DE2658365A1 - Schutzvorrichtung zum schutze der augen gegen schaedliche strahlung - Google Patents
Schutzvorrichtung zum schutze der augen gegen schaedliche strahlungInfo
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Description
PATENTANWALT DIPL.-ING. H. STMOHSCHÄNK
8000 MÜNCHEN 60 · MUSÄUSSTRASSE 5 · TELEFON (08Q) 881608 O β ζ Q Q ß C
23.12.1976-SS(5) 190-1459P
Schutzvorrichtung zum Schütze der Augen gegen schädliche Strahlung
Es ist bekannt, daß beim Durchführen von Schweißarbeiten sowohl
von der Schweißflamme bzw. vom elektrischen Schweiß-Lichtbogen als auch von der Schmelzzone des bearbeiteten Materials
eine intensive, für das menschliche Auge schädliche Strahlung ausgeht. Zum Schütze des Schweißers vor dieser schädlichen Strahlung
sind deshalb Schutzbrillen und Schutzschilde üblich, die in ihrem
Mittelbereich ein Strahlungsabsorbierendes Glas aufweisen, durch
welches ein großer Teil der schädlicher Strahlung ausgefiltert wird. Die Dämpfungswirkung solcher Gläser ist so groß, daß die
Intensität der Strahlung auf Werte gedämpft wird, die für das Auge unschädlich sind. Nachteilig ist jedoch, daß diese Gläser
für den Schweißer vor dem Schweißbeginn bzw. vor dem Zünden des
Lichtbogens nahezu undurchsichtig sind«. Er ist deshalb vor dem Schweißbeginn beispielsweise zum Ausrichten der Schweißelektrode
in ihre SchweißStellung dasu gezwungen, die Schutzbrille abzunehmen
bzw. den Schutzschild von seinen Augen abzuwenden, was nicht nur umständlich ist, sondern auch den weiteren Nachteil mit sich
bringt, daß die Augen beim Schweißbeginn kaum vor den schädlichen Strahlen bewahrt werden können.
Zur Verbesserung des Schutzes des Schweißers sind statt der vorgenannten strahlungsabsorbierenden Gläser auch schon Interferenzfilter
bekanntgeworden, die für einen oder mehrere, für das
menschliche Auge unschädliche Wellenlängenbsreiche im sichtbaren
Teil des Lichtbogenspektrums Paßbänder aufweisen, wogegen die
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™ a· ™™
übrigen Wellenlängen des Lichtbogenspektrums durch das Filter ausgefiltert werden. Aber auch diesen Filtern haftet noch der
Mangel an, daß ihre Durchsichtigkeit bei noch nicht gezündetem Schweiß-Lichtbogen unbefriedigend ist.
Eine Möglichkeit zur Verbesserung der Sichtmöglichkeit durch
die vorgenannten Schutzvorrichtungen bei noch nicht gezündetem Schweiß-Lichtbogen besteht darin, in der Umgebung der Schweißstelle
eine zusätzliche spezielle Lichtquelle anzuordnen, deren Spektrum auf eine oder mehrere engbegrenzte Wellenlängen beschränkt
ist. Ein Beispiel für solche Lichtquellen sind Natriumlampen. Das im Schutzglas verwendete Interferenzfilter wird dann
mit Paßbändern für denjenigen Wellenbereich bzw. für diejenigen Wellenbereiche versehen, in denen das Licht der zusätzlichen
Lichtquelle ausgestrahlt wird. Mit Hilfe solcher Lichtquellen in der Nähe der Schweißstelle erhält man eine hinreichende Durchsichtigkeit
des Schutzglases auch schon bei noch nicht gezündetem Schweiß-Lichtbogen.
Indessen weisen die letztgenannten Schutzvorrichtungen den neuen wesentlichen Mangel auf, daß diejenigen Teile des Spektrums
des Schweiß-Lichtbogens, die außerhalb des Paßbandes bzw. der Paßbänder des Filters liegen, von der Oberfläche des Interferenzfilters
stark reflektiert werden und damit in der Umgebung störend wirken und den Schweißer irritieren. Bei noch nicht gezündetem
Schweiß-Lichtbogen bringt diese spiegelartig starke Reflexion des Filters aber auch noch den weiteren Nachteil mit sich,
daß der Schweißer statt der durch das Schutzglas zu betrachtenden Gegenstände auf dem Schutzglas sein eigenes Spiegelbild sieht.
Schließlich ist durch die DT-OS 24 12 302 auch schon ein solches Schutzglas mit einem Interferenzfilter bekanntgeworden, das
einerseits den Wellenlängen des von der zusätzlichen Lichtquelle ausgestrahlten Lichtes zugeordnete Paßbänder aufweist und die
durch diese Paßbänder durchgelassene Strahlung auf für das mensch-
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liehe Auge unschädliche Werte dämpft, und das anderseits die vom
Schutzglas ausgehende starke störende Reflexion vermeidet.
Das in der DT-OS 24 12 302 beschriebene Schutzglas enthält
ein Filter mit einem spektralselektiven Teil, der ein völlig dielektrisches oder ein metallisches Interferenzfilter mit Paßbändern
für einen oder für mehrere Wellenbereiche aufweist, die im StrahlungsSpektrum der zusätzlichen Lichtquelle vorkommen. Das
Filter weist außerdem einfache oder mehrfache Schichten mit einem absorbierenden und/oder nichtabsorbierenden Material auf, die den
spektralselektiven Teil beiderseits umgeben. Zusätzlich wird das Filter des Schutzglases durch optisch dicke Beläge umgeben. Die
einfachen oder mehrfachen Schichten des Filters sind so ausgebildet, daß der Reflexionsfaktor zwischen dem Filter und den dieses
einschließenden Belägen niedrige neutrale Werte annimmt und die spektrale Funktion des selektiven Teiles des Filters durch diese
Beläge praktisch unbeeinträchtigt bleibt. Wenigstens einer dieser äußeren Beläge oder Medien besteht aus einem festen absorbierenden
oder nichtabsorbierenden Material, wie beispielsweise Glas, das die Form einer ebenen oder gekrümmten Platte aufweist.
Der vorliegenden Erfindung liegt, ausgehend von der im Oberbegriff
des Patentanspruches 1 angeführten und in der DT-OS 24 12 302 beschriebenen Schutzvorrichtung die Aufgabe zugrunde, die
letztere so zu vervollkommnen, daß in Verbindung mit der zusätzlichen speziellen Lichtquelle ein besonders wirksamer Schutz erzielt
wird.
Die gestellte Aufgabe ist durch die im Kennzeichen des Patentanspruches
1 wiedergegebene Lehre gelöst.
Durch die erfindungsgemäße Ausbildung der Schutzvorrichtung wird trotz einer guten Durchsichtigkeit des Schutzglases gegenüber
der zusätzlichen Lichtquelle und der Vermeidung jeglicher störenden Reflexion bei noch nicht gezündetem Schweiß-Lichtbogen
ein äußerst zuverlässiger Schutz des Auges vor schädlicher Strah-
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lung erzielt.
Ausgestaltungen der Erfindung sind in den UnteranSprüchen gekennz
eichnet.
In der Zeichnung ist die Erfindung beispielsweise veranschaulicht;
es zeigen:
Fig. 1 den grundsätzlichen Aufbau der gesamten Filteranordnung in einem schematisch gehaltenen Teilschnitt;
Fig. 2 ein den Reflexionsfaktor eines dem ersten Ausführungsbeispiel entsprechenden Filters über der Wellenlänge
der Strahlung wiedergebendes Diagramm;
Fig. 3 ein entsprechendes, die Durchlässigkeit des Filters gemäß Fig. 2 wiedergebendes Diagramm;
Fig. 4 ein der Fig. 2 entsprechendes Diagramm für ein Filter gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel;
Fig. 5 ein entsprechendes, die Durchlässigkeit des Filters
gemäß Fig. 4 wiedergebendes Diagramm;
Fig. 6 ein der Fig. 2 entsprechendes Diagramm für ein Filter gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel;
Fig. 7 ein entsprechendes, die Durchlässigkeit des Filters gemäß Fig. 6 wiedergebendes Diagramm;
Fig. 8 ein der Fig. 2 entsprechendes Diagramm für ein Filter gemäß dem vierten Ausführungsbeispiel;
Fig. 9 ein entsprechendes, die Durchlässigkeit des Filters gemäß Fig. 8 wiedergebendes Diagramm;
Fig. 10 ein die Brechungszahl η und den Absorptionskoeffizienten
k des dem fünften Ausführungsbeispiel entsprechenden Filters über der von der Filteroberfläche aus gemessenen
Dicke zweier Mehrfachschichten des Filters wiedergebendes Diagramm;
Fig. 11 ein der Fig. 2 entsprechendes Diagramm für ein Filter gemäß dem fünften Ausführungsbeispiel;
Fig. 12 ein entsprechendes, die Durchlässigkeit des Filters gemäß Fig. 11 wiedergebendes Diagramm;
Fig. 13 eine bevorzugte Ausführungsform der als Schutzglas für
eine Schweiß-Schutzbrille ausgebildeten Filteranordnung
in einer vergrößert dargestellten Seitenansicht.
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Gemäß dem in Fig. 1 dargestellten grundsätzlichen Aufbau
der Filteranordnung zum Schütze der Augen gegen beispielsweise beim Schweißen auftretende schädliche Strahlung ist eine spektralselektive
Mehrfachschicht 3 vorgesehen, die als metallisches Interferenzfilter ausgebildet ist. Die Mehrfachschicht
bildet ein Paßband in einem Wellenbereich der Lichtstrahlung, in dem eine in der Nähe einer (nicht dargestellten) Schweißstelle
vorgesehene zusätzliche (ebenfalls nicht dargestellte) Lichtquelle ihren Hauptstrahlungsberexch aufweist. Beiderseits der
Mehrfachschicht 3 weist die Filteranordnung weiterhin je eine Mehrfachschicht 2 und 4 eines absorbierenden und nichtabsorbierenden
Materials auf. Die Mehrfachschichten 2 und 4 sind so beschaffen, daß an deren Außenflächen gegenüber einer auftreffenden
Strahlung niedrige Reflexionswerte R12 und R54 auftreten,
deren Werte zwischen 0 und 10% liegen können. Die spektralselektive
Wirkung der Mehrfachschicht 3 bleibt durch die weiteren Mehrfachschichten 2 und 4 nahezu unverändert. Durch
die Mehrfachschichten 2 und 4 wird aber die Intensität des innerhalb des Paßbandes bzw. innerhalb etwa vorgesehener mehrerer Paßbänder in der spektralselektiven Mehrfachschicht 3
durchgelassenen Lichtes gedämpft.
Von den beiderseits der so gegebenen Filteranordnung außen anschließenden Medien kann zumindest eines aus einem festen absorbierenden
oder nichtabsorbierenden Material, beispielsweise aus einer ebenen oder gekrümmten Glasplatte bestehen, die zugleich
eine Tragplatte für die Filteranordnung bilden kann.
Nachstehend werden einige Ausführungsbexspiele für die Zusammensetzung
und die Dicke der verschiedenen Teilschichten der vorgenannten Mehrfachschichten 2,3 und 4 wiedergegeben:
Beispiel 1 für eine durch die Filteranordnung durchzulassendeWSiie£i§22eY°iliLZ58?
nm
Mehrfach- Teilschicht Material Schichtdicke
schicht Nr. *■ . nm
f 1 SiO2 270
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Mehrfach schicht |
Teilschicht Nr. |
Material | Schichtdicke nm |
2 | Cr | 6 | |
3 | SiO2 | 270 | |
2< | 4 | Cr | 6 |
5 | SiO2 | 270 | |
6 | Cr | 6 | |
7 | SiO2 | 270 | |
8 | Ag | 50 | |
9 | MgF2 | 850 | |
10 | Ag | 50 | |
11 | SiO2 | 270 | |
12 | Cr | 6 | |
13 | SiO2 | 270 | |
J | 14 | Cr | 6 |
15 | SiO2 | 270 | |
L | 16 | Cr | 6 |
17 | SiO | 270 | |
4< | |||
Beispiel 1 gibt die Werte eines Interferenzfilters für eine
Lichtquelle starker Strahlung wieder, deren Hauptstrahlung im Bereich
der Wellenlänge Λ = 590 nm liegt, wie es beispielsweise
bei Natriumlampen oder Hochdruck-Quecksilberlampen der Fall ist. Das Filter weist in Übereinstimmung mit Fig. 1 die Mehrfachschichten
2, 3 und 4 auf, von denen die Mehrfachschichten 2 und 4 aus jeweils sieben Teilschichten zusammengesetzt sind. Die erste Teilschicht
besteht aus einem Quarzfilm einer Dicke von 270 nra, während
die zweite Teilschicht aus einem Chromfilm einer Dicke von
6 nm besteht. Die dritte, fünfte und siebente Teilschicht besteht jeweils wiederum aus einem Quarzfilm einer Dicke von 270 nm,
während die vierte und sechste Teilschicht erneut aus einem Chromfilm einer Dicke von 6 nm bestehen. Die Mehrfachschicht 3 besteht aus
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- r-AA
drei Teilschichten, von denen die erste und dritte jeweils aus einem Silberfilm einer Dicke von 50 nm bestehen, während die
mittlere Teilschicht aus einem Magnesiumfluoridfilm einer Dicke von 850 nm besteht.
Fig. 2 veranschaulicht die Reflexion und Fig. 3 die Durchlässigkeit
der im Beispiel 1 wiedergegebenen Filteranordnung.
Beispiel 2 für eine durch die Filteranordnung durchzulassende_Wellenlänge_von_^_=_589_nm
Mehrfachschicht
Texlschxcht | 1 |
Nr. | 2 |
3 | |
4 | |
5 | |
6 | |
7 | |
8 | |
9 | |
0 | |
1 | |
1 | 2 |
1 | 3 |
1 | 4 |
1 | 5 |
1 | 6 |
1 | 7 |
1 | 8 |
1 | 9 |
1 | |
1 |
Material
Schichtdicke nm
2< 3< 4<
Al2O3 | 227 |
Cr | 6 |
Al2O3 | 76 |
Cr | 14 |
Al2O3 | 76 |
Cr | 6 |
Al2O3 | 227 |
Ag | 33 |
Al2O3 | 306 |
Ag | 77 |
Al2O3 | 841 |
Ag | 33 |
Al2O3 | 227 |
Cr | 6 |
Al2O3 | 76 |
Cr | 14 |
Al2O3 | 76 |
Cr | 6 |
Al2O3 | 227 |
Beispiel 2 gibt ebenfalls die Werte eines Interferenzfxlters
für eine Lichtquelle mit einer Hauptstrahlung im Bereich der WeI-
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lenlänge /\ = 590 nm wieder, das gemäß Fig. 1 die Mehrfachschichten
2, 3 und 4 aufweist. Während die Mehrfachschichten 2 und 4 wiederum jeweils aus sieben Teilschichten zusammengesetzt sind, ist
die spektralselektive Mehrfachschicht 3 in diesem Falle aus fünf Teilschichten zusammengesetzt. Wie aus der Tabelle ersichtlich
ist, bestehen die beiden äußersten Schichten jeder Mehrfachschicht 2 bzw. 4 aus einem Al2O3-FiIm einer Dicke von 227 nm, während die
jeweils nach innen anschließenden beiden Teilschichten aus einem Chromfilm einer Dicke von 6 nm bestehen. Während die mittelste
Teilschicht der beiden Mehrfachschichten 2 und 4 ebenfalls jeweils aus einem Chromfilm besteht/ der jedoch eine Dicke von 14 nm
aufweist, bestehen die beiderseits der mittleren·Teilschicht anschließenden
letzten beiden Teilschichten der beiden Mehrfachschichten 2 und 4 wiederum aus einem Al3O3-FiIm, der jedoch eine
Dicke von 76 nm aufweist.
Die Mehrfachschicht 3 besteht beim Beispiel 2 aus fünf Teilschichten,
von denen die beiden äußersten aus Silber mit einer Dicke von 33 nm und die mittlere Teilschicht ebenfalls aus Silber
mit einer Dicke von 77 nm bestehen. Die zwischen den vorgenannten Teilschichten befindlichen restlichen beiden Teilschichten bestehen
wiederum jeweils aus einem Al3O3-FiIm, von denen der eine,
in der Tabelle mit 9 bezeichnete eine Dicke von 306 nm und der andere, in der Tabelle mit 11 bezeichnete eine Dicke von 841 nm
aufweist.
Das in Fig. 4 wiedergegebene Diagramm veranschaulicht die Reflexionswerte
und das in Fig. 5 wiedergegebene Diagramm die Durchlässigkeit der dem Beispiel 2 entsprechenden Filteranordnung
über der Wellenlänge wieder.
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Beispiel 3 für eine durch die Filteranordnung durch-
Mehrfachschicht
Teilschicht
Nr.
Material
Schichtdicke nm
2 <
3 <
4 <
1 2 3
4 5 6 7 8 9
10 11 12 13 14
15 16 17 18 19 20 21 22 23
Al2O3 | 227 |
Cr | 6 |
Al2O3 | 76 |
Cr | 7 |
Al2O3 | 76 |
Cr | 7 |
Al2O3 | 76 |
Cr | 6 |
Al2O3 | 227 |
Ag | 33 |
Al2O3 | 306 |
Ag | 77 |
Al2O3 | 841 |
Ag | 33 |
Al2O3 | 227 |
Cr | 6 |
Al2O3 | 76 |
Cr | 7 |
Al0O., | 76 |
Cr | 7 |
Al2O3 | 76 |
Cr | 6 |
Al2O3 | 227 |
Beispiel 3 gibt ebenfalls die Werte eines Interferenzfilters für eine Lichtquelle starker Strahlung mit einer Hauptstrahlung
im Bereich der Wellenlänge λ. = 590 nm wieder, wobei das Filter
gemäß Fig. 1 die Mehrfachschichten 2, 3 und 4 aufweist.. Gemäß der Tabelle bestehen die beiden Mehrfachschichten 2 und 4 aus jeweils
neun Teilschichten und die Mehrfachschicht 3 aus fünf Teilschichten. Dabei unterscheidet sich das Beispiel 3 vom Beispiel 2
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dadurch, daß in den Mehrfachschichten 2 und 4 die mittlere Teilschicht
jeweils durch drei Teilschichten ersetzt wurde, von denen die beiden äußeren Chromfilme einer Dicke von 7 nm sind, während
die neue mittlere Teilschicht aus einem Al„O-.-Film einer Dicke
von 76 nm besteht.
Das in Fig. 6 wiedergegebene Diagramm veranschaulicht die Reflexion
und das in Fig. 7 wiedergegebene Diagramm die Durchlässigkeit des dem Beispiel 3 entsprechenden Filters über der Wellenlänge.
Beispiel 4 für eine durch die Filteranordnung durchzulassende_Wellenlän2e_von_/l
r
Mehrfach- Teilschicht .» . . , Schichtdicke
schicht Nr. Material
1 | η = | 1,35 | 277 |
2 | Cr | 7 | |
3 | η = | 1,35 | 93 |
4 | Cr | 15 | |
5 | η = | 1,35 | 93 |
6 | Ag | 33 | |
7 | η = | 1,35 | 385 |
8 | Ag· | 77 | |
9 | η = | 1,35 | 604 |
10 | Ag | 33 | |
11 | η = | 1,35 | 93 |
12 | Cr | 15 | |
13 | η = | 1,35 | 93 |
14 | Cr | 7 | |
15 | η = | 1,35 | 277 |
Auch Beispiel 4 betrifft ein Interferenzfilter für eine zusätzliche
Lichtquelle mit einer Hauptstrahlung bei der Wellenlänge Λ = 590 nm, das gemäß Fig. 1 aus den Mehrfachschichten 2,
3 und 4 zusammengesetzt ist. Wie aus der Tabelle ersichtlich ist,
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bestehen die beiden äußeren Mehrfachschichten 2 und 4 aus jeweils fünf Teilschichten, die in diesem Falle spiegelsymmetrisch
zur Filtermitte gleich ausgebildet sind. Dabei bestehen die dielektrischen
Teilschichten jeweils aus einem Material mit der Brechungszahl η = 1,35, wofür beispielsweise das Material MgF2 und
Na3AlFg in Frage kommt. Die jeweils äußerste Teilschicht der
beiden Mehrfachschichten 2 und 4 besteht aus einem dielektrischen Film einer Dicke von 277 nm, während die jeweils nach innen
anschließende Teilschicht ein Chromfilm einer Dicke von 7 nm ist. Die mittlere und die jeweils nach der Mitte der ganzen Filteranordnung
zu gelegene äußere Teilschicht der beiden Mehrfachschichten 2 und 4 bestehen jeweils aus einem dielektrischen Film einer
Dicke von 93 nm, während die restliche Teilschicht jeweils aus einem Chromfilm einer Dicke von 15 nm besteht.
Die mittlere Mehrfachschicht 3 des Beispiels 4 besteht wiederum aus fünf Teilschichten, von denen die beiden äußersten
Silberschichten einer Dicke von 33 nm sind. Auch die mittlere
Teilschicht besteht aus einem Silberfilm, der hier jedoch eine Dicke von 77 nm aufweist. Die beiden restlichen Teilschichten
bestehen wiederum aus einem dielektrischen Material mit einer Brechungszahl η = 1,35, von denen die gemäß der Tabelle zweite,
mit 7 bezeichnete eine Dicke von 385 nm und die in der Tabelle mit 9 bezeichnete Teilschicht eine Dicke von 604 nm aufweist.
Das in Fig. 8 wiedergegebene Diagramm zeigt die Reflexion und das in Fig. 9 wiedergegebene Diagramm die Durchlässigkeit
der dem Beispiel 4 entsprechenden Filteranordnung über der Wellenlänge
an.
Fig. 10 bis 12 veranschaulichen die Werte einer Filteranordnung
gemäß einem fünften Äusführungsbexspiel. Das in Fig. wiedergegebene Diagramm zeigt die Brechungszahl η und den Absorp-,
txonskoeffxzxenten k in Abhängigkeit von der Dicke ζ der Mehrfachschichten
2 und 4 gemäß Fig. 1, und zwar jeweils von deren
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einer Außenfläche aus geraessen. Dabei haben beide liehrfachschichten
2 und 4 gemäß Fig. 10 eine gleiche Dicke von jeweils 1 μ und die Werte der Brechungszahl η und des Absorptionskoeffizienten
k verlaufen jeweils spiegelbildlich zur Mitte der Mehrfachschicht. Dabei fällt die Brechungszahl η von den beiden Außenflächen
jeder Mehrfachschicht 2 und 4 mit einem Wert von etwa 1,46 bis zu einem Wert von etwa 0,95 in der Mitte der Mehrfachschicht
ab, während der Absorptionskoeffizient von einem äußeren Wert k = 0 bis zu einem Wert von etwa k = 0,2 in der Mitte der
jeweiligen Mehrfachschicht ansteigt.
Bei dem Beispiel 5 besteht die mittlere Mehrfachschicht 3 aus drei Teilschichten, von denen die beiden äußeren jeweils aus
einem dünnen Silberfilm einer Dicke von 50 nm und die mittlere
aus einem dünnen Magnesiumfluoridfilm einer Dicke von 690 nm
besteht. Die beiden weiteren Mehrfachschichten 2 und 4 bestehen jeweils aus einer Mischung von Aluminium und Quarz. Die in den
Fig. 11 und 12 wiedergegebenen Diagramme veranschaulichen die
Reflexion und die Durchlässigkeit der dem Beispiel 5 entsprechenden Filteranordnung über der Wellenlänge in nm.
Bei allen vorgenannten Beispielen können die verschiedenen Teilschichten durch Vakuumaufdampfung erzeugt werden. Alle von
den Beispielen betroffenen Filteranordnungen sind vor allem für eine als Natriumlarape ausgebildete zusätzliche Lichtquelle mit
einer Hauptstrahlung im Bereich von Λ = 590 nm vorgesehen. Der
Filteraufbau kann aber auch so abgewandelt werden, daß die Filteranordnung einer anderen durchzulassenden Wellenlänge zugeordnet
ist, beispielsweise einer von Niederdruck-Quecksilberlampen erzeugten Hauptstrahlung mit einer Wellenlänge von A = 546 nm.
Sofern die Filteranordnung einer anderen als der bei den vorstehenden
Ausführungsbeispielen berücksichtigten Wellenlänge λ = 589 nm zugeordnet werden soll, dann muß sie entsprechend
üblichen optischen Regeln nach der Formel
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■η
geändert werden, worin h die gesuchte Dicke der Teilschicht in
der abgewandelten Filteranordnung, h* die Dicke der entsprechenden
Teilschicht bei den vorstellend beschriebenen Ausführungsbeispielen,
n1 die Brechungszahl des dielektrischen Materials bei
einer Wellenlänge von 598 nm, η die Brechungszahl des gewünschten
dielektrischen Materials, 71 die gewünschte Wellenlänge und Λ1
die Wellenlänge 589 nm ist. Die optische Weglänge der einzelnen
Teilschichten bleibt bei dieser Umwandlung unverändert.
Beim Dimensionieren der den vorgenannten'Ausführungsbeispielen
entsprechenden Filteranordnungen wurde angestrebt, den Reflexionsfaktor
über den ganzen vorkommenden Wellenlängenbereich so niedrig und gleichmäßig wie möglich zu erhalten, was auch aus den Fig. 2,
4, &, 8 und TT hervorgeht, in denen der Reflexionsfaktor durchschnittlich
unter 5% beträgt und der Reflexionsfaktor im ganzen für das Auge empfindlichen Wellenlängenbereich an keiner Stelle
T5% übersteigt.
Mit den vorgenannten Ausführungsbeispielen hat man somit ein
Filter geschaffen, welches Licht nur in den Wellenlängenbereichen der zusätzlichen Lichtquelle durchläßt und zugleich die Intensität
des durchgelassenen Lichtes auf einen Wert dämpft, der für das menschliche Äuge unschädlich ist, wobei vom Filter auch keine
unerwünschten (störenden) Reflexionen ausgehen können. Die Herstellung
der Filter kann vorzugsweise durch ein an sich bekanntes Aufdampfen der verschiedenen Teilschichten erfolgen. Eine solche
Herstellung ist wirtschaftlich sehr vorteilhaft und führt auch zu einem mechanisch sehr haltbaren Erzeugnis.
Die Anwendung der erfindungsgemäßen Schutzvorrichtung ist nicht
an Schweißen gebunden, sondern kann auch sonst überall dort erfolgen,
wo eine für das menschliche Auge schädliche Strahlung auftreten kann.
Bei allen vorstehend in den Ausführungsbeispielen beschriebenen Filtern übersteigt der Durchlässigkeitsbereich dem l/ellenlängenbe-
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Λ?
reich der von der zusätzlichen Lichtquelle ausgehenden Strahlung beiderseits um einen gewissen Wert. Würde der Durchlässigkeitsbereich
zu eng gemacht werden, dann, könnte er mit Rücksicht auf
die bei der Filterherstellung unvermeidlichen Töleranzabweichungen
bei der Dicke der einzelnen Schichten aus dem Strahlungsbereich der zusätzlichen Lichtquelle herausfallen. Würde man jedoch im
Interesse der Einhaltung eines engeren Durchlässigkeitsbereiches die vorgenannten Herstellungstoleranzen entsprechend verringern,
dann würde dies bei den hergestellten Filtern zu einem, erheblichen
Ausschuß führen.
Es ist im übrigen kaum, möglich, für die in den vorstehenden
Äusführungsbeispxelen erläuterten Filterkonstruktionen Angaben über die bei den einzelnen Teilschichten einzuhaltenden Dickentoleranzen
zu machen, weil die Toleranzen der verschiedenen Teilschichten alle voneinander abhängen.
Sofern zu erwarten ist, daß die von einem Lichtbogen ausgehende
Strahlung besonders intensiv ist oder die Strahlungsintensität starken plötzlichen Schwankungen ausgesetzt ist, dann
kann es eintreten, daß die Durchlässigkeit der vorstehend beschriebenen Filter zu groß ausfällt und doch noch die Gefahr
einer Augenschädigung besteht. In solchen Fällen, kann als Medium
1 des in Fig. 1 dargestellten Filters ein farbiges Glas der
Type OG 560 verwendet werden, welches vom Jenaer Glaswerk, Schott & Genossen, in Mainz hergestellt wird. Allerdings ist dann wieder
zu befürchten, daß dadurch auch bei den vorgenannten Filtern die Dämpfung so stark ausfällt, daß das Schutzglas gegenüber der
zusätzlichen Lichtquelle zu undurchsichtig für eine Benutzung bei noch nicht gezündetem Schweiß-Lichtbogen ausfällt.
Eine auch den letztgenannten Elangel vermeidende weitere Ausführungsform
des Schutzglases ist in Fig. 13 dargestellt. Dort enthält das Schutzglas eine Kombination eines Filters gemäß den
vorgenannten Ausführungsbeispielen mit einer zusätzlichen licht-
709829/0280
empfindlichen Substratschicht/ deren Durchlässigkeit bei zunehmender
Anstrahlung abnimmt. Auf diese Weise kann das Filter innerhalb seines Durchlässigkeitsbereiches durchlässiger gestaltet
werden, als es ohne die photochromatische Substratschicht der
Fall wäre, und der Schweißer kann vor dem eigentlichen Schweißbeginn gegenüber der zusätzlichen Lichtquelle stets ausreichend durch das Schutzglas auf seinen Arbeitsbereich blicken, während seine Augen während des Schweißvorganges auch beim Auftreten
einer zu starken Strahlung oder sehr starker Schwankungen der
ausgestrahlten Lichtstärke trotzdem geschützt bleiben.
Fall wäre, und der Schweißer kann vor dem eigentlichen Schweißbeginn gegenüber der zusätzlichen Lichtquelle stets ausreichend durch das Schutzglas auf seinen Arbeitsbereich blicken, während seine Augen während des Schweißvorganges auch beim Auftreten
einer zu starken Strahlung oder sehr starker Schwankungen der
ausgestrahlten Lichtstärke trotzdem geschützt bleiben.
Das in Fig. 13 dargestellte, zur Verwendung in einer Schutzbrille gekrümmte Schutzglas besteh't aus einer äußeren Platte 1 '
eines phptochemisehen Substrates, wie es beispielsweise als Verbindung
224 durch die Firma Applied Photophysics Ltd hergestellt wird. Hinter der Platte 1· folgt das eigentliche Filter 2', das
aus den in den vorgenannten Ausführungsbeispielen genannten unterschiedlichen Mehrfachschichten zusammengesetzt ist. Dahinter
folgt schließlich als Tragschicht und zugleich zum Schutz des
Filters vor Beschädigungen eine beispielsweise aus Glas bestehende Tragplatte 3.'.. Das Glas kann spektral absorbierend oder transparent sein. Es kann beispielsweise ein beim Jenaer Glaswerk,
Schott & Genossen, in Mainz hergestelltes Glas der Type OG 560
verwendet werden. Durch die photochromatische Substratschicht der Platte 1' kann bei einer besonders starken Anstrahlung eine zusätzliche Dämpfung erreicht werden. Infolgedessen kann die Durchlässigkeit des Filters 21 trotz Wahrung eines ausreichenden Schutzes der Augen größer gewählt werden, als es ohne Vorhandensein der Substratschicht notwendig wäre. Dabei sind die Substratschicht und das Filter 2' so aufeinander abgestimmt, daß das Schutzglas für die beim Schweißen auftretende Strahlung nur derart schwach lichtdurchlässig ist, daß das menschliche Auge dadurch nicht gefährdet werden kann. Selbst eine vom Lichtbogen bei verstärkter Emission ausgehende störende Blendung bleibt unschädlich, weil sie im wesentlichen nur psychologischer Natur ist. Die vergrößerte Durch-
Filters vor Beschädigungen eine beispielsweise aus Glas bestehende Tragplatte 3.'.. Das Glas kann spektral absorbierend oder transparent sein. Es kann beispielsweise ein beim Jenaer Glaswerk,
Schott & Genossen, in Mainz hergestelltes Glas der Type OG 560
verwendet werden. Durch die photochromatische Substratschicht der Platte 1' kann bei einer besonders starken Anstrahlung eine zusätzliche Dämpfung erreicht werden. Infolgedessen kann die Durchlässigkeit des Filters 21 trotz Wahrung eines ausreichenden Schutzes der Augen größer gewählt werden, als es ohne Vorhandensein der Substratschicht notwendig wäre. Dabei sind die Substratschicht und das Filter 2' so aufeinander abgestimmt, daß das Schutzglas für die beim Schweißen auftretende Strahlung nur derart schwach lichtdurchlässig ist, daß das menschliche Auge dadurch nicht gefährdet werden kann. Selbst eine vom Lichtbogen bei verstärkter Emission ausgehende störende Blendung bleibt unschädlich, weil sie im wesentlichen nur psychologischer Natur ist. Die vergrößerte Durch-
709829/0280
lässigkeit ist von großer Bedeutung, weil sie das Schutzglas bei seiner normalen Verwendung durchsichtiger macht und deshalb
auch dort, beispielsweise bei Bewegungen und Hand1angungen, getragen
werden kann, wo herkömmliche Schutzbrillen oder Schutzschilde mangels ausreichender Durchsichtigkeit abgenommen werden
mußten.
In einer Abwandlung des in Fig. 13 dargestellten und vorstehend beschriebenen Ausführungsbexspxeles kann die Tragplatte 3'
als Schutzglas ebenfalls die vorgenannte Verbindung 224 oder eine vergleichbare Verbindung enthalten, während an Stelle der
dargestellten, durch die Substratschicht gebildeten Platte 1'
eine absorbierende oder nichtabsorbxerende Glasplatte oder Verbindung 224 bzw. vergleichbare Verbindung vorgesehen sein kann.
Selbstverständlxch kann das in Fig. 13 dargestellte Schutzglas bei gleichbleibender Zusammensetzung statt gekrümmt auch eben
ausgebildet sein, wenn es beispielsweise an einem Schutzschild vorgesehen wird. Je nachdem, ob das photochromatische Material
der durch die Platte 1' gebildeten Substratschicht mehr oder weniger
empfindlich ist, kann es entweder auf der dem Schweiß-Lichtbogen zugewandten oder auf der dem Schweiß-Lichtbogen abgelegenen
Seite des Filters 2' angeordnet werden.
COPY
709829/0280
Claims (11)
- PATENTANWALT DIPL-ING. H. STSOHSCHÄNK 8000 MÖNCHEN 60 - MUSÄUSSTRASSE 5 - TELEFON (08 90 88 16 08 £ 65836523.12.1976-SS(5) 190-1459PIVSchutzvorricLtxjng zura Schütze der Äugen gegen schädliche, beispielsweise beim Schweißen auftretende Strahlung mit einer in deren Umgebung vorgesehenen, vor allem im Bereich einer gewissen Wellenlänge A eine starke Emission aufweisenden Lichtquelle, mit einer spektralselektiven ersten Mehrfachschicht in Form eines metallischen Interferenzfilters und mit beiderseits des letzteren befindlichen weiteren Mehrfachschichten, die so ausgebildet sind, daß der Reflexionsfaktor an den Grenzflächen zwischen dem Interferenzfilter und den umgebenden Medien spektral neutrale Werte annimmt und die Spektralfunktion der spektralselektiven ersten Mehrfachschicht durch die sie umgebenden weiteren Mehrfachschichten im wesentlichen unbeeinträchtigt bleibt, dadurch gekennzeichnet, daß die spektralselektive erste Mehrfachschicht (3) ein Paßband für hauptsächlich die aus den Fig. 3, 5, 7, 9 und 12 ersichtliche Wellenlänge (λθ aufweist und jede der die erste Mehrfachschicht (3) umgebenden weiteren Mehrfachschichten (2 und 4) entweder ausabwechselnden Schichten von SiO2 und Cr, wobei beide äußersten Schichten aus SiO- bestehen,oder ausabwechselnden Schichten von Al3O3 und Cr, wobei beide äußersten Schichten aus Al2O3 bestehen,oder ausabwechselnden Schichten eines Materials mit der Brechungszahl n=1,35, wie M F4 oder Na3AlF6 und Cr,oder auseinem Belag einer durch/V bestimmten integrierten optischen709829/0280Dicke gebildet sind, dessen Brechungszahl η und Äbsorptionskoeffizient k stufenlos wechseln, wobei sich von jeder Endfläche zur Mitte des Belages hin η von int wesentlichen 1,46 bis im wesentlichen 0,95 und k von ira wesentlichen 0 bis im wesentlichen 0,2 verändert.
- 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden weiteren f-Iehrf achschichten (2 und 4) jeweils aus einer SiCXv-Schicht einer Dicke von ira wesentlichen 270 ( λ./509) . (n., (589) /n, (/I ) )nru und (a-1) Cr-Schichten mit einer im wesentlichen 6 nm betragenden Dicke bestehen, wobei jede Cr-Schicht zwischen zwei SiO2-Schichten angeordnet ist, worin n-(589) die Brechungszahl für GiO- bei Λ = 539 nm und n- ( Ti ) die Brechungszahl bei der Wellenlänge λ. ist, und worin 2^a ^6 sowie vorzugsweise a = 4 ist.
- 3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die spektralselektive Mehrfachschicht (3) aus zwei Ag-Schichten einer Dicke von im wesentlichen 50 nm und aus einer zwischen diesen befindlichen MgF2-Schicht einer Dicke von im wesentlichen 850 (λ/589).(n2(589)/n2(^)) ma besteht, worin n2(589) die Brechungszahl für MgF9 beiA= 589 nm und η, (λ) die Brechungszahl bei der Wellenlänge Ά. ist.
- 4. Vorrichtung nach Anspruch 1r dadurch gekennzeichnet, daß die beiden weiteren Mehrfachschichten (2 und 4) jeweils aus zwei äußeren Al203-Schichten einer im. wesentlichen 227 (Λ/589). (n^ (589)/n3(A)) nm betragenden Dicke bestehen, an die nach innen jeweils eine Cr-Schicht einer Dicke von im wesentlichen 6 nm anschließt, während eine an jede Cr-Schicht nach innen anschließende Äl2O3-Schicht eine Dicke von im wesentlichen 76 (Λ/589).(n3 (589)/η3(Λ)) nm aufweist und daß eine mittlere Schicht entweder ausCr einer Dicke von im wesentlichen 14 nmoder auszwei Cr-Schichten einer Dicke von im wesentlichen 7 nm mit einer709329/0280dazwischen eingeschlossenen Äl2O_-Schicht einer Dicke von im wesentlichen 76 (Λ/589). On3(589)/n3(Λ )) besteht, worin n3(589) die Brechungszahl für Al3O3 bei Λ = 589nm und n2(Λ) die Brechungszahl bei der Wellenlänge.Λ ist.
- 5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß jede der beiden weiteren Mehrfachschichten (2 und 4) aus einer ersten Schicht aus einem Material mit einer Brechungszahl η = 1,35 bei einer Wellenlänge λ = 589nm und einer Dicke von im wesentlichen 277 (Λ /589).(1,35/n.(Λ ))nm, aus einer zweiten Schicht aus Cr einer Dicke von im wesentlichen 7nm, aus zwei weiteren Cr-Schichten einer Dicke von im wesentlichen 93 (Λ /589).(1,35/n. (Λ))nm und aus einer zwischen den beiden letztgenannten Schichten eingeschlossenen weiteren Cr-Schicht einer Dicke von im wesentlichen 15nm besteht, worin η.(Λ) die Brechungszahl für das genannte Material bei der Wellenlänge Λ ist.
- 6. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die spektralselektive Mehrfachschicht (3) aus einer im wesentlichen 33nm dicken Ag-Schicht, einer im wesentlichen 306 (Λ /589) . (n3 (589)/1I3 (A ))nm dicken Al2O3-ScMcIIt, einer im wesentlichen 77nm dicken Ag-Schicht, einer im wesentlichen 841 (X /589) . (1I3 (589)/η3(Λ) )nm dicken Al2O3-Schicht und aus einer im wesentlichen 33nm dicken Ag-Schicht besteht.
- 7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2,4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die spektralselektive Mehrfachschicht (3) aus einer im wesentlichen 35nm dicken Ag-Schicht, einer im wesentlichen 385 (Λ/589). (1 f35/n4(/t ))nm dicken Schicht eines Materials mit einer Brechungszahl η = 1,35 bei der Wellenlänge A = 589nm, einer im wesentlichen 77nm dicken Ag-Schicht, einer im wesentlichen 604 (/\/589). (1,35/n« (Λ ) )nm dicken Schicht des genannten Iiaterials und einer im wesentlichen 33nm dicken Ag-Schicht besteht, worin n4(Λ.) die Brechungszahl des genannten Materials bei der Wellenlänge A ist.70 9 829/0280
- 8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle eine Natrium- oder eine Hochdruck-Quecksilberlampe mit einer im Bereich der Wellenlänge Λ = 589 liegenden Emission ist, wobei die Dicke dielektrischer Teilschichten der Mehrfachschichten (2 und 4) der Wellenlänge A =589 angepaßt ist.
- 9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle eine Niederdruck-Quecksilberlampe mit einer Emission im Bereich der Wellenlänge Λ = 546 nm ist, wobei die Dicke dielektrischer Teilschichten der Mehrfachschichten (2 und 4) der Wellenlänge λ. = 546 nm angepaßt ist.
- 10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer der beiden Außenflächen des durch die Mehrfachschichten (2 bis 4) gebildeten Filters (21) eine zusätzliche Schicht (Platte 11) eines lichtempfindlichen Substrates vorgesehen ist, dessen Lichtdurchlässigkeit mit zunehmender Anstrahlung abnimmt (Fig. 13).
- 11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer freien Außenfläche des durch die Mehrfachschichten (2 bis 4) gebildeten Filters (21) eine Tragschicht aus einer durchsichtigen oder dunklen, beispielsweise aus Glas bestehenden Tragplatte (31) vorgesehen ist.709829/0280
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---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
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ID=26656679
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Country | Link |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016156414A1 (de) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Leibniz-Institut Für Photonische Technologien E.V. | Schutzvorrichtung für eine von einer strahlungsquelle erzeugte energiereiche strahlung |
-
1976
- 1976-11-29 GB GB4961476A patent/GB1544114A/en not_active Expired
- 1976-12-23 DE DE19762658365 patent/DE2658365C3/de not_active Expired
- 1976-12-23 BR BR7608671A patent/BR7608671A/pt unknown
- 1976-12-23 NL NL7614347A patent/NL7614347A/xx not_active Application Discontinuation
- 1976-12-23 JP JP15612376A patent/JPS5292844A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016156414A1 (de) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Leibniz-Institut Für Photonische Technologien E.V. | Schutzvorrichtung für eine von einer strahlungsquelle erzeugte energiereiche strahlung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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NL7614347A (nl) | 1977-06-27 |
DE2658365B2 (de) | 1978-08-10 |
JPS5292844A (en) | 1977-08-04 |
GB1544114A (en) | 1979-04-11 |
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DE2658365C3 (de) | 1979-04-19 |
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