DE2143460C3 - Ion source - Google Patents

Ion source

Info

Publication number
DE2143460C3
DE2143460C3 DE2143460A DE2143460A DE2143460C3 DE 2143460 C3 DE2143460 C3 DE 2143460C3 DE 2143460 A DE2143460 A DE 2143460A DE 2143460 A DE2143460 A DE 2143460A DE 2143460 C3 DE2143460 C3 DE 2143460C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
ion source
ionization
gas
space
ionization space
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2143460A
Other languages
German (de)
Other versions
DE2143460B2 (en
DE2143460A1 (en
Inventor
Volker Hausen
Hans Dr. 2000 Norderstedt Knof
Dieter Krafft
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to DE2143460A priority Critical patent/DE2143460C3/en
Priority to US277310A priority patent/US3860848A/en
Priority to FR7230661A priority patent/FR2153239B1/fr
Priority to GB4002872A priority patent/GB1398167A/en
Publication of DE2143460A1 publication Critical patent/DE2143460A1/en
Publication of DE2143460B2 publication Critical patent/DE2143460B2/en
Application granted granted Critical
Publication of DE2143460C3 publication Critical patent/DE2143460C3/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/10Ion sources; Ion guns
    • H01J49/14Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
    • H01J49/147Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers with electrons, e.g. electron impact ionisation, electron attachment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/20Ion sources; Ion guns using particle beam bombardment, e.g. ionisers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Ionenquelle mit einem lonisationsraum in einem die Ionenquelle umgebender. Ionenquellenraum, der eine lonenaustrittsöffnung aufweist, bei der im Ionisationsraum Drücke von 10—* bis 1 Torr und in dem Ionenquellenraum Drücke bis zu 10~3 Torr vorhanden sind.The present invention relates to an ion source with an ionization space in a space surrounding the ion source. Ion source chamber having a lonenaustrittsöffnung, to 1 Torr and, in the ion source chamber pressures up to 10 -3 Torr are present in the ionization chamber pressures of 10 *.

Mit dieser Konstruktion kann die Ionenquelle bei Gasdrücken bis zu etwa 1 Torr im Gaseinlaßrohr betrieben werden, ohne daß Gasentladungen oder Funkenüberschläge auftreten. Damit eignet sich diese Hochdnickionenquelle, insbesondere auch als Elektronenanlagerungsionenquelle in der Massenspektrometrie. With this construction, the ion source can operate at gas pressures up to about 1 Torr in the gas inlet tube without gas discharges or arcing. So this is suitable High-thickness ion source, in particular also as a source of electron attachment ions in mass spectrometry.

In Ionenquellen werden Atome oder Moleküle eines Gases bzw. Festkörpers ionisiert und die so gebildeten Ionen in eine Richtung beschleunigt und fokussiert, damit ein gebündelter Ionenstrahl entsteht, der dann z. B. in einen Beschleuniger oder in ein Massenspektrometer geleitet wird. Dabei kann einmal die Erzeugung atomarer Ionen, wie für Beschleuniger, erforderlich sein, oder die möglichst schonende Ionisation neutraler Moleküle, wie für den Nachweis in der Analytik der Massenspektrometrie.Atoms or molecules of a gas or solid are ionized in ion sources and the so formed Ions accelerated and focused in one direction so that a focused ion beam is created, who then z. B. is passed into an accelerator or into a mass spectrometer. You can do this once the generation of atomic ions, as for accelerators, may be necessary, or the most gentle one possible Ionization of neutral molecules, such as for detection in the analysis of mass spectrometry.

Für die Massenspektrometrie gibt es bekanntlich verschiedene Typen von lonenquellen. Eine häufig benutzte Ionenquelle ist die Elektronenstoßionenquelle zur Erzeugung positiver oder negativer Ionen, die mit einer Elektronenenergie von 7 bis 200 eV betrieben svird. Die Moleküle \op. Probcnsubslanzcn werden dabei meist zerschlagen, so daß vor allem bei Gemischen nicht mehr sicher auf die Ausgangssubstanz geschlossen werden kann. Eine Ionenquelle, welche diese Bruchstückbildung vermeidet, ist die Feidionenquelle, die auch als Felddesorptionsionenquelle betrieben werden kann. Sie arbeitet jedoch instabil und kann für quantitative Messungen nur bedingt eingesetzt werden. Ferner ist ihre Empfindlich-As is known, there are various types of ion sources for mass spectrometry. One often The ion source used is the electron impact ion source for generating positive or negative ions, those with an electron energy of 7 to 200 eV operated svird. The molecules \ op. Trial subscriptions are mostly smashed so that, especially in the case of mixtures, the starting substance is no longer safe can be closed. An ion source that avoids this formation of fragments is the Feidionenquelle, which can also be operated as a field desorption ion source. However, she works unstable and can only be used to a limited extent for quantitative measurements. Furthermore, their sensitive

keit wesentlich geringer als die der Elektronenstoßionenquelle. Beide Quellen arbeiten nur bei Drücken bis zu 10— A Torr. Ein höherer Druck in der Ionenquelle istzum empfindlicheren Substanznachweis aber erforderlich.speed is significantly lower than that of the electron impact ion source. Both sources only work at pressures up to 10— A Torr. However, a higher pressure in the ion source is necessary for more sensitive substance detection.

Eine Ionenquelle, die mit höheren Gasdrücken, bis zu einigen Ton, betrieben werden kann, ist z. B. die chemische Ionenquefle. In dieser Ionenquelle kann durch Elektronenstoß ein Hilfsgas, z. B. Methan, ionisiert werden, das dann seine Ladung an das zugemischte Probengas abgibt. Dabei können sich durch Ionenmolekülreaktionen die erzeugten Ionen von den Molekülen der Probensubstanz unterscheiden. Ferner ist der Partialdruck der Probensubstanz in der Ionenquelle neben dem des Hilfsgases nicht einwandfreiAn ion source that can be operated with higher gas pressures, up to a few tones, is e.g. B. the chemical ion source. In this ion source, an auxiliary gas, e.g. B. methane, be ionized, which then gives off its charge to the mixed sample gas. You can get through Ion molecule reactions distinguish the generated ions from the molecules of the sample substance. Further the partial pressure of the sample substance in the ion source and that of the auxiliary gas are not perfect

bestimmbar, so daß quantitative Messungen kaum durchführbar sind.determinable, so that quantitative measurements can hardly be carried out.

Eine weitere Ionenquelle, die bei Drücken von einigen Torr betrieben werden kann, ist die Elektronenanlagerungsionenquelle nach von Ardenne (Zeit-Another ion source that can be operated at pressures of several torr is the electron attachment ion source to from Ardenne (time

schrift für angewandte Physik, Band 11,1959, S. 121; Tabellen zur angewandten Physik, Band 1, Berlin 1962). Sie wird entweder als Gasentladungsquelle betrieben, in der ständig eine Gasentladung in einem Hilfsgas im lonisierungsraum brennt, oder als abge-script for applied physics, Volume 11, 1959, p. 121; Tables for Applied Physics, Volume 1, Berlin 1962). It is operated either as a gas discharge source, in which a gas discharge is constantly burning in an auxiliary gas in the ionization space, or as a

wandelte Elektronenstoßionenquelle, indem aus dem Hilfsgas durch Beschüß mit Elektronen der Energie des Auftrittspotentials Sekundärelektronen erzeugt werden In beiden Fällen können sich die niederenergetischen freien Elektronen an die Moleküle oder converted electron impact ion source by removing the energy from the auxiliary gas by bombarding it with electrons secondary electrons are generated in both cases, the low-energy free electrons can attach themselves to the molecules or

Atome des dem Hilfsgas zugemhchten Probengases anlagern und somit negative Ionen erzeugen. Auch hier ist der Partialdruck der Probcnsubstanz in der *onenque'le neben dem des Hilfsgases nicht einwandfrei bestimmbar, so daß nur qualitative Messungen möglich sind.Atoms of the sample gas added to the auxiliary gas accumulate and thus generate negative ions. Here, too, the partial pressure of the sample substance is in the * onenque'le in addition to that of the auxiliary gas not flawless determinable, so that only qualitative measurements are possible.

Es bleibt damit der Bedarf nach einer Ionenquelle bestehen, die bei Gasdrücken oberhalb 10—4 Torr bis zu etwa I Torr stabil betrieben werden kann. Eine solche Ionenquelle ermöglicht beim Betrieb als Elek-It thus remains a need for an ion source which can be stably operated at gas pressures above 10- 4 Torr to about I Torr. Such an ion source enables when operated as an elec-

tronenanlagerungsionenquelle quantitative massenspektrometrische Messungen, wie sie besonders für die Analyse von Vielkomponentengemischen erforderlich sind. Ferner können Komplexbildungen untersucht werden, die das Verständnis für Kondensationserscheinungen fördern.electron attachment ion source quantitative mass spectrometric measurements, such as those especially for the analysis of multi-component mixtures are required. Furthermore, complex formations can be examined that promote the understanding of condensation phenomena.

Eine vorläufige Konstruktion auf dieses Ziel hin wird in der Zeitschrift für Naturforschung, Band 25 a, 1970, S. 849, beschrieben. Sie ist dadurch gekennzeichnet, daß der auf die Emtrittsöffnung des Ionisierungsraumes fernfokussierte Elektronenstrahl durch ein mit flüssigem Stickstoff gekühltes Rohr geführt wird. Dadurch wird die heiße Kathode zur Vermeidung der Rückdiffusion von Pyrolyseprodukten vom lonisierungsraum getrennt. Im Unterschied dazu kennt die Elektronenanlagerungsionenquelle nach von Ardenne eine solche Fern fokussierung nicht. Weiterhin werden die Elektronen auf so hohe Energien beschleunigt, z. B. auf 800 eV, daß auch beiA preliminary construction towards this goal is given in the Zeitschrift für Naturforschung, Volume 25a, 1970, p. 849. It is characterized by that the on the exit opening of the ionization space remotely focused electron beam guided through a tube cooled with liquid nitrogen will. This helps the hot cathode to avoid back diffusion of pyrolysis products separated from the ionization room. In contrast to this, the electron attachment ion source knows Ardenne does not have such a long-range focus. Furthermore, the electrons are at such high energies accelerated, e.g. B. to 800 eV that also at

höherem Gasdruck die Elektronen nicht so leicht aus der vorgesehenen Bahn abgelenkt werden. Beim Eintritt in den lonisierungsraum werden die Elektronen auf eine Energie abgebremst, die noch Vielfachionisation zuläßt, z. B. auf 200 eV. Im Gegensatz /.u anderen Elektronenanlagerungsionenquellen kann diese vorläufige Ionenquelle mit dein Probengas allein betrieben werden und ist nicht auf ein Hilfsgas angewiesen. Sie lief jedoch so instabil, daß nur in Ausnahmefällen bei Drücken oberhalb von 10—» Torr im Quellenraum quantitative Messungen möglich waien. Bei diesen Drücken traten leicht Fehlströme durch Gasentladungen oder Funkenüberschläge auf, die zu Potentialänderungen und damit zu starken Schwankungen des lonenstromes führten.higher gas pressure, the electrons are not easily deflected from their intended path. Upon entry In the ionization space, the electrons are slowed down to an energy that is still multiple ionization allows, e.g. B. to 200 eV. In contrast to /.u others Electron attachment ion sources can operate this preliminary ion source with your sample gas alone and is not dependent on an auxiliary gas. However, it was so unstable that only in exceptional cases at pressures above 10- »Torr in the source room, quantitative measurements would be possible. At these pressures, fault currents easily occurred due to gas discharges or arcing, which led to Changes in potential and thus led to strong fluctuations in the ion current.

Deshalb war eine Umkonstruktion der Ionenquelle erforderlich, um die störenden Gasentladungen oder Funkenüberschläge zu vermeiden.Therefore the ion source had to be redesigned required in order to avoid the disruptive gas discharges or arcing.

Eine solche Ionenquelle ist erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet, daß der ".Veg der aus dem lonisierungsraum austretenden ionen im fonenquellenraum durch ein Drahtnetz abgeschirmt ist, das auf dem Potential des Ionisierungsraumes liegt.According to the invention, such an ion source is characterized in that the ".Veg from the ions exiting ionization space in the fonenquelleraum is shielded by a wire mesh, which is on the potential of the ionization space.

Eine schematische Skizze der Ionenquelle ist mit der Abb. I gegeben. Der gegenüber Gasentladungen oder Funkenüberschlägen anfällige lonenweg wird durch ein Drahtnetz 1, welches auf das Potential des Ionisierungsraumes gelegt wird, gegenüber der auf Erdpotential liegenden Umgebung abgeschirmt. Dieses Drahtgitter verhindert, daß Ladungsträger in den Ionenquellenraum gelangen und dort zu u.iselbständigen Entladungen führen.A schematic sketch of the ion source is given in Fig. I. The opposite of gas discharges or arcing susceptible ion path is through a wire mesh 1, which is at the potential of the Ionization room is placed, shielded from the environment lying on earth potential. This Wire mesh prevents charge carriers from entering the ion source space and becoming independent there Lead discharges.

Die Gaszufuhr erfolgt in einem Metallrohr 2, das ebenfalls einschließlich des metallischen Dosierventils auf das Bezugspotential des Ionisierungsraumes gelegt ist. Das Metallrohr wird hochspannungsisoliert aus der Ionenquelle herausgeführt. Der Abschluß kann auch durch ein nichtleitendes Dosierventils erfolgen. Die andere Seite des Dosierventils steht unter dem Sättigungsdampfdruck bei Flüssigkeiten oder Feststoffen oder entsprechenden Drücken bei Gasen. Die Einführung des Elektronenweges in den lonisierungsraum erfolgt über eine Elektrode oder Blende 3, die in die Wandung des lonisierungsraumes hineinragt. Die Bepumpung des Kühlrohres zwischen Kathode und Ionisiemngsraum erfolgt allein durch ein Drahtgitter 4, im Anodenrohr in der Nähe der Kathode, Gas unmittelbar vor dem Pumpstutzen einer Hochvakuumpumpe liegt. Da der Pumpstutzenquerschnitt groß gegenüber dieser Öffnung im Anodeniohr ist, kann der Raum zwischen dem auf z. B. 2,2 kV liegenden Anodenrohr und der äußeren Wandung durchweg auf Hochvakuum gehalten werden. Damit werden auch hier Gasentladungen oder Funkenüberschläge vermieden.The gas is supplied in a metal tube 2, which also includes the metal metering valve is placed on the reference potential of the ionization space. The metal pipe is insulated with high voltage led out of the ion source. A non-conductive metering valve can also be used for termination. The other side of the metering valve is under the saturation vapor pressure for liquids or Solids or corresponding pressures in the case of gases. The introduction of the electron path into the ionization space takes place via an electrode or screen 3 which protrudes into the wall of the ionization space. The cooling tube between the cathode and the ionization chamber is pumped solely through a wire mesh 4, in the anode tube near the cathode, gas immediately in front of the pump nozzle of a High vacuum pump is. Since the cross-section of the pump nozzle is large compared to this opening in the anode tube is, the space between the on z. B. 2.2 kV lying anode tube and the outer wall be kept at high vacuum throughout. This also causes gas discharges or arcing avoided.

Die stabile Betriebsweise der Ionenquelle hat ihre Ursache in der Vermeidung von Gasentladungen und Funkenüberschlägen in den Teilen der Ionenquelle, deren Potentiale für die Erzeugung eines stabilen lonenstromes wesentlich sind. Das wird für den lonenweg dadurch erreicht, daß die Blenden und Elektroden desselben durch ein auf z. B. 2,9 kV gelegtes Drahtnetz mit positiver oder negativer Spannung gegen Erdpotential von unselbständigen Gasentladungen freigehalten werden. In der Gaszufuhr können Entladungen hei hohen Betriebsdrücken dadurch vermieden werden, indem das Rohrstück der Gaszufuhr einschließlich des Dosierventils in Metall ausgeführt und z. B. auf ein Potential von 2,9 kV positiv oder negativ gegen Erdpotential gelegt wird. Dann befindet sich das Gas in einem Faradaykäiig und eine Entladung kann dort nicht zünden. Das Zünden einer Gasentladung im Elektronenweg wird dadurch vermieden, indem die Einführung der Blende oder Elektrode in den Stoßraum so ausgeführt ist.The stable mode of operation of the ion source is due to the avoidance of gas discharges and Flashovers in the parts of the ion source whose potentials for the generation of a stable ion flow are essential. This is achieved for the ion path in that the diaphragms and Electrodes of the same by a on z. B. 2.9 kV laid wire network with positive or negative voltage be kept free of dependent gas discharges against earth potential. In the gas supply Discharges at high operating pressures can be avoided by removing the pipe section from the Gas supply including the metering valve made of metal and z. B. to a potential of 2.9 kV positive or negative against earth potential. Then the gas is in a Faraday cage and a discharge cannot ignite there. The ignition of a gas discharge in the electron path is avoided in that the introduction of the diaphragm or electrode into the joint space is carried out in this way.

ίο daß kein für eine Zündung einer Entladung ausreichender Kathodenfall aufgebaut werden kann. Am anderen Ende des Eleklronenweges wird durch geeignete Vakuumleitung erreicht, daß das aus dem Anodenrohr austretende Gas sofort abgepumpt wird.ίο that none is sufficient to ignite a discharge Cathode case can be built up. At the other end of the Eleklronenweg there is a suitable Vacuum line ensures that the gas emerging from the anode tube is pumped out immediately.

Dadurch kann in dem Raum zwischen Anodenrohr, das z. B. auf 2,2 kV positiv oder negativ liegt, und der auf Erdpotential liegenden Außenwandung ein so gutes Vakuum gehalten werden, daß auch hier keine Gasentladung zündet.This allows in the space between the anode tube, the z. B. is positive or negative at 2.2 kV, and the outer wall, which is at ground potential, maintains such a good vacuum that none here either Gas discharge ignites.

Mit der vorliegenden Apparatur war es insbesondere möglich, Elektronenaniagerungsmassenspek'rometrie zu betreiben. Dabei wurden das Drahtgitter des lonenweges auf das negative Potential des lonisierungsraumes und die drei anderen Blenden nurWith the present apparatus it was possible in particular to carry out electron storage mass spectrometry to operate. The wire lattice of the ion path was thereby set to the negative potential of the ionization space and the other three bezels only

wenige Volt positiv dagegen verschoben gelegt. Bekannte Konstruktionen werden dagegen z. T. mit mehreren hundert Volt betrieben. Kleine Blendenspannungen sind jedoch bei Elektronenanlagerungsmassenspektrometrie besonders wichtig, da diea few volts positively shifted on the other hand. Known Constructions, however, are z. T. operated with several hundred volts. Small screen tensions however, are particularly important in electron attachment mass spectrometry because the

negativen Ionen durch Elektronenanlagerung nur bei kleinen Elektronenenergien gebildet werden können. Dann können aber auch geringe elektrische Streufelder, die von den Blenden in den lonisierungsraum einwirken, die Betriebsweise der Ionenquelle negativ beeinflussen. Dieser Effekt wird durch die Potentialeinstellung vermieden.negative ions can only be formed by electron attachment with small electron energies. Then, however, small electrical stray fields can also be emitted from the diaphragms into the ionization space affect the mode of operation of the ion source negatively. This effect is due to the potential setting avoided.

Bei Ausführung einer Elektronenanlagerungsmassenspektrometriemessung konnte mit einer Apparatur gemäß A bb. 2 bei einem Probendampfdnick im Vor-When performing an electron attachment mass spectrometry measurement could with an apparatus according to A bb. 2 in the case of a sample steam thickness in advance

ratsbehälter von 180 Torr mit Aceton, im Gaszufuhrrohr zur Ionenquelle mit 1 Torr und im Quellenraum mit 1,5· 10 * Torr gearbeitet werden. Die Potentiale der Gaszufuhr und des lonenweges betrugen dabei180 Torr storage tank with acetone, in the gas supply tube to the ion source with 1 Torr and in the source room with 1.5 · 10 * Torr. The potentials the gas supply and the ion path were

— 2,9 kV für den lonisierungsraum, — 2,9 kV für das Gaszufuhrrohr und Dosierventil, — 2,9 kV für die 1. Blende, — 2,895 kV für die 2. Blende,- 2.9 kV for the ionization room, - 2.9 kV for the gas supply pipe and metering valve, - 2.9 kV for the 1st aperture, - 2.895 kV for the 2nd aperture,

— 2,830 kV für die 3. Blende und — 2,9 kV für das Drahtnetz. Die Potentiale des Elektronenweges betrugen dabei —2.1 kV für die Blende am Stoßraum, — 2,2 kV für das Anodenrohr und — 3,1 kV für die Kathode. Mit diesen Betriebsbedingungen war es möglich, Elektronenanlagerungsmassenspektren zu erhalten, deren Bruchstückionen wesentlich intensitätsärmer waren als die Molekülionen und auch als die der dimeren Ionen. Ferner konnte die Druckabhängigkeit der Ionenintensität im Druckbereich von 5-10-5 Torr bis 10~3Torr im Ionenquellenraum gemessen werden.- 2.830 kV for the 3rd panel and - 2.9 kV for the wire mesh. The potentials of the electron path were -2.1 kV for the diaphragm at the impact space, -2.2 kV for the anode tube and -3.1 kV for the cathode. With these operating conditions it was possible to obtain electron attachment mass spectra whose fragment ions were significantly lower in intensity than the molecular ions and also than those of the dimeric ions. Further, the pressure dependence of ion intensity could be measured in the pressure range of 5-10- 5 Torr to 10 -3 Torr in the ion source chamber.

Weitere Versuche wurden mit organischen Substanzen, wie Benzol, Cyclohexan, Ameisensäure, Essigsäure, Methanol, Äthanol, u. a. sowie mit Wasser durchgeführt. Es zeigte sich immer wieder, daß das Molekülion, sowie auch die Komplexionen, intensiver waren als die Bruchstückionen. Eine Ausnahme bildete Cyclohexan, bei dem offensichtlich kein negatives Molekülion existierte.Further experiments were carried out with organic substances such as benzene, cyclohexane, formic acid, acetic acid, Methanol, ethanol, among others. as well as carried out with water. It has been shown time and again that that Molecular ions, as well as the complex ions, were more intense than the fragment ions. An exception was made Cyclohexane in which apparently no negative molecular ion existed.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (4)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Ionenquelle mit einem lonisationsraum in einem die Ionenquelle umgebenden Ionenquellenraum, der eine lonenaustrittsöffnung aufweist, bei der im lonisationsraum Drücke von 10 4 bis 1 Torr und in dem Ionenquellenraum Drücke bis zu 10—3 Torr vorhanden sind, dadurch gekennzeichnet, daß der Weg der aus dem lonisierungsraum austretenden Ionen im Ionenquellenraum durch ein Drahtnetz abgeschirmt ist, das auf dem Potential des Ionisierungsraumes liegt.1. ion source with a lonisationsraum in the ion source surrounding the ion source chamber having a lonenaustrittsöffnung are in the lonisationsraum pressures of from 10 4 to 1 Torr and, in the ion source chamber pressures up to 10- 3 Torr present, characterized in that the path of ions emerging from the ionization space are shielded in the ion source space by a wire mesh which is at the potential of the ionization space. 2. Eine Ionenquelle nach Anspruch I mit einem lonisierungsraum, in den ein Gaszuführungsrohr mündet, dadurch gekennzeichnet, daß die Gaszufuhr durch ein Metallrohr erfolgt, das einschließlich eines metallischen Dosierventils auf dem Potential des Ionisierungsraumes liegt.2. An ion source according to claim I with an ionization space into which a gas supply tube opens, characterized in that the gas is supplied through a metal tube, including the of a metallic metering valve is at the potential of the ionization space. 3. Eine Ionenquelle nach Anspruch 1 mit einem Elektronenstrahlerzeugungssystem mit einer Kathode, das vom lonisierungsraum getrennt ist und von dem aus ein Elektronenstrahlenbündel durch ein Strahlführungsrohr hindurch in den lonisierungsraum gelangt, und mit einem kathodenseitigen Vakuumpumpenanschluß, dadurch gekennzeichnet, daß eine zwischen dem Strahlführungsrohr und dem Ionisierungsraum angeordnete Elektrode in den Ionisierungsraum hineinragt, und daß der Vakuumpumpenanschluß im Strahlführungsrohr in der Nähe der Kathode angeordnet ist und eine Absaugöffnung mit einem Drahtgitter aufweist.3. An ion source according to claim 1 having an electron gun a cathode which is separated from the ionization space and from which an electron beam emerges passes through a beam guide tube into the ionization space, and with a Cathode-side vacuum pump connection, characterized in that one between the Beam guide tube and the ionization chamber arranged electrode in the ionization chamber protrudes, and that the vacuum pump connection in the beam guide tube near the cathode is arranged and has a suction opening with a wire mesh. 4. Ionenquelle nach einem der Ansprüche i bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Elektronenanlagerungsionenquelle ohne Hilfsgas betrieben ist.4. Ion source according to one of claims i to 3, characterized in that it is used as an electron attachment ion source is operated without auxiliary gas.
DE2143460A 1971-08-31 1971-08-31 Ion source Expired DE2143460C3 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2143460A DE2143460C3 (en) 1971-08-31 1971-08-31 Ion source
US277310A US3860848A (en) 1971-08-31 1972-08-02 High pressure ion source for ion optical analytical equipment and for particle accelerators
FR7230661A FR2153239B1 (en) 1971-08-31 1972-08-29
GB4002872A GB1398167A (en) 1971-08-31 1972-08-29 High pressure ion sources

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2143460A DE2143460C3 (en) 1971-08-31 1971-08-31 Ion source

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2143460A1 DE2143460A1 (en) 1973-03-15
DE2143460B2 DE2143460B2 (en) 1973-10-18
DE2143460C3 true DE2143460C3 (en) 1974-05-16

Family

ID=5818212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2143460A Expired DE2143460C3 (en) 1971-08-31 1971-08-31 Ion source

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3860848A (en)
DE (1) DE2143460C3 (en)
FR (1) FR2153239B1 (en)
GB (1) GB1398167A (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4240007A (en) * 1979-06-29 1980-12-16 International Business Machines Corporation Microchannel ion gun
JPS6056342A (en) * 1983-09-08 1985-04-01 Anelva Corp Ion beam generating apparatus
JPH07118295B2 (en) * 1985-10-30 1995-12-18 株式会社日立製作所 Mass spectrometer
IL81375A (en) * 1987-01-23 1990-11-05 Univ Ramot Method and apparatus for producing ions by surface ionization of energy-rich molecules and atoms
JP2020535622A (en) * 2017-09-29 2020-12-03 パーキンエルマー・ヘルス・サイエンシーズ・カナダ・インコーポレイテッドPerkinelmer Health Sciences Canada, Inc. Off-axis ionization devices and systems

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2601097A (en) * 1949-07-20 1952-06-17 Arthur R Crawford Mass spectrometer for simultaneous multiple gas determinations

Also Published As

Publication number Publication date
DE2143460B2 (en) 1973-10-18
FR2153239A1 (en) 1973-05-04
DE2143460A1 (en) 1973-03-15
GB1398167A (en) 1975-06-18
US3860848A (en) 1975-01-14
FR2153239B1 (en) 1976-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102014226039A1 (en) Ionization device and mass spectrometer with it
DE2152467C3 (en) Device for element analysis
DE2143460C3 (en) Ion source
DE2550349A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR EXTRACTION OF WELL-DEVELOPED HIGH CURRENT ION RAYS FROM A PLASMA SOURCE
Vasile et al. Mass-spectrometric ion sampling from reactive plasmas I. Apparatus for argon and reactive discharges
Doering et al. Low‐Energy, Large‐Angle Electron‐Impact Spectra: Helium, Nitrogen, Ethylene, and Benzene
DE2041422A1 (en) Element analyzer
DE2602078B2 (en) LOW PRESSURE GAS DISCHARGE TUBE
EP0000865B1 (en) Ion source comprising an ionisation chamber for chemical ionisation
DE1464126A1 (en) Themionic converter
DE1204431B (en) Measuring cells for generating an electrical signal to indicate the presence of an ionizable gas component
DE1498845A1 (en) Ionization device for mass spectrometers that can be used in large total pressure ranges
EP0221339B1 (en) Ion cyclotron resonance spectrometer
EP0431233B1 (en) Partial pressure gauge using a cold-cathode ion source for leak detection in vacuum systems
EP0175807B1 (en) Apparatus for the sputtered neutral mass spectrometry
Lehrle et al. A modified time-of-flight mass spectrometer for studying ion-molecule or neutral particle-molecule interactions
DE1673257A1 (en) Two-wire ion source, especially for mass spectrometers
DE2704434A1 (en) LOW IMPEDANCE ELECTRON-BEAM CONTROLLED DISCHARGE SWITCHING DEVICE
DE1218078B (en) Device for generating and confining a plasma
DE19549144A1 (en) Generating ion stream of hydroxonium ions for mass- spectrometric gas analysis
Derrick et al. A field ionization study of octan‐2‐one
DE1283567B (en) Field emission source
DE1598150A1 (en) Ion source for mass spectrometer
DE102019204694A1 (en) Mass spectrometer with an ionization device
DE2950330A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR CHEMICAL ANALYSIS OF SAMPLES

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
8339 Ceased/non-payment of the annual fee