DE2003389A1 - Development device - Google Patents
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Description
Eastman Kodak Company, Rochester, Staat New York, Vereinigte Staaten von AmerikaEastman Kodak Company, Rochester, New York State, United States of America
EntwicklungsgerätDeveloping device
Die Erfindung betrifft ein Gerät zum Entwickeln sensibilisierten Materials, welches latente Bilder und unbelichtete Untergrundbereiche aufweist, mit einer Fördereinrichtung, die das sensibilisierte Material längs einer Durchlaufführung durch eine Behandlungszone bewegt, in der es in einem die Entwicklung der Untergrundbereiche hemmenden Maße erwärmt und mit Strahlung vorbestimmter Wellenlänge bestrahlt wird.The invention relates to an apparatus for developing sensitized material which contains latent images and unexposed background areas, with a conveyor that sensitized the Material is moved along a passage through a treatment zone in which it is developed the underground areas are heated to an inhibiting degree and with radiation of a predetermined wavelength is irradiated.
Dem Fachmann sind vielerlei Materialien bekannt, welche eine Emulsion tragen, die sensibilisiert ist, und welche mittels geeigneter Verfahren entwickelt werden können, um das beispielsweise durch Belichtung des sensibilisierten Materials erzeugte latente Bild sichtbar zu machen. Eine der bekanntesten und weitest verbreiteten Emulsionen enthält eine Silberhalogenidkomponente,A variety of materials are known to those skilled in the art which carry an emulsion that sensitizes is, and which can be developed by means of suitable methods, for example by Exposure of the sensitized material to visualize the generated latent image. One of the best known and most widely used emulsions contains a silver halide component,
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welche typischerweise in einer Matrix aus Gelatine angeordnet ist. Die Silberhalogenidkomponente liegt gewöhnlicherweise in der Form von Kristallen vor.which is typically arranged in a matrix of gelatin. The silver halide component usually lies in the form of crystals.
Verfahren zur Latensifikation oder Entwicklung eines latenten Bildes sind bereits bekannt. Bei diesen bekannten Verfahren wird eine photographische Silberhalogenidemulsion in einer Behandlungszone dadurch entwickelt, daß die belich-Methods for latensifying or developing a latent image are already known. With these well-known Process, a photographic silver halide emulsion is developed in a treatment zone in that the exposure
daß
tete Emulsion zunächst Wärme und/hierauf das photographische Material einer Strahlung mit vorbestimmter Wellenlänge ausgesetzt
wird. Man geht davon aus, daß das Erwärmen der photographischen Emulsion nicht die Entwicklung des latenten Bildes
bewirkt, sondern eher dazu dient, die Entwicklung des unbelichteten Untergrundbereichs der photographischen Emulsion
zu unterbinden und diesen zu stabilisieren. Bei einem Photolyseverfahren wird das latente Bild durch das Bestrahlen
entwickelt, wobei die Silberhalogenidkristalle zerfallen und einen metallischen Silberniederschlag erzeugen, wodurch
ein sichtbares Bild entsteht.that
Tete emulsion first heat and / then the photographic material is exposed to radiation with a predetermined wavelength. It is believed that the heating of the photographic emulsion does not cause the latent image to develop, but rather serves to prevent and stabilize the development of the unexposed background area of the photographic emulsion. In a photolysis process, the latent image is developed by the irradiation, whereby the silver halide crystals disintegrate and produce a metallic silver deposit, whereby a visible image is created.
Die bekannten Geräte der eingangs genannten Art zum Durchführen der zuvor erwähnten Verfahren weisen in der Behandlungszone getrennte Bauteile auf, von denen eines die Erwärmung und von denen das andere die Bestrahlung des sensibilisierten Materials bewirkt. Diese bekannten Geräte erfordern somit getrennte Einrichtungen für die Versorgung und den Betrieb der als Heizung dienenden Bauelemente sowie der die Latensifikation bewirkenden Strahlungsquelle. Außer diesen aufwendigen Einrichtungen haben die bekannten Geräte noch den Nachteil, daß ein Teil der ν >n der Strahlungsquelle ausgesandten Energie in der Form von Wärme vergeudet und verschwendet wird.The known devices of the type mentioned at the beginning for carrying out the aforementioned methods point in the treatment zone separate components, one of which is heating and the other is irradiation of the sensitized Material causes. These known devices thus require separate facilities for the supply and the operation of the components serving as heating and the radiation source causing the latensification. In addition to these complex devices, the known devices also have the disadvantage that some of the ν> n of the radiation source emitted energy is wasted and wasted in the form of heat.
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Vor kurzem wurde gefunden, daß im Anschluß an eine Entwicklung und Photolyse mittels ultravioletter Strahlung die Photolyse bei einer gewöhnlichen Bürobeleuchtung, deren Wert ungefähr 12CX) Ix beträgt, bis zu einem derartigen Ausmaß fortdauert, daß der Untergrund des belichteten Ausschnitts übermäßig dunkel wird.It has recently been found that following development and photolysis by means of ultraviolet radiation the photolysis in ordinary office lighting, the value of which is approximately 12CX) Ix, to such a level Extent continues that the background of the exposed section becomes excessively dark.
Um den auch nach der Entwicklung fortdauernden Photolyseeffekt zu verkleinern, wird vorgeschlagen, daß die Intensität der ultravioletten Strahlungsquelle wesentlich vergrößert wird, um dadurch im wesentlichen das unangenehme Dunkelwerden des Untergrundbercxchs zu reduzieren. Bei dem beträchtlichen Anstieg der Abgabe an UV-Strahlung wird sozusagen als Nebenprodukt Wärme erzeugt. Diese Wärme müßte, wenn dieses Prinzip der erhöhten Energieabgabe bei den bekannten Geräten benutzt würde, vergeudet werden.In order to reduce the photolysis effect, which persists even after the development, it is proposed that the intensity the ultraviolet radiation source is significantly enlarged, thereby essentially reducing the uncomfortable To reduce the darkening of the underground surface. With the considerable increase in the emission of UV radiation heat is generated as a by-product, so to speak. This heat would have to be if this principle of increased energy output would be wasted in the known devices.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Gerät zum Entwickeln sensibilisierten Materials, welches latente Bilder und unbelichtete Untergrundbereiche aufweist, zu schaffen, welches eine besonders wirksame Ausnutzung der in der Behandlungszone in Form von Wärme und Strahlung zur Verfügung stehenden Energie ermöglicht und welches hierdurch einfach und zweckmäßig ausbildbar ist.The invention has for its object to provide a device for Develop sensitized material which has latent images and unexposed background areas create, which is a particularly effective use of the in the treatment zone in the form of heat and radiation Enables available energy and which can be designed simply and appropriately as a result.
Diese Aufgabe ist, ausgehend von einem Gerät der eingangs genannten Art, gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß zur Erzeugung der thermischen Energie und der Bestrahlungsenergie eine einzige Quelle vorgesehen ist. Hierdurch wird zunächst ein einfacher und zweckmäßiger Aufbau des Geräts erzielbar, da lediglich der Betrieb und die Versorgung einer einzigen Quelle sichergestellt werden muß. Ein wesentlicher Vorteil ist jedoch, daß in der Behandlungszone der von der Strahlungsquelle abgegebene Anteil an thermischer Energie dazu benutzt werden kann, die Entwicklung des un-This object is, based on a device of the type mentioned, achieved according to the invention in that for A single source is provided for generating the thermal energy and the irradiation energy. This will initially a simple and expedient structure of the device can be achieved, since only the operation and the supply must be ensured from a single source. A major advantage, however, is that in the treatment zone The proportion of thermal energy emitted by the radiation source can be used to
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belichteten Untergrundbereichs zu hemmen und somit eine auch nach dem Entwickeln andauernde Photolyse im wesentlichen zu verhindern.to inhibit exposed background area and thus a to essentially prevent prolonged photolysis even after development.
Bei einem vorteilhaften Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, daß die Durchlaufführung einander zugekehrte Führungsflächen aufweist, welche die Quelle mindestens teilweise umschliessen, und daß mindestens eine der Führungsflächen einen geringen Reibungskoeffizienten besitzt. Hierdurch ist eine besonders kompakte Bauweise und eine nahezu optimale Ausnutzung der Energie möglich. Infolge der geringen Reibungskoeffizienten läßt sich das sensibilisierte Material längs der Durchlaufführung auf einfache Weise mittels einer Fördereinrichtung führen, welche eine Antriebsrolle und zwei darait zusammenwirkende, zwischen sich und der Antriebsrolle jeweils einen Führungsspalt bildende freilaufende Rollen aufweisen kann.In an advantageous embodiment it is provided that the passage guide has mutually facing guide surfaces which at least partially enclose the source, and that at least one of the guide surfaces has a low coefficient of friction. This is a particularly compact design and almost optimal use of energy possible. As a result of the low coefficient of friction can the sensitized material along the passage in a simple manner by means of a Lead conveyor, which has a drive roller and two cooperating with it, between them and the drive roller can each have a guide gap forming free-running rollers.
Bei einem weiteren vorteilhaften Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, daß in der Nähe der Führungsfläche eine Meßeinrichtung vorgesehen ist, welche die Temperatur des sensibilisierten Materials ermittelt, und daß eine von dieser Meßeinrichtung steuerbare Kühleinrichtung für das sensibilisierte Material vorgesehen ist. Hierdurch wird eine genaue Steuerung der für das sensibilisierte Material erforderlichen Temperatur möglich, bei v/elcher eine Stabilisierung des unbelichteten Untergrundbereichs erzielbar ist.In a further advantageous embodiment it is provided that in the vicinity of the guide surface a measuring device is provided which determines the temperature of the sensitized material, and that one of these Measuring device controllable cooling device is provided for the sensitized material. This makes an accurate Control of the temperature required for the sensitized material possible, with v / elcher a stabilization of the unexposed background area is achievable.
Die Erfindung ist in der folgenden Beschreibung anhand eines in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsbeispieles im einzelnen erläutert. Es zeigen:The invention is described in the following description with reference to an embodiment shown in the drawings explained in detail. Show it:
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Fig. 1 einen Querschnitt durch ein Gerät zum Entwickeln latenter Bilder gemäß der Erfindung;Fig. 1 is a cross section through an apparatus for developing latent images according to the invention;
Fig. 2. einen Schnitt längs der Linien 2-2 gemäß Fig. 1 undFIG. 2 shows a section along the lines 2-2 according to FIG. 1 and FIG
Fig. 3 ein schematisches Schaubild der SchaltungFigure 3 is a schematic diagram of the circuit
für einen Antriebsmotor und eine Strahlungsquelle des in den Fig. 1 und 2 dargestellten Gerätes,for a drive motor and a radiation source of the one shown in FIGS Device,
In Fig. 1 ist ein Entwicklungsgerät IO dargestellt, welches ein Gehäuse 12 aufweist, das in eine erste Kammer 14 und eine zweite Kammer 16 aufgeteilt ist. Ein sensibilisiertes Material 25, beispielsweise ein Blatt Papier mit einem überzug aus einer geeigneten Emulsion, wird, was später noch näher erläutert werden soll, in das Entwicklungsgerät 10 durch eine Einlaßöffnung 22 eingegeben und in diesem längs einer Durchlaufführung 15 geführt. Das sensibilisierte Material 25 ist vor seiner Eingabe in das Entwicklungsgerät 10 von einem Strahlungsbild belichtet worden, welches zu einem latenten Bild auf dem sensibilisierten Material 25 führt. Auf seinem Weg durch das Gerät längs der Durchlaufführung 15 wird das auf dem Material 25 befindliche latente Bild entwickelt. Nach beendigter Entwicklung wird das sensibilisierte Material 25 durch eine Auslaßöffnung 24 aus dem Entwicklungsgerät herausgeführt. In der ersten Kammer 14 ist ein Isoliermaterial 18 längs derjenigen Teile der Durchlaufführung 15 angeordnet, in deren Bereich das sensibilisierte Material 25 aufgeheizt werden soll. Sinn und Zweck des Isoliermaterials 18 ist es, ein Entweichen thermiscaer Energie zu verhindern. Da es zuweilen erwünscht ist, daß das sensibilisierte Material 25 während eines Verfahrensschxitceä im Entwicklungszyklus abgekühlt wird, ist die zweite Kammer 16 nicht mit einem Isoliermaterial gefüllt,In Fig. 1, a developing device IO is shown, which has a housing 12 which is divided into a first chamber 14 and a second chamber 16. A sensitized one Material 25, for example a sheet of paper with a coating of a suitable emulsion, will be what later is to be explained in more detail, entered into the developing device 10 through an inlet opening 22 and in this longitudinally a pass-through guide 15 out. The sensitized material 25 has been exposed before its input into the developing device 10 from a radiation image, which becomes a latent image on the sensitized material 25 leads. On its way through the device along the pass-through guide 15 the latent image located on the material 25 is developed. After the development is finished, it becomes sensitized Material 25 led out of the processor through an outlet port 24. In the first chamber 14 is an insulating material 18 is arranged along those parts of the pass-through guide 15 in the area of which the sensitized Material 25 is to be heated. The whole purpose of the insulating material 18 is to thermiscaer a leak Energy to prevent. Since it is sometimes desirable to have the sensitized material 25 during a procedural step is cooled in the development cycle, the second chamber 16 is not filled with an insulating material,
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sondern mit Ventilationsschlitzen 20 versehen, durch die ein Kühlmedium, beispielsweise die das Entwicklungsgerät umgebende Luft, frei zirkulieren und hierdurch die thermische Energie von einem Wärmeableiter 80 wegführen kann.but provided with ventilation slots 20 through which a cooling medium, for example the developing device surrounding air, can circulate freely and thereby lead the thermal energy away from a heat sink 80.
Die Durchlaufführung 15 des Entwicklungsgerätes 10 wird durch den Ringspalt zwischen einem äußeren rohrförmigen Teil 26 und einem darin konzentrisch angeordneten inneren rohrförmigen Teil 28 gebildet. Der äußere rohrförmige TeilThe passage guide 15 of the developing device 10 is through the annular gap between an outer tubular part 26 and an inner one arranged concentrically therein tubular part 28 is formed. The outer tubular part
" 26 besitzt Vorsprünge 30 und 32, die, was Fig. 1 zu entnehmen ist, im wesentlichen parallel zueinander verlaufen. Zwischen diesen Vorsprüngen 30 und 32 ist ein Führungsteil 34 angeordnet, welcher seinerseits Vorsprünge 36 und 38 aufweist, die parallel zueinander verlaufen. Der Führungsteil 34 ist parallel zu den Vorsprüngen 30 und 32 angeordnet und bildet mit diesen die Einlaßöffnung 22 bzw. die Auslaßöffnung 24. Fig. 1 ist zu entnehmen, daß das sensibilisierte Material 25 in das Entwicklungsgerät 10 durch die Einlaßöffnung 22 eingeführt wird und daß es mittels eines Antriebs, was noch erläutert werden soll, durch die Einlaßöffnung 22 zwischen dem Führungsteil 34 und dem Vorsprung 30, längs der Durchlaufführung 15, zwischen den stationären inneren und äußeren rohrförmigen Teilen 28 bzw. 26 transportiert wird und daß es schließlich durch die Auslaßöffnung 24 zwischen dem Führungsteil 34 und dem Vorsprung 32 aus dem Entwicklungsgerät herausgeführt wird."26 has projections 30 and 32, which can be seen in FIG is essentially parallel to one another. Between these projections 30 and 32 is a guide part 34 arranged, which in turn has projections 36 and 38 which run parallel to one another. The leadership part 34 is arranged parallel to the projections 30 and 32 and together with them forms the inlet opening 22 and the outlet opening 24. FIG. 1 shows that the sensitized material 25 enters the developing device 10 is introduced through the inlet opening 22 and that it is by means of a drive, which will be explained, through the inlet opening 22 between the guide part 34 and the projection 30, along the passage guide 15, is transported between the stationary inner and outer tubular members 28 and 26, respectively, and that it eventually through the outlet opening 24 between the guide part 34 and the projection 32 is led out of the developing device.
Das sensibilisierte Material 25 wird in dem Entwicklungsgerät, was später noch wesentlich genauer erläutert werden soll, in aufeinanderfolgenden Verfahrensschritten aufgeheizt und danach einer Strahlung mit bestimmter Wellenlänge ausgesetzt. Da sich der innere rohrförmige Teil 28 gegenüber dem äußeren rohrförmigen Teil 26 nicht drehen kann, ist es erfor-The sensitized material 25 is in the developing device, which will be explained in much more detail later should, heated in successive process steps and then exposed to radiation with a certain wavelength. Since the inner tubular part 28 opposite the outer tubular part 26 cannot rotate, it is necessary
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derlieh, daß das sensible'»ierte Material 25 zwischen den beiden rohrförmig seilen 26 und 28 längs der Durchlaufführung 15 gleitet. Das beispielsweise in Blattform benutzte sensibilisierte Material 25 weist in der Regel eine MateriaIstärke in der Größenordnung von 0,075 mm bis 0,13 mm auf. Die Herstellung und die Ausbildung der beiden rohrförmigen Teile 26 und 28 mit einer Genauigkeit, welche einen gleichenmäßigen Ringspolt zwischen diesen rohrförmigen Teilen 26 und 28 mit einer derartigen geringen Ringspaltdicke sicherstellt, würde große Schwierigkeiten bereiten. Die an sich erforderliche große Maßgenauigkeit wird dadurch umgangen, daß zwischen den beiden rohrförmigen Teilen 26 und 28 ein größerer Abstand in der Größenordnung von ca. 1,5 mm vorgesehen ist und daß ein elastischer Teil in Form einer Schicht 58 aus einem elastischen Material mit geringem Reibungskoeffizienten, beispielsweise einem Fluorkohlenstoff harz (Teflon), deren Schichtdicke im wesentlichen mit dem Abstand zwischen den beiden rohrförmigen Teilen übereinstimmt, auf der inneren Obe*flachs des äußeren rohrförmigen Teils 26 befestigt 1st., Die Schicht 58 kann die FormThis means that the sensitive material 25 slides between the two tubular cables 26 and 28 along the passage guide 15. The sensitized material 25 used, for example, in sheet form, generally has a material thickness in the order of magnitude of 0.075 mm to 0.13 mm. The manufacture and design of the two tubular parts 26 and 28 with an accuracy which ensures a uniform annular pole between these tubular parts 26 and 28 with such a small annular gap thickness would cause great difficulties. The required to be great dimensional accuracy is obviated in that a greater distance in the order of about 1.5 mm is provided between the two tubular parts 26 and 28 and that an elastic part in form of a layer 58 of an elastic material having a low Coefficient of friction, for example a fluorocarbon resin (Teflon), the layer thickness of which essentially corresponds to the distance between the two tubular parts, is attached to the inner surface of the outer tubular part 26. The layer 58 can have the shape
beispielsweise Filz, eines deckenähnlichen MateriaIs/annehmen* dessen Fasern mit dem Fluorkohlenstoffharz imprägniert sind und die das sensibilisierte Material 2Έ federnd gegen die äußere Oberfläche des inneren rohrförmigen Teils 28 drücken, um einen wirkungsvollen Wärmejlibergang zwischen öe.ir sensibilisierten Material 25 und dem rohrförmigen Teil 28 sicherzustellen. Darüberhinaus kann vorgesehen sein» daß die äußere Oberfläche des inneren rohrförmigen Teils 28 ebenfalls mit einer Schicht aus dem Fluorkohlenstoffharz {Teflon} überzogen ist, wi dadurch weiterhin die auf das sensibilisierte Material 25 einwirkende Reibung zu vermindern«For example, felt, a blanket-like material, whose fibers are impregnated with the fluorocarbon resin and which press the sensitized material 2 resiliently against the outer surface of the inner tubular part 28, in order to achieve an effective heat transfer between the sensitized material 25 and the tubular part 28 ensure. In addition, it can be provided "that the outer surface of the inner tubular part 28 is also coated with a layer of the fluorocarbon resin {Teflon}, thereby further reducing the friction acting on the sensitized material 25"
Die För<3ei-«inrichtur»^c mittels deren das sensibil^. ■ ;^ e Material 25 längs der Dur£hlau£führung 15 bewegbar ist, weist eine Antriebsrolle 44 auf» . durch einen Motor 68 angetrieben wird. Die Rotationsbewegung des Motors 68 wirdThe För <3ei- «inrichtur» ^ c by means of which the sensibil ^. ■; ^ e Material 25 can be moved along the sleeve guide 15, has a drive roller 44 ». by a motor 68 is driven. The rotational movement of the motor 68 becomes
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auf die Antriebsrolle 44 über eine unmittelbar mit dem Motor 68 gekoppelte Riemenscheibe 72, einen Antriebsriemen 74 und eine mit der Antriebsrolle 44 verbundene Riemenscheibe 70 übertragen. Darüberhinaus besitzt die Fördereinrichtung zwei leer laufende Rollen 46 und 48, welche oberhalb bzw. unterhalb der Antriebsrolle 44 angeordnet sind (vgl. Fig. 1), um die Eingabe bzw. Entnahme des sensibilisierten Materials 25 zu gewährleisten. Die Rollen 46 und 48 werden gegen die is transmitted to the drive pulley 44 via a pulley 72 directly coupled to the motor 68, a drive belt 74, and a pulley 70 connected to the drive pulley 44. In addition, the conveyor device has two idle rollers 46 and 48, which are arranged above and below the drive roller 44 (cf. FIG. 1), in order to ensure the input and removal of the sensitized material 25. The rollers 46 and 48 are against the
gemeinsame Antriebsrolle 44 gedrückt, und zwar entweder durch ein Gegengewichtcommon drive roller 44 pressed, either by a counterweight
ihr Eigen- bzw./ oaer aber mittels zweier, nicht dargestellter Federn, welche jede der leer laufenden Rollen zur federnden Anlage an die Antriebsrolle 44 bringen. In den Vorsprüngen 30 und 36 sind Aussparungen 40 bzw. 41 vorgesehen, die ermöglichen, daß die Antriebsrolle 44 und die Rolle 46 gegen das sensibilisierte Material 25 gedrückt werden können. In den Vorsprüngen 38 und 32 sind in ähnlicher Weise Aussparungen 42 bzw. 43 vorgesehen, damit die Antriebsrolle 44 und die Rolle 48 gegen das sensibilisierte Material 25 gedrückt werden können. their own or / oaer, however, by means of two springs, not shown, which bring each of the idle rollers to resilient contact with the drive roller 44. Recesses 40 and 41, respectively, are provided in the projections 30 and 36, which allow the drive roller 44 and the roller 46 to be pressed against the sensitized material 25. Recesses 42 and 43 are provided in the projections 38 and 32 in a similar manner so that the drive roller 44 and the roller 48 can be pressed against the sensitized material 25.
Der Motor 68, die Antriebswelle 44 sowie die Rollen 46 und 48 werden durch einen mit dem Gehäuse 12 verbundenen Deckelteil 78 geschützt. Wird das Entwicklungsgerät betrieben, dann kann die Antriebsrolle 4 4 in Fig. l gesehen im Uhrzeigersinn vom Motor 68 angetrieben werden, damit das Material 25 längs der Durchlaufführung 15 in das Gerät eingegeben werden kann. In diesem Falle wird das Material 2 5 in Fig. 1 gesehen nach rechts bewegt. Durch den Kontakt mit der Rolle 48 wird das sensibilisierte Material 25 am Ende der Durchlaufführung aus dem Gerät gefördert. Bei diesem Vorgang wird das Material 25 gemäß Fig. 1 nach links bewegt.The motor 68, the drive shaft 44 and the rollers 46 and 48 are connected to the housing 12 by a cover part 78 protected. When the developing device is operated, the drive roller 4 4 can be seen in a clockwise direction in FIG are driven by the motor 68 so that the material 25 can be fed into the device along the passage guide 15. In this case, the material 2 5 is moved to the right as seen in FIG. 1. Contact with roller 48 makes this sensitized material 25 at the end of the run-through promoted to the device. During this process, the material 25 is moved to the left as shown in FIG. 1.
Der Abstand zwischen dem ersten Führungsspalt, welcher zwischen der Antriebsrolle 44 und der Rolle 46 gebildet wird, und dem zweiten Führungsspalt, welcher zwxschen derThe distance between the first guide gap, which is formed between the drive roller 44 and the roller 46 , and the second guide gap, which is between the
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Antriebsrolle 44 und der Rolle 48 gebildet wird, ist im Hinblick auf die entsprechenden Abmessungen des sensibilisierten Materials 25 besonders genau einzuhalten. Es ist insbesondere darauf zu achten, daß die Länge des sensibilisierten Materials 25 größer ist als der zuvor erwähnte Abstand zwischen dem ersten Führungsspalt und dem zweiten Führungsspalt. Wird diese Bedingung erfüllt, dann kann das sensibilisierte Material 25 ständig erfaßt und durch die Einlaßöffnung 22, längs der Durchlaufführung 15 und durch die Auslaßöffnung 24 bewegt werden. Wird diese Bedingung dagegen nicht erfüllt und ist der Abstand zwischen dem ersten und dem zweiten Führungsspalt größer als die Länge des beispielsweise in Blattform benutzten sensibilisierten Materials, dann wird dieses Blatt aus dem sensibilisierten Material in das Entwicklungsgerät gefördert, wird aber in diesem zurückgehalten, weil sein Führungsende nicht von der Antriebsrolle 44 und der Rolle 48 erfaßt werden kann. Eine Ausgabe des sensibilisierten Materials 25 wäre demnach nicht möglich.Drive roller 44 and roller 48 is formed, is sensitized in view of the corresponding dimensions of the Materials 25 must be adhered to particularly precisely. It is particularly important to ensure that the length of the sensitized Material 25 is greater than the aforementioned distance between the first guide gap and the second Leadership gap. If this condition is met, then the sensitized material 25 can be continuously detected and through the Inlet opening 22, along the passage guide 15 and through the outlet opening 24 are moved. Will this condition however, not fulfilled and the distance between the first and the second guide gap is greater than the length of the sensitized material used, for example, in sheet form, then this sheet becomes the sensitized Material is conveyed into the developing device, but is retained in it because its leading end is not affected by the Drive roller 44 and the roller 48 can be detected. An output of the sensitized material 25 would therefore not be possible.
Zur Entwicklung des auf dem sensibilisierten Material 25 angeordneten latenten Bildes ist erforderlich, daß das sensibilisierte Material zunächst thermischer Energie mit vorgeschriebener Intensität ausgesetzt und hierauf von einer Strahlung mit vorgegebener Wellenlänge getroffen wird. Bei dem vorliegenden Entwicklungsgerät werden diese beiden Verfahrensschriftte von einer einzigen Quelle 50 bewerkstelligt, welche Strahlung oder Energie abgibt. Fig. 2 kann entnommen werden, daß diese einzige Quelle 50 bei einem Ausführungsbeispiel als handelsübliche Quecksilberlampe ausgebildet sein kann, welche konzentrisch zum äußeren und inneren rohrförmigen Teil 26 bzw. 28 angeordnet ist. Eine Hitzeabsorptionsfläche 60 kann beispielsweise durch SchwärzenIn order to develop the latent image disposed on the sensitized material 25, it is necessary that the sensitized material first exposed to thermal energy with a prescribed intensity and then from a Radiation with a predetermined wavelength is hit. These two procedural documents are used in the present processor accomplished by a single source 50 which emits radiation or energy. Fig. 2 can be taken be that this single source 50 is formed in one embodiment as a commercially available mercury lamp which is arranged concentrically to the outer and inner tubular part 26 and 28, respectively. A heat absorbing surface 60 can for example by blackening
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der Innenfläche des inneren rohrförmigen Teils 28 ausgebildet werden. Der innere rohrförmige Teil 28 kann beispielsweise auch aus einem Material wie Aluminium hergestellt sein, welches eloxiert ist, um die schwarze Hitzeabsorptionsfläche 60 zu bilden. Hierdurch wird erreicht, daß die von der einzigen Quelle 50 ausgehende Strahlung in thermische Energie umgewandelt wird, damit das sensibilisierte Material 25 erhitzt werden kann, welches, wie oben erläutert wurde, mittels der Schicht 58 gegen die äußere Oberfläche des inneren rohrförmigen Teils 23 gedrückt wird. Innerhalb des inneren rohrförmigen Teils 28 ist eine öffnung 66 vorgesehen, damit das sensibilisierte Material 25 von der Strahlung der einzigen Quelle 50 getroffen werden kann. Insbesondere Fig. 1 ist zu entnehmen, daß auf der Hitzeabsorptionsfläche 60 des inneren rohrförmigen Teils 28, diagonal entgegengesetzt zur öffnung 66 eine Schicht 64 vorgesehen ist, welche zur Fokussierung der von der einzigen Quelle 50 ausgesandten Strahlung durch die öffnung 66 eine reflektierende Fläche bildet.the inner surface of the inner tubular member 28 can be formed. The inner tubular part 28 can for example can also be made of a material such as aluminum which is anodized to provide the black heat absorbing surface 60 to form. This ensures that the radiation emanating from the single source 50 is converted into thermal energy so that the sensitized material 25 can be heated, which how has been explained above, pressed against the outer surface of the inner tubular part 23 by means of the layer 58 will. An opening 66 is provided within the inner tubular part 28 so that the sensitized Material 25 can be struck by the radiation from the single source 50. In particular, Fig. 1 can be seen that on the heat absorption surface 60 of the inner tubular part 28, diagonally opposite to the opening 66 a layer 64 is provided, which for focusing the radiation emitted by the single source 50 through the opening 66 forms a reflective surface.
Je nach Art der jeweils auf dem sensibilisierten Material aufgetragenen photographischen Emulsion kann es wünschenswert sein, daß das sensibilisierte Material 25, ehe es durch die öffnung 66 von der Strahlung belichtet wird, abgekühlt wird. In Fig. 1 ist dargestellt, daß der Wärmeableiter 80 in der zweiten Kammer 16 angeordnet und insbesondere in einer öffnung 83 des äußeren rohrförmigen Teils 26 gelagert ist, um dem sensibilisierten Material 25 eine Kühlfläche 81 zuzukehren. Der Wärmeableiter 80 kann darüberhinaus mehrere Rippen 87 besitzen, welche zur Verteilung der aufgenommenen thermischen Energie dienen, wenn das Kühlmedium durch die Ventilationsschlitze 20 und innerhalb der zweiten Kammer zirkuliert.Depending on the type of photographic emulsion coated on the sensitized material, it may be desirable be that the sensitized material 25 is cooled before it is exposed to radiation through the opening 66. In Fig. 1 it is shown that the heat sink 80 is arranged in the second chamber 16 and in particular in an opening 83 of the outer tubular part 26 is mounted in order to face the sensitized material 25 with a cooling surface 81. The heat sink 80 can also have several ribs 87, which are used to distribute the received Thermal energy are used when the cooling medium passes through the ventilation slots 20 and within the second chamber circulates.
In bestimmten Fällen kann es wünschenswert sein, daß die Intensität der auf das sensibilisierte Material 25 gerich-In certain cases it may be desirable that the Intensity of the sensitized material 25
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teten Strahlung verfc'lltuisraäßig konstant gehalten v;irdt um hierdurch die Photolyse des latenten Bildes zu gewährleisten. In einem speziellen Ausführungsbeispiel können annähernd 130 Watt an ultravioletter Strahlung durch die Öffnung 66 gerichtet werden. Ein hoher Anteil der übrigen, von der einzigen Quelle 50 ausgesandten Energie wird von den Inneren rohrförmigen Teil 28 absorbiert. Die einzige Quelle 50 der oben beschriebenen Art kann, damit sie wirksam arbeitet, beispielsweise eine Temperatur In der Größenordnung von ca. 315°C erfordern. Darüberhlnaus ist aber zu beachten, daß das sensibilisierte Material 25 nicht über einen bestimmten Wert erhitzt werden darf/ wenn man ein Ansengen oder Verbrennen des Materials verhindern will. Hieraus ergibt sich, daß es besonders wünschenswert ist, eine geeignete Einrichtung üur Steuerung der Temperatur nicht nur der einzigen Quelle 50, sondern auch des sensibiliaierten Materials 25 vorzusehen. Beim dargestellten Ausführungsbeispiel ist ein Ventilator 2-4 vorgesehen, welcher ein Zirkulieren des KUhlmediums durch den inneren rohrförmigen Teil 28 bewirkt. Fig. 2 Jonη genauer entnommen werden, daß der Ventilator 54, welcher mittels eines Motors 56 antreibbar ist, ein geeignetes Kühlmedium, beispielsweise Luft, der Oberfläche der einzigem Quelle 50 sowie der Innenfläche des inneren rohrförmigen Teils 28 zuführt» In Fig.l ist eine Temperatur-Meßeinrichtung ;2f beispielsweise ein handelsüblicher Thermistor, dargestellt, welcher ebenfalls auf der Hitzeabsorptionsflüche 60 angeordnet ist. überdies kann ein zweiter, nicht dargestellter Ventile λ im Entwicklungsgerät 10 am anderen E:;d& des rohrförmigen Teils vorgesehen sein, um den Strom der Luft durch diessi: ^e11 zu unterstützen.ended radiation verfc'lltuisraäßig kept constant v; ith t thereby photolysis to ensure the latent image. In a particular embodiment, approximately 130 watts of ultraviolet radiation can be directed through opening 66. A high proportion of the other, emitted from the single source 50 energy is absorbed by the inner tubular member 28th The single source 50 of the type described above may, for example, require a temperature on the order of about 315 ° C in order to operate effectively. In addition, however, it should be noted that the sensitized material 25 must not be heated above a certain value / if one wishes to prevent scorching or burning of the material. As a result, it is particularly desirable to provide suitable means for controlling the temperature of not only the single source 50 but also the sensitized material 25. In the illustrated embodiment, a fan 2-4 is provided, which causes the cooling medium to circulate through the inner tubular part 28. Fig. 2 Jonη can be seen in more detail that the fan 54, which can be driven by means of a motor 56, a suitable cooling medium, for example air, supplies the surface of the single source 50 and the inner surface of the inner tubular part 28 Temperature measuring device ; 2 f, for example, a commercially available thermistor is shown, which is also arranged on the heat absorption surface 60. Moreover, a second, not shown valves λ in the developing device 10 at the other E:; be provided & d of the tubular member to control the flow of air through diessi: to support ^ e. 11
Es wird Bezug genommen e:\£ Fix·-. ?f in welc^ej: ©ine elektrische Schaltung dargestellt i: ; ■· 7ut Steuerixng desReference is made to e: \ £ Fix · -. ? f in welc ^ ej: © ine electrical circuit shown i:; ■ · 7ut control of the
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Motors 56 für den Ventilator 54 in Abhängigkeit von der zuvor beschriebenen Temperatur-Meßeinrichtung in Form des Thermistors 62 dient. Der Motor 56 für den Ventilator ist mit einer geeigneten Wechselstromquelle 124 über Stromleiter 126 und 128 und über einen Ankerschalter 84 verbunden, welcher zwischen einer offenen und einer geschlossenen Stellung mittels einer Ankerspule 82 betätigbar ist. Diese Ankerspule 82 ist ihrerseits mittels einer Schalteinrichtung betätigbar, die einen in Reihe mit der Wechselstromquelle 124 geschalteten, als Thyristor dienenden Triac 86 und eine mit dem Gatter dieses Triacs verbundene, als Schaltdiode dienende Diac 88 aufweist. Ein Widerstand 90 und ein Kondensator 92 sind hintereinander und parallel zum Triac 86 geschaltet, um die Frühzündung des Triacs 86 aufgrund von Einschaltstößen mit kurzen Anstiegszeiten zu verhindern, welche parallel zum Triac 86 auftreten.#Die Diac 88 ist über einen Kondensator 94 mit dem Stromleiter 128 und mit dem Mittelpunkt zwischen Dioden 100 und 114 verbunden. Diese Dioden 100 und 114 sind über einen Widerstand 96 mit dem Stromleiter 126 verbunden; der Viert dieses Widerstandes bestimmt dasjenige Potential, bei welchem die Diac 88 und somit der Triac 86 ihren leitenden Zustand erreichen. Die Diode 100 ist mit dem Kollektor eines Transistors 98 und über einen Widerstand 106 mit der Basis dieses Transistors verbunden. Darüberhinaus ist der Emitter des Transistors 98 über einen Widerstand 102 und den Thermistor 62 mit dem Stromleiter 128 in Reihe geschaltet. Die Diode 114 ist in ähnlicher Weise mit dem Kollektor eines Transistors 110 und über einen Widerstand 112 mit der Basis dieses Transistors 110 verbunden. Die jeweilige Basis der Transistoren 98 und 110 sind mit den Kollektoren von Transistoren 104 bzw. 108 verbunden. Fig. 3 kann entnommen v/erden, daß die jeweilige Basis und der jeweilige Emitter der Transistoren 104 bzw. 108 miteinander verbunden sind. Ein Wic'arstand verbindet den Verbinaungspunkt zwischen der jeweiligen BasisMotor 56 for the fan 54 is used as a function of the temperature measuring device described above in the form of the thermistor 62. The motor 56 for the fan is connected to a suitable alternating current source 124 via current conductors 126 and 128 and via an armature switch 84 which can be actuated between an open and a closed position by means of an armature coil 82. This armature coil 82 can in turn be actuated by means of a switching device which has a triac 86 connected in series with the alternating current source 124 and serving as a thyristor and a diac 88 connected to the gate of this triac and serving as a switching diode. A resistor 90 and a capacitor 92 are connected in series and in parallel with the triac 86 in order to prevent the pre-ignition of the triac 86 due to switch-on surges with short rise times which occur in parallel with the triac 86. # The diac 88 is connected to the conductor 128 and to the midpoint between diodes 100 and 114 via a capacitor 94. These diodes 100 and 114 are connected to the conductor 126 via a resistor 96; the fourth of this resistance determines the potential at which the diac 88 and thus the triac 86 reach their conductive state. The diode 100 is connected to the collector of a transistor 98 and via a resistor 106 to the base of this transistor. In addition, the emitter of the transistor 98 is connected in series with the current conductor 128 via a resistor 102 and the thermistor 62. The diode 114 is similarly connected to the collector of a transistor 110 and via a resistor 112 to the base of this transistor 110. The respective bases of transistors 98 and 110 are connected to the collectors of transistors 104 and 108, respectively. 3 it can be seen that the respective base and the respective emitter of the transistors 104 and 108 are connected to one another. A Wic'arstand connects the connection point between the respective base
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der Transistoren 104 und 108 und den Verbindungspunkt zwischen dem jeweiligen Emitter der Transistoren 98 und 110 miteinander. Der Verbindungspunkt zwischen der jeweiligen Basis der Transistoren 104 und 108 ist darüberhinaus mit einem Schalter 16 verbunden, welcher zwischen einer ersten'und einer zweiten Stellung betätigbar ist. Befindet sich der Schalter 76 in seiner ersten Stellung, dann ist die Schaltung gemäß Fig. 3 derart eingestellt, daß sie einen niederen Temperaturbereich in der Größenordnung von ungefähr 90°C bis ca. 110°C erfaßt. Der Schalter 76 ist; genauer betrachtet, in seiner ersten Stellung über einen einstellbaren Widerstand 118 und einen Widerstand 1.17 in Reihe mit dem Stromleiter 128 geschaltet. Befindet sich der Schalter 76 in seiner zweiten Stellung, dann ist die Schaltung gemäß Fig. 3 derart eingestellt, daß sie den hohen Temperaturbereich in der Größenordnung von ungefähr 255°C bis 275°C erfaßt. In dieser zweiten Stellung ist der Schalter 76 über einen einstellbaren Widerstand 120 und einen Widerstand 122 in Reihe mit dem Stromleiter 128 geschaltet. Die Widerstände 118 und 120 sind derart eingestellt, daß sie äußerst genau festlegen, zu welchem Zeitpunkt der Motor 56 angeschaltet wird, um die rohrförmigen Teile 26 und 28 und hierdurch das sensibilisierte Material 25 zu kühlen.of transistors 104 and 108 and the connection point between the respective emitters of transistors 98 and 110 with each other. The connection point between the respective bases of the transistors 104 and 108 is also connected to a switch 16 which can be actuated between a first and a second position. If the switch 76 is in its first position, the circuit according to FIG. 3 is set in such a way that it covers a low temperature range on the order of about 90.degree. C. to about 110.degree. The switch 76 is; considered more precisely, in its first position connected in series with the conductor 128 via an adjustable resistor 118 and a resistor 1.17. If the switch 76 is in its second position, the circuit according to FIG. 3 is set in such a way that it detects the high temperature range in the order of magnitude of approximately 255.degree. C. to 275.degree. In this second position, the switch 76 is connected in series with the current conductor 128 via an adjustable resistor 120 and a resistor 122. The resistors 118 and 120 are set in such a way that they determine extremely precisely at what point in time the motor 56 is switched on in order to cool the tubular parts 26 and 28 and thereby the sensitized material 25.
Die Arbeitsweise der Schaltung gemäß Fig. 3 hängt somit, in Kürze gesagt, von der Änderung des Widerstandes des Thermistors 62 in Abhängigkeit von der Temperatur innerhalb des rohrförmigen Teiles 28 ab. Im Anfangsstadium ist die Temperatur innerhalb des rohrförmigen Teiles 28 beim Betrieb des Entwicklungsgerätes 10 verhältnismäßig gering, d.h., er besitzt im wesentlichen Zimmertemperatur, wobei die Impedanz, welche der Thermistor in Bezug auf die Schaltung gemäß Fig. 3 aufweist, verhältnismäßig hoch ist. Wenn einThe operation of the circuit according to FIG. 3 thus depends, in brief, on the change in the resistance of the Thermistor 62 as a function of the temperature within the tubular part 28. Is in the early stages the temperature within the tubular part 28 when the developing device 10 is in operation is relatively low, i.e., it is essentially at room temperature, which is the impedance that the thermistor has with respect to the circuit according to FIG. 3, is relatively high. When a
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positiv gerichtetes Signal der Wechselstromquelle 124 über den Widerstand 96 zu den Dioden 100 und 114 gelangt, dann wird dieses Signal durch die Diode 114 gesperrt und durch die in Vorwärtsrichtung vorgespannte Diode 100 durchgelassen, damit es über den Widerstand 106 zur Basis des Transistors 98 gelangen kann und diesen leitend macht. Hierdurch wird erreicht, daß ein positives Signal über den Widerstand 116 an der Basis des Transistors 104 angelegt wird, welches versucht, den Transistor 104 in einen leitenden Zustand zu versetzen und ein negativeres Signal an der Basis des Transistors 98 anzulegen. Es wird ein Gleichgev/ichtszustand erreicht, bei welchem der Transistor 98 teilweise leitend gemacht ist, damit dieser nur einen verhältnismäßig geringen Strom durchläßt. Somit ist die Impedanz, welche zwischen dem Verbindungspunkt der Diode 100 und des Widerstandes 96 und dem Stromleiter 128 über den zwischen der Diode 100 und dem Transistor 98 bestehenden Strompfad vorliegt, verhältnismäßig hoch. Damit entsteht auch ein positives Potential parallel zum Widerstand 96 und zum Kondensator 94, wodurch die Diac 88 sowie der Triac 86 gezündet werden. Befindet sich der Triac 86 in einem leitenden Zustand, dann fließt durch die Ankerspule 82 ein Strom, wodurch der Ankerschalter 84 zurückgezogen wird und wodurch der Motor 56 unbetätigt bleibt.If a positive signal from the alternating current source 124 reaches the diodes 100 and 114 via the resistor 96, this signal is then blocked by the diode 114 and passed through the forward-biased diode 100 so that it can reach the base of the transistor 98 via the resistor 106 and makes it conductive. What is achieved hereby is that a positive signal is applied to the base of transistor 104 via resistor 116, which tries to put transistor 104 into a conductive state and to apply a more negative signal to the base of transistor 98. A state of equilibrium is achieved in which the transistor 98 is made partially conductive so that it only allows a relatively low current to pass. Thus, the impedance which is present between the connection point of the diode 100 and the resistor 96 and the current conductor 128 via the current path existing between the diode 100 and the transistor 98 is relatively high. This also creates a positive potential parallel to the resistor 96 and the capacitor 94, as a result of which the diac 88 and the triac 86 are ignited. If the triac 86 is in a conductive state, then a current flows through the armature coil 82, as a result of which the armature switch 84 is withdrawn and the motor 56 remains inoperative.
Sobald die Temperatur innerhalb des rohrförmigen Teiles 28 ansteigt, verringert sich der Widerstand des Thermistors 62. Dies führt dazu, daß der Transistor 98, sobald das positive Signal über den Widerstand 96 an der Diode 100 angelegt wird, in ähnlicher Weise in einen leitenden Zustand versetzt wird. Darüberhinaus wird ein positives Signal an der Basis des Transistors 104 angelegt, welches versucht, den Transistor 104 in seinen leitenden Zustand zu versetzen. Wird jedoch der Thermistor 62 einer erhöhtenAs soon as the temperature rises within the tubular member 28, the resistance of the thermistor decreases 62. This results in transistor 98 as soon as the positive signal is applied to diode 100 via resistor 96 is placed in a conductive state in a similar manner. In addition, there is a positive signal applied to the base of transistor 104, which tries to switch transistor 104 into its conductive state offset. However, if the thermistor 62 is increased
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Temperatur ausgesetzt» dann weist dieser einen geringeren Widerstand auf und ein größerer Strom kann durch den Transistor 98, den Widerstand 102 und den Thermistor 62 zum Stromleiter 128 fließen. Das Potential, welches über den Widerstand 116 an der Basis des Transistors 104 anliegt, wird reduziert oder negativer und neigt dazu, den Transistor 104 weniger leitend zu machen. Der Transistor 98 wird seinerseits vollständig eingeschaltet und die Impedanz zwischen dem Verbindungspunkt der Diode 100 und des Widerstandes 96 sowie der Masse wird im wesentlichen reduziert. Wenn dieser Zustand eintritt, dann wird das Potential, welches parallel zum Kondensator 94 an der Diac 88 anliegt, im wesentlichen bis zu dem Punkt erniedrigt, bei welchem das Potential nicht mehr ausreicht, um die Diac 88 zu zünden. Wenn die Diac 88 abgeschaltet wird, dann wird der Triac 86 ebenfalls in seinen nicht leitenden Zustand geschaltet, so daß kein Strom durch die Ankerspule 82 fließen kann. Der durch eine Feder vorgespannte Ankerschalter 84 wird freigegeben, wodurch der Stromkreis von der Wechselstrornquelle über den Motor 56 geschlossen wird. Wenn der Motor 56 angeschaltet ist, dann wird das Kühlmedium durch den inneren rohrförmigen Teil 28 geführt, damit das sensibilisierte Material 25 gekühlt wird.Exposed to temperature »then this has a lower value Resistance on and a larger current can through the transistor 98, the resistor 102 and the thermistor 62 to the Conductor 128 flow. The potential which is applied to the base of transistor 104 via resistor 116, is reduced or more negative and tends to make transistor 104 less conductive. The transistor 98 is in turn fully turned on and the impedance between the junction of diode 100 and resistor 96 and ground is substantially reduced. If this condition occurs, then the potential, which is applied in parallel to the capacitor 94 on the diac 88, substantially lowered to the point at which the potential is no longer sufficient to ignite the diac 88. If the diac 88 is switched off, then the triac 86 is also switched to its non-conductive state, see above that no current can flow through the armature coil 82. The spring biased armature switch 84 is released, removing the circuit from the AC power source is closed via the motor 56. When the motor 56 is switched on, then the cooling medium is through the inner tubular part 28 guided so that the sensitized material 25 is cooled.
Es ist insbesondere festzuhalten, daß die Schaltung gemäß Fig. 3 symmetrisch aufgebaut ist. Dies führt dazu, daß in Bezug auf die Transistoren 110 und 108 ein ähnlicher Vorgang eintritt, sobald die negative Phase des von der Wechsel-Stromquelle 124 kommenden wechselnden Signals am Verbindungspunkt «wischen den Dioden 114 und 110 anliegt. Dies führt dazu, daß der Transistor 110, sobald eine hohe Temperatur die Impedanz des Thermistors 62 verringert, vollständig vorgespannt wird, um dadw.rh das Zünden der Diac 88 und des Triacs 86 zu verhindern, mit der \. curtis, daß der Kotor eingeschaltet wird.It should be noted in particular that the circuit according to FIG. 3 is constructed symmetrically. As a result, in With regard to the transistors 110 and 108, a similar process occurs as soon as the negative phase of the alternating signal coming from the alternating current source 124 is present at the connection point between the diodes 114 and 110. this leads to to the fact that the transistor 110, as soon as a high temperature reduces the impedance of the thermistor 62, is fully biased to dadw.rh the ignition of the diac 88 and the Triacs 86 to prevent using the \. curtis that the Kotor is switched on.
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In der vorhergehenden Beschreibung wurde ein Gerät zum Entwickeln latenter Bilder beschrieben, bei welchem eine einzige Energiequelle benutzt wird, um die Stabilisierung des sensibilisierten Materials durch die Anwendung thermischer Energie zu bewirken und darüberhinaus das sensibilisierte Material mit einer Strahlung vorbestimmter Wellenlänge zu bestrahlen. Dies alles hat dazu geführt, daß die Leistungsfähigkeit des vorliegenden Entwicklungsgeräts unter Ausschluß eines bei den bekannten Geräten gewöhnlich eingebauten Bauteils vergrößert werden konnte.In the foregoing description, an apparatus for developing latent images has been described in which a single energy source is used to stabilize the sensitized material through the application of thermal energy and furthermore to irradiate the sensitized material with radiation of a predetermined wavelength. All of this has led to the fact that the performance of the present developing device could be increased with the exclusion of a component usually built into the known devices.
Dem Durchschnittsfachmann sind viele Materialien bekannt, welche nach ihrer Sensibilisierung im zuvor beschriebenen Entwicklungsgerät entwickelt werden können. Auch die zur Entwicklung derartiger Materialien erforderlichen Verfahren sind dem Durchschnittsfachmann allgemein bekannt, so daß sich eine nähere Erklärung erübrigt.Many materials are known to those of ordinary skill in the art which, once they have been sensitized, can be developed in the development apparatus described above. Also necessary for the development of such materials processes are known to those skilled generally known, so that a further explanation is unnecessary.
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Claims (16)
der Abstand zwischen dem ersten und dem zweiten Führungsspalt geringer ist als die Länge des sensibilisierten Materials (25).15. Apparatus according to claim 14, characterized in that
the distance between the first and the second guide gap is less than the length of the sensitized material (25).
gekennzeichnet, daß als Quelle (50) eine Quecksilberdampflampe vorgesehen ist.16. Device according to one of claims 1 to 15, characterized
characterized in that a mercury vapor lamp is provided as the source (50).
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US79419969A | 1969-01-27 | 1969-01-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2003389A1 true DE2003389A1 (en) | 1970-08-13 |
Family
ID=25161990
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702003389 Pending DE2003389A1 (en) | 1969-01-27 | 1970-01-26 | Development device |
DE19702065154 Pending DE2065154A1 (en) | 1969-01-27 | 1970-01-26 | Control device for feeding a consumer. Eliminated from: 2003389 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702065154 Pending DE2065154A1 (en) | 1969-01-27 | 1970-01-26 | Control device for feeding a consumer. Eliminated from: 2003389 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3628440A (en) |
JP (1) | JPS499375B1 (en) |
DE (2) | DE2003389A1 (en) |
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---|---|
GB1292752A (en) | 1972-10-11 |
FR2029454A1 (en) | 1970-10-23 |
DE2065154A1 (en) | 1972-11-02 |
JPS499375B1 (en) | 1974-03-04 |
US3628440A (en) | 1971-12-21 |
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