DE2115636A1 - Anordnung zur Kompensation von Stör kapazitäten an Halbleiterventilen - Google Patents
Anordnung zur Kompensation von Stör kapazitäten an HalbleiterventilenInfo
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Description
Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie., Baden (Schweiz)
Anordnung zur Kompensation von Störkapazitäten an Halbleiter»
ventilen
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung zur Kompensation von Störkapazitäten an Halbleiterventilen, die
aus mehreren Halbleiterelementen bestehen, von denen jeweils einige hintereinanderliegende zu einer Baugruppe zusammengefasst
sind und die Baugruppen etagenweise übereinander liegen, λ
wobei in jeder Etage mindestens zwei Baugruppen angeordnet und alle Baugruppen wendelartig zusammengeschaltet sind, so dass
alle Halbleiterelemente eine einzige Reihenschaltung bilden.
Halbleiterventile, insbesondere Thyristorventile, für die Hochspannungs-
Gleichstrom- Uebertragung bestehen zur Zeit aus einer grossen Anzahl in Reihe geschalteter Halbleiterelemente.
Um bei gesperrtem Ventil eine möglichst gleichmässige Vertei-
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lung der anliegenden Hochspannung (Stossspannung) auf alle Halbleiterelemente zu erwirken und dabei den störenden Einfluss
der Bauteilkapazitäten gegen Erde zu kompensieren, hat man beim Bekannten eine aus konzentrierten Kondensatoren aufgebaute
Kömpensationsbeschaltung vorgesehen.
Eine derartige Beschaltung wird z.B. in der schweizer Patentschrift
Nr. 469 396 beschrieben.
Die Beschaltung mit sogenannten konzentrierten Kondensatoren weist jedoch erhebliche Nachteile auf, da nämlich einerseits
Wickelkondensatoren eine zu tiefe Resonanzfrequenz aufweisen (über deren Resonanzfrequenz sind sie praktisch wirkungslos)
und andererseits Keramikkondensatoren ein sehr grosses Bauvolumen beanspruchen. Kondensatoren mit Bariumtitanat als
Dielektrikum zeigen hingegen stark temperatur- und spannungsabhängige Kapazitätswerte.
Gelangt nun an ein gesperrtes Halbleiterventil ein steiler Spannungsstoss, dann ist aus obigen Gründen eine symmetrische
Spannungsaufteilung auf die einzelnen Halbleiterelemente nicht möglich oder zumindest nur mit sehr grossem Aufwand realisierbar.
Aufgabe der Erfindung ist es, die aufgezeigten Nachteile des
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Bekannten zu vermeiden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss dadurch gelöst, dass an jeder
zweiten Verbindungsstelle zwischen den Baugruppen ein metallischer Schirm elektrisch leitend angeschlossen ist, der die
beiden durch diese Verbindungsstelle zusammengeschalteten Baugruppen nach der Aussenseite des Halbleiterventils ausgerichtet
umschliesst, wobei die einzelnen metallischen Schirme elektrisch gegeneinander isoliert sind und dass weiterhin zumindest ein
Kathoden- und ein Anodenpotertial aufweisendes Schirmblech vorgesehen
ist, welche Schirmbleche den vorgenannten metallischen Schirmen an der Aussenseite des Halbleiterventils gegenüberliegen,
wobei der Abstand von diesen Schirmblechen zu den metallischen Schirmen mit zunehmender Potentialdifferenz grosser
wird und diese Schirmbleche gegeneinander elektrisch isoliert sind. *
Der Vorteil der Erfindung ist vor allem darin zu sehen, dass das Halbleiterventil wesentlich betriebssicherer ist, da die
zuvor aufgezeigten Nachteile der konzentrierten Kondensatoren sowie deren allgemeine Störanfälligkeit ausgeschaltet sind.
Da keine obere Grenzfrequenz zu beachten ist, kann auf eine Vordrossel verzichtet werden, welche bei einer zum Stande der
Technik zu zählendeAnordnung zur Begrenzung der Spannungsan-
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Stiegsgeschwindigkeit (rr) vorzusehen ist (um die Grenzfrequenz
der Wickelkondensatoren nicht zu überschreiten).
In der Zeichnung ist ein Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes
veranschaulicht.
Es zeigt:
W Fig. 1 eine vereinfachte, perspektivische Darstellung eines
Halbleiterve ntils,
Fig.2a einen Querschnitt in der Ebene EU* nach Fig. 1,
Fig.2b einen weiteren9 möglichen Querschnitt in der Ebene BC
nach Fig. 1,
Fig. 3 ein elektrisches Ersatzschaltbild eines gesperrten Halbleiterventils.
In Fig. 1 ist mit 1,1· ein kathodenseitiges Schirmblech, mit
™ 2,2' ein anodenseitiges Schirmblech und mit A bzw. K ein Anodenbzw.
Kathodenanschluss bezeichnet.
Mit den Bezugsziffern 3,^,5,6 und 7 sind metallische Schirme
gekennzeichnet. Durch die Buchstaben B und C ist eine Schnittebene markiert, die in Fig. 2a und 2b in Pfeilrichtung betrachtet
dargestellt ist.
. Gleiche Teile sind in allen Figuren mit denselben Bezugszeichen
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versehen.
In Fig. 2a bedeutet 41 einen metallischen Schirm, der in der
gleichen Etage wie der mit 4 bezeichnete angeordnet ist.
Mit den Bezugszahlen 8 sind in den Figuren 2a, 2b und 3 Baugruppen
gekennzeichnet, die z,B. jeweils aus der Reihenschaltung von zehn Halbleiterelementen bestehen. "
Durch k ist ein Anschluss zur nächsthöheren Etage und durch a ein Anschluss zur nächstniederen Etage angedeutet, während S
Anschlusstellen für die metallischen Schirme 3,3', 4, i|' usw.
kennzeichnen. D1,, und Dp11 stellen die Distanzen zwischen dem
metallischen Schirm *J und den Schirmblechen 1 bzw. 2 dar.
Darüberhinaus sind in Fig. 3 noch die resultierenden Sperr- · '■
schichtkapazitäten jeweils einer Baugruppe 8 mit C kenntlich
gemacht, i_, bis ip„ sowie i bis i„, stehen als Bezeichnungen
für Ströme und UAK sowie U1^ sind Spannungen. Mit C^1 bzw. C3^
sind die zwischen dem metallischen Schirm 4 und den Schirmblechen 1 bzw. 2 wirksamen Kapazitäten veranschaulicht.
Dem Ersatzschaltbild nach Fig. 3 liegt eine Anordnung mit fünf Etagen (entspr. Fig. 1) zu Grunde, wobei in jeder Etage zwei
Baugruppen 8 nach der in Fig. 2b angedeuteten Art angeordnet
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Jede Baugruppe ist eine kompakte Einheit» bestehend aus z.B.
zehn' Halbleiterelementen (Thyristoren) zusammen mit deren Kühlelementen (eventuell eingerichtet für Oelkühlung).
Im stromsperrenden Zustand trit.t lediglich die Sperrschichtkapazität
jedes einzelnen Halbleiterelementes in Erscheinung, wobei zur Vereinfachung die resultierende Kapazität C entspre·*' -·
chend der Reihenschaltung aller Halbleiterelemente einer Baugruppe betrachtet wird.
Selbstverständlich ist bei der Betrachtung der Fig. 3 zu beachten,
dass hier die dreidimensionale Anordnung (Fig. 1) nur
zweidimensional dargestellt sein kann. Jedoch wird hier das allgemeine Prinzip der Kompensation und auch der Grundgedanke
der Erfindung erkennbar.
Es sei nun angenommen, am gesperrten Halbleiterventil liege eine Gleichspannung von 200 kV. Im statischen Zustand (Gleichspannung)
ist diese Hochspannung gleichmässig auf alle Halbleiterelemente verteilt, wobei jedes Halbleiterelement unterhalb seiner kritischen
Durchbruchspannung belastet ist.
Gänzlich anders liegen jedoch die Verhältnisse, wenn jetzt eine Stosspannung von z.B. ebenfalls 200 kV zusätzlich an das Halbleiterventil
gelangt (möglich ist sogar eine Stosspannung von
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2 χ Nennspannung).
Bei dieser dynamischen Beanspruchung, bei der sich ja die Spannung mit einer bestimmten Geschwindigkeit ändert (rr)»
QI
fliesst jetzt ein Strom von der Anode A über die Reihenschaltung
aller Sperrschichtkapazitäten C zur Kathode K. Es fliessen aber auch kapazitive Verschiebungsströme i9, bis i71 von der
Anode A über das Schirmblech 2, die einzelnen metallischen Schirme 3 bis 7 und das Schirmblech 1 zur Kathode K.
Infolge der in den Figuren ersichtlichen, erfindungsgemässen
Ausgestaltung der metallischen Schirme und der Schirmbleche wird nun erreicht, dass der Strom ip„ (sprich zwei nach sieben)
gleich ist dem Strom i71· Ebenso besteht Gleichheit der Ströme
i26 ' 1Ol' 1ZS ' 1Sl' ^ ' Hl Sind *23 ' i3l·
Wie zu erkennen ist, beeinflussen daher diese kapazitiven Verschiebungsströme
den über die Sperrschichtkapazitäten C fliessenden
Strom in keiner Weise. Demnach hat dieser Strom bei jeder Kapazität C die gleiche Grosse, so dass sich daher auch die
Stosspannung völlig gleichmässig auf alle Baugruppen 8 bzw. Halbleiterelemente aufteilt. Nachdem jedes Halbleiterventil für
einen Ableiterschutzpegel von z.B. + 2,Ί χ UNenn dimensi°ni-ert
wird (Empfehlung siehe Brown Boveri Mitteilungen, Bd. 55), besteht keine Gefahr einer Beschädigung.
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Es mag jedoch fraglich erscheinen, weshalb eigentlich diese Schirmbleche 1 und 2 so nahe angeordnet werden, dass sie überhaupt
diese kapazitiven Verschiebungsströme verursachen. Dazu ist zu bemerken, dass es in der Praxis wohl kaum erreichbar ist,
parasitäre Verschiebungsströme zu vermeiden, da stets Störkapazitäten zwischen den einzelnen Baugruppen und der Erde
oder einer Gehäusewand oder einem benachbarten Maschinensatz usw. bestehen. Das hiesse, dass die Grosse z.B. der Ströme
ip,, ipji» i?^9 ^26 unc* ^27 willkürlich von den Umgebungsbedingungen
abhinge. Es liesse sich dann aber nicht vermeiden, dass die nicht kompensierten Stromanteile über die Sperrschichtkapazitäten
C abfliessen und damit unterschiedliche Spannungsabfälle an den einzelnen Halbleiterelementen verursachen. Das
bedeutet, dass sich die Stosspannung von z.B. 200 kV völlig ungleichmässig aufteilt, weshalb die Halbleiterelemente einer
oder sogar mehrerer Baugruppen S mehr.als die zulässige Sperrspannung
erhalten und beschädigt werden.
Mit der vorgeschlagenen.Anordnung hingegen kann der Einfluss
■ parasitärer Störkapazitäten abgeschirmt werden und die Grosse der
kapazitiven Verschiebungsströme ist sehr gut bestimmbar.
Man erkennt in Fig. 3, dass die metallischen Schirme 7,6,5,*! und
3 zunehmend auf höherem Potential gegenüber der Anode A und damit dem Schirmblech 2 liegen. Analog liegen die Verhältnisse
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im Hinblick auf die Kathode.
Am Beispiel der Etage mit dem metallischen Schirm 4 sei noch
die Bestimmung der Abstände zwischen diesem Schirm und den Schirmblechen 1 bzw. 2 erläutert.
Der metallische Schirm 4 bildet zusammen mit den Schirmblechen 1 bzw. 2 die Kapazitäten C1.- bzw. C-j., wobei diese in erster
Näherung den Abständen D^1 bzw. D^ umgekehrt proportional sind
(unter der Voraussetzung, dass\ sich gegenüberliegenden Flächenteile
von metallischem Schirm und Schirmblech von Etage zu Etage gleich gross bleiben).
Es gilt daher:
Die kapazitiven Verschiebungsströme lassen sich wie folgt be
rechnen:
at D111
24 * dt C24 = dt
DZ
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-Es soll I4 gleich sein I1n , woraus folgt:
dt D^1 dt
umgestellt heisst es dann:
?UHK„. . D . d (ÜAig-Up*) n
dt ^ ' dt -0Mi
Weil aber die Spannungsverteilung bei der dynamischen Beanspruchung
genauso wie im statischen Zustand (ohne Ö ) erf -Igen
soll, genügt die vereinfachte Form:
Bei Einhaltung dieser Bedingung ist gewährleistet, dass die
kapazitiven Verschiebungsströme kompensiert sind.
In Abwandlung des in Fig. 1 gezeigten Halbleiterventils, könnten die Schirmbleche z.B. mit Trapez- oder dreieckförmigen
Flächen ausgeführt werden.
Exakt erweise muss dann berücksichtigt werden, dass die Kapazi-·
tat (z,B. c2i{ ) zwischen metallischem Sehirm und Schirmblech
auch von der Grosse der sich gegenüberliegenden Flächenteile
abhängt. Es ist dann* genauso wie bei anderen komplizierteren
Formen, notwendig, die zwischen metallischem Schirm und den Schirmblechen wirksame Kapazität genau zu berechnen oder zu
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-messen. Das Prinzip der Kompensation bleibt jedoch davon unberührt.
Die Fig. 2a zeigt eine gegenüber der Pig. 2b häufiger anzutreffende
Anordnung von Baugruppen. Wie zu erkennen ist, befinden sich vier Baugruppen 8 in jeder Etage, so dass man
mit einer geringeren Gesamthöhe auskommt. Der im Inneren ersichtliche
Raum kann z.B. den Impulstransformator für die Steuerung der einzelnen Halbleiterelemente enthalten. Der verdoppelten
Anzahl Baugruppen entsprechend, sind auch pro Etage zwei metallische Schirme H und H1 erforderlich. Zu beachten
ist jetzt, dass im Gegensatz zu Fig. 2b dem metallischen Schirm h nur jeweils ein Teil der Schirmbleche, nämlich 1 und
2 gegenübersteht, während deren zweite Teile 1' und 21 dem
metallischen Schirm 4' zugeordnet sind.
Obwohl in den Figuren von einer rechteckigen Konfiguration ausgegangen
wird, ist es nicht auszuschliessen, dass auch zumindest teilweise abgerundete metallische Schirme und Schirmbleche ausgeführt
werden.
Gemäss einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist zumindest
eines der Schirmbleche 1,2 Bestandteil eines das Halbleiterventil umgebenden Behälters, wie etwa eines Oelkessels
für ölisolierte und gekühlte Ventile.
Claims (3)
- . - 12 - .34/7I DPatentansprüche-I.) Anordnung zur Kompensation von Störkapazitäten an Halbleiterventilen, die aus mehreren Halbleiterelementen bestehen, von denen jeweils einige hintereinanderliegende zu einer Baugruppe zusammengefasst sind und die Baugruppen · etagenweise übereinander liegen, wobei in jeder Etage mindestens zwei Baugruppen angeordnet und alle Baugruppen wendelartig zusammengeschaltet sind, so dass alle Halbleiterelemente eine einzige Reihenschaltung bilden, dadurch gekennzeichnet, dass an jeder zweiten Verbindungsstelle (S) zwischen den Baugruppen (8) ein metallischer Schirm (3,3', 4,2I1, 5,5'...) elektrisch leitend angeschlossen ist, der die beiden durch diese Verbindungsstelle zusammengeschalteten Baugruppen nach der Aussenseite des Halbleiterventils ausgerichtet umschliesst, wobei die einzelnen metallischen Schirme elektrisch gegeneinander isoliert sind und dass weiterhin zumindest ein Kathoden- und ein Anodenpotential aufweisendes SchJrmblech (1,1', 2,2') vorgesehen ist,welche Schirmbleche den vorgenannten metallischen Schirmen (3,3',2J,^',....) an der Aussenseite des Halbleiterventils gegenüberliegen, wobei der Abstand von diesen Schirmblechen zu den metallischen Schirmen mit zunehmender Potentialdifferenz p-rösser wird und diese Schirmbleche (1,2) gegeneinander elektrisch isoliert sind.BAD ORIGINAL2 0 9839/0588- 13. - -34/71 D
- 2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Abstände von einem metallischen Schirm (3,3'4,4·...) einerseits zu dem Kathodenpotential aufweisenden Schirmblech (1) und andererseits zu dem mit der Anode verbundenen Schirmblech (2) derart bemessen sind, dass der zwischen einem Sohirmblech und dem metallischen Schirm fliessende kapazitive Verschiebungsstrom (ip?» i?h...) gleich ist dem Strom (i-»-,» d ij., ...)» der zwischen diesem metallischen Schirm und dem anderen Schirmblech fliesst.
- 3. Anordnung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eines der Schirmbleche (1,1'2,2·) Bestandteil eines das Halbleiterventil umgebenden Behälters ist.Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie.209839/0586JN .Leerseife
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