steigt aberB5 illumination of around 250 μm in diameter possible. Object illumination with a diameter of more than 1 mm can only be achieved with very distant Condenser diaphragm are generated. But this increases
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