DE2366458C2 - Anwendung eines Metall-Halbleiter-Kontaktes als elektro-optischer Wandler in einem optischen Vermittlungssystem - Google Patents

Anwendung eines Metall-Halbleiter-Kontaktes als elektro-optischer Wandler in einem optischen Vermittlungssystem

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DE2366458C2
DE2366458C2 DE19732366458 DE2366458A DE2366458C2 DE 2366458 C2 DE2366458 C2 DE 2366458C2 DE 19732366458 DE19732366458 DE 19732366458 DE 2366458 A DE2366458 A DE 2366458A DE 2366458 C2 DE2366458 C2 DE 2366458C2
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Description

nur auf der Sendeseite als Wandler für elektrische «Ti optische Signale oder
auf der Sendeseite als Wandler für elektrische in optische Signale und auf der Empfangsseite als Wandler für optische in elektrische Signale (vergL F i g. 3) eingesetzt wird.
Die Erfindung betrifft einen Metall-Halbleiter-Kontakt (Schottky-Kontakt), bestehend aus einem Halbleiter mit direkter Randstruktur (vorzugsweise GaAs) und einer transparenten Metallelektrode gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs.
Dieses Bauelement eignet ".ich zur Hochfrequenzmodulation des Photolumineszenz-Sifi.ials und kann insbesondere in opti-elektronischen Systemen, die mit Laserstrahlen arbeiten, zur Umwandlung eines elektrischen in ein optisches Signal und umgekehrt vorteilhaft eingesetzt werden.
Aufgabe der Erfindung ist es einen Schottky-Kontakt mit spannungsgesteuerter Photolumineszenz in einem optischen Vermittlungssystem einzusetzen.
Die Lösung dieser Aufgabe wird mit den im Patentanspruch angegebenen Maßnahmen erreicht.
Dies bringt eine starke Vereinfachung des technologischen Aufbaus und eine größere mögliche Integrationsdichte und eine wesentlich geringere erforderliche Signalleistung. Die Grenzfrequenz dürfte etwa so hoch wie bei Elektrolumineszenz-Dioden liegen.
Aufbau
F i g. 1 zeigt ein Ausführungsbeispiel des Bauelementes gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruches. Auf die Oberfläche eines Halbleiters mit direkter Bandstruktur (vorzugsweise GaAs) wird ein Metallkontakt (Gate) aufgedampft, der möglichst gut transparent, aber auch dick genug ist, um nicht einen zu hohen Flächenwiderstand zu haben. Die Abmessungen des Kontaktes sind der jeweiligen Anwendung und den Möglichkeiten zur Fokussierung eines Laserstrahles anzupassen. Die untere Grenze kann bei einem Kontaktdurchmesser von etwa 20 μιη liegen (G. B. Stringfellow, P. E. Greens, J. Appl. Physics, Jahrgang 1969, Seiten 502-507). Das Halbleitermaterial sollte Epitaxiematerial mit einer hohen Lumineszenzausbeute und einer Dotierungskonzentration im Bereich von 1015 bis 1017cm-J sein. Die Epitaxieschicht hat dabei eine Dicke von einigen μπι.
Als ohm'scher Rückseitenkontakt dient eine weitere sehr gut leitende, hochdotierte Epitaxieschicht Das Substrat ist zweckmäßigerweise eine semiisolierende Halbleiterscheibe. Die Dotierung der himineszierenden Epitaxieschicht und der Absorptionskoeffizient für die anregende Laserstrahlung sind sg aufeinander abzustimmen, daß sich eine ausreichende Modulation des Photolumineszenzsignals erzielen läßt.
Funktionsweise
Die Verarmungsschicht im Halbleiter unter der Grenze des Metall-Halbleiter-Überganges läßt sich dicker machen, wenn eine Sperrspannung an den Kontakt ge-'egt wird. Die Photolumineszenz-Intensität /, die man außerhalb des Kristalls bei Wellenlängen, die Energien in einem Energiebereich um die Bandkantenenergie entsprechen, messen kann, hängt von der Dicke d der Verarmungsschicht ab, gemäß
{—xi_ d)exp {—ccd).
wobei αι. und α die Absorptionskoeffizienten für die anregende Laserstrahlung bzw. die austretende Lumineszenzstrahlung und k die Lumineszenz-Intensität ohne Berücksichtigung einer Verarmungsschicht sind. Zur Physik dieses Vorganges siehe:
R. E. Hetrick, K. F. Yeung, J. Appl. Physics, Jahrgang 1971, Seiten 2882-2885 und
U. Langmann, Appl. Physics, Jahrgang 1973.
Fig.2 zeigt die Lumineszenz-Intensität / bei λ = 870 nm an einem CrAu-GaAs Schottky-Kontakt (GaAs Bulk-Material) in Abhängigkeit von der angelegten Spannung U. Die Anregung erfolgt hierbei durch einen HeNe Laser.Trägt man
I η (l/k) über j/77
oder
{tu
über U
auf, dann erhält man über einen weiten Spannungsbereich einen linearen Zusammenhang.
Die Intensitätsmodulation kann an der Kennlinie nach F i g. 2 erfolgen, wobei ein geeigneter Arbeitspunkt durch eine negative Vorspannung gewählt wird. Es ist zu erwarten, daß die obere Grenzfrequenz zwisehen 100 MHz und 1 GHz, evtl. auch darüber, liegt, je nach der Abklingkonstanten für die strahlende Rekombination.
Anwendung
Eine geeignete Anwendung kann das Bauelement in einem optischen Vermittlungssystem nach Fig.3 finden. Die wesentlichen Elemente dieses Systems und seine Funktionsweise sind von U. Schmidt (Süddeutsche Zeitung, Jahrgang 1972, Ausgabe 206) angegeben worden. Nur werden bei Schmidt Elektrolumineszenz-Dioden als lichtemittierende Elemente eingesetzt. Ein Laserstrahl stellt die Verbindung zwischen den jeweiligen lichtemittierenden Elektrolumineszenz-Dioden auf der Eingangsseite und den lichtempfindlichen Photodioden auf der Ausgangsseite her. Die Elektrolumineszenz-Dioden werden ihrerseits über lichtempfindliche Elemente vom Laserstrahl »gezündet«.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Anwendung eines Metall-Halbleiter-Kontaktes, bestehend aus einem Halbleiter mit direkter Bandstruktur (vorzugsweise GaAs) und einer transparenten Metallelektrode, wobei dieses Bauelement zur Modulation eines optischen Signals durch ein elektrisches Signal angewandt wird, in dem bei Bestrahlung mit Laserlicht geeigneter Wellenlänge und Intensität auf den transparenten Kontakt die Fotolumineszenz-Intensität des Halbleitermaterials durch Anlegen einer Wechselspannung an den in Sperrichtung vorgespannten Kontakt breitbandig moduliert wird, in einem optischen Vermittlungssystem, dadurch gekennzeichnet, daß das Element entweder
DE19732366458 1973-03-08 1973-03-08 Anwendung eines Metall-Halbleiter-Kontaktes als elektro-optischer Wandler in einem optischen Vermittlungssystem Expired DE2366458C2 (de)

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DE19732366566 DE2366566C2 (de) 1973-03-08 1973-03-08 Anwendung eines Metall-Halbleiter-Kontaktes in Datenspeicher-Systemen
DE19732366458 DE2366458C2 (de) 1973-03-08 1973-03-08 Anwendung eines Metall-Halbleiter-Kontaktes als elektro-optischer Wandler in einem optischen Vermittlungssystem

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DE2366458A1 DE2366458A1 (de) 1974-10-03
DE2366458C2 true DE2366458C2 (de) 1984-05-17

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2311469C2 (de) * 1973-03-08 1986-09-04 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Lichtmodulationseinrichtung mit Schottky-Kontakt

Also Published As

Publication number Publication date
DE2366458A1 (de) 1974-10-03

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