DE212021000467U1 - Verdeckungsplatte mit asymetrischem Reflexionsgrad - Google Patents

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Abstract

Rückblickanordnung, umfassend:
eine transflektive Verdeckungsplatte, die eine erste Seite, die in eine erste Richtung gerichtet ist, und eine zweite Seite aufweist, die in eine zweite Richtung gerichtet ist, die entgegengesetzt zu der ersten Richtung ist, wobei ein Reflexionsvermögen auf der ersten Seite größer ist als auf der zweiten Seite, wobei die Verdeckungsplatte eine asymmetrische transflektive Beschichtung umfasst, wobei die asymmetrische transflektive Beschichtung Folgendes aufweist:
eine transflektive Schicht;
eine Vielzahl von dielektrischen Schichten, die in der zweiten Richtung in Bezug auf die transflektive Schicht angeordnet sind; und
eine oder mehrere absorptionsfähige Schichten, die mit der Vielzahl von dielektrischen Schichten verschränkt bzw. verschachtelt sind; und
einen Bildgeber, der in der zweiten Richtung in Bezug auf die Verdeckungsplatte angeordnet ist und betriebsfähig ist, durch die Verdeckungsplatte hindurch übertragenes Licht zu erfassen und ein Bild zu erzeugen.

Description

  • QUERVERWEIS AUF VERWANDTE ANMELDUNGEN
  • Die vorliegende Anmeldung beansprucht Priorität unter 35 U.S.C. § 119(e) gegenüber der am 18. September 2020 eingereichten vorläufigen US-Anmeldung Nr. 63/080,367 mit dem Titel „IMAGING APPARATUS WITH CONCEALMENT PANEL WITH ASYMMETRIC REFLECTANCE“, deren Offenbarung hiermit durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit aufgenommen ist.
  • GEBIET DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft im Allgemeinen transflektive Verdeckungsplatten für Bildgebungssysteme und insbesondere direktional reflektierende Verdeckungsplatten.
  • KURZDARSTELLUNG
  • Gemäß der vorliegenden Offenbarung werden die Probleme im Zusammenhang mit der Beleuchtung eines Innenraums und/oder eines Fahrers innerhalb des Infrarot- und/oder Nahinfrarotbereichs des elektromagnetischen Spektrums im Wesentlichen reduziert oder beseitigt.
  • Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung wird eine Rückblickanordnung offenbart. Die Rückblickanordnung kann eine transflektive Verdeckungsplatte und einen Bildgeber umfassen. Die transflektive Verdeckungsplatte kann eine erste Seite, die in eine erste Richtung gerichtet ist, und eine zweite Seite, die in eine zweite Richtung gerichtet ist, aufweisen. Die erste Richtung kann entgegengesetzt zu der zweiten Richtung sein. Zusätzlich kann ein Reflexionsvermögen auf der ersten Seite größer sein als auf der zweiten Seite. In einigen Ausführungsformen ist der Reflexionsgrad auf der ersten Seite größer als oder gleich dem Fünffachen des Reflexionsgrads auf der zweiten Seite. In einigen Ausführungsformen ist der Reflexionsgrad auf der zweiten Seite kleiner als oder gleich 10 %. Ferner kann die Verdeckungsplatte eine asymmetrische transflektive Beschichtung umfassen. Die asymmetrische transflektive Beschichtung kann eine transflektive Schicht, eine Vielzahl von dielektrischen Schichten und eine oder mehrere absorptionsfähige Schichten aufweisen. Die Vielzahl der dielektrischen Schichten kann in der zweiten Richtung in Bezug auf die transflektive Schicht angeordnet sein. Die eine oder die mehreren absorptionsfähigen Schichten sind mit der Vielzahl von dielektrischen Schichten verschränkt bzw. verschachtelt. Der Bildgeber kann in der zweiten Richtung in Bezug auf die Verdeckungsplatte angeordnet sein und betriebsfähig sein, durch die Verdeckungsplatte hindurch übertragenes Licht zu erfassen und ein Bild zu erzeugen. In einigen Ausführungsformen kann die Rückblickanordnung ferner eine Antireflexbeschichtung umfassen, die in der zweiten Richtung in Bezug auf die asymmetrische transflektive Beschichtung angeordnet ist.
  • In einigen Ausführungsformen kann die transflektive Schicht einen Brechungsindex von weniger als oder gleich 2,0 aufweisen. In einigen Ausführungsformen kann das transflektive Element einen imaginären Teil eines Brechungsindex aufweisen, der größer als ein realer Teil des Brechungsindex ist. In einigen dieser Ausführungsformen kann der imaginäre Teil um mehr als das Fünffache größer als der reale Teil sein. In einigen Ausführungsformen kann die transflektive Schicht einen mehrschichtigen Stapel aus alternierenden Schichten mit hohem und niedrigem Brechungsindex umfassen. In einigen dieser Ausführungsformen bestehen die alternierenden Schichten mit hohem und niedrigem Brechungsindex aus dielektrischen Materialien.
  • In einigen Ausführungsformen können die dielektrischen Schichten einen Brechungsindex zwischen etwa 1,37 und etwa 4,00 aufweisen.
  • In einigen Ausführungsformen weisen Brechungsindizes der absorptionsfähigen Schichten einen Brechungsindex zwischen etwa 1,0 und etwa 6,0 auf. In einigen dieser Ausführungsformen kann ein imaginärer Teil des Brechungsindex weniger als oder gleich dem Dreifachen des realen Teils des Brechungsindex sein. In einigen Ausführungsformen kann eine absorptionsfähige Schicht der einen oder mehreren absorptionsfähigen Schichten einen direkten Kontakt mit der transflektiven Schicht herstellen.
  • In einigen Ausführungsformen kann die Rückblickanordnung ferner ein unterschiedlich durchlässiges elektrooptisches Element umfassen. Das unterschiedlich durchlässige elektrooptische Element kann betriebsfähig sein, den Reflexionsgrad der Verdeckungsplatte auf der ersten Seite im Wesentlichen zu variieren. Ferner kann das elektrooptische Element ein erstes Substrat, ein zweites Substrat, eine erste Elektrode, eine zweite Elektrode und ein elektrooptisches Medium aufweisen. Das erste Substrat kann eine erste Oberfläche und eine zweite Oberfläche aufweisen. Die erste Oberfläche kann in der ersten Richtung in Bezug auf die zweite Oberfläche angeordnet sein. Das zweite Substrat kann in einem Abstand zu dem ersten Substrat angeordnet sein. Zusätzlich kann das zweite Substrat eine dritte Oberfläche und eine vierte Oberfläche aufweisen. Die vierte Oberfläche kann in der zweiten Richtung in Bezug auf die dritte Oberfläche angeordnet sein. Die erste Elektrode kann mit dem ersten Substrat verbunden sein. Die zweite Elektrode kann mit dem zweiten Substrat verbunden sein. Das elektrooptische Medium kann, zumindest teilweise basierend auf einem elektrischen Potential, zwischen im Wesentlichen aktivierten und nicht aktivierten Zuständen betrieben werden. Zusätzlich kann das elektrooptische Medium zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat und in der ersten Richtung in Bezug auf die asymmetrische transflektive Beschichtung angeordnet sein. In solchen Ausführungsformen kann die asymmetrische transflektive Beschichtung mit der dritten Oberfläche verbunden sein. In anderen dieser Ausführungsformen kann die asymmetrische transflektive Beschichtung mit der vierten Oberfläche verbunden sein.
  • Gemäß einem anderen Aspekt der vorliegenden Offenbarung wird ein Element offenbart. Das Element kann ein Substrat und eine asymmetrische transflektive Beschichtung umfassen. Das Substrat kann eine erste Seite und eine zweite Seite aufweisen. Die asymmetrische transflektive Beschichtung kann mit dem Substrat verbunden sein. Zusätzlich kann die asymmetrische transflektive Beschichtung eine transflektive Schicht, eine Vielzahl von dielektrischen Schichten und eine oder mehrere absorptionsfähige Schichten, die mit der Vielzahl von dielektrischen Schichten verschränkt bzw. verschachtelt sind, aufweisen. Ferner kann das Element eine erste Seite und eine zweite Seite aufweisen. Der Reflexionsgrad der ersten Seite kann im Wesentlichen größer sein als der Reflexionsgrad der zweiten Seite. In einigen Ausführungsformen kann der Reflexionsgrad auf der ersten Seite größer als oder gleich dem Fünffachen des Reflexionsgrads auf der zweiten Seite sein. In einigen Ausführungsformen kann der Reflexionsgrad auf der zweiten Seite kleiner als oder gleich 10 % sein. In einigen Ausführungsformen kann eine absorptionsfähige Schicht einen direkten Kontakt mit der transflektiven Schicht herstellen.
  • Diese und andere Aspekte, Aufgaben und Merkmale der vorliegenden Offenbarung sind für Fachleute nach dem Studieren der folgenden Beschreibung, der Ansprüche und der angefügten Zeichnungen verständlich und nachvollziehbar. Es ist ebenfalls nachvollziehbar, dass Merkmale aller hierin offenbarten Ausführungsformen in Verbindung mit Merkmalen in anderen Ausführungsformen verwendet werden oder diese ersetzen können.
  • Figurenliste
  • Es zeigen:
    • 1: Eine schematische Darstellung einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte und Aspekte eines Systems, das diese beinhaltet;
    • 2: Aspekte eines Systems, das eine Verdeckungsplatte beinhaltet;
    • 3: Eine schematische Querschnittsdarstellung einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte;
    • 4: Eine schematische Querschnittsdarstellung einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte;
    • 5: Eine schematische Querschnittsdarstellung einer Ausführungsform einer asymmetrischen transflektiven Beschichtung;
    • 6a: Eine schematische Querschnittsdarstellung von Reflexionen von Licht, das auf die zweite Seite einer Verdeckungsplatte auftrifft;
    • 6b: Eine schematische Querschnittsdarstellung von Reflexionen von Licht, das auf die zweite Seite einer Verdeckungsplatte auftrifft;
    • 7a: Eine Darstellung eines Bilds einer Person mit Geisterbildern;
    • 7b: Eine Darstellung eines Bilds einer Person ohne Geisterbilder;
    • 8: Einen Graphen von Reflexionsgraden und einem Transmissionsgrad einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte; und
    • 9: Einen Graphen von Reflexionsgraden und einem Transmissionsgrad einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
  • Für die Zwecke dieser Beschreibung sind die spezifischen Vorrichtungen und Prozesse, die in den beigefügten Zeichnungen veranschaulicht sind und in dieser Offenbarung beschrieben werden, nur beispielhafte Ausführungsformen der in den beigefügten Ansprüchen definierten Konzepte der Erfindung. Daher sind spezifische Eigenschaften im Zusammenhang mit den hierin offenbarten Ausführungsformen nicht einschränkend, sofern es in den Ansprüchen nicht ausdrücklich anderweitig angegeben ist.
  • Bei der Diskussion von Farbverteilungen (d. h. Lichtspektren) ist es sinnvoll, auf die 1976-CIELAB-Farbtafel (gemeinhin als das L*a*b*-Diagramm oder Quantifizierungsschema bezeichnet) der CIE (Commission Internationale de I'Eclairage) zu verweisen. Die Farbtechnologie ist relativ komplex, jedoch wird von F.W. Billmeyer und M. Saltzman in Principles of Color Technology, 2. Edition, J. Wiley und Sons Inc. (1981), eine recht umfassende Erörterung gegeben. Die vorliegende Offenbarung, da sie Farbtechnologie betrifft und eine geeignete Terminologie verwendet, folgt im Allgemeinen dieser Erörterung. Y (manchmal auch als Cap Y bezeichnet) stellt in dieser Anmeldung je nach Kontext entweder den Gesamtreflexionsgrad oder den Gesamttransmissionsgrad dar. L*, a* und b* können zur Charakterisierung von Lichtparametern in Transmission oder Reflexion verwendet werden. Gemäß dem L*a*b*-Quantifizierungsschema stellt L* die Helligkeit dar und steht in Beziehung zu dem Wert von Reflexionsgrad oder Transmissionsgrad (auch als normierter Y-Tristimulus-Wert bezeichnet), augengewichtet durch den Y-Tristimulus-Wert einer Weißreferenz, Yref: L* = 116 * (Y/Yref) - 16. Der a*-Parameter ist eine Farbkoordinate, die den Farbtonumfang von rot (positiv a*) bis grün (negativ a*) bezeichnet, und b* ist eine Farbkoordinate, die den Farbtonumfang von gelb und blau (positive bzw. negative Werte von b*) bezeichnet. Y (manchmal auch als Cap Y bezeichnet) stellt in dieser Anmeldung den auf die Empfindlichkeit des menschlichen Auges gegenüber sichtbarem Licht gewichteten Gesamtreflexionsgrad dar. So können beispielsweise Absorptionsspektren eines elektrochromen Mediums, wie sie bei einer bestimmten, an das Medium angelegten Spannung gemessen werden, entsprechend einem Satz von L*-, a*- und b*-Werten in eine Drei-Zahlen-Bezeichnung umgewandelt werden. Zur Berechnung eines Satzes von Farbkoordinaten wie (L*, a*, b*)-Werten aus der spektralen Transmission bzw. dem Reflexionsgrad sind zwei zusätzliche Parameter erforderlich. Einer ist die spektrale Leistungsverteilung der Quelle oder des Leuchtmittels. Die vorliegende Offenbarung verwendet CIE-Standardleuchtmittel A, um Licht von Automobilscheinwerfern zu simulieren, und verwendet CIE-Standardleuchtmittel D65, um Tageslicht zu simulieren. Der zweite Parameter ist die Spektralempfindlichkeit des Beobachters. Viele der nachfolgenden Beispiele beziehen sich auf einen (Reflexionsgrad-)Wert Y aus dem 1964-CIE-Standard, da dieser dem spektralen Reflexionsgrad eher entspricht als L*.
  • Die vorliegende Offenbarung betrifft eine Verdeckungsplatte 100. In einigen Ausführungsformen kann die Verdeckungsplatte 100 in einem Bildgebungssystem 10 integriert sein, wie in 1-2 gezeigt. Das Bildgebungssystem 10 kann eine Verdeckungsplatte 100, einen Bildgeber 200 und/oder eine Steuerung 300 umfassen. In einigen Ausführungsformen können ein oder mehrere Elemente des Bildgebungssystems 10 in einer Rückblickanordnung 20 eines Fahrzeugs, wie beispielsweise einer Innenrückblickanordnung 20, integriert sein. Ferner kann die Rückblickanordnung 20 betriebsfähig sein, einem Fahrer eine Sicht auf eine Szene hinter dem Fahrzeug bereitzustellen. Zusätzlich kann die Rückblickanordnung 20 ein Gehäuse 21 aufweisen.
  • Das Gehäuse 21 kann im Inneren des Fahrzeugs befestigt sein. In einigen Ausführungsformen kann das Gehäuse 21 insbesondere an einer Windschutzscheibe des Fahrzeugs befestigt sein. Ferner kann das Gehäuse 21 einen Hohlraum 22 darin definieren. Zusätzlich kann das Gehäuse 21 eine Öffnung 23 aufweisen. Die Öffnung 23 kann so in dem Gehäuse 21 ausgebildet sein, dass die Öffnung 23 im Wesentlichen dem Fahrer zugewandt ist.
  • Die Verdeckungsplatte 100 kann transflektiv sein. Ferner kann die Verdeckungsplatte 100 eine erste Seite 101 und eine zweite Seite 102 aufweisen. Die erste Seite 101 kann in eine erste Richtung gerichtet sein, und die zweite Seite 102 kann in eine zweite Richtung gerichtet sein, die im Wesentlichen entgegengesetzt zu der ersten Richtung ist. Ferner kann die erste Seite 101 im Wesentlichen auf eine Person 30 gerichtet sein. Dementsprechend kann die zweite Seite 102 im Wesentlichen von der Person 30 weg gerichtet sein. Bei der Person 30 kann es sich beispielsweise um einen Insassen des Fahrzeugs, wie beispielsweise den Fahrer oder einen Fahrgast, handeln. In einigen Ausführungsformen kann der Reflexionsgrad auf der ersten Seite 101 gleich oder größer als 40, 50 oder 60 % im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums sein. Zusätzlich kann der Reflexionsgrad auf der zweiten Seite 102 gleich oder größer als 20, 15, 10 oder 5 % im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums sein. Somit kann die Verdeckungsplatte 100 einen asymmetrischen Reflexionsgrad bereitstellen. Dieser asymmetrische Reflexionsgrad kann so bemessen sein, dass der Reflexionsgrad auf der ersten Seite 101 etwa um das Fünffache oder mehr größer ist als auf der zweiten Seite 102. Ferner kann der Transmissionsgrad von der ersten Seite 101 bis zur zweiten Seite 102 im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums gleich oder größer als 5, 10, 15, 20 oder 25 % sein. In Ausführungsformen, in denen die Verdeckungsplatte 100 in die Rückblickanordnung 20 integriert ist, kann die Verdeckungsplatte 100 so angeordnet sein, dass sie im Wesentlichen mit der Öffnung 23 ausgerichtet ist. In einer solchen Ausführungsform kann die erste Seite 101 von dem Hohlraum 22 weg gerichtet sein. Umgekehrt kann die zweite Seite 102 auf den Hohlraum 22 gerichtet sein.
  • Die Verdeckungsplatte 100 kann betriebsfähig sein, Licht, das auf die Abdeckplatte 100 aus der ersten Richtung auftrifft, im Wesentlichen zu reflektieren. Das reflektierte Licht kann einen ersten Wellenlängenbereich aufweisen. Der erste Wellenlängenbereich kann innerhalb des sichtbaren Bereichs des elektromagnetischen Spektrums liegen. Somit kann die Verdeckungsplatte 100 als ein Spiegel für sichtbares Licht fungieren. Der sichtbare Bereich ist, wie hierin besprochen, als zwischen etwa 380 und 740 nm definiert. Zusätzlich kann die Verdeckungsplatte 100 betriebsfähig sein, Licht in einem zweiten Wellenlängenbereich im Wesentlichen von der ersten Seite 101 bis zu der zweiten Seite 102 zu übertragen. Der zweite Wellenlängenbereich kann innerhalb des sichtbaren, infraroten und/oder nahinfraroten Bereichs des elektromagnetischen Spektrums liegen. Somit kann, in einigen Ausführungsformen, der zweite Wellenlängenbereich derselbe sein wie der erste Wellenlängenbereich oder diesen beinhalten oder ein Teil davon sein. Demnach kann die Verdeckungsplatte 100 betriebsfähig sein, Licht in dem zweiten Wellenlängenbereich im Wesentlichen von der Außenseite des Hohlraums 22 zum Inneren des Hohlraums 22 zu übertragen. Der Nahinfrarotbereich, wie hierin besprochen, ist als zwischen etwa 780 und 940 nm definiert.
  • Die Verdeckungsplatte 100 kann einen variabel reflektierenden und/oder durchlässigen Aufbau aufweisen oder einen Aufbau mit fester Reflexion und/oder Durchlässigkeit aufweisen. In Ausführungsformen, in denen die Verdeckungsplatte 100 einen variabel reflektierenden und/oder durchlässigen Aufbau aufweist, wie in 5 gezeigt, kann die Verdeckungsplatte 100 ein elektrooptisches Element sein oder umfassen. Dementsprechend kann die Verdeckungsplatte 100 ein erstes Substrat 110, ein zweites Substrat 120, eine erste Elektrode 130, eine zweite Elektrode 140, eine Dichtung 150, eine Kammer 160, ein elektrooptisches Medium 170 und/oder eine asymmetrische transflektive Beschichtung 180 umfassen. In Ausführungsformen, in denen die Verdeckungsplatte 100 einen Aufbau mit fester Reflexion und/oder Durchlässigkeit aufweist, wie in 4 gezeigt, kann die Verdeckungsplatte 100 lediglich ein erstes Substrat 110 und eine asymmetrische transflektive Beschichtung 180 umfassen.
  • Das erste Substrat 110 umfasst eine erste Oberfläche 111 und eine zweite Oberfläche 112. In einigen Ausführungsformen kann die erste Oberfläche 111 der ersten Seite 101 entsprechen. Ferner kann das erste Substrat 110 aus einem beliebigen von einer Reihe an Materialien hergestellt sein, die im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums transparent oder im Wesentlichen transparent sind, wie Borosilikatglas, Sodakalkglas, Floatglas, natürliche und synthetische Polymerharze, Kunststoffe, und/oder Verbundwerkstoffe, einschließlich Topas®, das im Handel von der Firma Ticona aus Summit, N.J verfügbar ist. Während nur zu veranschaulichenden Zwecken bestimmte Substratmaterialien offenbart sind, können auch andere in dem Gebiet bekannte Materialien verwendet werden.
  • Das zweite Substrat 120 kann in einem Abstand zu dem ersten Substrat 110 angeordnet sein. Ferner umfasst das zweite Substrat 120 eine dritte Oberfläche 123 und eine vierte
    Oberfläche 124. Zusätzlich kann das zweite Substrat 120 so angeordnet sein, dass die dritte Oberfläche 123 der zweiten Oberfläche 112 zugewandt ist. Somit kann die vierte Fläche 124 der zweiten Seite 102 entsprechen. Auch das zweite Substrat 120 kann aus ähnlichen Materialien wie denen, die für das erste Substrat 110 geeignet sind, hergestellt sein. In einigen Ausführungsformen kann, zusätzlich zu oder alternativ zu der Verwendung der asymmetrischen transflektiven Beschichtung 180, das zweite Substrat 120 im Wesentlichen getönt sein. Somit kann das zweite Substrat 120 einen Transmissionsgrad von weniger als oder gleich 60, 55, 50, 45 oder 40 % aufweisen. In einigen solchen Ausführungsformen kann die Tönung durch eine Materialzusammensetzung des zweiten Substrats 120 und/oder einen Tönungsfilm auf der dritten und/oder der vierten 123, 124 Oberfläche erreicht werden.
  • Die erste Elektrode 130 ist ein elektrisch leitendes Material, das mit der zweiten Oberfläche 112 verbunden ist. Das elektrisch leitfähige Material kann im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums im Wesentlichen transparent sein und im Allgemeinen korrosionsbeständig gegenüber Materialien sein, die in der Kammer 160 enthalten sind. Dementsprechend kann das elektrisch leitende Material beispielsweise ein transparentes leitfähiges Oxid (TCO) wie fluordotiertes Zinnoxid (FTO), Indiumzinnoxid (ITO) oder Indiumzinkoxid (IZO) sein.
  • Gleichermaßen ist die zweite Elektrode 140 ein elektrisch leitendes Material, das mit der dritten Oberfläche 123 verbunden ist. Ferner kann das elektrisch leitende Material der zweiten Elektrode 140 aus den gleichen Materialien bestehen wie denen, die für die erste Elektrode 130 geeignet sind. In einigen Ausführungsformen kann die zweite Elektrode 140 das reflektierende Element 180 umfassen.
  • Die Dichtung 150 kann zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat 110, 120 in Umfangsrichtung angeordnet sein, um eine Kammer 160 in Kombination mit nebeneinander angeordneten ersten und zweiten Elektroden 130, 140 zu definieren. Ferner kann die Dichtung 150 jedes Material umfassen, das mit der ersten und der zweiten Elektrode 130, 140 verklebt werden kann, um wiederum die Kammer 160 abzudichten, sodass das elektrooptische Medium 170 nicht versehentlich austreten kann. Zusätzlich kann sich die Dichtung 150 zu der zweiten und/oder der dritten Oberfläche 112, 123 erstrecken. In einer solchen Ausführungsform können die erste und die zweite Elektrode 130, 140 dort, wo die Dichtung 150 positioniert ist, teilweise entfernt werden. Alternativ kann das Dichtungselement 150 um die Peripherien von dem ersten und dem zweiten Substrat 110, 120 angeordnet sein und sich dazwischen erstrecken.
  • Das elektrooptische Medium 170 kann in der Kammer 160 angeordnet sein. In einigen Ausführungsformen kann das elektrooptische Medium 170 ein elektrochromes Medium sein. Das elektrochrome Medium kann beispielsweise mindestens ein Lösemittel, mindestens ein anodisches Material und/oder mindestens ein kathodisches Material umfassen. Sowohl das anodische als auch das kathodische Material können elektroaktiv sein, wobei mindestens eines davon elektrochrom ist. Demnach kann mindestens eines davon als eine elektrochrome Komponente angesehen werden. Der Begriff „elektroaktiv“ ist unabhängig von seiner üblichen Bedeutung hierin als Material definiert, das, wenn es einem bestimmten elektrischen Potential ausgesetzt ist, eine Modifikation in seinem Oxidationszustand durchläuft. Somit ist das elektrooptische Medium 170 betriebsfähig, wenn es einem elektrischen Potential ausgesetzt ist, in einen aktivierten Zustand einzutreten und/oder diesen aufrechtzuerhalten. Zusätzlich ist der Begriff „elektrochrom“ hierin unabhängig von seiner gewöhnlichen Bedeutung als ein Material definiert, das, wenn es einer bestimmten Differenz elektrischen Potentials ausgesetzt ist, eine Änderung in seinem Extinktionskoeffizienten bei einer oder mehreren Wellenlängen aufweist. Dementsprechend kann das elektrooptische Medium 170 in einem aktivierten Zustand betriebsfähig sein, eine Änderung, in Bezug auf einen nicht aktivierten Zustand, in seinem Extinktionskoeffizienten bei einer oder mehreren Wellenlängen in dem elektromagnetischen Spektrum aufzuweisen. Diese Änderung kann bei einigen Ausführungsformen im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums auftreten. Zusätzlich kann das elektrooptische Medium 170 betriebsfähig sein, Licht im ersten Wellenlängenbereich sowohl während des aktivierten als auch des deaktivierten Zustands zu übertragen. Dementsprechend kann die Änderung des Extinktionskoeffizienten bei einer Wellenlänge außerhalb des ersten Wellenlängenbereichs auftreten.
  • Die elektrochrome Komponente kann eine einschichtige, einphasige Komponente, eine mehrschichtige Komponente oder eine mehrphasige Komponente sein, wie in US-Pat. Nr. 5,928,572 mit dem Titel „Electrochromic Layer and Devices Comprising Same“, US-Pat. Nr. 5,998,617 mit dem Titel „Electrochromic Compounds“, US-Pat. Nr. 6,020,987 mit dem Titel „Electrochromic Medium Capable of Producing a Pre-selected Color“, US-Pat. Nr. 6,037,471 mit dem Titel „Electrochromic Compounds“, US-Pat. Nr. 6,141,137 mit dem Titel „Electrochromic Media for Producing a Preselected Color“, US-Pat. Nr. 6,241,916 mit dem Titel „Electrochromic System“, US-Pat. Nr. 6,193,912 mit dem Titel „Near Infrared-Absorbing Electrochromic Compounds and Devices Comprising Same“, US-Pat. Nr. 6,249,369 mit dem Titel „Coupled Electrochromic Compounds With Photostable Dication Oxidation States“ US-Pat. Nr. 6,137,620 mit dem Titel „Electrochromic Media With Concentration-Enhanced Stability, Process for the Preparation Thereof and Use in Electrochromic Devices“, US-Pat. Nr. 6,519,072 mit dem Titel „Electrochromic Device“; und die internationalen Patentveröffentlichungen mit den Nummern WO 98/42796 mit dem Titel „Electrochromic Polymeric Solid Films, Manufacturing Electrochromic Devices Using Such Solid Films, and Processes For Making Such Solid Films And Devices“ und WO 99/02621 mit dem Titel „Electrochromic Polymer Systems“, die hierin durch Bezugnahme in ihrer Gesamtheit aufgenommen sind.
  • In Ausführungsformen, in denen die Verdeckungsplatte 100 einen variabel reflektierenden und/oder durchlässigen Aufbau aufweist, kann die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 in der zweiten Richtung in Bezug auf das elektrooptische Medium 170 angeordnet sein, sodass das davon reflektierte Licht durch das elektrooptische Medium 170 hindurchtreten muss. Somit kann das elektrooptische Medium 170 aktiviert werden, wobei die Menge des Lichts, das für die Übertragung durch die und/oder Reflexion an der Verdeckungsplatte 100 verfügbar ist, geändert wird. Dementsprechend kann die Rückblickanordnung in einigen Ausführungsformen betriebsfähig sein, abzudunkeln. In einigen dieser Ausführungsformen kann die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 mit der vierten Oberfläche 124 verbunden sein. In anderen Ausführungsformen kann die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 mit der dritten Oberfläche 123 verbunden sein. In einigen solchen Ausführungsformen kann die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 die zweite Elektrode 140 und/oder ein Teil der zweiten Elektrode 140 sein. Dementsprechend kann die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 elektrisch leitend sein. Alternativ kann, in Ausführungsformen, in denen die Verdeckungsplatte 100 einen Aufbau mit fester Reflexion und/oder Durchlässigkeit aufweist, die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 entweder mit der ersten oder der zweiten Oberfläche 111, 112 verbunden sein. Zusätzlich kann, wie in 5 dargestellt, die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 Folgendes umfassen: eine transflektive Schicht 181, eine Vielzahl von dielektrischen Schichten 182 und eine oder mehrere absorptionsfähige Schichten 183.
  • Die transflektive Schicht 181 kann aus einem Metall mit niedrigem Brechungsindex bestehen. Ein Metall mit niedrigem Brechungsindex kann ein Metall mit einem Brechungsindex von weniger als oder gleich etwa 2,0 sein. Beispiele für Materialien mit niedrigem Brechungsindex sind Silber, eine Silberlegierung, Kupfer, Gold, Zink, Aluminium, andere Metalle mit niedrigem Brechungsindex und/oder Kombinationen davon. In einigen Ausführungsformen kann das Material mit niedrigem Brechungsindex dotiert sein. Beispiele für Dotierstoffe sind Gold, Palladium, Platin, Rhodium, Titan, Aluminium, Zink, Kupfer, Zinn, Silicium, Germanium, Mangan, Magnesium, Wolfram, Blei, Bor, Chrom, Thorium, Tantal, Lithium, Indium, andere Dotierstoffe und/oder Kombinationen davon. Mit diesen Dotierstoffen können die optischen Eigenschaften des Wirtsmaterials mit niedrigem Brechungsindex (z. B. Silber) verändert, die Haltbarkeit bei der Prüfung unter Umgebungsbedingungen verbessert oder die elektrochemische Stabilität des Materials mit niedrigem Brechungsindex verbessert werden. Ferner kann die transflektive Schicht 181 im Wesentlichen monolithisch sein. In einigen Ausführungsformen kann die transflektive Schicht 181 einen Brechungsindex von weniger als oder gleich 2,0, 1,5, 1,0 oder 0,5 aufweisen. Gemäß verschiedenen Beispielen kann ein imaginärer Teil des Brechungsindex der transflektiven Schicht 181 größer als der reale Teil sein. Beispielsweise kann der imaginäre Teil des Brechungsindex etwa oder mehr als das 2,5-fache, das 5,0-fache, das 7,5-fache oder das 10-fache des realen Teils des Brechungsindex betragen. Zusätzlich kann die transflektive Schicht 181 eine Dicke zwischen etwa 5 nm bis etwa 25 nm oder zwischen etwa 9 nm bis etwa 20 nm aufweisen. Alternativ kann die transflektive Schicht einen mehrschichtigen Stapel aus alternierenden Schichten mit relativ hohem und niedrigem Brechungsindex umfassen, deren Dicken und Brechungsindizes so abgestimmt sind, dass sie ein transflektives optisches Verhalten erzeugen. In einigen Ausführungsformen können diese alternierenden Schichten dielektrische Materialien umfassen. Bei den dielektrischen Materialien kann es sich um ITO, SnO2, SiN, MgF2, SiO2, TiO2, F:SnO2, NbOx, TaOx, Indiumzinkoxid, Aluminiumzinkoxid, Zinkoxid, elektrisch leitfähiges TiO2, CeOx, ZnS, Chromoxid, ZrOx, WO3, Nickeloxid, IrO2, NiOx, CrOx, NbOx und/oder ZrOx oder ein anderes Material mit einem Brechungsindex zwischen etwa 1,37 und etwa 4,0 handeln. In einigen Ausführungsformen kann die transflektive Schicht 181 einen Reflexionsgrad von gleich oder mehr als 40, 50 oder 60 % aufweisen.
  • In Ausführungsformen, in denen die Verdeckungsplatte 100 einen variablen reflektierenden und/oder durchlässigen Aufbau aufweist, kann die transflektive Schicht 181 mit dem zweiten Substrat 120 verbunden sein. Ferner kann die transflektive Schicht 181 mit dem zweiten Substrat 120 über die dritte oder vierte Oberfläche 123, 124 verbunden sein. In solchen Ausführungsformen, in denen die transflektive Schicht 181 mit der dritten Oberfläche 123 verbunden ist, kann die transflektive Schicht 181 elektrisch leitend sein und kann somit als zweite Elektrode 140 dienen.
  • In Ausführungsformen, in denen die Verdeckungsplatte 100 einen Aufbau mit fester Reflexion und/oder Durchlässigkeit aufweist, kann die transflektive Schicht 181 mit dem ersten Substrat 110 verbunden sein. Ferner kann die transflektive Schicht 181 mit dem ersten Substrat 110 über die erste oder zweite Oberfläche 111, 112 verbunden sein.
  • Die dielektrischen Schichten 182 können aus einem dielektrischen Material und/oder transparentem leitendem Oxid bestehen. Diese Schichten können ferner in Teilschichten mit untereinander gleichen oder unterschiedlichen Brechungsindizes unterteilt sein. Bei dem dielektrischen Material und/oder dem transparenten leitenden Oxid kann es sich um ITO, SnO2, SiN, MgF2, SiO2, TiO2, F:SnO2, NbOx, TaOx, Indiumzinkoxid, Aluminiumzinkoxid, Zinkoxid, elektrisch leitfähiges TiO2, CeOx, ZnS, Chromoxid, ZrOx, WO3, Nickeloxid, IrO2, NiOx, CrOx, NbOx und/oder ZrOx oder ein anderes Material mit einem Brechungsindex zwischen etwa 1,37 und etwa 4,0 handeln. Die Dicke der dielektrischen Schichten kann über einen weiten Bereich von Dicken variieren, um gleichzeitig die reflektierten und übertragenen Eigenschaften abzustimmen. Die dielektrischen Schichten 182 können eine beliebige Anzahl von Schichten von zwei oder mehr umfassen. Dementsprechend können die dielektrischen Schichten 182 eine erste dielektrische Schicht 182a und eine zweite dielektrische Schicht 182b umfassen. Die erste dielektrische Schicht 182a kann eine Dicke zwischen etwa 40 nm bis mehr als etwa 500 nm aufweisen. Die zweite dielektrische Schicht 182b kann eine Dicke zwischen etwa 20 nm bis etwa 100 nm aufweisen.
  • Ferner können die dielektrischen Schichten 182 mit der transflektiven Schicht 181 verbunden und in der zweiten Richtung in Bezug auf die transflektive Schicht 181 angeordnet sein. Ferner kann die zweite dielektrische Schicht 182b in der zweiten Richtung in Bezug auf die erste dielektrische Schicht 182a angeordnet sein. Dementsprechend können, in Ausführungsformen, in denen die transflektive Schicht 181 mit der ersten oder der dritten Oberfläche 111, 123 verbunden ist, die dielektrischen Schichten 182 zwischen der transflektiven Schicht 181 und dem ersten oder dem zweiten Substrat 110, 120 angeordnet sein. Alternativ kann, in Ausführungsformen, in denen die transflektive Schicht 181 mit der zweiten oder der vierten Oberfläche 112, 124 verbunden ist, die transflektive Schicht 181 zwischen der dielektrischen Schicht 182 und dem ersten oder dem zweiten Substrat 110, 120 angeordnet sein.
  • Die eine oder die mehreren absorptionsfähigen Schichten 183 können aus einem absorbierenden Material gebildet sein. Bei dem absorbierenden Material kann es sich um ein Metall, ein Metalloxid, ein Metallnitrid und/oder Kombinationen davon oder andere Materialien handeln, die die nachfolgend beschriebenen Auslegungskriterien hinsichtlich des Brechungsindex erfüllen. Beispielhafte Metalle können Chrom, Molybdän, Nickel, Inconel, Indium, Palladium, Osmium, Wolfram, Rhenium, Iridium, Rhodium, Ruthenium, Edelstahl, Tantal, Titan, Kupfer, Nickel, Gold, Platin, beliebige andere Platingruppenmetalle, Zirkonium, Vanadium, AlSi-Legierungen, Legierungen davon und Kombinationen davon sein. Das absorbierende Material kann einen Brechungsindex zwischen etwa 1,0 und etwa 6,0 oder zwischen etwa 2,0 und etwa 5,0 oder zwischen etwa 2,2 und etwa 4,8 aufweisen. Ein imaginärer Brechungsindex für das absorbierende Material kann kleiner als oder gleich dem etwa Dreifachen oder kleiner als oder gleich dem etwa Zweifachen des realen Teils des Brechungsindex sein. Eine Dicke der absorbierenden Schicht kann zwischen etwa 0,5 nm und 10 nm oder zwischen etwa 1 nm und 6 nm betragen. Zusätzlich kann jede absorptionsfähige Schicht 183 der einen oder der mehreren absorptionsfähigen Schicht 183 zwischen zwei benachbarten Schichten der einen oder mehreren dielektrischen Schichten 182 angeordnet sein. Eine absorptionsfähige Schicht 183 kann zum Beispiel zwischen der ersten und der zweiten dielektrischen Schicht 182a, 182b angeordnet sein. Demnach können die eine oder die mehreren absorptionsfähigen Schichten 183 mit der Vielzahl von dielektrischen Schichten 182 verschränkt bzw. verschachtelt sein. In einigen Ausführungsformen können die absorptionsfähigen Schichten 183 mit der Vielzahl von dielektrischen Schichten 182 verschränkt bzw. verschachtelt sein, sodass eine dielektrische Schicht 182 einen direkten Kontakt mit der transflektiven Schicht 181 herstellt. In einigen Ausführungsformen können die absorptionsfähigen Schichten 183 mit der Vielzahl von dielektrischen Schichten 182 so verschränkt bzw. verschachtelt sein, dass eine absorptionsfähige Schicht 183 einen direkten Kontakt mit der transflektiven Schicht 181 herstellt.
  • In einigen Ausführungsformen, wie in 3 gezeigt, kann die Verdeckungsplatte 100 ferner eine Antireflexbeschichtung 190 beinhalten. Die Antireflexbeschichtung 190 kann auf der zweiten Seite 102 angeordnet sein. Dementsprechend kann, in Ausführungsformen, in denen die Verdeckungsplatte 100 einen variablen reflektierenden und/oder durchlässigen Aufbau aufweist, die Antireflexbeschichtung 190 mit der vierten Oberfläche 124 verbunden sein. In ähnlicher Weise kann, in Ausführungsformen, in denen die Verdeckungsplatte 100 einen Aufbau mit fester Reflexion und/oder Durchlässigkeit aufweist und die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 mit der ersten Oberfläche 111 verbunden ist, die Antireflexbeschichtung 190 mit der zweiten Oberfläche 112 verbunden sein. Alternativ kann, in Ausführungsformen, in denen die Verdeckungsplatte 100 einen Aufbau mit fester Reflexion und/oder Durchlässigkeit aufweist und die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 mit der zweiten Oberfläche 112 verbunden ist, die Antireflexbeschichtung 190 mit der asymmetrischen transflektiven Beschichtung 180 verbunden sein, sodass die Antireflexbeschichtung in der zweiten Richtung in Bezug auf die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 angeordnet ist. In einigen Ausführungsformen kann die Antireflexbeschichtung 190 einen mehrschichtigen Aufbau aufweisen. Der mehrschichtige Aufbau kann mehrere dielektrische Schichten umfassen. Somit können eine oder mehrere Schichten der Antireflexbeschichtung 190 eine Materialzusammensetzung ähnlich den dielektrischen Schichten 182 aufweisen.
  • Der Bildgeber 200 kann jede Vorrichtung sein, die betriebsfähig ist, Licht im zweiten Wellenlängenbereich zu erfassen und ein oder mehrere entsprechende Bilder zu erzeugen. Der Bildgeber 200 kann beispielsweise eine Kamera sein. Dementsprechend kann der Bildgeber 200 ein Halbleiter-CCD (Charge-Coupled Device) oder ein Pixelsensor mit CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semi-Conductor)-Technologie sein. Das eine oder die mehreren Bilder können von einer Person 30 sein. Dementsprechend kann das aufgenommene Licht durch die Verdeckungsplatte 100 hindurch übertragen worden sein. Daher kann der Bildgeber 200 in einigen Ausführungsformen ein Sichtfeld entsprechend dem Fahrer und/oder dem Fahrgastraum des Fahrzeugs aufweisen. Zusätzlich kann der Bildgeber 200 in der zweiten Richtung in Bezug auf die Verdeckungsplatte 100 angeordnet sein. Somit kann der Bildgeber 200 betriebsfähig sein, Licht im zweiten Wellenlängenbereich zu empfangen, das durch die Verdeckungsplatte 100 übertragen wird. Bei einer solchen Konfiguration kann die Verdeckungsplatte 100 den Bildgeber 200 dementsprechend im Sichtfeld der Person 30 verdecken. Ferner kann der Bildgeber 200 , in einigen Ausführungsformen, innerhalb des Hohlraums 22 des Gehäuses 21 angeordnet sein.
  • Die Steuerung 300 kann einen Speicher 310 und einen Prozessor 320 umfassen. Zusätzlich kann die Steuerung 300 kommunikativ mit dem Bildgeber 200 verbunden sein. Dementsprechend kann die Steuerung 300 betriebsfähig sein, das eine oder die mehreren Bilder von dem Bildgeber 200 zu empfangen. In einigen Ausführungsformen kann die Steuerung 300 betriebsfähig sein, das eine oder die mehreren Bilder aufzuzeichnen und sie in dem Speicher 310 zu speichern. In anderen Ausführungsformen kann die Steuerung 300 betriebsfähig sein, eine biometrische Authentifizierung zumindest teilweise basierend auf dem einen oder den mehreren Bildern durchzuführen. Die biometrische Authentifizierung kann ein Analysieren eines oder mehrerer biometrischer Merkmale der Person 30, die in dem einen oder den mehreren Bildern enthalten sind, und ein Vergleichen des einen oder der mehreren biometrischen Merkmale mit einem autorisierten biometrischen Profil umfassen.
  • Der Speicher 310 kann betriebsfähig sein, ein oder mehrere biometrische Profile zu speichern. Das eine oder die mehreren biometrischen Profile können ein oder mehrere autorisierte biometrische Profile umfassen. Zusätzlich kann der Speicher 310 betriebsfähig sein, einen oder mehrere Algorithmen zu speichern. In einigen Ausführungsformen kann ein Algorithmus betriebsfähig sein, ein oder mehrere von dem Bildgeber 300 empfangene Bilder zu analysieren. Das eine oder die mehreren Bilder können analysiert werden, um ein darin abgebildetes biometrisches Merkmal zu detektieren und zu charakterisieren oder zu quantifizieren. Ferner kann der Algorithmus das biometrische Merkmal mit einem oder mehreren der biometrischen Profile vergleichen. Dementsprechend kann der Algorithmus betriebsfähig sein, das biometrische Merkmal mit einem biometrischen Profil abzugleichen. Das biometrische Profil kann ferner bestimmen, ob das biometrische Profil ein autorisiertes Profil ist oder nicht. Wenn das biometrische Profil ein autorisiertes Profil ist, kann die Person 30 als ein autorisierter Benutzer bestimmt werden. Somit kann der Algorithmus betriebsfähig sein, zumindest teilweise basierend auf dem einen oder den mehreren Bildern zu bestimmen, ob die Person 30 ein autorisierter Benutzer ist.
  • In einigen Ausführungsformen kann der Speicher 310 betriebsfähig sein, ein oder mehrere Personenprofile zu speichern. Das Personenprofil kann einem biometrischen Profil für eine Person 30 zugeordnet sein. Ferner kann das Personenprofil eines oder mehrere von Präferenz, Autorisierung oder Einschränkung für ein oder mehrere Geräte umfassen. Bei dem Gerät kann es sich beispielsweise um ein Fahrzeug, einen Fahrzeugcomputer, einen Spiegel, ein Fenster, ein Radio, ein Armaturenbrett, ein Lenkrad, ein Fußpedalsystem, ein Beleuchtungssystem, ein Zahlungssystem und/oder ein Mautsystem handeln. Die Präferenz oder Einschränkung kann beispielsweise eine Sitzposition, Fenstertönungsstufe, Radiosender, Radiolautstärke, maximale Fahrzeuggeschwindigkeit, Fahrmodus, Armaturenbrettbeleuchtung, Spiegelposition, Rückblickanzeige vs. Spiegelpräferenz, Lenkradposition, Pedalposition, Beleuchtungsstufe oder -farbe und/oder ein Zahlungsverfahren sein. In einer solchen Ausführungsform kann der Algorithmus betriebsfähig sein, eine oder mehrere der Präferenzen oder Einschränkungen für eines oder mehrere der Geräte zu implementieren.
  • Der Prozessor 320 kann mit dem Speicher 310 kommunikativ verbunden sein. Ferner kann der Prozessor 320 eine elektrische Schaltung sein, die betriebsfähig ist, einen oder mehrere Sätze von Anweisungen, wie den Algorithmus, auszuführen. Dementsprechend kann der Prozessor 320 beispielsweise eine zentrale Verarbeitungseinheit (CPU) sein.
  • Die Verdeckungsplatte 100 und die Bildgebungssysteme 10, die die Verdeckungsplatte 100 beinhalten, können verschiedene Vorteile aufweisen. Ein Vorteil kann die Verbesserung der Bildqualität in den Bildern sein, die von dem Bildgeber 200 erfasst werden. Bisherige Verdeckungsplatten ohne die asymmetrischen Reflexionseigenschaften der Verdeckungsplatte 100 verminderten die Bildqualität dahinterliegender Bilder. Die Reflexionsvermögen der den Bildgebern zugewandten Seiten dieser bisherigen Verdeckungsplatten weisen einen relativ hohen Reflexionsgrad auf. Tatsächlich ist das Reflexionsvermögen der beiden Seiten dieser Verdeckungsplatten häufig im Wesentlichen gleich. Die Reflexionsvermögen an der dem Bildgeber zugewandten Oberfläche können zu einer Bilddegradation über ein oder mehrere „Geisterbilder“ 40 führen. Diese „Geisterbilder“ 40 sind interne Reflexionen 41, die von dem Bildgeber erfasst werden können. 6a-b veranschaulichen die internen Reflexionen 41, die in einer Verdeckungsplatte mit einer transflektiven Beschichtung 50 ohne die asymmetrischen Eigenschaften der asymmetrischen transflektiven Beschichtung 180 auftreten können. Insbesondere veranschaulicht 6a eine Verdeckungsplatte mit variabel reflektierendem und/oder durchlässigem Aufbau, und 6b veranschaulicht eine Verdeckung mit einem Aufbau mit fester Reflexion und/oder Durchlässigkeit. Diese Figuren veranschaulichen auftreffendes Licht 42, das auf der zweiten Seite 102 auf die Verdeckungsplatte trifft. Zusätzlich veranschaulichen diese Figuren die internen Reflexionen 41, die an jeder Oberfläche innerhalb der Verdeckungsplatte auftreten können. Somit können, durch Minimieren des Reflexionsgrads der Verdeckungsplatte 100 auf der zweiten Seite 102 bei gleichzeitigem Beibehalten eines relativ hohen Reflexionsgrads auf der ersten Seite 101, um die Spiegeleigenschaften beizubehalten, das Ausmaß von mindestens einer internen Reflexion minimiert und „Geisterbilder“ 40 dadurch reduziert oder eliminiert werden. Ein Beispiel für aus bisherigen Verdeckungsplatten resultierende „Geisterbilder“ 40 ist in 7a zu sehen. In diesem Beispiel sind diese „Geisterbilder“ 40 durch konzentrische helle Ringe dargestellt. Die Sichtbarkeit dieser „Geisterbilder“ 40 nimmt in kontrastreichen Umgebungen zu. 7b veranschaulicht die Eliminierung dieser „Geisterbilder“ 40 durch die Implementierung der Verdeckungsplatte 100.
  • In einem ersten Beispiel wurde eine Verdeckungsplatte 100 , die einen Aufbau mit fester Reflexion und/oder Durchlässigkeit aufweist, mit einer asymmetrischen transflektiven Beschichtung 180 ausgebildet, die den folgenden Aufbau aufweist: eine transflektive Schicht 181 bestand aus einer 15,8 nm dicken Silber-Gold-Legierungsschicht mit einer siebenprozentigen Goldzusammensetzung; erste und dielektrische Schichten 182a, 182b bestanden aus einem ITO mit Dicken von 29,64 bzw. 41,72 nm, wobei die erste dielektrische Schicht 182a direkt benachbart zu der transflektiven Schicht 181 angeordnet ist und die zweite dielektrische Schicht 182b in der zweiten Richtung in Bezug auf die erste dielektrische Schicht 182a dazwischen angeordnet ist; und eine absorptionsfähige Schicht 183 , die aus einer Chromschicht von 4,72 nm besteht, die zwischen den zwei dielektrischen Schichten 181 angeordnet ist. Die ITO-Schichten wurden kalt abgeschieden und weisen Brechungsindizes von etwa 2,02 auf. Bei einer Wellenlänge von 550 nm hatte die Silber-Gold-Legierung einen Realindex von 0,14 und einen k-Wert von 3,71, und das Chrom hatte einen Realindex von 2,96 und einen k-Wert von 4,28. Diese Verdeckungsplatte 100 ergab Reflexionsgrade und Transmissionsgrade gemäß dem Graphen in 8. 8 zeigt den relativ geringen Reflexionsgrad der zweiten Seite 102 über einen Wellenlängenbereich hinweg auf. Zusätzlich veranschaulicht 8 einen begrenzten, aber effektiven Transmissionsgrad durch die Verdeckungsplatte 100 und/oder die asymmetrische transflektive Beschichtung 180. Speziell beträgt der mittlere Transmissionsgrad im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums nur etwa 15 %. Testergebnisse zeigten jedoch, dass die Bilddaten effektiv erfasst und verarbeitet werden können, um die Person 30 in Bildern wiederzugeben, die von dem Bildgeber 200 erfasst wurden.
  • In einem zweiten Beispiel wurde eine Verdeckungsplatte 100 , die einen variabel reflektierenden und/oder durchlässigen Aufbau aufweist, mit einer asymmetrischen transflektiven Beschichtung 180 ausgebildet, die den gleichen Aufbau wie in dem ersten Beispiel aufweist und mit der dritten Oberfläche 123 verbunden ist. Für dieses Beispiel wurden die Transmissions- und Reflexionsgrade der Verdeckungsplatte 100 gemessen, wobei sich die in Tabelle 1 unten angegebenen Werte ergaben. Tabelle 1: Transmissionsgrad und Reflexionsgrad einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte
    Transmissionsgrad Erste Seite Zweite Seite
    EC-Zustand T% a*t b*t R% a*r b*r Abs. Folie % R% a*r b*r Abs. zweites Substrat %
    Nicht aktiviert 18,1 -0,1 -9,7 54,9 -2,6 10,8 27 5 2,6 -7,7 76,9
    Aktiviert 0,7 -1,4 -11,8 6,1 0 6 93,3 4,8 2,7 -7,8 94,5
  • Wie in Tabelle 1 gezeigt, fiel der Reflexionsgrad von der zweiten Seite 102 auf 5 %. Außerdem sind etwa 4 % des Reflexionsgrads von der zweiten Seite 102 auf das Reflexionsvermögen ausgehend von der vierten Fläche 124 zurückzuführen. Dementsprechend kann die Verdeckungsplatte 100 eine zusätzliche Beschichtung (z. B. eine Antireflexbeschichtung 190) auf der vierten Oberfläche 124 beinhalten, um den Reflexionsgrad auf der zweiten Seite 102 weiter zu verringern.
  • In einem dritten Beispiel veranschaulicht Tabelle 2 die gemessenen Transmissions- und Reflexionsgrade eines Beispiels einer Verdeckungsplatte 100 mit einer asymmetrischen transflektiven Beschichtung 180, die mit der dritten Oberfläche 123 verbunden ist. Tabelle 2: Transmissionsgrad und Reflexionsgrad einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte
    Reflexionsgrad der ersten Seite Transmissionsgrad Absorption Reflexionsgrad der zweiten Seite
    Y 59,5 18,1 22,4 7,1
    L* 81,5 49,7 32,1
    a* -2,4 -0,3 4,3
    b* 9,2 -12,6 -10,9
  • In diesem Beispiel war eine Antireflexbeschichtung 190 mit der vierten Oberfläche 124 verbunden. Die Antireflexbeschichtung 190 umfasste vier Schichten: eine erste Schicht, eine zweite Schicht, eine dritte Schicht und eine vierte Schicht. Jede dieser Schichten ist fortlaufend nummeriert, und zwar basierend auf der Nähe zu der vierten Oberfläche 124, wobei die erste Schicht der vierten Oberfläche 124 am nächsten liegt. Die erste Schicht war eine Schicht von 14,2 nm aus TiO2; die zweite Schicht war eine Schicht von 28,2 nm aus SiO2; die dritte Schicht war eine Schicht von 105 nm aus TiO2; und die vierte Schicht war eine Schicht von 85,3 nm aus SiO2. Es ergaben sich die in Tabelle 3 unten aufgeführten gemessenen Transmissions- und Reflexionsgrade. Tabelle 3: Transmissionsgrad und Reflexionsgrad einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte
    Reflexionsgrad der ersten Seite Transmissionsgrad Absorption Reflexionsgrad der zweiten Seite 3,5
    L* 81,5 50,5 22
    a* -2,4 -0,5 8,4
    b* 9,3 -12,7 -17,3
  • Wie in Tabelle 3 im Vergleich zu Tabelle 2 gezeigt, wird der Reflexionsgrad von der zweiten Seite 102 von 7,1 % auf 3,5 % reduziert, was eine Reflexionsgradreduzierung von ca. 4 % ergibt. Eine solche Reduzierung kann das Auftreten von „Geisterbildern“ wie hierin beschrieben weiter eingrenzen.
  • In einem vierten Beispiel wurde eine Verdeckungsplatte 100 mit einer mit der dritten Oberfläche 123 verbundenen asymmetrischen transflektiven Beschichtung 180 zwischen dem zweiten Substrat 120 und der zweiten Elektrode 140 konstruiert. In diesem Beispiel war die zweite Elektrode 140 eine 126,1 nm dicke Schicht aus ITO. Alternativ kann die transflektive Schicht 181 einen mehrschichtigen Stapel aus alternierenden Schichten mit relativ hohem und niedrigem Brechungsindex umfassen, deren Dicken und Brechungsindizes so abgestimmt sind, dass sie ein transflektives optisches Verhalten erzeugen. Speziell umfasste der mehrschichtige Stapel eine erste Schicht, eine zweite Schicht, eine dritte Schicht, eine vierte Schicht und eine fünfte Schicht. Jede dieser Schichten ist basierend auf der Nähe zu der zweiten Elektrode 140 fortlaufend nummeriert, wobei die erste Schicht der zweiten Elektrode 140 am nächsten liegt. Die erste, dritte und fünfte Schicht waren Schichten aus TiO2, die jeweils Dicken von 113,3, 89,2 bzw. 26,6 nm aufwiesen. Die zweite und vierte Schicht waren Schichten aus SiO2, die jeweils Dicken von 148,2 bzw. 26,6 nm aufwiesen. Ferner war eine erste dielektrische Schicht 182a , bestehend aus 126,4 nm dickem SiO2, am nächsten zu der transflektiven Schicht 181 angeordnet, und eine zweite dielektrische Schicht 182b, bestehend aus 38,2 nm dickem TiO2, war am nächsten zu der dritten Oberfläche 123 angeordnet. Zusätzlich war zwischen der ersten und der zweiten dielektrischen Schicht 182a, 182b eine absorptionsfähige Schicht 183 angeordnet, die eine 6,8 nm dicke Schicht aus Cr umfasste. Diese Verdeckungsplatte 100 ergab Reflexionsgrade und Transmissionsgrade gemäß nachfolgender Tabelle 4. Tabelle 4: Transmissionsgrad und Reflexionsgrad einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte
    Reflexionsgrad der ersten Seite Transmissionsgrad Absorption Reflexionsgrad der zweiten Seite
    Y 60,6 18,7 20,7 6,3
    L* 82,1 50,4 30,2
    a* -2,8 -5,7 6,6
    b* 4,1 -5,6 -24,7
    Wie in Tabelle 4 gezeigt, ist der Reflexionsgrad auf der zweiten Seite 102 ca. 54 % geringer als der Reflexionsgrad auf der ersten Seite 101.
  • In einem fünften Beispiel zeigt Tabelle 5 die gemessenen Transmissions- und Reflexionsgrade eines Beispiels einer elektrochromen Platte. Bei dieser Platte ist das zweite Substrat 120 im Wesentlichen Klarglas und die transflektive Schicht 181 eine Schicht auf Silberbasis. Tabelle 5: Transmissionsgrad und Reflexionsgrad einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte mit einem im Wesentlichen klaren zweiten Substrat
    Reflexionsgrad der ersten Seite Transmissionsgrad Absorption Reflexionsgrad der zweiten Seite
    Y 65,5 23,2 11,3 61,8
    L* 84,7 55,3 82,8
    a* -3 -1,2 -1,6
    b* 2,4 1,4 -2,1
  • Anschließend wurde dieses Beispiel so modifiziert, dass das zweite Substrat 120 so getönt wurde, dass es einen eigenständigen Transmissionsgrad von ca. 45 % aufwies. Diese Modifizierung führte zu den in Tabelle 6 unten aufgeführten gemessenen Transmissions- und Reflexionsgraden. Tabelle 6: Transmissionsgrad und Reflexionsgrad einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte mit einem getönten zweiten Substrat
    Reflexionsgrad der ersten Seite Transmissionsgrad Absorption Reflexionsgrad der zweiten Seite
    Y 65,3 11,3 23,4 18,3
    L* 84,6 40,1 49,8
    a* -3 -1,5 -1,9
    b* 2,4 2 0,5
  • Wie in Tabelle 6 im Vergleich zu Tabelle 5 gezeigt, wird der Reflexionsgrad von der zweiten Seite 102 von 61,8 % auf 18,3 % reduziert, was eine Reflexionsgradreduzierung von ca. 44 % ergibt. Auch wenn der Reflexionsgrad auf der zweiten Seite 102 weiterhin fast 20 % beträgt, was deutlich höher als die 6-8 % ist, die durch andere Beispiele erreicht wurden, wird dennoch eine deutliche Reduzierung des Reflexionsgrads erzielt. Daher kann die Verwendung einer Konstruktion, in der das zweite Substrat 120 getönt ist, das Auftreten von „Geisterbildern“ wie hierin beschrieben weiter oder alternativ einschränken.
  • In einigen Implementierungen kann ein Bildgeber 200 wünschenswert sein, der ein breites Sichtfeld aufweist. Beispielsweise kann das Sichtfeld ungefähr 70 Grad betragen. In solchen Implementierungen kann das Potenzial für die internen Reflexionen oder „Geisterbilder“ erhöht sein. Für solche Implementierungen kann die Verdeckungsplatte 100 so ausgelegt sein, dass sie einen geringen Reflexionsgrad aufweist, wenn sie in einem Winkel in Bezug auf einen Oberflächennormalenvektor oder einen normalen Einfallswinkel von der zweiten Seite 102 aus betrachtet wird. Tabelle 7 zeigt den gemessenen Reflexionsgrad eines Beispiels für die asymmetrische transflektive Beschichtung 100 auf der dritten Oberfläche 123 im Vergleich zu einem ebenflächigen Glas-Substrat ohne Beschichtung. Tabelle 7: Winkelverhalten eines Beispiels für eine asymmetrische transflektive Beschichtung
    Winkel Y - mit Beschichtung Y - ohne Beschichtung Differenz
    0 6,5 4,2 2,3
    15 6,4 4,3 2,1
    30 6,4 4,4 2,0
    45 7,1 5,3 1,8
    60 11 9,2 1,8
    Diese Ergebnisse zeigen eine Reflexionsreduzierung von der asymmetrischen transflektiven Beschichtung 180 mit zunehmendem Einfallswinkel. Dies zeigt sich dadurch, dass die Differenz zwischen dem unbeschichteten Substrat und dem beschichteten Substrat mit zunehmendem Winkel abnimmt. Zusätzlich kann ein Aufbringen einer Antireflexbeschichtung auf die vierte Oberfläche 124 den Reflexionsgrad über den Bereich von Winkeln hinweg weiter begrenzen, indem der Reflexionsgrad verringert wird, der anfänglich durch das Substrat eingebracht wird.
  • In einigen Anwendungen kann es erforderlich sein, über einen Bildgeber auf Basis von Wellenlängen sowohl im sichtbaren als auch im nahen Infrarot oder im nahen Infrarot zu verfügen. Die asymmetrische transflektive Beschichtung 180 kann so konstruiert sein, dass sie ein solches System ermöglicht. Dementsprechend weist eine asymmetrische transflektive Beschichtung 180, die mit der dritten Oberfläche 123 verbunden ist, gemäß einem fünften Beispiel 15 Schichten auf. Die 15 Schichten sind basierend auf der Nähe zu der dritten Oberfläche 123 fortlaufend von 1 bis 15 nummeriert, wobei die erste Schicht am weitesten von der dritten Oberfläche 123 entfernt ist. Die erste Schicht, eine transflektive Schicht 181, wurde mit einer 145 nm dicken transflektiven Schicht 181 aus ITO 5/4 Kr aufgebaut. Ferner wurden die zweite, vierte, sechste, achte, zehnte, zwölfte und vierzehnte Schicht, die dielektrischen Schichten 182, aus Schichten aus SiO2 mit Dicken von 170,88, 182,46, 187,53, 166,27, 142,98, 94,27 bzw. 21,30 nm aufgebaut. Zusätzlich wurden die dritte, fünfte, siebte, neunte, elfte, dreizehnte und fünfzehnte Schicht, absorptionsfähige Schichten 183, aus Schichten aus Nb2O5 mit Dicken von 111,50, 129,37, 114,30, 200,38, 35,17, 4,22 bzw. 19,25 aufgebaut. Dies führte zu den in 9 und unten in Tabelle 8 gezeigten gemessenen Transmissions- und Reflexionsgraden. Tabelle 8: Transmissionsgrad und Reflexionsgrad einer Ausführungsform einer Verdeckungsplatte sowohl bei sichtbaren als auch Nahinfrarot-Wellenlängen
    Reflexionsgrad Absorption Transmissionsgrad
    Y 48,5 21,62 29,88
    L* 75,14 61,55
    a* 3,75 -7,85
    b* 6,64 -6
  • Der Transmissionsgrad und der asymmetrische Reflexionsgrad von der ersten Seite 101 und der zweiten Seite 102 der Verdeckungsplatte 100 im sichtbaren und nahinfraroten Bereich von Licht können für die Verwendung mit Bildgebungssystemen vorteilhaft sein, die zur Fahrerüberwachung und/oder biometrischen Authentifizierung implementiert sind. Zum Beispiel kann der Bildgeber 200 als eine Datenerfassungsvorrichtung eines Systems zur biometrischen Abtastung oder Authentifizierung implementiert sein. In solchen Fällen können die Bilddaten biometrische Daten im nahen Infrarotbereich beinhalten und Merkmale beinhalten, die erforderlich sind, um die Person 30 zu identifizieren.
  • Wie hierin verwendet, bedeutet der Ausdruck „und/oder“, wenn er in einer Liste von zwei oder mehr Elementen benutzt wird, dass jedes einzelne der aufgelisteten Elemente allein angewandt werden kann oder jedwede Kombination der zwei oder mehr der aufgelisteten Elemente angewandt werden kann. Beispielsweise kann, wenn eine Zusammensetzung als Komponente A, B und/oder C enthaltend beschrieben ist, die Zusammensetzung nur A; nur B; nur C; A und B zusammen; A und C zusammen; A und C zusammen; B und C zusammen; oder A, B und C zusammen enthalten.
  • In diesem Dokument werden, sofern nicht anders angegeben, Bezugsbegriffe, wie „erste“, „zweite“, „dritte“ u. Ä. nur zur Unterscheidung einer Entität oder Aktion von einer anderen Entität oder Aktion verwendet, ohne dass eine tatsächliche derartige Beziehung oder Reihenfolge zwischen diesen Entitäten oder Aktionen zwingend erforderlich oder impliziert ist.
  • Der Begriff „transflektiv“ bezieht sich allgemein auf eine optische Konfiguration, die zumindest einen Teil des von zumindest einer Seite einfallenden Lichts reflektiert und zumindest einen Teil des von zumindest einer Seite einfallenden Lichts durchlässt. Insbesondere wird mit „transflektiv“ ein optisches Element bzw. Bauelement beschrieben, das einen Transmissionsgrad ungleich null bezüglich eines Lichtwellenbereichs und außerdem einen Reflexionsgrad ungleich null in einem Bereich aufweist. Der jeweilige Lichtwellenbereich wird je nach Kontext variieren. Allerdings, für den Fall, dass der betreffende Lichtwellenbereich nicht ohne Weiteres erkennbar ist, bezieht sich der Lichtwellenbereich im Allgemeinen auf sichtbares Licht.
  • Der Begriff „transparent“ wird relativ betrachtet angewandt. Unter „transparent“ wird ein optisches Element oder Material verstanden, das bei den betreffenden Wellenlängen im Wesentlichen durchlässig ist und somit Licht mit solchen Wellenlängen im Allgemeinen durchlässt. Die betreffenden Wellenlängen werden je nach Kontext variieren. Allerdings sollen sich die betreffenden Wellenlängen, für den Fall, dass die betreffenden Wellenlängen nicht ohne Weiteres erkennbar sind, im Allgemeinen auf sichtbares Licht beziehen.
  • Der Begriff „im Wesentlichen“ und Variationen davon werden von Fachleuten als Beschreibung eines Merkmals verstanden, das gleich oder annähernd gleich einem Wert oder einer Beschreibung ist. Beispielsweise soll eine „im Wesentlichen ebene“ Fläche eine Fläche bezeichnen, die eben oder annähernd eben ist. Außerdem soll „im Wesentlichen“ bedeuten, dass zwei Werte gleich oder annähernd gleich sind. Bei Verwendungen des Begriffs, die für Fachleute nicht klar sind, kann „im Wesentlichen“ je nach Kontext, in dem es verwendet wird, Werte innerhalb von etwa 10 % voneinander, wie etwa innerhalb von 5 % voneinander oder innerhalb von etwa 2 % voneinander, bezeichnen.
  • Wie hierin verwendet, wird „etwa“ von Durchschnittsfachleuten verstanden und wird je nach dem Kontext, in dem es verwendet wird, in gewissem Umfang variieren. Bei Verwendungen des Begriffs, die für Fachleute nicht klar sind, bedeutet „etwa“ je nach Kontext, in dem es verwendet wird, bis zu plus oder minus 10 % des jeweiligen Begriffs.
  • Die Begriffe „umfasst“, „umfassend“ oder jegliche anderen Variationen hiervon decken insoweit eine nicht ausschließliche Einbeziehung ab, als dass ein Prozess, ein Verfahren, ein Gegenstand oder ein Gerät, der/das eine Liste von Elementen umfasst, nicht nur diese Elemente beinhaltet, sondern andere Elemente beinhalten kann, die nicht ausdrücklich aufgelistet oder einem solchen Prozess, Verfahren, Gegenstand oder Gerät inhärent sind. Ein Element, mit einem vorstehenden „umfasst ... ein(-e/-en)“, schließt nicht, ohne weitere Einschränkungen, die Existenz von zusätzlichen identischen Elementen in dem Prozess, Verfahren, Gegenstand oder Gerät aus, der/das das Element umfasst.
  • Zum Zweck dieser Offenbarung bedeutet der Begriff „verbunden“ generell das direkte oder indirekte Verbinden von zwei Komponenten (elektrisch oder mechanisch) miteinander. Ein solches Verbinden kann in der Art stationär oder beweglich sein. Ein solches Verbinden kann mit den zwei Komponenten (elektrisch oder mechanisch) und jeglichen zusätzlichen Zwischenelementen erreicht werden, die einstückig als ein einzelner einheitlicher Körper miteinander oder mit den zwei Komponenten ausgebildet sind. Ein solches Verbinden kann in der Art dauerhaft oder entfernbar oder lösbar sein, sofern nicht anders angegeben.
  • Es versteht sich, dass, obwohl mehrere Ausführungsformen in der vorliegenden Offenbarung beschrieben werden, zahlreiche Variationen, Änderungen, Transformationen und Modifikationen für eine Fachperson nachvollziehbar sind und die vorliegende Offenbarung diese Variationen, Änderungen, Transformationen und Modifikationen im Rahmen des Umfangs der beigefügten Ansprüche umfassen soll, sofern ihre Formulierung nicht ausdrücklich etwas anderes angibt.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
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Claims (20)

  1. Rückblickanordnung, umfassend: eine transflektive Verdeckungsplatte, die eine erste Seite, die in eine erste Richtung gerichtet ist, und eine zweite Seite aufweist, die in eine zweite Richtung gerichtet ist, die entgegengesetzt zu der ersten Richtung ist, wobei ein Reflexionsvermögen auf der ersten Seite größer ist als auf der zweiten Seite, wobei die Verdeckungsplatte eine asymmetrische transflektive Beschichtung umfasst, wobei die asymmetrische transflektive Beschichtung Folgendes aufweist: eine transflektive Schicht; eine Vielzahl von dielektrischen Schichten, die in der zweiten Richtung in Bezug auf die transflektive Schicht angeordnet sind; und eine oder mehrere absorptionsfähige Schichten, die mit der Vielzahl von dielektrischen Schichten verschränkt bzw. verschachtelt sind; und einen Bildgeber, der in der zweiten Richtung in Bezug auf die Verdeckungsplatte angeordnet ist und betriebsfähig ist, durch die Verdeckungsplatte hindurch übertragenes Licht zu erfassen und ein Bild zu erzeugen.
  2. Rückblickanordnung nach Anspruch 1, wobei der Reflexionsgrad auf der ersten Seite größer als oder gleich dem Fünffachen des Reflexionsgrads auf der zweiten Seite ist.
  3. Rückblickanordnung nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Reflexionsgrad auf der zweiten Seite geringer als oder gleich 10 % ist.
  4. Rückblickanordnung nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die transflektive Schicht einen Brechungsindex von weniger als oder gleich 2,0 aufweist.
  5. Rückblickanordnung nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die transflektive Schicht einen imaginären Teil eines Brechungsindex aufweist, der größer als ein realer Teil des Brechungsindex ist.
  6. Rückblickanordnung nach Anspruch 5, wobei der imaginäre Teil um mehr als das Fünffache größer als der reale Teil ist.
  7. Rückblickanordnung nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die transflektive Schicht einen mehrschichtigen Stapel aus alternierenden Schichten mit hohem und niedrigem Brechungsindex umfasst.
  8. Rückblickanordnung nach Anspruch 7, wobei die alternierenden Schichten mit hohem und niedrigem Brechungsindex aus dielektrischen Materialien bestehen.
  9. Rückblickanordnung nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die dielektrischen Schichten einen Brechungsindex zwischen etwa 1,37 und etwa 4,00 aufweisen.
  10. Rückblickanordnung nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei Brechungsindizes der absorptionsfähigen Schichten einen Brechungsindex zwischen etwa 1,0 und etwa 6,0 aufweisen.
  11. Rückblickanordnung nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei ein imaginärer Teil des Brechungsindex weniger als oder gleich etwa dem Dreifachen eines realen Teils des Brechungsindex ist.
  12. Rückblickanordnung nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei eine absorptionsfähige Schicht der einen oder der mehreren absorptionsfähigen Schichten einen direkten Kontakt mit der transflektiven Schicht herstellt.
  13. Rückblickanordnung nach einem der vorherigen Ansprüche, ferner umfassend ein variabel durchlässiges elektrooptisches Element, das betriebsfähig ist, den Reflexionsgrad der Verdeckungsplatte auf der ersten Seite im Wesentlichen zu variieren, wobei das elektrooptische Element Folgendes aufweist: ein erstes Substrat mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche, wobei die erste Oberfläche in der ersten Richtung in Bezug auf die zweite Oberfläche angeordnet ist; ein zweites Substrat, das in einem Abstand in Bezug auf das erste Substrat angeordnet ist, wobei das zweite Substrat eine dritte Oberfläche und eine vierte Oberfläche aufweist, wobei die vierte Oberfläche in der zweiten Richtung in Bezug auf die dritte Oberfläche angeordnet ist; eine erste Elektrode, die mit dem ersten Substrat verbunden ist; eine zweite Elektrode, die mit dem zweiten Substrat verbunden ist; ein elektrooptisches Medium, das, zumindest teilweise basierend auf einem elektrischen Potential, zwischen einem im Wesentlichen aktivierten und nicht aktivierten Zustand betrieben werden kann und zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat und in der ersten Richtung in Bezug auf die asymmetrische transflektive Beschichtung angeordnet ist.
  14. Rückblickanordnung nach Anspruch 13, wobei die asymmetrische transflektive Beschichtung mit der dritten Oberfläche verbunden ist.
  15. Rückblickanordnung nach Anspruch 13 oder 14, wobei die asymmetrische transflektive Beschichtung mit der vierten Oberfläche verbunden ist.
  16. Rückblickanordnung nach einem der vorherigen Ansprüche, die ferner eine Antireflexbeschichtung umfasst, die in der zweiten Richtung in Bezug auf die asymmetrische transflektive Beschichtung angeordnet ist.
  17. Element, umfassend: ein Substrat, das eine erste Seite und eine zweite Seite aufweist; eine asymmetrische transflektive Beschichtung, die mit dem Substrat verbunden ist, wobei die asymmetrische transflektive Beschichtung Folgendes aufweist: eine transflektive Schicht; eine Vielzahl von dielektrischen Schichten; und eine oder mehrere absorptionsfähige Schichten, die mit der Vielzahl von dielektrischen Schichten verschränkt bzw. verschachtelt sind; wobei das Element eine erste Seite und eine zweite Seite aufweist, wobei der Reflexionsgrad der ersten Seite im Wesentlichen größer als der Reflexionsgrad der zweiten Seite ist.
  18. Element nach Anspruch 17, wobei der Reflexionsgrad der ersten Seite größer als oder gleich dem Fünffachen des Reflexionsgrads der zweiten Seite ist.
  19. Element nach Anspruch 17 oder 18, wobei eine absorptionsfähige Schicht einen direkten Kontakt mit der transflektiven Schicht herstellt.
  20. Element nach einem der vorherigen Ansprüche 17 bis 19, wobei der Reflexionsgrad auf der zweiten Seite geringer als oder gleich 10 % ist.
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