DE2401609A1 - Masking process for integrated ccts using pulverised electrodes - thin metal foil coating is heated from outer edge - Google Patents
Masking process for integrated ccts using pulverised electrodes - thin metal foil coating is heated from outer edgeInfo
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Abstract
Description
Verfahren zum Herstellen von durch Bedampfung aufgebrachten, konturenscharfen, flächenhaften Bereichen aus elektrisch wirksamem Material-Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von durch Kathodenzerstäubung oder insbesondere Bedampfung aufgebrachten, konturenscharfen, flächenhaften Bereichen aus elektrisch wirksamem Material, die als elektrische Funktionsteile, z.B. als Leiterbahn, Widerstand, Induktion, Dielektrikum oder Kondensatorbelegung in flächenhaft auf ein Substrat aufgebrachten elektrischen Schaltkreisen dienen, bei dem dünne Metallfolien als Aufdampfmasken verwendet werden, welche Aussparungen für einen großflächigen oder mehrere miteinander zur gleichen Zeit herzustellende kleinflächige Schaltkreise enthalten, und eine Vorrichtung zur Ausführung des Verfahrens.Process for the production of sharp contours applied by vapor deposition, Flat areas made of electrically active material-The invention relates a method for producing by cathode sputtering or in particular vapor deposition applied, sharp-contoured, flat areas made of electrically effective Material that is used as electrical functional parts, e.g. as a conductor track, resistor, induction, Dielectric or capacitor coverage applied over a large area to a substrate electrical circuits are used in which thin metal foils act as vapor-deposition masks used which cutouts for a large area or several with each other contain small-area circuits to be manufactured at the same time, and one Device for carrying out the method.
Zur Herstellung konturenscharfer Aufdampfmuster mit Hilfe von Aufdampfmasken ist es erforderlich, den Abstand zwischen Schichtträger und Maske gering zu halten. Je dichter eine Maske an dem Schichtträger anliegt, desto exakter entspricht die niedergeschlagene Schicht den Öffnungen in der Maske. Die Mindestbreite der Öffnungen, welche im allgemeinen in einem Ätzverfahren hergestellt werden, ist dabei etwa gleich der Dicke der Metallfolie. Die verwendeten Metallfolien besitzen eine Stärke in der Größenordnung von 5 bis 100'um. Hauptsächlich werden Folien verwendet, deren Dicke 15 bis 50/um beträgt. Aufdampfmasken mit einem besonders feingliedrigen Muster sind sehr dünn und deshalb außerordentlich schwierig zu handhaben.For the production of evaporation patterns with sharp contours with the aid of evaporation masks it is necessary to keep the distance between the substrate and the mask small. The closer a mask is to the layer support, the more exactly it corresponds deposited layer to the openings in the mask. The minimum width of the openings, which are generally produced in an etching process is about the same the thickness of the metal foil. The metal foils used have a thickness in of the order of 5 to 100 μm. Mainly foils are used whose Thickness is 15 to 50 µm. Evaporation masks with a particularly delicate pattern are very thin and therefore extremely difficult to handle.
Aus der DT-OS 1 796 202 ist ein Verfahren zum Spannen und Haltern dünner Metallfolien, wie sie als Masken bei Aufdampfprozessen verwendet werden, innerhalb einer dort gleichfalls beschriebenen Vorrichtung bekannt. Die beispielsweise 50/um starken und 100x100 mm2 großen Kupfer-Beryllium-Folien werden zunächst in einem Vorspannrahmen vorgespannt, danach im eigentlichen Spannrahmen eingespannt und zum Schluß wird der Vorspamirahmen wieder entfernt. Vorspannrahmen und Spannrahmen bestehen dabei Jeweils aus zwei Teilen, die nach dem Einlegen der Metallfolie zusammengepreßt und verschraubt werden. Diese Verfahrensweise des mechanischen Spannens ist jedoch recht kompliziert und ein schnelles Auswechseln zweier Aufdampfmasken, welches im laufenden Betrieb häufig erforderlich ist, läßt sich nur schwer ausführen.From DT-OS 1 796 202 there is a method for tensioning and holding thin metal foils, such as those used as masks in vapor deposition processes, known within a device also described there. The example 50 µm thick and 100x100 mm2 large copper-beryllium foils are initially used in pre-tensioned in a pre-tensioning frame, then clamped in the actual tensioning frame and finally the spam frame is removed again. Prestressing frame and tensioning frame each consist of two parts that are pressed together after the metal foil has been inserted and screwed. However, this technique of mechanical tensioning is quite complicated and a quick exchange of two vapor deposition masks, which is in the operation is often required is difficult to perform.
Das Prinzip einer magnetischen Halterung von Schablonen zur Herstellung von Mustern auf Oberflächen, die mit einer Metallschicht belegt werden, wie z.B. Spiegeloberflächen, ist aus der US-PS 2 453 582 bekannt. Eine solche magnetische Halterung ist jedoch nicht ausreichend bei einem Aufdampfverfahren, bei dem mit Hilfe von Metallfolien - in der Art von Masken - Substrate, beispielsweise Grundplatten für Schaltungen, teilweise abgedeckt werden.The principle of a magnetic holding of stencils for manufacture of patterns on surfaces that are covered with a metal layer, e.g. Mirror surfaces is known from US Pat. No. 2,453,582. Such a magnetic one However, holding is not sufficient in a vapor deposition process in which with With the help of metal foils - in the manner of masks - substrates, for example base plates for circuits to be partially covered.
Es hat sich gezeigt, daß mit einer derartigen magnetischen Halterung der Aufdampfmaske am Substrat nur die Herstellung von kleinflächigen Schaltungsgrundplatten, das bedeutet das teilweise Abdecken kleiner Substratflächen, einigermaßen befriedigend verläuft. Besonders bei der Herstellung von größeren Schaltungsgrundplatten unter Anwendung großflächiger Aufdampfmasken ist zu beobachten, daß die Aufdampfmaske, obwohl sie sich innerhalb des Wirkungsbereiches von Magnetfeldern befindet, während des Bedampfungsvorgangs stellenweise vom Substrat abgehoben wird. Dies hat zur Folge, daß unscharfe Schichtmuster und Verschiebungen der einzelnen Aufdampfschichten relativ zueinander auftreten.It has been shown that with such a magnetic holder the vapor-deposition mask on the substrate only enables the production of small-area circuit base plates, that means the partial covering of small substrate areas, reasonably satisfactory runs. Especially when manufacturing larger circuit base plates When using large-area vapor deposition masks, it can be observed that the vapor deposition mask, although it is within the effective range of magnetic fields while of the vapor deposition process is lifted off the substrate in places. As a consequence, that unsharp layer patterns and displacements of the individual vapor deposition layers are relative occur to each other.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zum Herstellen von durch Kathodenzerstä#Dung oder insbesondere Bedampfung aufgebrachten, konturenscharfen, llächenhaften Bereichen aus elektrisch wirksamem Material, die als elektrische Funktionsteile, z.B.The object of the present invention is to provide a method of production of sharp contours applied by cathode atomization or, in particular, vapor deposition, Flat areas made of electrically effective material, which are used as electrical functional parts, e.g.
als Leiterbahn, Widerstand, Induktion, Dielektrikum oder Kondensatorbelegung in flächenhaft auf ein Substrat aufgebrachten elektrischen Schaltkreisen dienen, anzugeben, bei dem dünne Metallfolien als Aufdampfmasken verwendet werden, welche, indem sie Aussparungen für mehrere miteinander zur gleichen Zeit herzustellende Sch#ltkreise enthalten und daher für die Bedampfung von großflächigen Substraten vorgesehen sind, trotzdem sehr dicht und eben an der Oberfläche des Substrats anliegen. Weiterhin soll das Verfahren ein schnelles Auswechseln verschiedener Aufdampfmasken in der Serienfertigung, z.B. innerhalb einer Karussellanlage, gestatten.as a conductor track, resistor, induction, dielectric or capacitor assignment are used in electrical circuits applied over a large area to a substrate, specify, in which thin metal foils are used as vapor deposition masks, which, by making cutouts for several to be made together at the same time Contains circuits and is therefore suitable for the vapor deposition of large-area substrates are provided, but still lie very tightly and evenly on the surface of the substrate. Furthermore, the method is intended to enable various vapor deposition masks to be exchanged quickly in series production, e.g. within a carousel system.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die als Aufdampfmaske verwendete Metallfolie, welche auf einem Trägerrahmen lösbar befestigt aufliegt, entsprechend ihrer thermischen Belastung während des Aufbringens von Metallflächen auf ein Substrat in ihren Randbereichen erhitzt und damit gespannt wird.This object is achieved in that the used as a vapor deposition mask Metal foil, which rests releasably attached to a support frame, accordingly their thermal load during the application of metal surfaces to a substrate is heated in their edge areas and thus tensioned.
Eine Erwärmung der Folienrandbereiche gegenüber der Folienmitte bewirkt, daß die dünne Metallfolie den vom Trägerrahmen eingeschlossenen Hohlraum stets völlig gestrafft überspannt.A heating of the film edge areas compared to the center of the film causes that the thin metal foil always completely encompasses the cavity enclosed by the support frame tightly spanned.
Indem die randnahen Bereiche der Metallfolie so aufgeheizt werden, daß deren Temperatur- auch während eines Bedampfungsvorgangs höher als die Temperatur der Folienmitte oder zumindest gleich hoch ist, wird ein Wölben der Folienmitte - dies ist gleichbedeutend mit Abheben vom Substrat - unter der Hitzeeinwirkung während der Bedampfung ausgeschlossen.By heating the areas of the metal foil close to the edge in such a way that that their temperature, even during a vapor deposition process, is higher than the temperature the center of the film or at least the same height, the center of the film will bulge - this is synonymous with lifting off the substrate - under the action of heat excluded during steaming.
Eine vorteilhafte Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, daß die Metallfolie an dem Trägerrahmen mit Hilfe von Magneten, welche in eine als Auflagefläche der Metallfolie dienenden Oberfläche des Trägerrahmens eingelassen sind, lösbar befestigt wird. Die magnetische Halterung gestattet ein schnelles Auswechseln verschiedener Aufdampfmasken innerhalb der Fertigung.There is an advantageous further development of the method according to the invention in that the metal foil on the support frame with the help of magnets, which in embedded in a surface of the support frame serving as a support surface for the metal foil are, is releasably attached. The magnetic holder allows quick replacement different vapor deposition masks within the production.
Bei einer weiteren vorteilhaften Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die Metallfolie, welche mit ihren Randbereichen über den Trägerrahmen hinausragt, über die Kanten des Trägerrahmens hinweggebogen. Diese Maßnahme wirkt sich im Sinne einer Randversteifung aus.In a further advantageous embodiment of the invention The process is the metal foil, which with its edge areas over the carrier frame protrudes, bent over the edges of the support frame. This measure works in the sense of edge stiffening.
Zweckmäßig ist es, die Aufheizung der Folienrandbereiche durch Wärmeübertragung vom aufgeheizten Trägerrahmen aus vorzunehmen, da bei gleichmäßiger Erwärmung des Rahmens, welche mit Hilfe einer elektrischen Heizung oder strömender, erwärmter Gase bzw. Flüssigkeiten erreicht wird, auch eine gleichmäßige Wärmeübertragung auf die randnahen Folienbereiche und damit ein gleichmäßiges thermisches Spannen der dünnen Metallfolien gegeben ist.It is useful to heat the foil edge areas by heat transfer to be carried out from the heated carrier frame, as with even heating of the Frame, which with the help of an electric heater or flowing, warmed Gases or liquids is achieved, also a uniform heat transfer the foil areas close to the edge and thus a uniform thermal tensioning of the thin metal foils is given.
Eine weitere Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens ist darin zu sehen, daß die Aufheizung der Folienrandbereiche mit Hilfe einer Wärme strahlung vorgenommen wird. Eine Aufheizung mit Hilfe von Wärmestrahlen ermöglicht in gleicher Weise wie die Aufheizung durch Wärmeübertragung vom erhitzten Trägerrahmen aus eine gezielte Erwärmung der randnahen Folienbereiche.Another embodiment of the method according to the invention is it can be seen that the heating of the foil edge areas with the help of a heat radiation is made. A heating with the help of heat rays is made possible in the same way as the heating by heat transfer from the heated support frame from a targeted heating of the film areas near the edge.
Eine Vorrichtung zur Ausführung des Verfahrens nach der Erfindung ist dadurch ausgezeichnet, daß der Trägerrahmen für die Auflage mindestens einer dünnen Metallfolie eine elektrische Heizvorrichtung in Form eines Heizleiters aufweist, der innerhalb des Trägerrahmens entlang der Auflagefläche der Netallfolie untergebracht ist. Bei überaus geringem technischem Aufwand gestattet die erfindungsgemäße Vorrichtung eine gleichmäßige Aufheizung der randnahen Folienbereiche mit Hilfe einer im Trägerrahmen untergebrachten elektrischen Heizvorrichtung und gewährleistet, daß die Aufdampfmaske die Lichtung des Trägerrahmens im Ruhe- wie auch im Betriebszustand eben überspannt.An apparatus for carrying out the method according to the invention is characterized by the fact that the support frame for the support at least one thin metal foil has an electrical heating device in the form of a heating conductor, the one inside the support frame along the contact surface of the metal foil is housed. With very little technical effort, the invention allows Device a uniform heating of the near-edge film areas with the help an electrical heating device housed in the support frame and ensures that the vapor-deposition mask clears the support frame in the idle as well as in the operating state just overstretched.
Eine vorteilhafte Weiterbildung der Vorrichtung zur Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, daß der Trägerrahmen für die Auflage mindestens einer dünnen Metallfolie zusätzlich zur elektrischen Heizvorrichtung Magnete aufweist, welche in die als Auflagefläche der Metallfolie dienende Oberfläche des Trägerrahmens eingelassen sind. Mit Hilfe des Magnetfeldes der in den Trägerrahmen - und zwar in die als Auflagefläche dienende Oberfläche - eingelassenen Magneten werden die Aufdampfmasken fest am Trägerrahmen fixiert.An advantageous development of the device for carrying out the The method according to the invention is that the support frame for the support at least one thin metal foil in addition to the electrical heating device Has magnets, which in the surface serving as the support surface of the metal foil of the support frame are embedded. With the help of the magnetic field in the support frame - namely in the surface serving as a support surface - embedded magnets the vapor deposition masks are firmly fixed to the carrier frame.
Im Folgenden wird das Verfahren nach der Erfindung an Hand der Beschreibung einer Vorrichtung zur Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens unter Zuhilfenahme der Figuren 1 und 2 näher erläutert.In the following, the method according to the invention is based on the description a device for carrying out the method according to the invention with the aid Figures 1 and 2 explained in more detail.
Fig.1 stellt einen Trägerrahmen für Metallfolien in schematisierter Zeichenweise in Draufsicht unter Weglassung der Metallfolie dar und Fig.2 gibt einen Schnitt II-II des in Fig.1 dargestellten Trägerrahmens wieder.Fig.1 shows a support frame for metal foils in schematic form Character-wise in plan view with the omission of the metal foil and Fig.2 gives one Section II-II of the support frame shown in Figure 1 again.
Der in Fig.1 schematisch gezeichnete Trägerrahmen 1 für dünne Metallfolien, insbesondere für Aufdampfmasken, ist ein Teil der Substrathalterung von Aufdampfapparaturen. Die Substrathalterung (in der Figur ist sie in ihrer Gesamtheit nicht dargestellt) umfaßt neben dem Trägerrahmen 1 und der Metallfolie 2 (Fig.2) einen Substratträger (in der Figur ebenfalls nicht dargestellt), der meist in Form eines Rahmens ausgebildet ist. Der Trägerrahmen 1 ist aus Metall, beispielsweise aus Stahl, gefertigt. Seine äußere Gestalt ist die eines Vielecks (in Fig.1 ist ein Quadrat gezeichnet); der Trägerrahmen 1 kann aber auch kreisförmig bzw. oval gestaltet sein.The support frame 1 shown schematically in Figure 1 for thin metal foils, especially for vapor deposition masks, is part of the substrate holder of vapor deposition apparatus. The substrate holder (it is not shown in its entirety in the figure) includes next to the support frame 1 and the metal foil 2 (Fig.2) a Substrate carrier (also not shown in the figure), usually in the form of a Frame is formed. The support frame 1 is made of metal, for example steel, manufactured. Its external shape is that of a polygon (in Fig. 1 is a square drawn); the support frame 1 can also be designed circular or oval.
Der in Fig.1 dargestellte Trägerrahmen 1, auf dem im betriebsbereiten Zustand eine Aufdampfmaske in Form einer dünnen Metallfolie 2 aufliegt, besitzt in einer als Auflagefläche 7 für die Metallfolie 2 dienenden Oberfläche in eine Vertiefung eingelassene Magnete 3. Mit Hilfe des magnetischen Feldes dieser Magnete 3 wird die Metallfolie 2, welche aus ferromagnetischem Material, beispiels weise Stahl, besteht, an dem Trägerrahmen 1 festgehalten. Eine mechanische Halterung der Metallfolie 2 am Trägerrahmen 1, z.B.The support frame 1 shown in Figure 1, on which in the operational State a vapor deposition mask in the form of a thin metal foil 2 rests, has in a surface serving as a support surface 7 for the metal foil 2 into a Recessed magnets 3. With the help of the magnetic field of these magnets 3 is the metal foil 2, which is made of ferromagnetic material, for example Steel, is held on the support frame 1. A mechanical bracket of the Metal foil 2 on the support frame 1, e.g.
mit Hilfe von Schrauben oder schwenkbaren Federn, ist ebenfalls möglich.with the help of screws or pivotable springs is also possible.
Zur Aufheizung der auf dem Trägerrahmen 1 aufliegenden Folienrandbereiche ist innerhalb des Trägerrahmens 1 entlang der Auflagefläche 7 eine elektrische Heizvorrichtung 4, z.B. ein Mantelheizleiter, untergebracht. Die Heizleistung der elektrischen Heizvorrichtung 4 ist unterschiedlich. Sie richtet sich nach dem jeweils vorgenommenen Verdampfungsprozeß und der damit in der Folienmitte auftretenden Temperatur. Für ein erfindungsgemäßes thermisches Spannen ist ein Aufheizen der randnahen Folienbereiche auf mindestens die gleiche, vorteilhafterweise auf eine etwas höhere Temperatur als die Temperatur der Folienmitte, beispielsweise eine Heizleistung von ca. 100 bis 300 W, erforderlich.For heating the foil edge areas resting on the carrier frame 1 is within the support frame 1 along the support surface 7, an electrical heating device 4, e.g. a jacket heating conductor. The heating power of the electric heater 4 is different. It depends on the evaporation process carried out in each case and the temperature occurring in the middle of the film. For an inventive Thermal tensioning is the heating of the film areas close to the edge to at least one the same, advantageously at a slightly higher temperature than the temperature the center of the film, for example a heating power of approx. 100 to 300 W, is required.
Der dargestellte Trägerrahmen 1 ist am äußeren Rand der Auflage fläche 7 mit einer umlaufenden Stufe 6 versehen. Sie dient dazu, einen über die Auflagefläche 7 hinausstehenden und über die äußere Kante des Trägerrahmens 1 hinweggebogenen Rand der Metallfolie 2 aufzunehmen.The illustrated support frame 1 is on the outer edge of the support surface 7 provided with a circumferential step 6. It serves to a protruding beyond the support surface 7 and beyond the outer edge of the support frame 1 edge of the metal foil 2 bent away.
Fig.2 gibt einen Schnitt II-II des in Fig.1 dargestellten Trägerrahmens 1 wieder. Den Trägerrahmen 1 überspannt die dünne Metallfolie 2, welche in Fig.1 nicht dargestellt ist. Sie liegt auf der Auflagefläche 7 auf und wird von den dort eingelassenen Magneten 3 gehalten. Die Metallfolie 2, welche über die äußeren Kanten des Trägerrahmens 1 hinweggebogen ist, wird durch diese Maßnahme gesteift. Es ist daher vorteilhaft, die Metallfolie 2 etwas größer als den Trägerrahmen 1 zu wählen, um einen überstehenden Bereich von ungefähr 2 mm umbiegen zu können. Der umgebogene Folienbereich findet dann z.B. in einer die Auflagefläche 7 umlaufenden Stufe 6 Platz. Die durch das Umbiegen des Folienrandes erreichte Versteifung der dünnen Metallfolie ermöglicht die Substrathalterung der Aufdampfapparatur aus den Einzelteilen wie Trägerrahmen 1 mit darübergespannter Aufdampfmaske 2 und Substratrahmen mit eingelegtem Substrat (in der Zeichnung nicht dargestellt) zusammenzusetzen, ohne daß Deformierungen der Metallfolie 2 auftreten. Die Randversteifung wirkt sich somit günstig auf die Straffung der gesamten Maske aus und verhindert, daß sich die Aufdampfmaske 2 beim Annähern an den Substratrahmen durchbiegt bzw. vom Trägerrahmen 1 ablöst, da der Substratrahmen seinerseits Magnete aufweist, die die Aufdampfmaske 2 an das Substrat ziehen. Entsprechend gilt dies auch für das Entfernen des Trägerrahmens 1 vom Substratrahmen. Hierbei ist es besonders wichtig, daß die Aufdampfmaske 2 gleichmäßig abgehoben wird, um zu vermeiden, daß Kratzer am bereits bedampften Substrat hervorgerufen werden. Es versteht sich, daß zum Zwecke der Justierung der Aufdampfmaske 2 gegenüber dem Trägerrahmen 1 bzw. auch dem Substrat Justierstifte im Trägerrahmen 1 vorhanden sind, welche in der schematischen Darstellung nicht eingezeichnet sind.Fig.2 gives a section II-II of the support frame shown in Fig.1 1 again. The carrier frame 1 is spanned by the thin metal foil 2, which is shown in FIG is not shown. It rests on the support surface 7 and is from there embedded magnets 3 held. The metal foil 2, which over the outer edges of the support frame 1 is bent away, is stiffened by this measure. It is therefore advantageous to choose the metal foil 2 slightly larger than the support frame 1, in order to be able to bend a protruding area of about 2 mm. The bent one The film area is then found, for example, in a step 6 surrounding the support surface 7 Place. The stiffening of the thin ones achieved by bending the edge of the film Metal foil enables the substrate to be held by the vapor deposition apparatus from the individual parts like carrier frame 1 with vapor-deposition mask 2 and substrate frame stretched over it inserted substrate (not shown in the drawing) to assemble without that deformations of the metal foil 2 occur. The edge stiffening thus has an effect beneficial to the tightening of the entire mask and prevents the vapor deposition mask 2 bends when approaching the substrate frame or detaches from the carrier frame 1, since the substrate frame in turn has magnets that attach the vapor deposition mask 2 to the Pull substrate. This also applies to removing the carrier frame 1 from the substrate frame. It is particularly important that the vapor deposition mask 2 is lifted evenly in order to avoid scratches on the substrate that has already been vaporized be evoked. It goes without saying that for the purpose of adjusting the vapor deposition mask 2 with respect to the carrier frame 1 or the substrate alignment pins in the carrier frame 1 are present, which are not shown in the schematic representation.
In einer weiteren den Trägerrahmen 1 umlaufenden Nut 5 befindet sich die bereits beschriebene elektrische Heizvorrichtung 4 in Form eines Mantelheizleiters.In a further groove 5 surrounding the support frame 1 is located the electrical heating device 4 already described in the form of a jacket heating conductor.
Gemäß dem Verfahren nach der Erfindung werden die Randbereiche der Aufdampfmaske 2 aufgeheizt und dadurch die dünnen Metallfolien 2 thermisch gespannt. Die Aufheizung der randnahen Folienbereiche wird durch Wärmeübertragung mit Hilfe einer im Trägerrahmen 1 untergebrachten Heizvorrichtung 4 (in der Figur als elektrischer Mantelheizleiter dargestellt) oder durch Wärmestrahlung vorgenommen und ist dabei so geregelt, daß auch während eines Bedampfungsvorgangs die Temperatur der Folienrandbereiche größer ist als die Temperatur der Folienmitte und nur im Grenzfall beide Temperaturen gleich groß werden.According to the method according to the invention, the edge areas are the The vapor-deposition mask 2 is heated and the thin metal foils 2 are thermally stretched as a result. The heating of the foil areas close to the edge is carried out by means of heat transfer a heating device 4 accommodated in the support frame 1 (in the figure as an electric Sheathed heating conductor shown) or made by thermal radiation and is included controlled in such a way that the temperature of the film edge areas even during a vapor deposition process is greater than the temperature of the center of the film and only in borderline cases both temperatures get the same size.
Das erfindungsgemäße the mische Spannen von Aufdampfmasken gewährleistet, daß auch dünne Metallmasken von Großsubstraten, deren Ausmaße 4n x 4" (101,6 x 101,6 mm2) und 3 3/411 x 4 1 /2" (95,2 x 114,3 mm2) betragen, während der Bedampfung an den Substraten fest anliegen und somit scharfe Aufdampfkonturen geschaffen werden.The inventive the mix clamping of vapor deposition masks ensures that also thin metal masks of large substrates, their dimensions 4n x 4 "(101.6 x 101.6 mm2) and 3 3/411 x 4 1/2 "(95.2 x 114.3 mm2) during the vapor deposition lie firmly against the substrates and thus create sharp vapor deposition contours.
Die erfindungswesentlichen Merkmale wurden am Beispiel einer Einzelhalterungsvorrichtuns beschrieben. Es ist jedoch selbstverständlich, daß sie ebenso in einer Aufdampfanlage der Serienfertigung, z.B. Karussellaufdampfanlage, angewendet werden können und dabei den Vorteil eines mühelosen Maskenwechsels bieten.The features essential to the invention were demonstrated using the example of a single mounting device described. It goes without saying, however, that they can also be used in a vapor deposition system can be used in series production, e.g. carousel vapor deposition system, and offer the advantage of an effortless mask change.
8 Patentansprüche 2 Figuren8 claims 2 figures
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Applications Claiming Priority (1)
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| DE2401609A DE2401609A1 (en) | 1974-01-14 | 1974-01-14 | Masking process for integrated ccts using pulverised electrodes - thin metal foil coating is heated from outer edge |
Publications (1)
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| DE2401609A1 true DE2401609A1 (en) | 1975-07-17 |
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Family Applications (1)
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| DE2401609A Withdrawn DE2401609A1 (en) | 1974-01-14 | 1974-01-14 | Masking process for integrated ccts using pulverised electrodes - thin metal foil coating is heated from outer edge |
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1974
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee | ||
| 8141 | Disposal/no request for examination |