DE202006011778U1

DE202006011778U1 - Painted surface final coat polishing sponge, has polishing surface enclosed by circular groove such that cube-like structure is formed and surrounding edges, where edges and circular groove are provided with rounding

Info

Publication number: DE202006011778U1
Application number: DE200620011778
Authority: DE
Original assignee: KLAUS CHEMIE GmbH; KLAUS-CHEMIE GmbH
Current assignee: KLAUS CHEMIE GmbH; KLAUS-CHEMIE GmbH
Priority date: 2006-08-01
Filing date: 2006-08-01
Publication date: 2006-10-26
Anticipated expiration: 2016-08-02

Abstract

The sponge has a polishing surface (5) arranged at its front side, and an attaching surface arranged at its rear side for attachment at a supporting disk of a polishing machine. A circular groove (4) is formed in the polishing surface and adjacent to an edge region. The polishing surface enclosed by the circular groove is structured by notches (6a,6b) such that a cube-like structure is formed. The notches are formed lower from an outer edge of the surface to interior of the surface. Surrounding edges of the sponge and the circular groove are provided with rounding.

Description

Die Erfindung richtet sich auf einen Polierschwamm für eine Poliermaschine der im Oberbegriff des Patentanspruches 1 angegebenen Gattung.The The invention is directed to a polishing sponge for a polishing machine of the Preamble of claim 1 specified genus.

Ein gattungsgemäßer Polierschwamm ist beispielsweise aus dem DE 20 2004 016 635 U der Anmelderin bekannt. Weist der gattungsgemäße Polierschwamm schon eine Reihe von Vorteilen gegenüber anderen Polierkissen oder dgl. auf, wie sie beispielsweise in der EP 1 369 204 A1 beschrieben sind, dem unter anderem auch strukturierte Schwammoberflächen zu entnehmen sind, allerdings ohne die im genannten Stand der Technik vorgesehene umlaufende Rille, so lässt sich das mit dem gattungsgemäßen Schwamm zu erzielende Arbeitsergebnis noch verbessern.A generic polishing sponge is known for example from DE 20 2004 016 635 U of the Applicant. Has the generic polishing sponge already a number of advantages over other polishing pads or the like. On, as they are for example in the EP 1 369 204 A1 are described, inter alia, also refer to the structured sponge surfaces, but without the provided in the cited prior art circumferential groove, so can be achieved with the generic sponge to be achieved work result even better.

Diese Verbesserung trägt dem Problem Rechnung, dass das Bearbeiten von Decklacken zunehmend aufwändiger wird, da die eingesetzten Lacke aufgrund von verändertem Härteverhalten immer sensibler gegenüber mechanischen Belastungen reagieren. Durch den Poliervorgang sollen/werden Verschmutzungen oder mattierte Stellen, Kratzer von den Lackoberflächen beseitigt, dabei entstehen jedoch unerwünschte Nebenwirkungen – Mikrokratzer, sogenannte "Marks"-Hologramme -. Diese Nebenwirkungen werden noch verstärkt durch zunehmende Poliertemperatur beim Polierprozess, was diesen damit künstlich verlängert, dadurch bedingt die Reaktion der Politur nachlässt und der Schaumstoff der Polierscheibe an Standfestigkeit und somit an mechanischer Wirkung verliert. Diese Faktoren haben zur Folge, dass ein höherer Verbrauch an Politur, Polierscheiben sowie ein erhöhter Zeitaufwand erforderlich sind, um ein optimales Ergebnis zu erzielen. Oftmals kann dieses Ergebnis nur durch Wiederholungen des Poliervor ganges erreicht werden.These Improvement bears the problem that processing of topcoats is increasing complex is because of the used coatings due to changing hardness behavior more sensitive across from react to mechanical loads. By the polishing process should / are Dirt or frosted areas, scratches removed from the paint surfaces, however, this creates unwanted Side effects - micro-scratches, so-called "Marks" holograms -. These Side effects are even worse by increasing polishing temperature in the polishing process, what this so artificial extended, As a result, the reaction of the polish wears off and the foam of the Polishing disc to stability and thus to mechanical effect loses. These factors result in a higher consumption polish, polishing wheels and an increased amount of time are required, to achieve an optimal result. Often this result can be can only be achieved by repeating the Poliervor ganges.

Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, die Standfestigkeit eines gattungsgemäßen Polierschwamms zu erhöhen bei gleichzeitiger Optimierung der Poliertemperatur.The The object of the invention is the stability of a generic polishing sponge to increase while optimizing the polishing temperature.

Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, dass die von der umlaufenden Rille umschlossene Polierfläche durch Einkerbungen strukturiert ist.These Task is according to the invention solved by that the polishing surface enclosed by the circumferential groove Notches is structured.

Mit dieser Polierschwammgestaltung lassen sich die oben angegebenen Ziele erreichen. Wie schon weiter oben angegeben, sind strukturierte Flächen bei Schwämmen oder sonstigen Poliermitteln für sich gesehen bekannt. So zeigt auch die US 5,527,215 spiralförmige bzw. halbrunde Nuten in der entsprechenden Oberfläche, wobei die Verteilung über die Gesamtfläche symmetrisch ist und wobei keine zusätzliche umlaufende Rille im Randbereich der Polierfläche vorgesehen ist, wie dies bei der vorliegenden Erfindung der Fall ist.With this polishing sponge design can achieve the above goals. As stated above, structured surfaces are known for sponges or other polishing agents per se. So shows the US 5,527,215 spiral or semicircular grooves in the corresponding surface, wherein the distribution over the entire surface is symmetrical and with no additional circumferential groove is provided in the edge region of the polishing surface, as is the case with the present invention.

Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen, wobei es besonders zweckmäßig ist, die durch die Einkerbungen gebildete Struktur würfelartig auszubilden.refinements The invention results from the dependent claims, it being particularly expedient to form the structure formed by the notches cubic.

Die Einkerbungen können am Flächenrand zum Flächeninneren hin tiefer werdend ausgebildet sein oder in anderer Gestaltung eine durchgängig konstante Tiefe aufweisen, wobei diese Tiefe beispielsweise der Tiefe der umlaufenden Außenrille angepasst sein kann.The Notches can at the edge of the area to surface inside be trained deeper or in another design a consistently constant Have depth, this depth, for example, the depth of circumferential outer groove can be adjusted.

Das durch die Einkerbungen gebildete, die Würfelstruktur bewirkende Gitter kann erfindungsgemäß symmetrisch auch der Polierfläche zugeordnet sein oder aber auch asymmetrisch, je nachdem, welche Polierergebnisse erzielt werden sollen.The formed by the notches, causing the cube structure grid can be symmetrical according to the invention also the polishing surface be assigned or asymmetric, whichever Polishing results are to be achieved.

Um zu verhindern, dass Schmutzpartikel oder dgl. die Lackoberfläche dann verkratzen, wenn sich diese am Polierschwamm festsetzen, sieht die Erfindung in weiterer Ausgestaltung vor, dass die Randkanten des Polierschwammes und/oder der umlaufenden Rille mit einer Abrundung versehen sind.Around To prevent dirt particles or the like. The paint surface then Scratch when they settle on the polishing sponge, see the invention in a further embodiment, that the marginal edges of the polishing sponge and / or the circumferential groove are provided with a rounding.

Erkennbar führt die vorliegende Erfindung zu einer Optimierung der Luftzirkulation und somit zu geringeren Temperaturen im Polierprozess, woraus sich gleichzeitig eine höhere Standzeit bzw. Festigkeit der Polierscheibe ergibt. Durch die Würfelapplikation kommt es auch zu einer Optimierung der mechanischen Wirkung der Polierscheibe durch zusätzliche Balk- und Schleifbewegungen bei gleichzeitiger optimierter Verteilung der eingesetzten Polituren auf der Schwammoberfläche und damit der Lackoberfläche. Auch kommt es zu keinen "Marks" aufgrund eingetrockneter Schleifmittel, wie oben schon erwähnt, wobei gleichzeitig die Entstehung von Mikrokratzern verhindert wird bzw., falls Mikrokratzer vorliegen, können diese auf der Lackoberfläche beseitigt werden.recognizable leads the present invention for optimizing air circulation and thus to lower temperatures in the polishing process, which at the same time a higher one Service life or strength of the polishing pad results. Through the dice application it also comes to an optimization of the mechanical effect of Polishing wheel by additional Balk and grinding movements with optimized distribution the polishes used on the sponge surface and thus the paint surface. Also There are no "marks" due to dried up Abrasive, as mentioned above, wherein at the same time the Emergence of micro scratches is prevented or, if micro-scratch can exist these on the paint surface be eliminated.

Weitere Merkmale, Einzelheiten und Vorteile der Erfindung ergeben sich aufgrund der nachfolgenden Beschreibung sowie anhand der Zeichnung. Diese zeigt inFurther Features, details and advantages of the invention will become apparent the following description and with reference to the drawing. These shows in

1 eine schematisch vereinfachte räumliche Wiedergabe eines erfindungsgemäßen Polierschwammes sowie in 1 a schematically simplified spatial representation of a polishing sponge according to the invention and in

2 einen Querschnitt durch den Polierschwamm. 2 a cross section through the polishing sponge.

Der allgemein mit 1 bezeichnete Polierschwamm besteht beispielsweise aus einem Polyurethanschaum und ist im dargestellten Beispiel im Wesentlichen als Kreisscheibe ausgebildet. Zur Fixierung des Polierschwammes 1 an einem nicht näher dargestellten Drehteller einer Poliermaschine weist der Polierschwammkörper an seiner Unterseite eine Befestigungs fläche 2, z.B. aus Veloursmaterial, auf, wenn der Teller der Schleifmaschine z.B. mit einer entsprechenden Klettverschlussbeschichtung versehen ist.The generally with 1 designated polishing sponge consists for example of a polyu Rethanschaum and is formed in the illustrated example substantially as a circular disk. For fixing the polishing sponge 1 on a turntable not shown a polishing machine, the polishing sponge body on its underside a mounting surface 2 , For example, made of velor material, on when the plate of the grinder is provided for example with a corresponding Velcro coating.

Die Ränder des Polierschwammes, die der Fixierseite gegenüberliegen und damit die Arbeitsfläche bilden, sind gekrümmt ausgebildet und in den Figuren mit dem Bezugszeichen 3 versehen. Sie gehen unmittelbar in eine umlaufende Rille 4 über, derart, dass der Mittelbereich als Polierfläche, allgemein mit 5 bezeichnet, ausgebildet wird.The edges of the polishing sponge, which are opposite to the fixing side and thus form the working surface, are curved and in the figures by the reference numeral 3 Mistake. They go directly into a circumferential groove 4 over, such that the central region as a polishing surface, generally with 5 designated, is formed.

Wie sich aus den Figuren ergibt, ist die Polierfläche 5 mit ein Gitter bildenden Einkerbungen, allgemein mit 6 bezeichnet, versehen, wobei die in einer Richtung ausgerichteten Kerben in 1 mit 6a und die dazu rechtwinklig angeordneten Kerben mit 6b bezeichnet sind.As can be seen from the figures, is the polishing surface 5 with a grid-forming indentations, generally with 6 designated, wherein the unidirectional notches in 1 With 6a and the notches arranged at right angles with 6b are designated.

Die Kerben 6 können der Tiefe der umlaufenden Rille angepasst sein, sie können aber auch einen über den Querschnitt veränderlichen Verlauf aufweisen, etwa vom Rand der Rille 4 hin zur Mitte in ihrer Tiefe zunehmend und zum Rand dann wieder abnehmend.The scores 6 can be adapted to the depth of the circumferential groove, but they can also have a variable over the cross section course, such as from the edge of the groove 4 towards the middle in their depth increasing and then decreasing to the edge.

Das ausgebildete Gitter aus den Einkerbungen 6a, 6b kann, wie in 1 angedeutet, etwa symmetrisch auf der Fläche 5 positioniert sein, es kann aber auch asymmetrisch positioniert sein, so dass die sich ausbildenden, die Arbeitsfläche bildenden Rechtecke bzw. Quadrate eine sehr unterschiedliche Größe relativ zueinander aufweisen.The formed grid of the notches 6a . 6b can, as in 1 indicated, approximately symmetrically on the surface 5 However, it can also be positioned asymmetrically, so that the forming, the work surface forming rectangles or squares have a very different size relative to each other.

Claims

Polishing sponge for a polishing machine having a front polishing surface and a rear attachment surface for attachment to a backing pad of a polishing machine, wherein in the polishing surface, adjacent to the edge region, a circumferential groove is formed, characterized in that the of the circumferential groove ( 4 ) enclosed polishing surface ( 5 ) by notches ( 6 ) is structured.

Polishing sponge according to claim 1, characterized in that the spikes ( 6 ) formed structure is cube-shaped.

Polishing sponge according to claim 2, characterized in that the indentations ( 6 ) are formed deeper from the outer surface of the surface to the surface interior.

Polishing sponge according to claim 1 or 2, characterized in that the indentations ( 6 ) have a constant depth substantially equal to the depth of the circumferential groove ( 4 ) corresponds.

Polishing sponge according to one of the preceding claims, characterized in that the spiked material ( 6 ) formed symmetrical to the polishing surface ( 5 ) assigned.

Polishing sponge according to one of Claims 1 to 4, characterized in that the material which has passed through the indentations ( 6 ) formed asymmetric the polishing surface ( 5 ) assigned.

Polishing sponge according to one of the preceding claims, characterized in that the marginal edges ( 3 ) of the polishing sponge ( 1 ) and / or the circumferential groove ( 4 ) are provided with a rounding.