DE19962199A1 - Doppelbrechende Materialien und Verfahren zur Herstellung derselben - Google Patents
Doppelbrechende Materialien und Verfahren zur Herstellung derselbenInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft doppelbrechende Materialien und deren Herstellungsverfahren, wobei nachfolgende Schritte durchgeführt werden: DOLLAR A - Auswählen eines Materials, das für die vorbestimmte Lichtwellenlänge lambda einen vorbestimmten Transmissionsgrad aufweist, DOLLAR A - Ätzen einer Vielzahl von Ausnehmungen 2 mit einer vorbestimmten räumlichen Orientierung, wobei die Ausnehmungen so orientiert sind, daß in parallelen Schnittebenen des Materials die Schnittflächen 3 der Ausnehmungen im wesentlichen eine gleiche Orientierung, eine charakteristische Länge L, eine charakteristische Dicke D, einen charakteristischen Abstand A zueinander aufweisen und nachfolgende Bedingungen erfüllt sind: DOLLAR A L > D, DOLLAR A L/D NOTEQUAL 1, DOLLAR A lambda/D > 10 für 100 nm < lambda < 50000 nm, DOLLAR A lambda/A > 10 für 100 nm < lambda < 50000 nm.
Description
Die Erfindung betrifft doppelbrechende Materialien und deren Herstellungs
verfahren.
Die optischen Eigenschaften eines Materials, d. h. der Brechungsindex, das
Reflexions- und Transmissionsverhalten und deren spektrale Abhängigkeit,
werden durch dessen dielektrische Funktion bestimmt. Es ist bekannt, daß
bestimmte Materialien, wie z. B. Kalkspat, bezüglich des Lichteinfallswin
kels und der Polarisation von einfallendem Licht einen unterschiedlichen
Brechungsindex n aufweisen. Diese Eigenschaft ist eine ursächlich vorhan
dene, unveränderbare Materialeigenschaft und wird als Doppelbrechung
bezeichnet. Das Einsatzgebiet optisch doppelbrechender Materialien ist viel
fältig, so werden z. B. aus Kalkspat sogenannte optische Retarder herge
stellt, die für Untersuchungszwecke in optischen Labors weit verbreitet
sind.
Der Nachteil vorstehend genannter Materialien besteht darin, daß die Mate
rialeigenschaft Doppelbrechung nicht verändert werden kann.
Aus dem Stand der Technik ist weiterhin bekannt, doppelbrechendes Ma
terial künstlich herzustellen. Dazu werden z. B. in einer Glaslösung Nano
kristallite eingebracht. Wenn das Glas in einer Richtung verspannt und un
ter Spannung getempert wird, werden die Nanokristallite in einer Vorzugs
richtung orientiert, wodurch die doppelbrechende Eigenschaft entsteht.
Dieses Verfahren wurde in den Dokumenten US 5,375,012 und
US 5,627,676 beschrieben.
Ein wesentlicher Nachteil dieses Verfahrens ist die Beschränkung auf weni
ge Materialien bzw. Stoffklassen. Ein weiterer Nachteil besteht darin, daß
die doppelbrechenden Eigenschaften relativ schwach ausgeprägt sind und
nur schwer beeinflußt werden können.
Ein weiterer wesentlicher Nachteil dieser Verfahren und der daraus gewon
nenen doppelbrechenden Materialien besteht darin, daß nur Körper mit
weitgehend homogenen Eigenschaften herstellbar sind. So ist es z. B. nicht
möglich, auf einer Fläche von z. B. 1 cm2 die doppelbrechenden Eigen
schaften unterschiedlich stark auszubilden, was für bestimmte Anwen
dungsfälle jedoch erforderlich oder wünschenswert ist.
Zusätzlich ist anzumerken, daß für die Anwendung doppelbrechender Ma
terialien in der optischen Datenkommunikationstechnologie sowohl der
Wellenlängenbereich signifikanter Doppelbrechung (1,3-1,5 µm) als auch
die Kompatibilität zur momentanen Halbleitertechnik gegeben sein müssen.
Da momentan der Schwerpunkt der Halbleitertechnik auf Silizium (Si) bzw.
Galliumarsenid (GaAs) basierten Bauelementen beruht, waren beide Anfor
derungen bis jetzt unvereinbar, da sowohl kristallines GaAs als auch kri
stallines Si auf Grund der kubischen Kristallstruktur nicht bzw. nur sehr
schwach doppelbrechend sind. Der Unterschied der Brechungsindizes in
den verschiedenen Raumrichtungen liegt für kristallines Silizium bei einer
Wellenlänge λ von 1,15 µm lediglich in der Größenordnung von 5 × 10-6.
Es ist daher die Aufgabe der Erfindung, weitere Verfahren zur Herstellung
von doppelbrechenden Materialien bereitzustellen. Insbesondere von Ver
fahren, bei denen die Doppelbrechungseigenschaft der Materialien in wei
ten Grenzen einstellbar ist. Es ist daher auch Aufgabe der Erfindung, ein
Verfahren bereitzustellen, das es erlaubt, unabhängig von den Doppelbre
chungseigenschaften des Ausgangsmaterials die doppelbrechenden Eigen
schaften des Ausgangsmaterials in definierter Weise zu modifizieren. Expli
zit sei angemerkt, daß dies, insbesondere bei den z. Z. in der Halbleiter
technologie gebräuchlichen Materialien (Si, GaAs), unmöglich ist.
Weiterhin soll die Möglichkeit bestehen, innerhalb vorgegebener, sehr klei
ner Bereiche, d. h. Flächen oder Volumen, die Eigenschaft der Doppelbre
chung gezielt einzustellen, so daß sich z. B. die Doppelbrechung in einer
vorgegebenen Richtung nach einer vorgegebenen Funktion verändert, wo
bei sich die Doppelbrechung z. B. linear über den betrachteten Bereich an
steigend verändern kann. Es soll jedoch auch möglich sein, die Doppelbre
chungseigenschaft scharf abgegrenzt über den betreffenden Bereich zu er
zeugen, so daß z. B. bei einer vorgegebenen Fläche eine Schachbrettstruk
tur hergestellt werden kann, bei der die einzelnen Felder jeweils vorbe
stimmte Doppelbrechungseigenschaften aufweisen.
Mit der Bereitstellung von neuartigen Verfahren ist es weiterhin die Aufga
be der Erfindung, neuartige Materialien mit doppelbrechenden Eigenschaf
ten bereitzustellen.
Diese Aufgabe wird mit den Verfahrensschritten nach Anspruch 1 und den
Merkmalen nach Anspruch 13 gelöst.
Ein optisch doppelbrechender Körper wird erfindungsgemäß nach folgenden
Verfahrensschritten hergestellt:
Zuerst wird ein Material ausgewählt, das für die vorbestimmte Lichtwellen länge λ einen vorbestimmten Transmissionsgrad aufweist, d. h., der Transmissionsgrad muß für die vorgesehene Anwendung ausreichend groß sein. In diesem Material wird eine Vielzahl von Ausnehmungen eingeätzt. Das Ätzverfahren wird bei Kenntnis der technischen Lehre der Erfindung zweckentsprechend angepaßt, wobei insbesondere die Eigenschaften des zu bearbeitenden Materials zu berücksichtigen sind.
Zuerst wird ein Material ausgewählt, das für die vorbestimmte Lichtwellen länge λ einen vorbestimmten Transmissionsgrad aufweist, d. h., der Transmissionsgrad muß für die vorgesehene Anwendung ausreichend groß sein. In diesem Material wird eine Vielzahl von Ausnehmungen eingeätzt. Das Ätzverfahren wird bei Kenntnis der technischen Lehre der Erfindung zweckentsprechend angepaßt, wobei insbesondere die Eigenschaften des zu bearbeitenden Materials zu berücksichtigen sind.
Die räumliche Form der Ausnehmung wird durch eine charakteristische
Länge L und eine charakteristische Dicke D definiert. Es ist weiterhin erfor
derlich, daß die Ausnehmungen in einem charakteristischen Abstand A zu
einander angeordnet sind, wobei angenommen wird, daß die Längserstrec
kung L größer als die Dickenerstreckung D ist. Damit der Doppelbre
chungseffekt entsteht, müssen die Ausnehmungen räumlich so orientiert
sein, daß in parallelen Schnittebenen des Materials die Schnittflächen der
Ausnehmungen im wesentlichen die gleiche Orientierung aufweisen und
nachfolgende Bedingungen gelten: λ/D < 10 für 100 nm < λ < 50 000 nm
und λ/A < 10 für 100 nm < λ < 50 000 nm.
Es ist zu betonen, daß die Ausnehmungen nicht alle die gleiche Form oder
die gleiche Größe oder den gleichen Abstand zueinander aufweisen müs
sen. Ebenso ist es nicht erforderlich, daß alle Schnittflächen die gleiche
Größe und/oder die gleiche Form aufweisen. Es ist lediglich erforderlich,
daß diese Ausnehmungen bzw. Schnittflächen im Mittel diese Forderungen
erfüllen. Je größer dieser Anteil ist, um so stärker ist die Doppelbre
chungseigenschaft des Materials ausgeprägt.
Nach Anspruch 2 werden die Ausnehmungen durch chemisches Ätzen er
zeugt. Es ist klar, daß ein auszuwählendes Ätzmittel auf das zu ätzende
Material in Verbindung mit geeigneten Parametern, wie z. B. Konzentration
und Temperatur, abgestimmt sein muß. Ein dem Fachmann bekanntes Ver
fahren ist z. B. das "Stain Etching", bei dem z. B. Silizium mit einer 1 : 3 : 5
Lösung aus HF : HNO3 : H2O bei Raumtemperatur und Tageslicht geätzt wird.
Nach Anspruch 3 werden die Ausnehmungen durch elektrochemisches Ät
zen erzeugt. Dieses Verfahren ist bevorzugt bei elektrisch leitfähigen Mate
rialien, wie z. B. Halbleiter, einsetzbar.
Nach Anspruch 4 werden Materialien ausgewählt, bei denen der Ätzprozeß
vom Verlauf eines Strompfades beeinflußt wird. Strompfade werden mittels
im Ätzbad angeordneten Elektroden erzeugt. Gleichfalls ist es möglich, die
Rückseite des zu ätzenden Materials zu kontaktieren, wobei z. B. Wider
standsbahnen unterschiedlicher Leitfähigkeit aufgebracht werden. Die sich
ausbildenden Strompfade bewirken eine Vorzugsausrichtung des Ätzpro
zesses. Diese Verfahrensweiterbildung ist sowohl für chemisches als auch
für elektrochemisches Ätzen geeignet.
Nach Anspruch 5 werden Materialien ausgewählt, bei denen der Ätzprozeß
vom Verlauf der Potentiallinien eines angelegten elektrischen Potentials
beeinflußt wird. Potentiallinien werden mittels im Ätzbad angeordneten
Elektroden erzeugt. Auch hier ist es möglich, die Rückseite des zu ätzenden
Materials mit Widerstandsbahnen unterschiedlicher Leitfähigkeit zu kontak
tieren. Die Potentiallinien bewirken eine Vorzugsausrichtung des Ätzprozes
ses. Diese Verfahrensweiterbildung ist ebenfalls sowohl für chemisches als
auch für elektrochemisches Ätzen geeignet.
Nach Anspruch 6 wird die Oberfläche des zu ätzenden Materials mit Licht
eines vorbestimmten Spektrums und einer vorbestimmten Intensitätsvertei
lung bestrahlt, wodurch die Materialoberfläche aktiviert wird und die Ät
zung eingeleitet oder beschleunigt wird.
Nach Anspruch 7 wird die Oberfläche des zu ätzenden Materials mit pola
risiertem Licht eines vorbestimmten Spektrums und einer vorbestimmten
Intensitätsverteilung bestrahlt, wodurch ebenfalls die Materialoberfläche
aktiviert wird und die Ätzung eingeleitet oder beschleunigt wird. Weiterhin
ist es möglich, durch die Polarisationsrichtung die Ätzrichtung zu beeinflus
sen.
Nach Anspruch 8 wird ein Elektronenstrahl oder ein Laserstrahl auf die
Oberfläche des zu ätzenden Materials gelenkt bzw. fokussiert, wodurch die
Oberfläche aktiviert und der Ätzprozeß eingeleitet wird.
Nach Anspruch 9 wird das Material mittels eines Laserstrahls oder eines
Elektronenstrahls vorstrukturiert und dann geätzt. Durch die aufgebrachte
Struktur wird der Ätzprozeß gezielt gelenkt, so daß vorbestimmte Doppel
brechungseigenschaften erzeugbar sind.
Nach Anspruch 10 wird das Material mittels eines photolithographischen
Verfahrens vorstrukturiert und dann geätzt. Wie nach Anspruch 9 wird in
dieser Weiterbildung des Verfahrens durch die photolithographisch aufge
brachte Struktur der Ätzprozeß gezielt gelenkt, so daß vorbestimmte Dop
pelbrechungseigenschaften erzeugbar sind.
Nach Anspruch 11 wird das Material mit Dotieratomen dotiert und dann
geätzt. Die Technologie des Dotierens ist dem Fachmann bekannt und muß
daher nicht weiter erläutert werden. Die Dotierungen werden in einer vor
bestimmten Anordnung eingebracht, um den Ätzprozeß so zu beeinflussen,
daß die gewünschten Doppelbrechungseigenschaften entstehen.
Nach Anspruch 12 wird ein kristallines Material ausgewählt. Unter vorbe
stimmten Ätzparametern wird der Ätzprozeß vom Verlauf der Kristallstruk
tur, speziell der Kristallachsen, beeinflußt. Da die gezielte Erzeugung ver
schiedenster Kristallstrukturen technologisch sehr gut beherrschbar ist,
kann im Rahmen physikalischer Grenzen die Doppelbrechungseigenschaft
über weite Bereiche eingestellt werden, wobei diese Doppelbrechungsei
genschaft homogen über die gesamte Oberfläche oder über das gesamte
Volumen erzeugbar ist. Da die Kristallstrukturen jedoch auch in vielfältiger
flächiger und räumlicher Gestalt und Verteilung angeordnet werden kön
nen, ist dementsprechend eine beliebig vorbestimmte flächige und räumli
che Verteilung der Doppelbrechungseigenschaften erreichbar.
Es soll ausdrücklich betont werden, daß die Verfahrensweiterbildungen
nach den Ansprüchen 4 bis 12 vom Fachmann bei Kenntnis der techni
schen Lehre kombiniert werden können, ohne daß dazu eine erfinderische
Tätigkeit erforderlich ist.
Mit den in den Ansprüchen 1 bis 12 genannten Verfahren können doppel
brechenden Materialien mit neuartigen Eigenschaften hergestellt werden,
die mit den aus dem Stand der Technik bekannten Verfahren generell nicht
erzeugt werden können. Insbesondere war es bisher nicht möglich, die
Doppelbrechungseigenschaft in sehr kleinen Flächen- bzw. in sehr kleinen
Raumelementen gezielt zu variieren oder einzustellen. Darüber hinaus war
es bis jetzt unmöglich, die doppelbrechenden Eigenschaften eines von Na
tur aus schwach oder nicht doppelbrechenden Materials zu modifizieren.
Insbesondere für die derzeit gebräuchlichsten Materialien der Halbleiter
technologie, wie z. B. kristallines Silizium und kristallines GaAs, war dies
bisher unmöglich. Da es nun, wie nachfolgend aufgezeigt, möglich ist u. a.
im kristallinen Silizium eine signifikante Doppelbrechung zu erzeugen, ins
besondere in dem für optische Datenkommunikation relevanten Spektralbe
reich (1,3-1,5 µm), eröffnen sich völlig neue Möglichkeiten bei der Ent
wicklung optoelektronischer Bauelemente. Es sei bereits hier angemerkt,
daß der Unterschied der Brechungsindizes in verschiedenen Raumrichtun
gen in der Größenordnung von einigen Prozent liegt. Also ca. 103 bis 104
mal größer ist als der Unterschied im Ausgangsmaterial. Dem Fachmann ist
somit klar, daß dieser Wert eine sehr starke Doppelbrechung bedeutet und
wesentlich größer ist als der Wert für viele natürlich doppelbrechende Ma
terialien. Weiterhin sei angemerkt, daß die Herstellungskosten, selbst ohne
Massenfertigung, bereits um einige Größenordnungen geringer als bei her
kömmlichen doppelbrechenden Materialien sind.
Nach Anspruch 13 wird ein optisch doppelbrechendes Material bereitge
stellt, das eine Vielzahl von Ausnehmungen aufweist. Die räumliche Form
jeder Ausnehmung wird durch eine charakteristische Länge L und eine cha
rakteristische Dicke D definiert. Es ist weiterhin erforderlich, daß die Aus
nehmungen in einem charakteristischen Abstand A zueinander angeordnet
sind, wobei angenommen wird, daß die Längserstreckung L größer ist als
die Dickenerstreckung D. Damit der Doppelbrechungseffekt entsteht, müs
sen die Ausnehmungen räumlich so orientiert sein, daß in parallelen Schnit
tebenen des Materials die Schnittflächen der Ausnehmungen im wesentli
chen die gleiche Orientierung aufweisen und nachfolgende Bedingungen
gelten: λ/D < 10 für 100 nm < λ < 50 000 nm und λ/A < 10 für 100 nm
< λ < 50 000 nm.
Es ist zu betonen, daß die Ausnehmungen nicht alle die gleiche Form oder.
die gleiche Größe oder den gleichen Abstand zueinander aufweisen müs
sen. Ebenso ist es nicht erforderlich, daß alle Schnittflächen die gleiche
Größe und/oder die gleiche Form aufweisen. Es ist lediglich erforderlich,
daß diese Ausnehmungen bzw. Schnittflächen im Mittel diese Forderungen
erfüllen. Je größer diese Teilmenge ist, um so stärker ist die Doppelbre
chungseigenschaft des Materials ausgeprägt.
Nach Anspruch 14 ist das Material ein Halbleiter. Es ist prinzipiell möglich,
bei allen Halbleitern und deren Verbindungen die Doppelbrechungseigen
schaft zu erzielen.
Nach den Ansprüchen 15 und 16 wird optisch doppelbrechendes Silizium
mit einer 110-Oberflächenorientierung oder mit einer 100-Oberflächen
orientierung bereitgestellt.
Diese zwei Weiterbildungen sind insbesondere für die Anwendung in der
herkömmlichen, weitgehend auf Silizium basierenden Optoelektroniktechno
logie von Bedeutung, da die doppelbrechenden Strukturen gleich unmittel
bar auf dem Wafer hergestellt werden können. Prinzipiell sind jedoch alle
Halbleiter, insbesondere auch die bereits in der Mikroelektronik verbreiteten
Materialien, wie z. B. Ge, Al2O3, GaAs, CdSe, geeignet.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen und
schematischer Zeichnungen näher erläutert.
Fig. 1 zeigt den Querschnitt einer Ausführungsform der Erfindung
an einem Si-Block mit 100-Oberflächenorientierung und kreis
förmigen Ausnehmungen.
Fig. 2 zeigt den Querschnitt einer Ausführungsform der Erfindung
an einem Materialblock mit unregelmäßigen Säulenstrukturen.
Fig. 3 zeigt den Querschnitt einer Ausführungsform der Erfindung
an einem geätzten Si-Block mit 100-Oberflächenorientierung.
Fig. 4 zeigt den Querschnitt einer Ausführungsform der Erfindung
an einem Si-Block mit 110-Oberflächenorientierung und kreis
förmigen Ausnehmungen.
Fig. 5 zeigt den Querschnitt einer Ausführungsform der Erfindung
an einem geätzten Si-Block mit 110-Oberflächenorientierung.
Fig. 6 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemä
ßen Verfahrens.
Die Fig. 1 zeigt den schematischen Querschnitt einer ersten Ausführungs
form der Erfindung am Beispiel eines Si-Volumenelements 1 mit einer 100-
Oberflächenorientierung, wobei das Licht in z-Richtung auf das Volu
menelement 1 auftrifft. In dem Volumenelement 1 sind geätzte, zylinder
förmige Ausnehmungen 2 mit einem Durchmesser von 10 bis 20 nm aus
gebildet. Der Abstand der Ausnehmungen beträgt ebenfalls 10 bis 20 nm.
Um den Doppelbrechungseffekt optimal zu nutzen, muß das Licht senk
recht auf die Zylinderwandung der Ausnehmungen treffen. Es sei vorab
betont, daß die abgebildete Zylinderform mit gleichbleibendem kreisförmi
gen Querschnitt eine idealisierte Darstellung ist. Der Doppelbrechungseffekt
tritt auch dann ein, wenn der Querschnitt nicht kreisförmig und/oder auch
nicht über die Längserstreckung des Zylinders gleichbleibend ist.
Wenn z. B. linear polarisiertes Licht der Wellenlänge 1590 nm mit dem Po
larisationsvektor EIN in Richtung z auf das Si-Volumenelement 1 einfällt,
dieses durchdringt und wieder austritt, erfolgt gegenüber dem einfallenden
Strahl eine Doppelbrechung des Lichts, die mit EOUT als "Ringvektor" sym
bolisch dargestellt ist.
In Fig. 2a ist wiederum ein Si-Volumenelement 1 dargestellt, wobei jedoch
der Querschnitt der Ausnehmungen 2a nicht kreisförmig, sondern unregel
mäßig geformt ist. Die Fig. 2b ist eine Schnittdarstellung in der Ebene x-y.
Es ist zu betonen, daß die Doppelbrechungseigenschaft auch hier eintritt.
Der Doppelbrechungseffekt ist daher nicht von dem konkreten geometri
schen Querschnitt der Ausnehmung abhängig. Es müssen jedoch die im
Anspruch 1 definierten Bedingungen eingehalten werden.
Die Fig. 3 zeigt einen vergrößerten schematischen Querschnitt durch ein Si-
Wafer mit 100-Oberflächenorientierung. Es wird deutlich, daß die Fig. 2
eine vergrößerte, jedoch schematische Darstellung eines Waferquerschnitts
ist, der durch das Ätzverfahren erzeugt wurde. Bei dieser Ausführungsform
wird der untere, nicht geätzte Abschnitt als mechanische Trägerschicht
verwendet.
Die Fig. 4a zeigt den Querschnitt einer Ausführungsform der Erfindung an
einem Si-Block 1 mit 110-Oberflächenorientierung, wobei die Ausnehmun
gen 2 wieder kreisförmig sind. Es ist zu erkennen, daß die zylinderförmigen
Ausnehmungen 2 in einem Winkel von 45 Grad zur Oberfläche des Wafers
verlaufen und somit in einem Winkel von 90 Grad zueinander stehen. Die
Fig. 4b zeigt den Querschnitt entlang der Ebene, die durch die gestrichelten
Linien definiert ist. Die Schnittflächen 3 der Ausnehmungen sind elliptisch
und entsprechen den Bedingungen nach den Ansprüchen 1 und 13. Die
optische Wirkung ist identisch mit der in Fig. 1 beschriebenen.
Die Fig. 5 zeigt einen vergrößerten, schematischen Querschnitt an einem
geätzten Si-Wafer mit einer 110-Oberflächenorientierung, wobei die in ei
nem Winkel von 45 Grad verlaufenden Ätzkanäle 2 gut zu erkennen sind.
Die Fig. 6 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens. Es soll vorab betont werden, daß die hier beschriebene Vor
richtung nur eine von verschiedensten Möglichkeiten darstellt. Der Fach
mann für Ätzprozesse in der Mikroelektroniktechnologie kann bei Kenntnis
der technischen Lehre diese Vorrichtungen optimieren oder auch automati
sieren.
Im vorliegenden Ausführungsbeispiel weist ein Siliziumwafer eine 110-
Oberflächenorientierung mit einen spezifischen Widerstand von 100 Mil
liohm × cm auf. An seiner Unterseite ist eine elektrische Kontaktfläche 5
aufgebracht, mit der der Wafer 4 auf einer metallischen Grundplatte 6 auf
liegt und elektrisch mit dieser verbunden ist. Auf der Oberfläche des Wa
fers ist eine Ätzzelle 7 angeordnet. Die Ätzzelle 7 ist ein offener Zylinder,
der am unteren Ende einen Befestigungsflansch 7a aufweist, der mittels
Schrauben mit der Grundplatte 6 verbunden ist. Zwischen dem Befesti
gungsflansch 7a und der Waferoberseite ist eine Dichtung 9 angeordnet.
Die Ätzzelle ist mit einer Ätzlösung 10 gefüllt, die bei dieser Anwendung
aus einer Mischung von 50% wäßriger Flußsäure und 50% Ethanol be
steht. Über der Waferoberseite ist in der Ätzzelle eine Platinelektrode 11
angeordnet. Wenn die Platinelektrode mit dem Minuspol einer Gleichstrom
quelle 12 und die Grundplatte 6 mit dem Pluspol verbunden werden, be
ginnt der Ätzprozeß, wobei in dem Wafer eine Struktur nach Fig. 5 ent
steht.
Dem Fachmann ist klar, daß der Ätzprozeß von verschiedenen Parametern
bestimmt wird, wie z. B. Säurekonzentration, Spannung, Strom, Größe der
zu ätzenden Fläche oder der Ätzzeit.
Nach dem Ätzen weist der Wafer im vorliegenden Beispiel bis zu einer Tiefe
von 40 µm die in Fig. 4 oder Fig. 5 gezeigten lochförmigen Ausnehmungen
auf.
Die Meßmethoden zum meßtechnischen Nachweis der Doppelbrechung
sind hinreichend bekannt und müssen dem Fachmann daher nicht näher
erläutert werden.
Um z. B. die Doppelbrechungseigenschaft auf dem Wafer zu variieren, kann
z. B. die Elektrode schräggestellt werden, so daß die Ätzstromdichte bezo
gen auf die Waferoberfläche unterschiedlich groß ist und somit auch die
Geometrie und die Dichte, d. h. Anzahl/Volumeneinheit, der Ausnehmun
gen beeinflußt werden. Ein ähnlicher Effekt wird erzielt, wenn auf der
Rückseite des Wafers ein Widerstandsmuster aufgebracht ist und verschie
dene Flächenabschnitte eine unterschiedliche Leitfähigkeit aufweisen. Auf
Grund der sich örtlich unterschiedlich ausbildenden Ätzstromdichte werden
die Ausnehmungen dem Muster entsprechend unterschiedlich geätzt.
Ein ähnlicher Effekt wird auch erreicht, wenn die Waferoberfläche mit ei
nem säureresistenten Photolack beschichtet wird und nach einem aus der
Mikroelektroniktechnologie bekannten Strukturierungsverfahren strukturiert
wird. Somit ist dem Fachmann klar, daß zur Herstellung der doppelbre
chenden Materialien im wesentlichen die aus der Mikroelektroniktechnolo
gie bekannten Strukturierungsverfahren eingesetzt werden können.
Claims (16)
1. Verfahren zur Herstellung eines optisch doppelbrechenden Körpers für
eine vorbestimmte Lichtwellenlänge λ, dadurch gekennzeichnet, daß nach
folgende Schritte durchgeführt werden:
L < D,
L/D ≠ 1,
λ/D < 10 für 100 nm < λ < 50 000 nm
λ/A < 10 für 100 nm < λ < 50 000 nm.
- - Auswählen eines Materials, das für die vorbestimmte Lichtwellenlänge λ einen vorbestimmten Transmissionsgrad aufweist,
- - Ätzen einer Vielzahl von Ausnehmungen (2) mit einer vorbestimmten räumlichen Orientierung, wobei die Ausnehmungen so orientiert sind, daß in parallelen Schnittebenen des Materials die Schnittflächen (3) der Aus nehmungen
- - im wesentlichen eine gleiche Orientierung
- - eine charakteristische Länge L,
- - eine charakteristische Dicke D,
- - einen charakteristischen Abstand A zueinander aufweisen und
L < D,
L/D ≠ 1,
λ/D < 10 für 100 nm < λ < 50 000 nm
λ/A < 10 für 100 nm < λ < 50 000 nm.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausneh
mungen durch chemisches Ätzen erzeugt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausneh
mungen durch elektrochemisches Ätzen erzeugt werden.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß
Materialien ausgewählt werden, bei denen der Ätzprozeß vom Verlauf eines
Strompfades beeinflußt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß Mate
rialien ausgewählt werden, bei denen der Ätzprozeß vom Verlauf eines an
gelegten elektrischen Potentials beeinflußt wird.
6. Verfahren nach den Ansprüchen 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die Oberfläche des zu ätzenden Materials mit Licht eines vorbestimmten
Spektrums und einer vorbestimmten Intensitätsverteilung bestrahlt wird,
wodurch die Materialoberfläche aktiviert und die Ätzung eingeleitet oder
beschleunigt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Oberfläche des zu ätzenden Materials mit polarisiertem Licht bestrahlt wird,
wodurch der Ätzprozeß in Abhängigkeit von der Polarisation, des Spek
trums und der Intensitätsverteilung des Lichts beeinflußt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein
Elektronenstrahl oder ein Laserstrahl auf die Oberfläche des zu bearbeiten
den Materials gelenkt bzw. fokussiert wird, wodurch der Ätzprozeß einge
leitet oder beeinflußt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß das
Material mittels eines Laserstrahls oder eines Elektronenstrahls vorstruktu
riert und dann geätzt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß das
Material mit einem photolithographischen Verfahren vorstrukturiert und
dann geätzt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß das
Material mit Dotieratomen dotiert und dann geätzt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein
kristallines Material ausgewählt wird, bei dem der Ätzprozeß vom Verlauf
der Kristallachsen beeinflußt wird.
13. Optisch transparentes doppelbrechendes Material mit einer Vielzahl von
Ausnehmungen mit einer vorbestimmten räumlichen Orientierung, wobei
die Ausnehmungen (2) so orientiert sind, daß in parallelen Schnittebenen
des Materials die Schnittflächen (3) der Ausnehmungen
- - im wesentlichen eine gleiche Orientierung,
- - eine charakteristische Länge L,
- - eine charakteristische Dicke D,
- - einen charakteristischen Abstand A zueinander aufweisen und
nachfolgende Bedingungen erfüllt sind:
L < D,
L/D ≠ 1,
λ/D < 10 für 100 nm < λ < 50 000 nm
λ/A < 10 für 100 nm < λ < 50 000 nm.
14. Optisch doppelbrechendes Material nach Anspruch 13, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Material ein Halbleiter ist.
15. Optisch doppelbrechender Halbleiter nach Anspruch 14, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Halbleiter Silizium (1) mit einer 110-Oberflächen
orientierung ist.
16. Optisch doppelbrechender Halbleiter nach Anspruch 14, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Halbleiter Silizium (1) mit einer 100-Oberflächenorien
tierung ist.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999162199 DE19962199A1 (de) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | Doppelbrechende Materialien und Verfahren zur Herstellung derselben |
PCT/DE2000/004603 WO2001046719A2 (de) | 1999-12-22 | 2000-12-21 | Doppelbrechende materialien und verfahren zur herstellung derselben |
AU33598/01A AU3359801A (en) | 1999-12-22 | 2000-12-21 | Double refracting materials and a method for producing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999162199 DE19962199A1 (de) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | Doppelbrechende Materialien und Verfahren zur Herstellung derselben |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19962199A1 true DE19962199A1 (de) | 2001-07-05 |
Family
ID=7933929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1999162199 Withdrawn DE19962199A1 (de) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | Doppelbrechende Materialien und Verfahren zur Herstellung derselben |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
AU (1) | AU3359801A (de) |
DE (1) | DE19962199A1 (de) |
WO (1) | WO2001046719A2 (de) |
-
1999
- 1999-12-22 DE DE1999162199 patent/DE19962199A1/de not_active Withdrawn
-
2000
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AU3359801A (en) | 2001-07-03 |
WO2001046719A3 (de) | 2002-03-28 |
WO2001046719A2 (de) | 2001-06-28 |
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