DE2029210A1 - Flächentransistor - Google Patents
FlächentransistorInfo
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-
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Description
L i c e n ti a
Patent-Verwaltungs-G.m.b.H. 6 Frankfurt (M), Theodor-Stern-Kai 1
F. 70/36 Dr. Lt/bia
Flächentransistor . I
Die Erfindung bezieht sich auf einen Flächentransistor mit auf der gleichen Seite des Halbleiterkörpers liegenden
Basis- und Emitterkontakten.
Insbesondere bei Leistungsschalttransistoren kann im
durchgeschalteten Zustand ein ungewollter Spannungsstoß zur thermischen Zerstörung des Bauelementes führen. Diese
Verhältnisse sind in Figur 1 anhand einer Ausgangskennlinie dargestellt. Bei einer Spannungserhöhung von
AIL,™ bewegt sich der Arbeitspunkt A auf den negativen
Ast der Kennlinie zu A1; wobei infolge des "Zweiten
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Durchbruchs" mit abnehmender Spannung der Strom schließlich sehr stark ansteigt und zur Zerstörung des Transistors führt. ' .
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß die durch den "Zweiten Durchbruch" bedingte thermische In- '
Stabilität von einer ungleichmäßigen Stromverteilung am Rande des Emitters bzw. der Emittersperrschicht herrührt.
Somit liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, Maßnahmen zur Vermeidung der thermischen Instabilität anzugeben.
Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß der Emitter mesaförmig ausgebildet und auf seiner gesamten
Stromführungsfläche kontaktiert ist und die Stromabnahmeelektrode die gesamte kontaktierte Fläche bedeckt.
Durch die Maßnahme gemäß der Erfindung wird nicht nur eine gleichmäßige Stromverteilung auf der gesamten Emitterfläche
erzielt, sondern auch eine ausreichende Wärmeabfuhr gewährleistet. Zur Verbesserung der Wärmeabfuhr
wird die Stromabnahmeelektrode so ausgebildet, daß sie über die kontaktierte Fläche hinausragt. Bei Leistungstransistoren
mit einer großen Emitterfläche ist es vorteilhaft, zur Stromabnahme die bei Leistungsdioden· und
Thyristoren bekannte Druckkontakttechnik anzuwenden. Zur Verminderung des Stromdichte-Effek'tes kann der Emitter
in bekannter Weise streifen-, kamm- oder ringförmig ausgebildet werden.
Das Wesen der Erfindung soll anhand der Figur 2 näher erläutert werden. Die Figur zeigt den Ausschnitt eines
•Flächentransistors mit dem Kollektor 1, der Basis 2 und dem erfindungsgemäß mesaförmig ausgebildeten Emitter
In dem Ausführungsbeispiel wurde eine streifenförmige
Basis-Emitter-Struktur angenommen. Die Basis ist mit streifenförmigen Kontakten 4- versehen, die zur Vermei-
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dung eines Kurzschlusses über die Abnahmeelektrode.7 mit
einer Isolierschicht 5, die z. B. aus aufgedampftem Aluminiumoxid
besteht, bedeckt. Die mesaförmigen Emitterstreifen 3 sind auf ihrer gesamten Stromführungsfläche mit ··
einem sperrfreien Kontakt 6 versehen. Die Abnahmeelektrode 7j cLie allseitig über die Kontaktfläche des Emitters
hinausragt, wird vorteilhaft in bekannter Weise als Druckkontakt ausgeführt.
Anhand der Figuren 3a und 3"b soll ein "Verfahren zur Herstellung eines Flächentransistors gemäß der Erfindung
erläutert werden. In den Figuren 1, 3a und 3t>
sind glei- i
ehe Teile mit den gleichen Bezugszeichen versehen.
In Figur 3a wird zunächst von einem Halbleiterkörper mit
drei Zonen abwechselnd entgegengesetzten Leitungstyps 1, 2 und 3, die beispielsweise durch Störstellendiffusion
erzeugt werden, ausgegangen. Die Emitterkontakte 6 bestehen
aus einem gegen Ätzlösungen resistenten Material, so daß sie bei der anschließenden Ätzung des Halbleiterkörpers
als Ätzmasken dienen. Durch Ausätzen der nicht kontaktierten Emitterbereiche wird die mesaförmige Streifenstruktur
nach Figur 3"b erhalten. Anschließend wird die Basis 2 mit streifenförmigen Kontakten 4- versehen. Beim
Ätzprozeß muß der nicht kontaktierte Bereich des Emitters "
bis zur Basis freigeätzt werden, damit der Basis-Emitterpn-tJbergang
aufgetrennt wird. Bei der Kontaktierung der Basis ist darauf zu achten, daß kein Kurzschluß des pn-Überganges
entsteht. Bei Verwendung eines flußsäure- und salpetersäurehaltigen Ätzmittels ist es günstig, zur Kontaktierung
des Emitters eine Schichtenfolge aus Chrom und Gold zu verwenden. Die Chromschicht (sie kann eingetempert
werden) sorgt für die sperrfreie Kontaktierung des Emitters,
während die äußere Goldschieht resistent gegen saure ÄtzIosunken ist und als Ätzmaske dient.
1 0 9 8 5 1 / 1 5 k 0
BAD
P 70/36
Die Dimensionierung des Transistors und seine weitere Verarbeitung erfolgt nach bekannten Gesichtspunkten.
1 O 9 8 5 1 / 1 5 A O
BAD
Claims (8)
- . ■ _ 5 - .■• P'70/36.Patentanspr ü c heM) Flächentransistor mit auf der gleichen Seite des Halbleiterkörpers liegenden Basis- und Emitterkontakten, dadurch gekennzeichnet, daß der Emitter mesaförmig"ausgebildet und auf seiner gesamten Stromführungsfläche kontaktiert ist und daß die Stromabnahmeelektrode die gesamte kontaktierte Fläche bedeckt.
- 2) Flächentransistor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Stromabnahmeelektrode über die kontaktierte Fläche hinausragt.
- 3) Flächentransistor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Stromabnahme über einen Druckkontakt erfolgt.
- 4) Flächentransistor nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Emitter eine Streifenoder Kammstruktur aufweist. . .
- 5) Flächentransistor nach den Ansprüchen 1 bis 3> da-- * durch gekennzeichnet, daß der Emitter eine Ringstruktur aufweist.
- 6) Flächentransistor nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Basiskontakt mit einer Isolierschicht bedeckt ist.
- 7) Verfahren zur Herstellung eines Transistors nach don Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Mesastruktur nach der Kontaktierung des Emitters durch Atzen erzeugt wird, wobei die Kontaktschicht als Ätzmaske dient.10 9 8 5 1/15 4 0 BADORiGINALΈ 70/36
- 8) Verfahren nach Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet, daß als Kontaktschicht eine Schichtenfolge aus Gold und Chrom verwendet wird.10 9 8 5 1/15 4 0BAD ORIGINAL
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702029210 DE2029210A1 (de) | 1970-06-13 | 1970-06-13 | Flächentransistor |
GB1839271A GB1354776A (en) | 1970-06-13 | 1971-06-01 | Junction transistor |
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DE19702029210 DE2029210A1 (de) | 1970-06-13 | 1970-06-13 | Flächentransistor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE2029210A1 true DE2029210A1 (de) | 1971-12-16 |
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ID=5773857
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19702029210 Pending DE2029210A1 (de) | 1970-06-13 | 1970-06-13 | Flächentransistor |
Country Status (2)
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DE (1) | DE2029210A1 (de) |
GB (1) | GB1354776A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2944069A1 (de) * | 1978-11-01 | 1980-05-14 | Westinghouse Electric Corp | Halbleiteranordnung |
-
1970
- 1970-06-13 DE DE19702029210 patent/DE2029210A1/de active Pending
-
1971
- 1971-06-01 GB GB1839271A patent/GB1354776A/en not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2944069A1 (de) * | 1978-11-01 | 1980-05-14 | Westinghouse Electric Corp | Halbleiteranordnung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1354776A (en) | 1974-06-05 |
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