DE2527586A1

DE2527586A1 - Schmelzoberflaeche und verfahren zum fixieren von xerographischem toner

Info

Publication number: DE2527586A1
Application number: DE19752527586
Authority: DE
Inventors: Richard J Murphy
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 1974-08-14
Filing date: 1975-06-20
Publication date: 1976-03-04
Also published as: US4000339A; US4107389A; JPS5149730A; GB1503704A

Description

Xerox Corporation, Rochester, N.Y. / USA

Schmelzeroberfläche und Verfahren zum Fixieren von xerographischem Toner

Die Erfindung betrifft eine Oberfläche zur Verwendung bei einem xerographischen Reproduziergerät zum Fixieren eines Harzbasis-Pulverbildes auf einem Substrat bei erhöhten Temperaturen und ein Verfahren zum Fixieren eines Harzbasis-Pulverbildes auf ein Substrat.

Insbesondere betrifft die Erfindung eine verbesserte Schmelzeroberfläche und ein Verfahren, welche ein Abziehen bzw. Ablösen vom Harzbasis-Pulver auf die Oberfläche während des Schmelzvorganges verhindern. Unter der Schmelzeroberfläche soll eine Rolle, eine flache Oberfläche oder jegliche andere zum Fixieren von Toner- bzw. Harzbasis-Pulverbildern geeignete Form verstanden werden. Besonders wertvoll ist die Anwendung der Erfindung auf dem Gebiet der Xerographie, wo Bilder elektrostatisch erzeugt, mit als Toner bekannten harzartigen Pulvern entwickelt und schließlich auf Papierblätter oder andere Substrate, auf welche die Pulverbilder übertragen worden sind, aufgeschmolzen bzw. fixiert werden. Die Harzbasis-Pulver bzw. Toner werden durch Hitze erweicht, beispielsweise Toner, die thermoplastische Harze enthalten und in einer Vielzahl von Arten auf herkömmliche Weise bei in der Technik bekannten Verfahren angewendet werden.

609810/07 9 6

Um aus den harzartigen Pulvern bzw. Tonern geformte Bilder zu schmelzen, ist es erforderlich, das Pulver und das Substrat, auf das es aufgeschmolzen werden soll, auf eine relativ hohe Temperatur, im allgemeinen über 93°C (200⁰P), zu erhitzen. Diese Temperatur ändert sich in Abhängigkeit von dem Erweichungsbereich des im Toner verwendeten besonderen Harzes. Es werden auch höhere Temperaturen angewendet, wie beispielsweise etwa 163⁰C (325°F) oder höher. Es ist jedoch unerwünscht, die Temperatur des Substrats wesentlich höher als auf 204⁰C (400°P) anzuheben, und zwar wegen der Tendenz des Substrats, sich bei so hohen Temperaturen zu verfärben, insbesondere wenn das Substrat aus Papier ist.

Es ist seit langem bekannt, daß eines der schnellsten und wirkungsvollsten Verfahren zum Anwenden von Hitze zum Schmelzen von Pulverbildern die direkte Berührung des HarzbSELS-Pulvers mit einer heißen Oberfläche ist, wie beispielsweise eine erhitzte Rolle. In den meisten Fällen wird jedoch, während das Pulverbild durch die Hitze haftfähig wird, ein Teil des von dem Trägermaterial getragenen Bildes an der Oberfläche der Platte bzw. Rolle anhaften, so daß, wenn das nächste Blatt zu der beheizten Rolle gelangt, das haftfähig gewordene Bild, welches von dem ersten Blatt teilweise entfernt worden ist, teilweise auf das nächste Blatt übertragen wird, und gleichzeitig wird ein Teil des haftfähig gewordenen Bildes des nächsten Blattes an der beheizten Rolle anhaften. Dieser Vorgang wird in der Technik allgemein als Abziehen oder Ablösen (Offset) bezeichnet; diese Begriffe sind in der Technik wohlbekannt.

Das Abziehen von Toner auf die beheizte Oberfläche führte zur Entwicklung verbesserter Verfahren und Geräte zum Schmelzen des Tonerbildes. Nach derartigen verbesserten Verfahren wurden Tonerbilder geschmolzen, indem ein das Bild tragendes Blatt bzw. eine Unterlage oder Substrat zwischen zwei Rollen gefördert wurde, von denen wenigstens eine beheizt war, wobei die in Berührung mit dem Bild gelangenden Rollen mit einem dünnen überzug aus Tetrafluor-

609810/0796

äthylenharz und einem Silikonclfilm zum Vermeiden von Abziehen des Toners versehen waren. Die Außenflächen derartiger Rollen wurden ferner aus fluoriertem Äthylen/Propylen oder aus mit SiIikonöl überzogenen Silikon-Elastomeren sowie aus Füllstoffe mit niedriger Oberflächenenergie wie fluorierte organische Polymere und dergleichen enthaltenden Silikon-Elastomeren hergestellt. Die Neigung dieser Rollen zur Annahme von Toner macht im allgemeinen die kontinuierliche Anwendung irgendeines Ablösefluids an der Oberfläche der Rolle erforderlich, um dieses Abziehen zu verhindern, wozu die allgemein bekannten Silikon-Öle gut geeignet sind. Die fortdauernde Anwendung des Fluids erfordert jedoch einen getrennten Vorratsbehälter für dieses Fluid und eine Vorrichtung zum Auftragen des Fluids sowie ein Bemessungs- und Steuersystem zur Aufrechterhaltung der geeigneten Fluidmenge auf der Rolle. Dies macht eine zusätzliche Ausrüstung zur Aufrechterhaltung der Fluiözufuhr erforderlich und verursacht dadurch höhere Kosten. Oberflächen ohne Ablösefluid sind im allgemeinen zum Verhindern des Abziehens ungeeignet, insbesondere wenn sie in mit hoher Geschwindigkeit arbeitenden xerographischen Reproduziergeräten Anwendung finden.

Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine Schmelzeroberfläche und ein Verfahren zum schnellen Fixieren von Bildern aus harzartigem Pulver anzugeben, durch die das Auftreten des Aeiehens bzw. der Ablösung vermieden wird. Die erfindungsgemäße Schmelzeroberfläche soll Silikon-Kautschuk enthalten und in Berührung mit dem Bild aus harzartigem Pulver auf dem Substrat gelangen. Auf der Oberfläche des Silikon-Kautschuks soll ohne Verwendung einer Auftragevorrichtung für ein Ablösefluid eine Schicht eines Ablösestoffes gebildet werden, wodurch das Abziehen von Bildern darauf verhindert wird.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren soll ein ein Harzbasis-Pulverbild tragendes Substrat in Berührung mit einer Silikon-Kautschuksehicht bei einer Temperatur gelangen, die ausreicht, um das Aufschmelzen des Harzbasis-Pulvers auf das Substrat zu ermöglichen,

609810/079S

wobei die Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht gegenüber dem geschmolzenen Harzbasis-Pulver eine geringere Haftwirkung aufweist als die Haftwirkung des geschmolzenen Harzbasis-Pulvers gegenüber dem Substrat und wobei von außen her keinerlei Silikon-Öl oder ein anderes Ablösefluid der Silikon-Kautschukschicht zugeführt werden soll.

Die erfindungsgemäße Aufgabe wird gelöst durch eine Oberfläche zur Verwendung bei einem xerographischen Reproduziergerät zum Fixieren eines Harzbasis-Pulverbildes auf einem Substrat bei erhöhten Temperaturen, die gemäß der Erfindung dadurch gekennzeichnet ist, daß die Oberfläche Silikon-Kautschuk mit einem in Anwesenheit von Wasser bzw. Feuchtigkeit den Abbau des Silikon-Kautschuks fördernden Katalysatormittel umfaßt.

Das Verfahren zum Fixieren eines Harzbasis-Pulverbildes auf einem Substrat ist gemäß der Erfindung gekennzeichnet durch Herbeiführung eines Kontaktes zwischen einem ein Harzbasis-Pulverbild tragenden Substrat und der erhitzten Oberfläche einer Silikon-Kautschukschicht während einer bzw. bei einer zur Ermöglichung des Aufschmelzens des Harzbasis-Pulvers auf das Substrat ausreichenden Zeitspanne bzw. Temperatur, ein Katalysatormittel in dem Silikon-Kautschuk, welches in Anwesenheit von ausreichender Feuchtigkeit den Abbau des Silikon-Kautschuks fördert zur Bildung eines Abbauproduktes auf der erhitzten Oberfläche, wobei das Abbauprodukt gegenüber dem geschmolzenen Harzbasis-Pulver eine Haftwirküng aufweist, die geringer ist als die Haftwirkung des geschmolzenen Harzbasis-Pulvers gegenüber dem Substrat, Trennen des Substrats von der erhitzten Oberfläche, wobei das geschmolzene Harzbasis-Pulver auf dem Substrat festgehalten wird, und Abkühlung des geschmolzenen Harzbasis-Pulvers auf dem Substrat.

Eine Rolle, ein flaches Substrat oder ein anderes Substrat mit geeigneter Form zum Fixieren von harzartigen Pulvern weist eine Oberfläche aus Silikon-Kautschuk auf, der ein darin verteiltes Katalysatormittel enthält, das in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit den Abbau des Silikon-Kautschuks bei erhöhten Temperaturen

609810/07 9 6

fördert. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird ein Harzbasis-Pulverbild auf einem Substrat fixiert, indem das das Harzbasis-Pulverbild tragende Substrat in Berührung mit der erhitzten Oberfläche der erwähnten Silikon-Kautschukschicht während einer Zeitspanne und bei einer Temperatur gebracht wird, die ausreichen, um das Aufschmelzen des Harzbasis-Pulvers auf das Substrat zu ermöglichen, und indem das Harzbasis-Pulver auf dem Substrat abgekühlt wird. Die Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht ist abweisend gegenüber dem haftfähig gewordenen Harzbasis-Pulver, das auf dem Substrat dem Schmelzvorgang unterzogen wird, da die Silikon-Kautschukschicht ein in ihr verteiltes Katalysatormittel aufweist, das in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit den Silikon-Kautschuk abbaut und so ein Abbauprodukt bildet, welches ein Ablösestoff für das haftfähig gewordene Harzpulver auf der erhitzten Oberfläche ist. Dieses Abbauprodukt weist eine Haftwirkung gegenüber dem geschmolzenen Harzbasis-Pulver auf, die geringer ist als die Haftwirkung des geschmolzenen Harzbasis-Pulvers gegenüber dem Substrat. Die erhitzte Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht ist somit abweisend gegenüber dem haftfähig gewordenen bzw. erhitzten Harzbasis-Pulver, und ein Abziehen bzw. Ablösen auf der erhitzten Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht wird verhindert.

Das Abbauprodukt (bzw. das Rückbildungsprodukt) des Silikon-Kautschuks aus der Reaktion des Silikon-Kautschuks mit Wasser oder Feuchtigkeit bildet einen Ablösestoff auf der Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht. Das Abbauprodukt des Silikon-Kautschuks ist ein Silikonstoff mit geringerem Molekulargewicht und mit niedriger Oberflächenenergie; es ist vorzugsweise ein Fluid und ist in seinen Eigenschaften dem Silikonöl ähnlich.

Die Erfindung ermöglicht die Erzeugung des Abbauproduktes der Silikon-Kautschukschicht bei Betriebstemperaturen, d.h. bei den Temperaturen, bei denen Harzbasis-Pulver bzw. Toner haftfähig wird. Der Spaltungsvorgang bei Silikon-Kautschukarten ist wohlbekannt und beispielsweise von Thomas in "Rubber Chemistry and Tech;:cl :gy", ^C, 269 (1967) beschrieben. In dieser Vercffe;—Eichung v.'-.rd ausgeführt, daß ein mit Peroxyd gehärteter Met_" ■' r.yl-εί ..ik'_ :.--⁷α!;^μ3 ~r.uk ir. Anwesenheit ν":; y^t-or "·'..--.· ' \z

bÜ98 10/0786

2527588

dem erfindungsgemäßen Verfahren und in der erfindungsgemäßen Oberfläche fördert ein Katalysatormittel den Abbau des Silikon-Kautschuks bzw. -Elastomers in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit, wenn dieses in die Silikon-Kautschukschicht eingearbeitet wird, und bildet so eine ausreichende Menge des Silikon-Kautschuk-Abbauproduktes zur Bildung einer Ablöseschicht auf der Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht. Dadurch, daß eine Wasser- bzw. Feuchtigkeitszufuhr vorgesehen wird, indem entweder zur Zufuhr von Wasser oder Feuchtigkeit geeignete Mittel in der Silikon-Kautschukschicht verteilt werden oder indem eine äußere Zufuhr wie beispielsweise ein Dampfstrahl, Feuchtigkeit im Papier usw. oder Kombinationen zur Anwendung gelangen, wird somit ein Verfahren zur kontinuierlichen Erzeugung eines Abbauproduktes zur Beschichtung der Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht und zur Bildung einer Schicht des gegenüber dem Harzbasis-Pulvertoner während der gesamten Lebenszeit der Silikon-Kautschukschicht abweisenden Abbauproduktes auf deren Oberfläche angegeben.

Weitere Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen.

Die Oberfläche zum Fixieren bzw. Schmelzen eines Harzbasis-Pulverbildes auf einem Substrat bei erhöhten Temperaturen kann eine Rolle, eine flache Oberfläche oder jegliche andere Art mit geeigneter Konfiguration sein. Die Oberfläche muß jedoch wenigstens eine Schicht aus Silikon-Kautschuk oder Elastomeren aufweisen, die ein darin verteiltes Katalysatormittel umfaßt, das in der Lage ist, den Abbau des Silikon-Kautschuks bzw. des Elastomers in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit zu fördern, um ein Abbauprodukt zu bilden, das die dem Harzbasis-Pulverbild ausgesetzte Oberfläche überzieht. Die Erfindung läßt sich zwar auf praktisch jede Art von Oberfläche anwenden, die zum Fixieren bzw. Schmelzen eines Harzbasis-Pulverbildes verwendet werden kann, die nachfolgende Be- . Schreibung bezieht sich jedoch aus Gründen der Einfachheit auf im wesentlichen zylindrisch geformte Schmelzerrollenelemente.

609810/ Ü796

- ψ-

Die Schmelzerrollenelemente können ganz aus Silikon-Kautschuk oder aus Elastomeren hergestellt sein; bei den bevorzugten Ausführungsformen umfassen die Rollenelemente jedoch einen hohlen zylindrischen Metallkern, beispielsweise aus Kupfer, Aluminium, Stahl oder dergleichen oder überzogene Schichten aus Kupfer, Stahl, Aluminium und dergleichen, die mit einer Schicht Silikon-Kautschuk versehen sind, der ein darin verteiltes Katalysatormittel aufweist, das in der Lage ist, den Abbau des Silikon-Kautschuks in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit zu fördern, um den Silikon-Kautschuk in ein Abbauprodukt umzuwandeln, das abweisend ist gegenüber Harzbasis-Pulvern oder Tonern. In der vorliegenden Beschreibung werden Harzbasis-Pulver und Toner als Synonyme verwendet.

Unter Abbauprodukt wird in der vorliegenden Beschreibung ein Produkt verstanden, das aus dem Abbau von Silikon-Kautschuk oder Elastomeren entsteht, wenn der Silikon-Kautschuk bzw. Elastomer auf Betriebstemperaturen der Schmelz- bzw. Fixierstation erhitzt wird, und in Anwesenheit eines Katalysatormittels und von Wasser oder Feuchtigkeit ein Produkt gebildet wird, das ein geringeres Molekulargewicht und einen stärker fluiden Zustand sowie eine geringere Oberflächenerargie aufweist, als Silikon-Kautschuk oder Elastomere. Vorzugsweise besitzt das Abbauprodukt die Natur eines Öls. Es wird angenommen, daß das Abbauprodukt das Reaktionsprodukt des Silikon-Elastomers bzw. -Kautschuks mit Wasser in Anwesenheit des Katalysators bei erhöhten Temperaturen von beispielsweise 93⁰C (200⁰F) bis etwa 227°C (44O⁰F) ist und daß es sich um eine Hydrolysereaktion von Silikon-Kautschuk handelt, die durch die folgende Formel dargestellt wird (die Querbindungen sind weggelassen):

CH₃ SiO —	Λιττ riTT V/tl<7 Uli-» I I SiO—Si —	- 0~	+ H₅O	C —¥-	+	HO	CH, I ³ ΒίΟ-	CH, I ³ -Si
I	I I /ΊΤΤ r»TJ uri, un, *j 0*						Ι CH₃	I CH,
CH, I ³ -SiOH
I CH,

worin C ein Katalysatormittel darstellt, welches den Abbau bzw, die Rückumwandlung des Silikon-Kautschuks fördert.

60981 0/0796

Es wird angenommen, daß die Reaktion durch Aufbrechen der PoIysiloxan-Grundkette stattfindet, wobei sich Hydroxylgruppen dort bilden, wo die Kettentrennung auftritt. Studien des Infrarotspektrums haben die Anwesenheit von Hydroxylgruppen (-OH) nach dem Auftreten der Reaktion erwiesen.

Die Oberflächen der Schmelzervorrichtungen werden vorzugsweise hergerichtet, indem auf die mit einer Schicht aus Silikon-Kautschuk zu versehendeOberfläche in einem oder mehreren aufeinanderfolgenden Arbeitsgängen ein dünner überzug bzw. dünne überzüge aus Silikon-Kautschuk aufgebracht werden, welcher darin das Katalysatormittel aufweist, das in der Lage ist, den Silikon-Kautschuk in ein fluides Abbauprodukt in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit umzuwandeln. Wenn auf die zu überziehende Oberfläche nacheinander aufgetragen wird, so ist es im allgemeinen notwendig, die mit einem Film überzogene Oberfläche auf eine Temperatur aufzuheizen, die ausreicht, um jegliches in dem Film enthaltene Lösungsmittel zu beseitigen. Wenn beispielsweise eine Schmelzerrolle mit einer Schicht aus Silikon-Kautschuk überzogen wird, der darin ein Katalysatormittel aufweist, das in der Lage ist, Silikon-Kautschuk in Anwesenheit von Wasser abzubauen, so wird die Silikon-Kautschuk-Verbindung mit dem darin enthaltenen Katalysatormittel nacheinander in Form von dünnen überzügen auf die Rolle aufgetragen,und zwischen jedem Auftragvorgang wird eine Erhitzung der mit einem Film überzogenen Rolle vorgenommen bei Temperaturen von wenigstens etwa 93⁰C (20O⁰F) oder höher, so daß das meiste in dem FiIn enthaltene Lösungsmittel verdrängt wird. Wenn die gewünschte Dicke des Überzuges erreicht ist, so wird der überzug mit der Rollenoberfläche verschmolzen. Der Silikon-Kautschuk mit dem darin enthaltenen Katalysatormittel, das in der Lage ist, den Kautschuk vorzugsweise in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit in ein fluides Produkt abzubauen, kann ebenfalls als Umhüllung auf eine Rolle oder als Matte auf eine flache oder sonstige geeignete Oberfläche aufgebracht werden. Herkömmliche, in der Technik bekannte Verfah.-ren können zur Bildung einer Oberfläche verwendet werden, und es kann insbesondere das Verfahren zum überziehen von Rollen gemäß

6098 10/0 796

der U.S.-PS 3 435 500 verwendet werden. Ein anderer geeigneter Weg zur Bildung einer Schmelzerrolle liegt darin, daß eine äußere Schicht von Silikon-Kautschuk gebildet wird, die darin das zum Abbau des Kautschuks in Anwesenheit von Wasser geeignete Katalysatormittel enthält und auf einen mittleren Kern gewickelt wird, in den ein Heizelement zur internen Beheizung der Rolle eingesetzt werden kann.

Wie vorstehend ausgeführt wurde, müssen die Katalysatormittel solche Verbindungen sein, die eine Rückbildung bzw. einen Abbau des Silikon-Kautschuks bzw. -Elastomers bewirken oder fördern. Diese Rückbildung bzw. dieser Abbau des Silikon-Elastomers bildet ein Abbauprodukt, 'das bei Betriebstemperaturen vorzugsweise fluid ist. Diese Reaktion, von der man annimmt, daß es sich um eine Hydrolysereaktion handelt, in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit fördernde Mittel werden dem Kautschuk während des Versetzens bzw. während der Herstellung des Schmelzerelements hinzugefügt, und sie können feste Stoffe, Flüssigkeiten oder Lösungen sein. Viele wohlbekannte Stoffe können als Katalysatormittel verwendet werden, um die Rückbildung bzw. den Abbau von Silikon-Kautschuk zu fördern. Diese Vorgänge sine allgemein ir: der Technik bekannt. Beispiele solcher Stoffe umfasser. Kaliumhydroxid, Ätznatron und andere anorganische Basenj Schwefelsäure₄ Salzsäure, Phosphorsäure und andere anorganische Säuren; Kaliumsilanolatej Ammeniumiodid; Essigsäure, Propionsäure, Benzoesäure und dergleichen] Formamid, Chinolin, Äthylendiair.in _s Trithylamir. und verschiedene andere Säuren und Basen und dergleichen. Kompatible (nichtreagierende) Mischungen vieler der Katalysatcrmittel können ebenfalls verwendet werden, Andere Katalysatormittel, die den Abbau bzw. die Rückwandlung der Silikon-Polymere fördern, können vom Fachmann ausgewählt werden. Allgemein sind die wirksamsten und bevorzugten Katalysatormittel nichtflüchtige, nichtgiftige feste Stoffe (in den im Kautschuk eingearbeiteten Mengen), die bei Betriebstemperaturen nicht schmelzen und die sich im Silikon-Kautschuk verteilen lassen. Es können jedoch auch wirksame flüssige Katalysatormittel oder in Flüssigkeiten verteilte feste Stoffe im Silikon-Kautschuk verteilt werden.

60981 0/0796

- if» -

JiO

Die Menge des im Silikon-Kautschuk eingearbeiteten (verteilten) Katalysatormittels (bzw. Katalysatormittel) ist ein wirksamer Betrag, der in der vorliegenden Beschreibung als Betrag definiert wird, der zur Förderung der Rückwandlung bzw. des Abbaus des Silikon-Kautschuks in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit bei Betriebstemperaturen erforderlich ist. Beispielsweise ist ein wirksamer Betrag eines Benzoesäure-Katalysatormittels größer als etwa 0,15? (Gewichtsprozent auf der Basis des Gewichts des Silikon-Kautschuks). Eine bevorzugte Menge des Benzoesäure-Käalysatormittels zum Abbau des Silikon-Kautschuks beträgt etwa 1,0 Gew.-%. Bis etwa 10 Gew.—% des Benzoesäure-Katalysatormittels wurde ohne bzw. mit nur geringer Verbesserung gegenüber den mit 1,0 Gew.-$ erzielten Resultaten (Beseitigung der Erhitzungsablösung) verwendet. Es kann somit allgemein festgestellt werden, daß etwa 0,1 Gew.-? bis wenigstens etwa 10 Gew.-% oder mehr des Katalysatormittels verwendet werden können.

Das zum Abbau bzw. zur Rückbildung des Silikon-Kautschuks benötigte Wasser bzw. die Feuchtigkeit kann aus irgendeiner geeigneten Quelle geliefert werden, einschließlich Feuchtigkeit enthaltendes Papier oder jegliches andere zu schmelzende Substrat, ein zur Zuführung von Wasser oder Feuchtigkeit geeignetes, im Silikon-Kautschuk verteiltes Mittel, eine Einrichtung, die einen Strahl, Strom, Vorrat oder eine Atmosphäre aus Wasser oder Feuchtigkeit bildet oder dergleichen, einschließlich Dampf im Bereich des mit einem Überzug versehenen Schmelzerelementes.

Das zur Förderung des Abbaus des Silikon-Kautschuks in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit geeignete Katalysatormittel kann in der Schicht des Silikon-Kautschuks verteilt werden, indem das Mittel mit dem Silikon-Kautschuk bzw. der Elastomerverbindung vermischt wird, vorzugsweise vor Auftragen auf die mit dem überzug aus der Verbindung zu versehendeSchmelzeroberflache. Das Katalysatormittel kann verteilt oder auf andere Weise durch herkömmliche, dem Fachmann bekannte Verfahren in die Silikon-Kautschukverbindung eingearbeitet werden, beispielsweise durch Auflösen, Rühren oder Versetzen des Silikon-Kautschuks bzw. des Latex, Elastomers

609810/0796

- Mr -

oder Gummis mit dem Mittel, das im allgemeinen in fester Form vorliegt. Nachdem diese Verteilung durchgeführt ist, wird der Silikon-Kautschuk mit dem darin verteilten Katalysatormittel auf die Rolle oder jegliche andere geeignete Oberfläche zur Herstellung des Schmelzerelements mit Hilfe irgendeiner der vorstehend beschriebenen Einrichtungen aufgetragen. Die Oberfläche der Kautschukschicht muß so ausgerichtet sein, daß sie mit dem Harzbasis-Pulverbild auf einem Substrat bei erhöhten Temperaturen zum Schmelzen bzw. Fixieren des Pulvers in Kontakt gelangt. An der Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht mit dem darin enthaltenen, zur Förderung des Abbaus des Kautschuks in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit geeigneten Katalysatormittel wird wenigstens aus der Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht ein Ablösestoff gebildet, der verhindert, daß eine Ablösung oder ein Anhaften des Harzbasis-Pulvers bzw. Toners an der Schmelzeroberfläche stattfindet, während das Harzbasis-Pulverbild bzw. Tonerbild in Kontakt mit der Schmelzeroberfläche gelangt. Wenn zur Zufuhr von Wasser oder Feuchtigkeit geeignete Mittel ebenfalls in dem Kautschuk verteilt sind, so können das Katalysatormittel und das wasserliefernde Mittel gleichzeitig oder getrennt durch dasselbe oder durch verschiedene Verfahren eingearbeitet werden.

Zur Erzielung eines besonders wirkungsvollen SchmelzVorganges müssen verschiedene Variablen in Betracht gezogen werden, einschließlich solcher Variablen wie Härte der Sehmelzeroberflache, thermische Leitfähigkeit, Druck, Rollen- bzw. Kontaktgeschwindigkeit j Heizleistung und dergleichen. Die Auswahl und der Abgleich dieser Variablen ist nach dem Stand der Technik wohlbekannt und kann die Wahl des besonderen, für eine besondere Fixieroberfläche zu verwendenden Silikon-Kautschuks sowie das Einarbeiten des zur Zufuhr von Wasser oder Feuchtigkeit geeigneten, darin verteilten Mittels beeinflussen. Die Dicke der Silikon-Kautschukschicht mit dem zur Zufuhr von Wasser oder Feuchtigkeit geeigneten» darin enthaltenen Mittel kann sich zwar bei den verschiedenen spezifischen Schmelzeranwendungen, insbesondere Druckschmelzen bei erhöhten Temperaturen, ändern, es wird jedoch im allgemeinen vorgezogen, eine

609810/0796

Dicke des Silikon-Kautschuks mit dem darin enthaltenen, zur Zufuhr von Wasser geeigneten Mittel von wenigstens etwa 0,0127 mm (0,5 mil) zu wählen. Bei besonders bevorzugten Ausführungsformen ist die Silikon-Kautschukschicht etwa 0,103 mm (4 mil) bis etwa 0,254 mm (10 mil) dick, damit deformierbare Oberflächen gebildet werden. Wo jedoch deformierbare oder kompressible Oberflächen nicht erforderlich sind und der Mangel an Kompressibilität unkritisch ist, kann die Dicke des Silikon-Elastomers geringer sein als 0,103 mm (4 mil),oder es kann die Dicke des Silikon-Elastomers geringer sein als 0,103 mm (4 mil), wenn eine kompressible Oberfläche erwünscht ist und eine Unterschicht vorhanden ist, um die erforderliche Kompressibilität zu gewährleisten.

Jegliche Art von Silikon-Kautschuk, -Gummi oder -Elastomer oder Derivate derselben, welche in der Lage sind, sich einem Abbau in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit zu unterziehen, können geeignet sein, insbesondere Silikon-Kautschukarten, die einem Abbau bei Temperaturen unterzogen werden, die beim Schmelzvorgang auftreten, beispielsweise etwa 93⁰C (200⁰P) bis etwa 204⁰C (400⁰P). Die Silikon-Kautschukarten müssen also bei diesen Temperaturen oder bei jeglichen anderen geeigneten Betriebstemperaturen wasser- bzw. feuchtigkeitsabbaufähig sein. Geeignete Silikon-Kautschukarten umfassen vulkanisiertes Polymethylvinyl-Siloxan, beispielsweise die Silikon-Kautschukreihe der Dow Corning 400, Polymethylphenyl-Siloxan, Polydialkyl-Siloxan, fluorierte Siloxan-Kautschukarten oder -Gummis, Silikon-Kautschuk-Kopolymere wie solche mit Block-, Pfropfen- oder beliebiger Form. Vinyldimethyl-Polysiloxan, Vinylphenyl-Polysiloxan sowie Methyltrifluorpropyl- und Vinyldimethyl-Polysiloxane sind weitere Beispiele für Silikon-Elastomere bzw. Gummis, die verwendet werden können und während der Hydrolysereaktion in Anwesenheit von Feuchtigkeit oder Wasser einem Abbau unterzogen werden, um fluide Stoffe mit niedrigerem Molekulargewicht zu bilden. Der einzige einschränkende Faktor bei der Wahl des Silikon-Elastomers, Gummis oder Kautschuks ist, daß dieser imstande sein muß, ein Abbauprodukt in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit bei erhöhten Temperaturen zu bilden, wobei das Abbauprodukt in der Lage ist, als Ablösestoff für darauf aufgetragenes, beschich

609810/0796

b 2 7 b 8 b

tetes Harzbasis-Pulver oder Toner zu wirken. Das im Kautschuk vorhandene Katalysatormittel fördert den Abbau bzw. die Rückbildung des Silikon-Kautschuks.

Die Art der mit den Silikon-Kautschukarten, -Elastomeren oder -Gummis zu versetzenden bzw. zu vermischenden Füllstoffe ist wichtig für die 'Ausführung der Erfindung. Herkömmliche Verbindungen von Silikon-Elastomeren, die mit Füllstoffen wie Siliziumdioxyd, Titanoxyd und Eisenoxyd angesetzt sind, haben im allgemeinen eine sehr kurze Kopierlebensdauer. Beispielsweise ermöglicht ein Schmelzerandrückelement aus Silikon-Elastomer mit 20 Gew.-% Siliziumdioxyd nur das Fixieren von etwa 1.000 Kopien, bevor eine Ablösung auftritt und der Silikonüberzug unverwendbar wird. Silikon-Elastomere ohne oder mit sehr wenig verstärkenden Füllstoffen wie Siliziumdioxyd, welche unter denselben Bedingungen verwendet werden, können wesentlich mehr als 1.000 Kopien fixieren, bevor Mängel aufgrund einer mechanischen Zerstörung des Elastomers auftreten. Es wurde jedoch festgestellt, daß mit Füllstoffen bzw. Katalysatormitteln, die in der Lage sind, den Abbau von Silikon-Kautschuk in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit zu fördern, eine wesentlich verlängerte Kopierlebensdauer des Silikon-Kautschuk-Schmelzerandrückelements möglich ist.

Diese Katalysatormittel, die in der Lage sind, den Abbau bzw. die Rückbildung von Silikon-Kautschuk in Anwesenheit von Feuchtigkeit oder Wasser bei erhöhten Temperature^ beispielsweise etwa 93°C (200⁰F) bis etwa 227°C (44O°F) zu fördern, bewirken einen thermischen Abbau des Silikon-Kautschuks zur Erzeugung des Abbauproduktes, das als Ablösemittel für beschichtetes Harzbasis-Pulver bzw. für Toner auf der Oberfläche des Silikon-Kautschuks wirkt.

Die Katalysatormittel können in Verbindung mit anderen Mitteln oder Füllstoffen verwendet werden, die als Absorptionsmittel oder Vorratsbehälter für Wasser wirken und/oder die sich zersetzen, um bei erhöhten Temperaturen und/oder Druck Wasser zu bilden und die das Wasser für den Silikon-Kautschuk, in dem sie verteilt sind, bei erhöhten Betriebstemperaturen des Systems freisetzen. Das Freisetzen von Wasser oder Feuchtigkeit aus dem Füllstoff bzw. -Mittel

609810/0796

bei erhöhten Temperaturen findet vorzugsweise so statt, daß es sich über eine Zeitspanne erstreckt und dadurch die Ablöselebensdauer der Rolle oder einer anderen geeigneten Fixieroberfläche verlängert wird. Die als absorbierende Mittel oder als Vorrat für Wasser bzw. Feuchtigkeit wirkende und die Feuchtigkeit bzw. das Wasser bei den erhöhten Temperaturen während des Betriebes des Systems freisetzenden Füllstoffe umfassen Stoffe wie kolloidale Siliziumdioxydteilchen, wasserhaltige Mineralstoffe, wasserhaltige Silikondioxyde, Stärke, Ton und dergleichen.

Weitere wirksame Quellen für Feuchtigkeit oder Wasser, die in dem Silikon-Kautschuk des Schmelzerelements verteilt werden können, sind wasserhaltige Kapseln, die bei erhöhten Temperaturen und/oder Drücken reißen, um Wasser aus ihrer Umhüllung in den Silikon-Kautschuk bzw. das Gümmimaterial freizusetzen, um das notwendige Wasser für die Hydrolyse und den sich daraus ergebenden Abbau des Silikon-Kautschuks in Anwesenheit des Katalysatormittels in Abbauprodukte zu liefern, die geeignet sind, um die Schmelzeroberfläche mit einem überzug als Ablösestoff für beschichtete Harzbasis-Pulver zu versehen. Beispiele für verwendbare 'Wasserkapseln sind jegliche Kapselformen, die Wasser in sich aufnehmen, bis sie in dem Silikon-Kautschuk bzw. -Gummi durch Versetzen oder Vermischen verteilt werden können. Der Fachmann ist in der Lage, solche Kapselformen anzugeben, die für diesen besonderen Zweck Wasser binden können.

Eine andere wirksame Quelle für Feuchtigkeit oder Wasser, welche in dem Silikon-Kautschuk des Schmelzerelements verteilt werden kann, besteht aus wenigstens zwei Reaktionsmitteln, deren Reaktionsprodukt Wasser ist. "Wenn diese Bestandteile in dem Silikon-Kautschuk eingearbeitet werden und Druck und/oder erhöhte Temperaturen die Reaktion auslösen, so wird Wasser in dem Silikon-Kautschuk erzeugt. Der Druck entsteht durch eine Gegendruckrolle, die zur Bildung eines Spalts sowie zum Unterdrucksetzen der Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht verwendet wird.

609810/0796
ORIGINAL INSPECTED

Unabhängig von der zur Zufuhr der Feuchtigkeit bzw. des Wassers in den Silikon-Kautschuk verwendeten Technik muß die Feuchtigkeit bzw. das Wasser in einer Menge vorhanden sein, die ausreicht, um den Abbau des Silikon-Kautschuks und die Bildung des Silikon-Kautschuk- Abbauprodukt es in Anwesenheit des Katalysatormittels zu bewirken. Wenn das wasserbildende Mittel in den durch Wasser abbaufähigen Silikon-Kautschuk eingearbeitet ist, so beträgt es wenigstens etwa 0,05 Gew.-? des Gewichts des Silikon-Kautschuks. Vorzugsweise ist das zur Zufuhr von Wasser geeignete Mittel, der Füllstoff oder die Kapsel in verteilter Form in dem Silikon-Kautschuk vorhanden, und zwar als feingeteilte Teilchen von etwa 1 bis etwa 2,5 Mikron Größe und in einer Menge von etwa 1 bis 5 Gew.-? des Gewichtes des Silikon-Kautschuks. Wasser- bzw. feuchtigkeitsliefernde Mittel können ferner natürliche oder herbeigeführte Feuchtigkeit des Papiers bzw. natürliche oder herbeigeführte Feuchtigkeit bzw. Wasser in der Nähe der Schmelzvorrichtung sein. Unter natürlicher Feuchtigkeit ist atmosphärische Feuchtigkeit zu verstehen. Herbeigeführtes Wasser oder Feuchtigkeit ist solches, das durch äußere Quellen, beispielsweise Dampf, Wasserbehälter, Feuchtigkeitskammer und dergleichen geliefert wird.

Zwar wurde die Erfindung hauptsächlich beschrieben unter Bezugnahme auf Silikon-Kautschukschichten bzw. -Überzüge auf Rollen, die wärmeleitfähig sind, die Erfindung ist jedoch nicht auf eine solche Anordnung beschränkt. Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung umfassen ferner flache Silikon-Kautschukoberflächen, konkave oder konvexe Oberflächen des Silikon-Kautschuks und alle anderen Konfigurationen, die bei Schmelzvorgängen bzw. Schmelzvorrichtungen verwendet werden können. Die Erfindung kann auf jegliche Oberfläche angewendet werden, bei der eine Silikon-Kautschukschicht mit einer Ablöseschicht darauf erforderlich ist; sie muß nicht notwendigerweise auf Schmelzerrollen bzw. Schmelzeroberflächen angewendet werden.

Die Erfindung bezieht sich ferner auf ein Verfahren zur Lieferung bzw. zur kontinuierlichen Erzeugung eines Ablösemittels an der

609810/0796

2b2Vb86

Ah

Oberfläche eines Silikon-Kautschuk-Schmelzerelements. Das Verfahren umfaßt die Schritte der Bildung eines Silikon-Kautschukstoffes, der in der Lage ist, in Anwesenheit von Feuchtigkeit oder Wasser bei erhöhten Temperaturen ein Abbau- bzw. Rückbildungsprodukt zu bilden oder einer Depolimerisation unterzogen zu werden, die Bildung eines wasserspeisenden Mittels in oder an der Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht und Erhitzen der Silikon-Kautschuckschicht auf eine Temperatur, die die Bildung eines die Silikon-Kautschukschicht überziehenden Abbauproduktes bewirkt, wodurch ein Ablösestoff an der Oberfläche gebildet wird. Dieser Ablösestoff ist vorzugsweise ein Silikonfluid.

Unter "darin verteilt" ist jegliche Art der Verteilung des Mittels in dem Silikon-Kautschuk zu verstehen, einschließlich der Verteilung eines festen Stoffes oder einer Flüssigkeit überall in dem Kautschuk oder der Auflösung eines festen Stoffes oder einer Flüssigkeit in dem Kautschuk. Die vorstehend verwendeten Begriffe "Wasser" und "Feuchtigkeit" sind gleichwertig und umfassen Dampf.

Nachdem die grundlegende Zusammensetzung, das Herstellungsverfahren und das bevorzugte Verfahren zur Verwendung der Verbindung beschrieben wurden, soll nun der neuartige Silikon-Kautschukstoff und die Verwendung dieser Stoffe anhand von Beispielen erläutert werden.

BEISPIEL I

In von der Dow Corning Corporation geliefertes Polymethylvinyl-Siloxan mit etwa 0,57 MoI-? Vinylgruppen wurde 1 Gew.-? eines Katalysatormittels, und zwar in Toluen gelöste Benzoesäure, verteilt. Die gelöate Benzoesäure wurde in den Silikon-Kautschuk durch herkömmliche Versetzungsverfahren eingearbeitet. Der SiIikon-Kaütscftük mit dem Benzoesäure-Katalysatormittel wurde auf der Oberfläche* einer intern beheizten Kupferrolle so bemessen, daß der überzug etwa"6,25^ mm (10 mil) Dicke aufwies. Der Überzug wurde dann eine nälbe Stunde bei 149°C (3OC⁰F) ausgehärtet, in Anwesen-

609810/0796

Z52'/böb

heit herkömmlicher, in dem Silikon-Kautschuk enthaltener Aushärtmittel.

Die auf einem Kupferrohr mit einem Außendurchmesser von 8,9 cm (3,5 Zoll) hergestellte Silikon-Kautschukrolle wurde bei einem Testbetrieb in Verbindung mit einer aus Silikon-Kautschuk hergestellten, auf einer 1,27 cm (0,5 Zoll) starken Stahlwelle befestigten Andrückrolle verwendet. Diesem System wurde Hitze mittels einer 750 Watt-Quarzlampe zugeführt, die innerhalb des Kupferrohrkernes der Schmelzerrolle angeordnet wurde. Das Rohr drehte sich um die Lampe mit einer Rollenoberflächengeschwindigkeit von 50,8 cm (20 Zoll) pro Sekunde, und die Lampe erhitzte die Oberfläche der Silikon-Kautschukschicht auf 149⁰C (30O⁰P). Der im Spalt der Druckrolle und der Schmelzerrolle erzeugte und aufrecht erhaltene Druck betrug etwa 3,7^ kp pro Längszentimeter (21 Pfund pro Längszoll) und wurde auf diesem Wert gehalten. Feuchtigkeit war in der Atmosphäre und im Papier vorhanden. Es wurden elektrostatische Tonerbilder auf genormtem Papier von 21,6 χ 28 cm (8 1/2 χ 11 Zoll) durch den von den Rollen gebildeten Spalt gefördert. Mehr als 80.000 dieser Bilder wurden während des Tests unter Verwendung von Harzbasis-Pulver bzw. Toner auf der erhitzten Schmelzerrolle fixiert. Es wurde also mit der erfindungsgemäßen Schmelzerrolle eine große Anzahl von Harzbasis-Pulverbildern fixiert, ohne daß es während der Portdauer des Pixiervorganges notwendig geworden wäre, irgendein fluides Ablösemittel anzuwenden.

BEISPIEL II

Die Vorgänge gemäß Beispiel I wurden wiederholt, außer daß die Kupferschmelzerrolle mit Polymethylvinyl-Siloxan überzogen wurde, das 1,0 Gew.-Si Benzoesäure und 8% (bezogen auf die Siloxanmasse) kolloidales Siliziumdioxyd enthielt (ein zur Zufuhr von Wasser geeignetes Mittel), das von der Cabot Corporation unter der Handelsbezeichnung S-17 geliefert wird. Mehr als 70.000 Kopien mit elektrostatischen Tonerbildern wurden bei einem Test unter Verwendung herkömmlicher Harzbasis-Pulver bzw. -Toner ohne Ablösen fixiert

609810/0796

BEISPIEL III

Die Vorgänge gemäß Beispiel II wurden wiederholt, außer daß 3,0% (bezogen auf die Siloxanmasse) desselben kolloidalen Siliziumdioxyds (ein zur Zufuhr von Wasser geeignetes Mittel) mit 1,0 Gew.-% des Benzoesäure-Katalysatormittels verwendet wurden. Bis zu 200.000 Kopien mit elektrostatischen Tonerbildern wurden in einem Test unter Verwendung herkömmlicher Harzbasis-Pulver bzw. -Toner wie in Beispiel I ohne Ablösen fixiert.

Es wird angenommen, daß der Grund für die hervorragende Leistung der Silikon-Kautschukschicht mit dem darin verteilten Katalysatormittel, das in der Lage ist, den Abbau bzw. die Rückbildung des Silikon-Kautschuks in Anwesenheit von Wasser oder Feuchtigkeit zu fördern, in der Hydrolyse des Silikon-Kautschukstoffes liegt und die sich daraus ergebende Bildung eines Abbauproduktes in Anwesenheit von Wasser und eines Katalysatormittels und in bestimmten Fällen in Anwesenheit eines wasserzuführenden Mittels und eines Katalysatormittels liegt, welches einen Ablösestoff auf der Oberfläche des Silikon-Kautschuks bildet und dadurch als Ablösestoff wirkt und ein Abziehen verhindert. Das Füllmaterial verlängert ferner die Lebensdauer der Silikon-Kautschukschicht auf der Schmelzeroberfläche, und die thermischen Eigenschaften der Rolle werden nicht beeinträchtigt.

6098 10/0796

Claims

Patentansprüche

j 1/ Oberfläche zur Verwendung bei einem xerographischen Reproduziergerät zum Fixieren eines Harzbasis-Pulverbildes auf einem Substrat bei erhöhten Temperaturen, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche Silikon-Kautschuk mit einem in Anwesenheit von Wasser bzw. Feuchtigkeit den Abbau des Silikon-Kautschuks fördernden Katalysatormittel umfaßt.
2. Oberfläche nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der das Katalysatormittel enthaltende Silikon-Kautschuk wenigstens 0,0127 mm (0,5 mil) Dicke aufweist.
3. Oberfläche nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der das Katalysatormittel enthaltende Silikon-Kautschuk etwa 0,152 mm (6 mil) bis etwa 0,25²J mm (10 mil) Dicke aufweist.
4. Oberfläche nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormittel eine anorganische, den Abbau des Silikon-Kautschuks fördernde Säure ist.
5. Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormittel eine anorganische, den Abbau des Silikon-Kautschuks fördernde Base ist.
6. Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormittel eine organische, den Abbau des SiEkon-Kautschuks fördernde Säure ist.

7. Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormittel eine organische, den Abbau · des Silikon-Kautschuks fördernde Base ist.

609810/0796

3ο

8. Oberfläche nach einem der vorstehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch ein in der Oberfläche enthaltenes, zur Zufuhr von Wasser geeignetes Mittel.

9. Oberfläche nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das zur Zufuhr von Wasser geeignete Mittel wenigstens 0,05 Gew.-% bezogen auf den Silikon-Kautschuk beträgt.

10. Oberfläche nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das zur Zufuhr von Wasser geeignete Mittel etwa 1,0 bis etwa 5_s0 Gew.-% bezogen auf den Silikon-Kautschuk beträgt.

11. Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormittel in einem Verhältnis von mehr als etwa 0,1 Gew.-% vorhanden ist.

12. Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormittel in einem Verhältnis von etwa 1,0 bis etwa 10 Gew.-% vorhanden ist.

13· Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Silikon-Kautschuk Polymethylphenyl-Siloxan ist.

lh. Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Silikon-Kautschuk Polydialkyl-Siloxan ist.

15. Oberfläche nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß der Silikon-Kautschuk fluoriert ist.

16. Oberfläche nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Silikon-Kautschuk Polymethylvinyl-Siloxan ist.

17· Oberfläche nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche einem-Schmelzerrollenelement zugeordnet ist.

6098 10/0796
ORIGINAL INSPECTED

/'.. i / b 8 8

18. Verfahren zum Fixieren eines Harzbasis-Pulverbildes auf einem Substrat, gekennzeichnet durch

Herbeiführung eines Kontaktes zwischen einem ein Harzbasis-Pulverbild tragenden Substrat und der erhitzten Oberfläche einer Silikon-Kautschukschicht während einer bzw. bei einer zur Ermöglichung des Aufschmelzens des Harzbasis-Pulvers auf das Substrat ausreichenden Zeitspanne bzw. Temperatur, ein Katalysatormittel in dem Silikon-Kautschuk, welches in Anwesenheit von ausreichender Feuchtigkeit den Abbau des Silikon-Kautschuks fördert zur Bildung eines Abbauproduktes auf der erhitzten Oberfläche, wobei das Abbauprodukt gegenüber dem geschmolzenen Harzbasis-Pulver eine Haftwirkung aufweist, die geringer ist als die Haftwirkung des geschmolzenen Harzbasis-Pulvers gegenüber dem Substrat,

Trennen des Substrats von der erhitzten Oberfläche, wobei das geschmolzene Harzbasis-Pulver auf dem Substrat festgehalten wird, und
Abkühlung des geschmolzenen Harzbasis-Pulvers auf dem Substrat.

19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormittel eine anorganische, den Abbau des Silikon-Kautschuks fördernde Säure ist.

20. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormittel eine anorganische, den Abbau des Silikon-Kautschuks fördernde Base ist.

21. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormittel eine organische, den Abbau des Silikon-Kautschuks fördernde Säure ist.

22. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Katalysatormittel eine organische, den Abbau des Silikon-Kaut-, schuks fördernde Base ist.

609810/0796
ORIGINAL INSPECTFD

23. Verfahren nach einem der Ansprüche l8 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die zum Aufschmelzen des Harzbasis-Pulvers auf das Substrat ausreichende Temperatur etwa 93°C (200°F) bis etwa 227⁰C (44O°P) beträgt.

24. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Silikon-Kautschukschicht etwa 0,152 mm (6 mil) bis etwa 0,254 mm (10 mil) Dicke aufweist.

25. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß in dem Silikon-Kautschuk ein zur Zufuhr von Feuchtigkeit geeignetes Mittel eingearbeitet ist.

26. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß das zur Zufuhr von Feuchtigkeit geeignete Mittel etwa 1,0 bis etwa 5jO Gew.-/S bezogen auf den Silikon-Kautschuk beträgt.

27. Verfahren zur Bildung einer Ablöseschicht auf der Oberfläche eines mit Silikon-Kautschuk überzogenen Schmelzerelements, gekennzeichnet durch

Bildung eines ein Katalysatormittel enthaltenden, zur Bildung eines Abbauproduktes in Anwesenheit von Wasser bei erhöhten Temperaturen geeigneten Silikon-Kautschuks, Bildung einer Wasserquelle und

Aufheizen des das Katalysatormittel enthaltenden Silikon-Kautschuks auf eine den Abbau des Silikon-Kautschuks in Anwesenheit von Wasser bewirkende Temperatur.

28. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß der Silikon-Kautschuk kontinuierlich erhitzt wird zur katinuierlichen Erzeugung einer Ablöseschicht auf^der Oberfläche des Schmelzerelements ,

29. Schmelaerelement für ein elektrostatisches Kopiergerät, dadurch gekennzeichnet, daß auf ein Substrat ein durch Wasser abbaufähiger, ein den Abbau von Silikon-Kautschuk förderndes Kata-

6098 10/0796
T

2b27586

lysatormittel enthaltender Silikon-Kautschuk aufgetragen ist und

die Oberfläche des Überzugs das Abbauprodukt des Silikon-Kautschuks enthält.

30. Schmelzerelement nach Anspruch 29> dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat aus Metall ist und der überzug auf dem Substrat ein zur Zufuhr von Feuchtigkeit bzw. Wasser geeignetes Mittel zur Erleichterung des Abbaus des Silikon-Kautschuks umfaßt.

6 ü 9 8 1 0/0796