DE19962564C1 - Poliertuch - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf ein Poliertuch zum Polieren von Substratscheiben, wie beispielsweise Halbleiterscheiben, unter Verwendung eines flüssigen oder kolloiddispersen Poliermittels, das gekennzeichnet ist durch eine Schichstruktur mit einer segmentierten Oberschicht, einer segmentierten Unterschicht und einer porösen Zwischenschicht.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Poliertuch zum Polieren von
Substratscheiben, wie beispielsweise Halbleiterscheiben, unter
Verwendung eines flüssigen oder kolloiddispersen Poliermittels.
Bei der Bearbeitung von Substratscheiben, wie beispielsweise
Halbleiterscheiben oder SiC-Scheiben, nimmt die Politur als ab
schließender und somit maßgeblich formgebender Schritt eine
zentrale Bedeutung ein. Im Stand der Technik ist eine Vielzahl
von Polierverfahren beschrieben. Man unterscheidet beispiels
weise zwischen Einzel- und Mehrfachscheiben-Polierverfahren,
bei denen entsprechend nur eine oder eine Pluralität von Schei
ben bearbeitet werden, sowie zwischen Einseiten- und Doppelsei
ten-Polierverfahren, bei denen nur eine Seite oder beide Seiten
gleichzeitig in einem Schritt bearbeitet werden. Die Substrat
scheiben werden bei der Einseitenpolitur ("single side poli
shing", SSP) zwischen einer Trägerplatte und einem Poliertuch,
und bei der Doppelseitenpolitur ("double side polishing", DSP)
zwischen zwei Poliertüchern poliert.
Der Stand der Technik hierzu ist in der Literatur ausführlich
beschrieben, beispielsweise in A. J. Pidduck, V. Nayar, Appl.
Phys. A 53, 557 (1991) und in der EP 0 579 298 A1;
die verwendeten alkalischen kolloiddisper
sen Kieselsol-Poliermitteln beispielsweise in der EP 0 773 270
A2.
Bei den oben beschriebenen Polierverfahren handelt es sich in
der Regel um chemomechanische Verfahren. Die chemomechanischen
Polierverfahren wirken sowohl durch eine chemische Reaktion als
auch durch mechanische Abrasion materialabtragend. Der Raum
zwischen der Substratscheibe und dem Poliertuch, nachfolgend
als Polierspalt bezeichnet, ist mit geeigneten Betriebsmedien,
wie beispielsweise Poliermitteln, Polierpasten oder Kühlmitteln
gefüllt, wobei im vorgenannten Fall der erzielte Materialabtrag
von in den Poliermitteln/-pasten dispergierten oder vermengten
mechanisch abrasiven harten Körnern ausgeht ("loose-grain"-
polishing/-grinding) und im letzteren Fall von im Poliertuch
eingelagerten Abrasivstoffen ("fixed-grain"-polishing/-
grinding). Es sind auch Kombinationen beider Verfahren möglich
sowie solche, in denen das Abrasiv zwar lose zugegeben wird,
sich jedoch im allein nicht abrasiv wirkenden Poliertuch "ein
nistet" oder festsetzt und dann als "quasi-fixed-grain abrasi
ve" wirkt.
Poliermittel für eine reine Siliciumpolitur bestehen beispiels
weise aus einem kolloiddispersem Kieselsol in einer alkalisch
wäßrigen Suspension, gegebenenfalls unter Zusatz von geeigneten
Additiven. Bei der chemomechanischen Oxid- oder Metal-Politur,
die im Gegensatz zur Politur reiner Silicium-Substrate als
"CMP" (chemical-mechanical planarization) bezeichnet wird, wer
den andere Kieselteilchen-Durchmesser und Zusammensetzungen der
Poliermittel verwendet. Insbesondere werden hier rein mecha
nisch abrasiv wirkende "Schleif-" und rein chemisch wirkende
"Ätz-Mittel" zu den gleichzeitig chemisch und mechanisch wir
kenden Kieselsolen gegeben. Ferner existieren sog. tribo
chemische chemo-mechanische Polierverfahren, bei denen ein ge
bundenes Abrasiv unter tribologischer (Reibungs-) Wechselwir
kung mit dem Werkstück chemo-mechanisch materialabtragende Sub
stanzen freisetzt.
Die für eine chemomechanische Politur verwendeten Poliertücher
bestehen beispielsweise aus Polyurethan, das gegebenenfalls mit
Polyesterfasern verstärkt ist und sind genadelt verfilzt, unge
richtet verfilzt, verwebt, verwirkt oder anderweitig struktu
riert oder unstrukturiert, mit wahlweise langen oder kurzen Fa
serabschnitten. Die Polyurethan-Matrix unterscheidet sich in
Härte, Dichte, Vernetzungsgrad und gegebenenfalls in der Schäu
mung. Poliertücher und deren Verwendung zum Polieren von Sub
stratscheiben sind im Stand der Technik, beispielsweise in der
US 5,441,598, offenbart.
Der der Politur zugrundeliegende Abtragsmechanismus wird durch
die Wechselwirkung von Substratscheibenoberfläche, Poliermittel
und Poliertuch und den kinematischen Prozeßparametern, wie bei
spielsweise dem Polierdruck oder der Temperatur, bestimmt.
Dabei sind insbesondere die Parameter Substratscheibenoberflä
che, Poliermittel und Poliertuch eng miteinander verbunden, so
daß sie ein untrennbares System bilden. Eine gleichmäßige Po
liermittelverteilung über das Poliertuch und die Oberflächen
der Substratscheiben ist eine grundlegende Voraussetzung für
die von den Bauelementeherstellern geforderte Oberflächenquali
tät der Substratscheiben. Damit sind die Flüssigkeitstransport-
und Flüssigkeitsspeichereigenschaften des Poliertuchs von be
sonderer Bedeutung, da diese insbesondere die Homogenität der
Zuführung und Verteilung des Poliermittels bestimmen. Das Po
liermittel wird zentral, beispielsweise über Düsen oder Bohrun
gen im beispielsweise oberen Polierteller zugeführt. Die Po
liermittelverteilung erfolgt auf makroskopischer Größenskala
von innen nach außen über den Polierteller hinweg durch die
Fliehkraft und durch hydrostatische Verdrängung; auf mikrosko
pischer Größenskala hingegen durch Konvektion, die durch das
Schergefälle im Polierspalt angefacht und unterhalten wird,
durch mikroskopischen Massentransport durch die Flüssigkeits
grenzschicht mit Hilfe der endlich ausgedehnten Kolloidteilchen
und durch Diffusion aufgrund von lokalen Konzentrationsgefäl
len.
Makroskopisch muß das frische Poliermittel stets über die
Scheibenkante transportiert werden, um der Scheibenfläche zuge
führt werden zu können, wenn keine Direktzuführung über die ge
samte Scheibenfläche, wie in US 5,533,923 beschrieben, verwirk
licht ist. Dies liegt daran, daß Poliertücher in der Regel so
aufgebaut sind, daß sie als geschlossene, nachträglich und je
weils als schnell wechselbares Verbrauchsgut ausgeführte
Schichten durch Klebung auf den Polierteller der Poliervorrich
tung aufgebracht werden. Sie werden daher meist als geschlosse
ne, rückseitig klebefilm-versiegelte, einfache und bis auf die
Schäumung der Trägermatrix, Fasereinbau und ggf. Abrasivteil
cheneinbau innerlich strukturlose Folien ausgeführt.
Der Flüssigkeits-Massentransport wird aber auch von der Dicke
des Poliermittelfilms bestimmt. Die Dicke dieses Films hängt
von kinematischen Prozeßparametern, wie beispielsweise der Po
liergeschwindigkeit und des Drucks, von thermodynamischen Para
metern wie der Temperatur und von Materialeigenschaften wie der
Viskosität des Poliermittels (Zähflüssigkeit), aber auch von
den Eigenschaften des Poliertuchs selbst ab. In US 5,882,251,
US 5,212,910 und US 5,899,799 ist beschrieben, wie man durch
eine Strukturierung des Tuchs, beispielsweise durch einge
schliffene Gräben, beispielsweise in Kreuz, Gitter-, Rauten-
oder Spiralform, und durch eine geeignete Morphologie einer
flächendeckenden Zuführung und Verteilung des Poliermittels na
hezukommen versucht. Die beschriebenen Tuchmodifikationen stel
len aber keine Ideallösung dar, insbesondere nicht für große
Scheibendurchmesser, bei denen das Verhältnis aus Scheibenum
fang (über den das Poliermittel jeweils auf die Scheibenfläche
eingebracht werden muß) und Scheibenfläche (für die das Polier
mittel in mengenmäßig ausreichendem Maße zur Verfügung gestellt
werden muß) immer kleiner wird und daher örtlicher Poliermit
telmangel droht.
Die inhomogene Poliermittelverteilung führt zu einer Poliermit
telverarmung in der Substratscheibenmitte und damit zu einem
flächenvariablen Abtrag, der die Scheibenebenheit negativ
beeinflußt. Insbesondere beobachtet man eine Verrundung der
Scheiben im Randbereich. Diese durch die unzureichend gleichmä
ßige Poliermittelverteilung hervorgerufene unbeabsichtigt re
sultierende Abweichung der tatsächlich erzielten von der ur
sprünglich gewünschten Scheibengeometrie läßt sich durch die
übrigen Polierprozeßparameter (Kinematik, Thermodynamik, Mate
rialeigenschaften) nicht kompensieren.
Der Erfindung liegt damit die Aufgabe zugrunde, ein Poliertuch
zum Polieren von Substratscheiben unter Verwendung eines flüs
sigen oder kolloiddispersen Poliermittels zur Verfügung zu
stellen, das eine gleichmäßige Zufuhr und Verteilung des Po
liermittels gewährleistet.
Gelöst wird die Aufgabe durch ein Poliertuch zum Polieren von
Substratscheiben unter Verwendung eines flüssigen oder kolloid
dispersen Poliermittels, das gekennzeichnet ist durch eine
Schichtstruktur mit einer segmentierten Oberschicht, einer seg
mentierten Unterschicht und einer porösen Zwischenschicht.
Die Unterschicht ist aus einzelnen, unverbundenen
Segmenten zusammengesetzt. Die Segmente sind durch
Kanäle voneinander beabstandet, so daß ein verbundenes Kanal
netzwerk entsteht. Für eine form- und kraftschlüssige Verbin
dung mit dem Polierteller sind die Segmente beispielsweise
rückseitig beschichtet, beispielsweise mit einem Kitt oder ei
nem Kleber. Bevorzugt wird die form- und kraftschlüssige Ver
bindung auch über Vakuumanwendungen hergestellt.
Die Zwischenschicht besteht aus einem durchgehenden Material,
beispielsweise einer Folie. Sie ist mit einer Vielzahl mikro
skopischer Poren oder Durchtrittskanälen versehen, die einen
Mediendurchtritt von der einen zur anderen Seite gestatten. Die
Porengröße ist vorzugsweise so bemessen, daß ein Druckabfall
infolge des Durchgangswiderstandes auftritt, wenn ein flüssiges
oder kolloiddisperses Poliermittel die Schicht durchströmt. Der
Druckabfall sorgt dafür, daß sich das Poliermittel zunächst
gleichmäßig über das gesamte Kanalnetzwerk der Unterschicht
ausbreitet, wenn das Poliermittel über die Rückseite des Po
liertellers in Richtung Poliertuch zugeführt wird. Querschnitt
und Zahl der Kanäle zwischen den Segmenten der Poliertuch-
Unterschicht sind so gestaltet, daß das zur flächendeckenden
Poliermittelverteilung erforderliche Druckgefälle innerhalb
dieses Kanalsystems klein gegenüber dem Druckabfall bei Durch
gang durch die poröse Zwischenschicht ist.
Die Oberschicht ist, vorzugsweise aus einzelnen, unverbundenen
Segmenten zusammengesetzt. Vorzugsweise sind die Segmente durch
Kanäle voneinander beabstandet, so daß ein verbundenes Kanal
netzwerk entsteht. Die Oberschicht hat die wesentlichen funk
tionellen Eigenschaften konventioneller Poliertücher. Darunter
fallen beispielsweise die viskos-elastischen Eigenschaften, die
Mikromorphologie und die Poliermittel-Speicherfähigkeit oder
die Hybrid-Strukur, beispielsweise einer Kunststoff-Matrix oder
einer Faserverstärkung.
Die Schichten sind vorzugsweise fest miteinander verbunden,
beispielsweise miteinander verklebt. Dadurch erhält man eine
bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Poliertuchs
mit einer Unterschicht, die von einem Kanalnetzwerk durchzoge
nen ist, einer porösen Zwischenschicht und einer Oberschicht,
die einem konventionellen Poliertuch ähnelt, jedoch ebenfalls
mit einem Kanalnetzwerk durchzogen ist. Diese Sandwich-Struktur
besitzt bevorzugt über die gesamte Fläche eine homogene Dicke
und homogene Materialeigenschaften (Elastizität). Die einzelnen
Segmente aus denen sich die Ober- und die Unterschicht zusam
mensetzen sind durch Kanäle, bevorzugt von konstanter Breite,
voneinander beabstandet. Die Bevorzugung konstanter Kanalbreite
folgt aus dem Gebot der konstruktiven Einfachheit. Jedoch kön
nen die Kanäle auch von Vorteil in anderen, beispielsweise sich
verjüngenden oder erweiternden Querschnitten, hergestellt wer
den, beispielsweise um auf größerer Längenskala - beispielswei
se über den Radius des Poliertellers hinweg - ein gewolltes,
ungleichmäßiges Poliermittelverteilungsprofil zu erzielen. Die
Segmente der Ober- und Unterschicht haben bevorzugt die gleiche
Größe und sind vertikal genau übereinander angeordnet. Diese
konstante Größe der Segmente und deren schichtweise Anordnung
übereinander führt dazu, daß die durch punktuelle Wechsellast
infolge des wechselnden Vorbeistreichens der Werkstücke während
des Poliervorganges verursachte Tuchkompression auf größerer
Längenskala (gewünscht: im Bereich der Ausdehnung der zu polie
renden Werkstücke) von gleichem Ausmaß an jeder beliebigen seg
ment-bedeckten Stelle des Tuches ist. Die von der Poliervor
richtung während der Politur aufzubringende Walkarbeit des Tu
ches ist dann gleichförmig, und der über die Walkarbeit auf die
Werkstücke eingebrachte Anteil an wechselwirkender Energie ist
ebenfalls gleichmäßig, woraus ein flächenhomogener Polierabtrag
resultiert.
Als besonders vorteilhaft erweist sich die Sandwich-Struktur
des erfindungsgemäßen Poliertuchs bei der Montage und Demontage
auf dem Polierteller, da die gleichen Werkzeuge und Vorrichtun
gen wie bei konventionellen Poliertüchern verwendet werden.
Die Zuführung des Poliermittels in den Polierspalt erfolgt be
vorzugt über die Poliertellerfläche mittels Flüssigkeitsdurch
führungen durch den Polierteller. Bei der DSP hat der untere,
sich drehende Polierteller, vorzugsweise eine Flüssigkeitsdreh
durchführung bzw. ein Gerinne (mitrotierende Poliermittel-
Verteilerringe) und Tellerbohrungen am oberen Polierteller.
Falls der hydrostatische Druck, den das nachgeführte und zur
Freisetzung über das beschriebene Mehrschicht-Poliertuch anste
hende Poliermittel in dem Zuführ-Gerinne aufbaut, nicht aus
reicht, um das Druckgefälle bei der Verteilung im Poliertuch
rückseitigen Kanalsystem und beim Durchgang durch die Poren der
Poliertuch-Zwischenschicht zu überwinden, kann durch Zwischen
schalten einer kleinen Pumpe, die auf den Poliertellern mit um
läuft, der erforderliche Druck erzeugt werden. In jedem Fall
können dann Flüssigkeits-Druck-Drehdurchführungen, die bei der
Verwendung des teilchengefüllten Kieselsol-Poliermittels war
tungsintensiv und verschleißanfällig sind vermieden werden, und
es muß schlimmstenfalls die Betriebsenergie für die mitlaufen
den Druckpumpen z. B. über elektrische Schleifkontakte auf die
drehenden Polierteller zugeführt werden.
Von besonderem Vorteil ist die Anwendung eines derartigen flä
chenhomogenen Poliermittel-zuführenden Mehrschicht-Poliertuchs
bei der Doppelseitenpolitur (DSP), bei der die Gefahr der un
gleichmäßigen oder mengenmäßig unzureichenden Zufuhr von Po
liermittel besonders gegeben ist. Dies liegt daran, daß bei der
DSP, im Gegensatz zur Einseitenpolitur (single-side polishing,
SSP), bei der dafür nahezu der gesamte Halbraum über dem nach
oben offenen Poliertuch zur Verfügung steht, das Poliermittel
nur durch einige wenige Bohrungen durch den oberen Polierteller
mit punktuellen Austrittsöffnungen in den Polierspalt zugeführt
werden kann. Diese Austrittsöffnungen sind dazu noch den größ
ten Teil der Zeit durch die vorbeistreichenden Werkstücke ver
deckt.
Das vorzugsweise rückseitig durch den/die Polierteller zuge
führte Poliermittel tritt in das Kanalnetzwerk der Poliertuch
unterschicht ein. Dort verteilt sich das Poliermittel gleichmä
ßig über das gesamte Netzwerk und somit gleichmäßig über die
gesamte Fläche zwischen Polierteller und Poliertuchunter
schicht. Die Porengröße der Poliertuchzwischenschicht liefert
einen Durchgangswiderstand für das Poliermittel. Für den geeig
neten Durchgangswiderstand wird die Porengröße in Abhängigkeit
des verwendeten Poliermittels gewählt. Das Poliermittel tritt
gleichmäßig durch die Poren der Zwischenschicht in das Kanal
netzwerk der Poliertuchoberschicht ein.
Erfindungsgemäß wird dann das Poliermittel über die den Polier
abtrag vermittelnde Poliertuchoberschicht mit einer gleichmäßi
gen Flächenverteilung den Substratscheibenoberflächen zuge
führt. Es findet nicht nur eine gleichmäßige Zuführung und Ver
teilung über die gesamte Substratscheibenoberfläche statt, son
dern es wird damit insbesondere die Ausbildung jedweder Vertei
lungsgradienten über den Scheibenradius hinweg vermieden. Als
besonders vorteilhaft erweist sich dies bei Substratscheiben
mit großen Durchmessern.
Das erfindungsgemäße Poliertuch wird einfach und günstig herge
stellt, insbesondere sehr große Poliertuchdurchmesser, da die
zum Tuchaufbau eingesetzten kleinen Segmente kostengünstig aus
beispielsweise Poliertuchmaterial praktisch beliebiger Breite
geschnitten, gestanzt oder abgetrennt werden können.
Die poröse Zwischenschicht, die letztlich die Tuchbreite be
stimmt und die Segmente fixiert, kann aus marktüblichen Kunst
stoffbahnen gewonnen werden. An die Zwischenschicht werden au
ßer der Porosität keine poliertuch-typischen Materialanforde
rungen gestellt, da sie nicht in Kontakt mit den zu polierenden
Substratscheiben kommen.
Das erfindungsgemäße Poliertuch gewährleistet eine gleichmäßige
Verteilung des Poliermittels über die gesamten Substratschei
benoberflächen. Daraus resultiert ein flächenhomogener Mate
rialabtrag während der Politur.
Durch die Verwendung des erfindungsgemäßen Poliertuchs, vor
zugsweise bei einer chemomechanischen Politur, vorzugsweise bei
einer DSP von Substratscheiben, vorzugsweise von Siliciumschei
ben, erhält man hochplanare und defektarme Oberflächen, die
insbesondere für anspruchsvolle Anwendungen, beispielsweise in
der Mikroelektronik, geeignet sind.
In den Abb. 1 und 2 ist eine Ausführungsform des erfin
dungsgemäßen Poliertuchs dargestellt. Abb. 1 zeigt die Segmen
tierung, in Abb. 2 ist der Sandwich-Aufbau dargestellt.
Abb. 1a zeigt eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen Po
liertuchs 8, das auf den ringförmigen Polierteller einer typi
schen Doppelseitenpoliermaschine (DSPM) zugeschnitten ist. Die
Ringform des Poliertuchs 8 gilt aber auch für alle anderen Po
liermaschinen, da das Poliertellerzentrum nie von den zu polie
renden Substratscheiben während der Politur überstrichen wird.
Die Relativbewegung der Substratscheiben zum Polierteller ver
läuft auf Zykloidenbahnen. Die sechseckigen Segmente der Ober
schicht 1 bestehen beispielsweise aus einem Poliertuch gemäß
dem Stand der Technik.
Die Kanäle 2 in der Oberschicht sind vorzugsweise 1 bis 5 mm
breit und trennen die einzelnen Segmente. Die Poren 7 in der
Zwischenschicht haben einen Durchmesser von bevorzugt 20 bis
200 µm und Abstände voneinander von bevorzugt von 0,2 mm bis 2
mm. Der Durchmesser und die Anzahl der Poren werden in Abhän
gigkeit des verwendeten Poliermittels gewählt. Bevorzugt ist
ein geringer Druckabfall beim Durchgang des Poliermittels durch
die Poren der dafür sorgt, daß sich das Poliermittel zunächst
in den Kanälen 5 verteilt und erst dann in die Kanäle 2 ein
tritt. Wie oben beschrieben ist auch die Verteilung des Polier
mittels innerhalb des Kanalsystems mit einem geringen Druckab
fall verbunden. Dieser kann jedoch stets und leicht kleiner als
der Durchgangswiderstand durch die poröse Zwischenschicht aus
gelegt werden. Dies kann beispielsweise durch die Zahl der vor
gesehenen Zuführungskanäle auf der Seite des Poliertellers und
damit deren Abstand beeinflußt werden. Damit wird eine vollflä
chige und flächenhomogene Zufuhr und Verteilung des Poliermit
tels auf die zu bearbeitenden Oberflächen der Substratscheiben
erzielt. Die Segmente der Unterschicht sind durch Kanäle von
einander beabstandet, weisen bevorzugt die gleiche Form und
Größe wie die der Oberschicht 1 auf und sind vorzugsweise dec
kungsgleich übereinander angeordnet.
Das erfindungsgemäße Poliertuch ist demnach dadurch gekenn
zeichnet, daß die Segmente der Oberschicht, die Segmente der
Unterschicht, die durch ihre Beabstandung gebildeten Kanäle und
die Poren der Zwischenschicht so dimensioniert sind, daß der
einer den rückseitigen Kanälen punktuell zugeführten Flüssig
keit (Poliermittel) beim Durchgang durch die Poren der Zwi
schenschicht entgegenwirkende Strömungswiderstand zu einer
gleichmäßigen, flächendeckenden Verteilung des Poliermittels
über das gesamte rückseitige Kanalsystem führt und somit nach
Durchgang der Flüssigkeit durch die poröse Zwischenschicht das
Poliermittel gleichmäßig über die gesamte Tuchoberfläche ver
teilt ansteht, wodurch eine vollflächige Zuführung von Flüssig
keit (Poliermittel) an von dem Poliertuch zu polierende Werk
stücke bewirkt wird.
Verallgemeinerungen der in Abb. 1 gezeigten Ausführungsform be
stehen in der Segmentierung der Unter- und Oberschicht durch
Primärformen, wie beispielsweise Dreiecke, Quadrate, Rechtecke
oder beliebige irreguläre Formen. Die Dichte, Größe, Anzahl und
Anordnung der Poren kann ebenfalls in breiten Grenzen variiert
werden, insbesondere wenn andere Werkstücke oder Poliermittel
eingesetzt werden.
Abb. 2a zeigt eine besonders bevorzugte Ausführungsform
des erfindungsgemäßen Poliertuchs, Abb. 2b zeigt die Aus
schnittsvergrößerung und Abb. 2c die Explosionsdarstellung.
Die Segmentierung der Oberschicht 1 und der Unterschicht 4 er
folgt in dieser Ausführungsform durch gleichseitige, gleich
winklige Sechsecke 1 mit einer Kantenlänge von 28,5 mm und ei
ner Fläche von 21 cm2. Die Kanäle 2 und 5 zwischen den vonein
ander beabstandeten Sechsecken sind 1,5 mm breit. Daraus ergibt
sich ein Periodizitätsabstand von 30 mm von Sechseck zu Sechs
eck. Das Poliertuch 8 hat in dieser Ausführungsform eine Fläche
von 2,7 m2, und setzt sich aus 1300 Sechsecken zusammen. Die
Gesamtlänge der Kanäle beträgt 33 m. Die Kanalfläche bei einer
Kanalbreite von 3 mm beträgt 850 cm2. Nimmt man für die Zwi
schenschicht einen Abstand der Poren von 1 mm, bei einer qua
dratischen Anordnung, an (Abb. 1c und 1d, Ziffer 9), erhält man
für die gesamte Kanalfläche 85000 Poren. Bei einem mittleren
Porendurchmesser (Abb. 1d, Ziffer 10) von 50 pm und einer Po
renfläche von 2 × 10-3 mm beträgt die Gesamtfläche aller Poren
für die gesamte Kanalfläche 170 mm2. Bei einem typischen Po
liermitteldurchsatz von 5 l/min oder 83,3 cm3/s tritt das Po
liermittel mit etwa 0,5 m/s mittlerer Geschwindigkeit durch die
Poren in Richtung Kanalnetzwerk der Oberschicht. Bei dieser Ge
schwindigkeit tritt bereits ein erheblicher Druckabfall - wie
erwünscht - beim Durchströmen der Zwischenschicht auf. Die Po
ren 7 in der Zwischenschicht 3 durch die das Poliermittel
tritt, liegen bevorzugt nur im Bereich der Kanäle 2. Dies ist
jedoch keinesfalls zwingend notwendig. Vielmehr arbeiten auch
Ausführungen der Zwischenschicht mit durchgehender Perforierung
(gleichförmiges Lochmuster) erfindungsgemäß. Die nicht benötig
ten Poren werden dann einfach von den aufgebrachten Segmenten
der Ober- und Unterschicht verschlossen. Eine derartige gleich
mäßig perforierte Zwischenschicht läßt sich besonders leicht
herstellen, und ein Zentrieren der aufzubringenden Segmente von
Ober- und Unterschicht genau zwischen die perforierten Stellen
einer nicht durchgehend gelochten Zwischenschicht erübrigt
sich.
Für eine weitere bevorzugte Porengröße von 100 µm Durchmesser
erhält man 1/4 der Geschwindigkeit, also etwa 12,5 cm/s. Insbe
sondere Poren dieser Größe und dieses Abstandes lassen sich ko
stengünstig und zuverlässig durch den Einsatz von beispielswei
se Textilbearbeitungsmaschinen herstellen. Des weiteren sind
poröse Folien aus verschiedensten Kunststoffen in vielen Kon
fektionierungen am Markt erhältlich. Die diskreten Poren lassen
sich auch prägen, stanzen oder bohren. Insbesondere Poren die
ser Größe haben eine gute Langzeit-Durchgängigkeit für typische
Poliermittel in flüssiger oder kolloiddisperser Form, wie diese
insbesondere bei der chemomechanischen Politur von Substrat
scheiben eingesetzt werden. Durch chemische Modifikationen,
beispielsweise durch Hydrophobierung oder Hydrophilierung bei
der Herstellung der Zwischenschicht, wird die effektive Poren
größe beliebig fein eingestellt.
Bevorzugte flüssige oder kolloiddisperse Poliermittel sind Kie
selsole mit Teilchendurchmesser der Festkörper von 10 bis 50
nm; für die chemomechanische Oxid- oder Metall-Politur werden
bevorzugt Kieselsole mit vergleichbaren Primärteilchendurchmes
sern und Suspensionen mit größeren Teilchendurchmessern z. B.
aus hochdisperser Kieselsäure, Sekundär-Teilchendurchmesser bis
einige µm (Mikrometer), d. h. sie verstopfen nicht.
In der in Abb. 2 dargestellten Ausführungsform des erfindungsge
mäßen Poliertuchs werden für die Oberschicht vorzugsweise Po
lyurethan-Körper oder -Schäume mit oder ohne Faserfüllung, wie
beispielsweise Polyesterfaserfüllung, verwendet. Bevorzugt sind
auch Kunststoffasern, wie beispielsweise aus Polyester, Polye
thylen, Polypropylen oder Polyamid, die durch Verfilzen, Weben
oder Wirken zu Tüchern verarbeitet sind.
Für die Zwischenschicht 3 werden vorzugsweise Kunststoffolien
verwendet, die stabil bzw. resistent gegenüber dem partikulär
abrasiven und sauren oder alkalischen Charakter der Poliermit
tel sind. Bevorzugt sind insbesondere Materialien wie Polyethy
len (PE), Polypropylen (PP) oder Polyvinylchlorid (PVC). Idea
lerweise ist die Zwischenschicht dünn und elastisch. Bevorzugt
ist auch, ein gewebtes oder gewirktes Tuch als Zwischenschicht
zu verwenden, wobei Faserdicke, -abstand und -dichte in Abhän
gigkeit des Poliermittels so gewählt werden, daß ein Poliermit
telstrom von einigen cm/s in der Grabenfläche entsteht. Der
eintretende Druckabfall ist für die gleichmäßige Poliermittel
verteilung in den Kanälen der Unterschicht vor dem Durchtritt
des Poliermittels durch die Zwischenschicht erforderlich.
Für die Unterschicht 4 werden vorzugsweise Materialien verwen
det die stabil bzw. resistent gegenüber dem partikulär
abrasiven und sauren oder alkalischen Charakter der Poliermit
tel sind. Hier sind die gleichen Materialien bevorzugt zu nen
nen, die auch für die Oberschicht Verwendung finden. Die Seg
mente der Unterschicht sind durch Kanäle 5 voneinander beab
standet. Da die Kanäle bevorzugt einen nicht nennenswert strö
mungsbegrenzenden Querschnitt besitzen, beträgt die Material
stärke der Unterschicht zumindest 0,5 mm. Idealerweise trägt
die zum Polierteller zugewandte Oberfläche der Unterschicht ei
ne Beschichtung 6, beispielsweise eine Klebebeschichtung für
eine kraftschlüssige Verbindung mit dem Polierteller.
Claims (3)
1. Poliertuch zum Polieren von Substratscheiben unter Verwen
dung eines flüssigen oder kolloiddispersen Poliermittels, das
von der Rückseite eines Poliertellers durch das Poliertuch hin
durch in den Polierspalt geführt wird, gekennzeichnet durch ei
ne Schichtstruktur mit einer segmentierten Oberschicht, einer
segmentierten Unterschicht und einer porösen oder mit Durch
trittskanälen versehenen Zwischenschicht, wobei die Segmente
der Oberschicht und die Segmente der Unterschicht durch Kanäle
voneinander beabstandet sind, so daß ein verbundenes Kanalnetz
werk vorliegt.
2. Poliertuch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der dem Poliermittel durch die Kanäle und die Poren der Zwi
schenschicht entgegenwirkende Strömungswiderstand so groß ist,
daß eine gleichmäßige, flächendeckende Verteilung des Polier
mittels über das gesamte Kanalsystem der Unterschicht gewähr
leistet ist.
3. Poliertuch nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Segmente der Oberschicht und die Segmente
der Unterschicht die gleiche Größe und Form aufweisen und de
ckungsgleich übereinander angeordnet sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999162564 DE19962564C1 (de) | 1999-12-23 | 1999-12-23 | Poliertuch |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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ID=7934199
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DE1999162564 Expired - Fee Related DE19962564C1 (de) | 1999-12-23 | 1999-12-23 | Poliertuch |
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Country | Link |
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DE (1) | DE19962564C1 (de) |
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D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
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