DE19919031C2 - Magnetoelastischer Sensor und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents
Magnetoelastischer Sensor und Verfahren zu dessen HerstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen
eines magnetoelastischen Sensors sowie einen nach
dem Verfahren herstellbaren Sensor. Derartige
Sensoren werden zur Erfassung von Kräften oder
Drehmomenten in ferromagnetischen Materialien, zum
Beispiel zur Erfassung einer von einem Fahrer auf
ein Bremspedal eines Fahrzeugs ausgeübten
Bremskraft, eingesetzt.
Ein solcher Sensor besteht in seiner einfachsten
Form aus einem Magnetjoch, an dem eine Sender- und
eine Empfängerspule angeordnet sind, und die an der
Oberfläche eines Materials mit magnetoelastischen
beziehungsweise magnetostriktiven Eigenschaften
angeordnet wird. Eine auf das Material wirkende
Kraft führt zu einer "Verformung" seines
magnetischen Suszeptibilitätstensors µ, was sich in
einer Veränderung des magnetischen Flusses ΔB durch
das Joch bemerkbar macht. Diese Veränderung wird
durch die Empfängerspule nachgewiesen.
Ein miniaturisierter Sensor nach diesem Prinzip ist
in Rombach und Langheinrich "An Integrated Sensor
Head in Silicon for Contactless Detection of Torque
and Force", Sensors and Actuators A, 41-42, 1994,
Seiten 410 bis 416 beschrieben. Bei diesem Sensor
ist die Empfängerspule durch CMOS-MAGFETs in einem
Luftspalt zwischen dem Joch und dem Material
ersetzt.
Weiterentwickelte Formen von magnetoelastischen
Sensoren sind aus Machine Design, 1996, Seite 55, 56
und in William J. Fleming, "Magnetostrictive Torque
Sensors - Comparison of Branch, Cross and
Solenoidal designs" beschrieben.
Weiter ist auch aus B. Löchl et al., Sensors and Acuators A,
54 (1996), Seiten 663 bis 668, ein Verfahren zur Herstellung
von planaren Spulen mit weichmagnetischem Kern mittels Mi
krostrukturierung bekannt. Im Einzelnen wird dort zunächst
ein Fotolack lithografisch strukturiert, wonach die in dem
Fotolack erzeugten Strukturen durch eine galvanische Ab
scheidetechnik beispielsweise mit Gold in Form einer minia
turisierten Spule ausgefüllt werden. Weiter ist dort ein
Spulenkern aus einer Nickel-Eisen-Legierung vorgesehen. Ins
gesamt wird auf diese Weise eine planare Spule mit einem
Spulenkern aus einem weichmagnetischen Material mit Hilfe
eines mikromechanischen Herstellungsverfahrens erzeugt.
Die als Kreuzkonstruktion (cross design)
bezeichnete Sensorkonstruktion umfaßt zwei in
rechtem Winkel zueinander angeordnete, magnetisch
voneinander isolierte Joche, von denen eines eine
Sender- und das andere eine Empfängerspule trägt,
und deren Polstücke jeweils in unmittelbarer Nähe
eines Prüfkörpers angeordnet sind, dessen Kraft
beziehungsweise Drehmomentbelastung zu messen ist.
Solange der Prüfkörper unbelastet und sein
magnetischer Suszeptibilitätstensor µ isotrop ist,
verläuft der vom Joch der Sendespule in den
Prüfkörper eingekoppelte magnetische Fluß exakt im
rechten Winkel zum Joch der Empfängerspule und wird
daher nicht erfaßt. Erst wenn der Prüfkörper einer
Kraft beziehungsweise einem Drehmoment ausgesetzt
ist, das eine Anisotropie des
Suszeptibilitätstensors µ herbeiführt, kommt es zu
einer seitlichen Ablenkung des eingekoppelten
magnetischen Flusses und damit zu einem
magnetischen Fluß durch das Joch der
Empfängerspule, der von dieser erfaßt wird.
Bei der Zweigkonstruktion (branch design) sind vier
Joche zu einer in Draufsicht x-förmigen Anordnung
verschmolzen, wobei ein sich vom Mittelpunkt der x-
förmigen Anordnung aus erstreckender Polarm eine
Senderspule und Polarme an den Enden der x-förmigen
Anordnung jeweils eine Empfängerspule tragen. Die
Empfängerspulen sind zu einer Brückenschaltung
verbunden, deren Signale sich im kraft
beziehungsweise drehmomentfreien Zustand des
Prüfkörpers gegenseitig aufheben.
Diese beiden Konstruktionen sind in der Anwendung
sehr vorteilhaft, weil sie in der Lage sind, bei
verschwindender Kraft ein verschwindendes Signal zu
liefern, so daß im Prinzip ein aufwendiger und mit
Ungenauigkeiten behafteter Nullabgleich
unterbleiben könnte.
Die Massenfertigung derartiger Sensoren und
insbesondere ihre Miniaturisierung stoßen jedoch
auf Schwierigkeiten, denn das aus Rombach et al.
bekannte Herstellungsverfahren ist für sie nicht
anwendbar. Dieses Verfahren beinhaltet das Ätzen
von Vertiefungen in einem Siliciumsubstrat, das
Erzeugen von Spulen auf den nicht geätzten
Bereichen des Substrats und das Aufbringen einer
weichmagnetischen Schicht über den Spulen und in
den Vertiefungen. Die in dieser Weise beschichteten
Vertiefungen, um die herum jeweils die Spulen
ausgebildet sind, fungieren als Spulenkerne. Durch
das Fertigungsverfahren bedingt haben diese Spulen
nur ein sehr geringes Aspektverhältnis, was zu
Streuungen in ihrer Induktivität und zu einer hohen
Empfindlichkeit gegen Schwankungen der Breite des
Luftspalts zwischen den Spulenkernen und dem
Prüfkörper führt. Für einen guten Nullabgleich ist
jedoch eine möglichst geringe Streuung der
Induktivitäten erforderlich.
Eine Kreuzkonstruktion ist mit dem bekannten
Verfahren nicht realisierbar, da es nur die Bildung
einer einheitlichen weichmagnetischen Schicht
zuläßt, wohingegen bei der Kreuzkonstruktion zwei
voneinander magnetisch getrennte Joche gebildet werden müs
sen.
Die Erfindung schlägt ein Verfahren vor, mit dem magnetoela
stische Sensoren mit hoher Empfindlichkeit auf einfache Wei
se hergestellt werden können. Bei diesem Verfahren wird zu
nächst eine weichmagnetische Schicht auf ein Trägersubstrat
aufgebracht, dann werden durch Aufbringen jeweils wenigstens
einer planaren Spulenwicklung über der weichmagnetischen
Schicht Spulen erzeugt und Spulenkerne durch Auffüllen eines
in einem Zentrum der Spulen gebildeten Fensters mit einem
weichmagnetischen Material gebildet. Dieses Fenster wird
vorzugsweise erzeugt durch Strukturieren einer auf die Spu
len aufgebrachten dielektrischen Schicht, insbesondere einer
Resistschicht. Um Spulenkerne mit über ihre Länge im wesent
lichen gleichbleibendem Querschnitt zu erzeugen, wird zum
Strukturieren weiter ein Trockenätzverfahren oder Laserabla
tion eingesetzt.
Das Aufbringen der weichmagnetischen Schicht und/oder das
Aufbringen der Spulenwicklungen und/oder das Auffüllen des
Fensters erfolgt
vorzugsweise galvanisch, wobei wenigstens ein
Zyklus des Erzeugens einer metallischen
Startschicht, des Auftragens einer Resistschicht
auf der Startschicht, des Strukturierens der
Resistschicht, bis die Startschicht wenigstens
bereichsweise freigelegt ist, und des galvanischen
Aufwachsens auf den freigelegten Bereichen der
Startschicht umfaßt. Zumindest im Falle des
Aufbringens der Spulenwicklungen ist die
Startschicht vorzugsweise so dünn, daß sie nur eine
vernachlässigbare elektrische Eigenleitfähigkeit im
Vergleich zur Leitfähigkeit der späteren Spule
besitzt. Die Startschicht kann durch Aufdampfen
oder Aufsputtern erzeugt werden; eine weitere,
aufgrund ihrer Einfachheit bevorzugte Variante ist,
die metallische Startschicht und die Resistschicht
gemeinsam in Form einer metallisierten Folie
aufzulaminieren.
Für die Herstellung eines Sensors mit
Kreuzkonstruktion wird die weichmagnetische Schicht
zweckmäßigerweise in drei aufeinanderfolgenden
Zyklen aufgebracht, wobei in jedem Zyklus vier an
den Ecken eine Raute angeordnete Felder aus
weichmagnetischem Material erzeugt werden und im
ersten Zyklus ein Verbindungssteg zwischen zwei an
einer ersten Diagonale der Raute angeordneten
Feldern und im dritten Zyklus ein Verbindungssteg
zwischen den zwei anderen Feldern erzeugt wird.
Während des zweiten Zyklus hingegen wird kein Steg
erzeugt, so daß die vier Felder jeweils überkreuz
magnetisch miteinander verbunden sind, aneinander
angrenzende Felder aber magnetisch isoliert sind.
In den ersten beiden Zyklen kann es auch
ausreichen, nur jeweils die zwei der vier Felder zu
erzeugen, die im ersten Zyklus durch einen
Verbindungssteg verbunden werden müssen. Bei der
Kreuzkonstruktion ist ferner bevorzugt, daß über
jedem der vier Felder eine Spule erzeugt wird, und
daß jeweils die über einen Steg magnetisch
verbundenen Felder angeordneten Spulen in Reihe
elektrisch verbunden werden, um jeweils gemeinsam
eine Erreger- beziehungsweise Meßspule zu bilden.
Für die Herstellung eines Sensors in
Zweigkonstruktion werden über der weichmagnetischen
Schicht fünf Spulen entsprechend den Ecken einer
Raute und dem Schnittpunkt der Diagonalen der Raute
angeordnet. Dabei kann die weichmagnetische Schicht
kreuzförmig aufgebracht werden, so daß die Spulen
jeweils an den Enden der Arme des Kreuzes
beziehungsweise an dessen Kreuzungspunkt zu liegen
kommen.
Besonders einfach gestaltet sich die Herstellung
dann, wenn zur Herstellung einer Mehrzahl von
erfindungsgemäßen magnetoelastischen Sensoren die
weichmagnetische Schicht vollflächig auf ein
gemeinsames Substrat aufgebracht worden ist und
erst beim Zerlegen des Substrats in einzelne
Sensoren, deren weichmagnetische Schichten
vereinzelt werden. In diesem Fall erübrigt sich ein
Schritt des Strukturierens der weichmagnetischen
Schicht.
Ein nach dem erfindungsgemäßen Verfahren
hergestellter magnetoelastischer Sensor kann auf
einem flexiblen Trägersubstrat aufgebaut sein, was
eine einfache Anpassung des Sensors an die
Abtastung von Prüfkörpern mit unterschiedlichen
Radien unter Einhaltung eines geringen Luftspalts
zwischen Sensor und Prüfkörper erlaubt.
Ein solcher magnetoelastischer Sensor hat
typischerweise eine Ausdehnung in der Ebene des
Trägersubstrats von zwei bis zehn Millimeter und
von nicht mehr als 0.1 mm senkrecht dazu.
Weitere Merkmale und Vorteile ergeben sich aus der
nachfolgenden Beschreibung von Ausführungs
beispielen mit Bezug auf die Figuren.
Fig. 1 zeigt eine perspektivische
Ansicht eines
erfindungsgemäßen Sensors;
Fig. 2A bis 2G zeigen Schritte des
Verfahrens zur Herstellung
des Sensors aus Fig. 1;
Fig. 3A bis 3E zeigen Schritte eines
Verfahrens zur Herstellung
eines zweiten
erfindungsgemäßen Sensors;
und
Fig. 4 zeigt einen nach der mit
Bezug auf Fig. 3
beschriebenen Verfahren
hergestellten Sensor.
Fig. 1 zeigt in perspektivischer Ansicht einen
erfindungsgemäßen Kraft- oder Drehmomentsensor 1 in
Zweig-Konstruktion. Ein Substrat, auf dem der
Sensor aufgebaut ist, ist der Übersichtlichkeit der
Darstellung wegen nicht gezeichnet, genauso wie
dielektrische Schichten, in die Komponenten des
Sensors eingebettet sind. Die unterste Schicht des
Sensors 1, die direkt auf dem Substrat aufliegt,
ist eine Bodenschicht 2 aus einem weichmagnetischen
Material wie etwa einer Nickeleisenlegierung. Die
Bodenschicht 2 ist bei dem hier dargestellten
Sensor 1 in Form eines X strukturiert. Die Enden
der Zweige des X sowie ihr Kreuzungspunkt tragen
jeweils einen Spulenkern 3, 4. Die Spulenkerne 3, 4
sind mit der Bodenschicht 2 durchgängig verbunden
und bestehen aus dem gleichen Material.
Um jeden Spulenkern 3, 4 herum ist eine Spule 5
beziehungsweise 6 ausgebildet, die jeweils zwei
planare Wicklungen 7 umfaßt, deren Leiterbahnen 8
spiralförmig um den Spulenkern 3 beziehungsweise 4
verlaufen. Die Leiterbahnen 8 sind an ihrem radial
äußeren Ende jeweils mit einem Kontaktpad, der zum
Anschließen des Sensors 1 an eine (nicht
dargestellte) Erreger- beziehungsweise
Auswerteelektronik vorgesehen ist, und an ihrem
radial inneren Ende mit einer Durchkontaktierung 10
verbunden, die eine stromleitende Verbindung
zwischen den zwei Wicklungen 7 einer jeden Spule
5, 6 herstellt. Die Händigkeit der von den
Leiterbahnen in den zwei Wicklungen 7 einer Spule
gebildeten Spiralen ist selbstverständlich jeweils
entgegengesetzt, so daß die von einem in den
einzelnen Wicklungen fließenden Strom erzeugten
Magnetfelder einander konstruktiv überlagern.
Zur praktischen Anwendung wird die am
Kreuzungspunkt der Arme der Bodenschicht 2
angeordnete Spule 5 mit einer Erregerschaltung
verbunden, die ein magnetisches Wechselfeld im
Spulenkern 3 induziert. Wenn sich der Sensor mit
den in der Figur oben liegenden Oberflächen der
Spulenkerne 3 in der Nähe eines ferromagnetische
Materials befindet, entsteht so ein alternierender
magnetischer Fluß durch den Spulenkern 3, das
ferromagnetische Material, jeden der Spulenkerne
und einen Zweig der Bodenschicht 2 zurück zum
Spulenkern 3. Die an den Zweigenden angeordneten
Spulen 6 fungieren jeweils als Empfänger, in denen
eine zu dem Magnetfluß proportionale
Wechselspannung induziert wird und an den
Kontaktpads 9 abgegriffen werden kann.
Ein Verfahren zur Herstellung eines Sensors wie in
Fig. 1 gezeigt wird nun anhand der Fig. 2A bis
2G erläutert. Fig. 2A zeigt einen Anfangszustand
der Herstellung eines solchen Sensors, in dem auf
ein Trägersubstrat 20 aus einem isolierenden
Material eine weichmagnetische Bodenschicht 2 und
über dieser eine dielektrische Schicht 21
aufgebracht ist.
Dieses Dreischichtensystem kann in
unterschiedlicher Weise erzeugt werden. Eine
Möglichkeit ist, die Bodenschicht 2 auf das
Trägersubstrat 20 direkt aufzudampfen oder zu
-sputtern. Bevorzugt ist allerdings, lediglich eine
dünne Starterschicht in dieser Weise aufzubringen,
und diese Starterschicht durch galvanische,
vorzugsweise stromlos galvanische Abscheidung bis
zur gewünschten Dicke der Bodenschicht 2 anwachsen
zu lassen. Als Material der dielektrischen Schicht
21 kommen Polymermaterialien in Frage, die in
flüssiger oder fester Form, durch Aufschleudern und
anschließendes Vernetzen oder durch Auflaminieren,
aufgebracht werden können. Für die
Flüssigaufbringung sind durch Tempern vernetzbare
Materialien wie Polyimid, BCB oder dergleichen
besonders geeignet.
Alternativ können die Bodenschicht 2 und die
dielektrische Schicht 21 als vorgefertigte
Verbundfolie auf das Trägersubstrat 20 auflaminiert
werden.
Auf das Dreischichtensystem aus Fig. 2A wird einem
darauffolgenden Prozeßschritt eine dünne
metallische Startschicht 22 und eine
Photoresistschicht 23 vollflächig aufgebracht. Die
Startschicht 22 ist so dünn, daß sie in der Figur
nicht als eigene Schicht zu erkennen ist. Eine
Dicke in der Größenordnung von einzelnen Atomlagen
ist ausreichend. Gemäß einer ersten Alternative
wird die metallische Startschicht 22 auf die
dielektrische Schicht 21 aufgedampft oder
aufgesputtert und die Photoresistschicht 23 darauf
in flüssigem Zustand aufgeschleudert und verfestigt
oder als feste Folie auflaminiert. Gemäß einer
zweiten Alternative kann auch eine feste
Photoresistschicht 23, die an ihrer Unterseite die
Startschicht 22 trägt, direkt auf die dielektrische
Schicht 21 laminiert werden.
Die Photoresistschicht wird in herkömmlicher Weise
belichtet und entwickelt, um in ihr Gräben 24 zu
bilden, deren Form den zu erzeugenden Leiterbahnen
8 der untersten Wicklung 7 einer Spule entspricht.
Am Boden der Gräben 24 liegt die Startschicht 22
frei. Auf der Startschicht 22 können nun galvanisch
die Leiterbahnen 8 der unteren Lage der Spule
abgeschieden werden. Dies muß zumindest zu Beginn,
solange die Leitfähigkeit der abgeschiedenen
Metallschicht noch zu gering ist, stromlos
erfolgen, später kann die Abscheidung durch Anlegen
einer geeigneten Spannung an die Leiterbahnen
unterstützt werden.
Wenn die Leiterbahnen 8 eine gewünschte Dicke
erreicht haben, wird der verbliebene Photoresist 23
beseitigt, und man erhält die in Fig. 2C gezeigte
Struktur.
Falls die Startschicht 22 zuvor in einer Dicke
aufgetragen worden ist, die einen nicht
vernachlässigbaren Kurzschluß-Stromfluß zwischen
den Leiterbahnen 8 ermöglicht, kann die
Galvanisierung vollständig elektrisch erfolgen, und
nach Beseitigung des Photoresists 23 schließt sich
ein Ätzschritt an, in dessen Verlauf die
Startschicht 22 zwischen den Leiterbahnen 8
entfernt wird, dessen Dauer aber nicht ausreicht,
um die Leiterbahnen 8 selbst in merklichem Umfang
anzugreifen.
Falls die Startschicht 22 so dünn ist, daß ein
Kurzschluß-Stromfluß vernachlässigbar ist, kann auf
die Beseitigung des Photoresists 23 und den
Ätzschritt verzichtet werden.
Anschließend wird eine zweite dielektrische Schicht
25 aufgetragen. Dies kann wie bei der
dielektrischen Schicht 21 durch Aufschleudern und
Verfestigen eines flüssigen Polymermaterials oder
durch Laminieren mit einer Folie erfolgen. Hierfür
wird eine zweilagige Folie aus Kunststoff, zum
Beispiel aus Polyimid oder Polyester verwendet, die
an ihrer den Leiterbahnen 8 zugewandten Seite eine
Epoxidklebeschicht trägt, die fließfähig ist und
sich beim Aufpressen in die Zwischenräume zwischen
den Leiterbahnen verteilt. Nach dem Aufpressen wird
das Material bei erhöhter Temperatur,
beispielsweise zwischen 100 und 250°C, ausgehärtet.
Anschließend wird jeweils an den Enden der
spiralförmigen Leiterbahn 8 ein Loch 26 in der
dielektrischen Schicht 25 erzeugt, um die
Leiterbahn 8 lokal wieder freizulegen. Diese Löcher
dienen der Kontaktierung der Enden der von den
Leiterbahnen 8 gebildeten Spirale mit der
Leiterbahn einer anschließend auf der Oberfläche
der Folie 25 zu erzeugenden zweiten Lage der Spule
beziehungsweise einem Kontaktpad. Die Löcher 26
werden zum Beispiel durch Maskieren der Oberfläche
der Folie 25 und Trockenätzen oder durch
Laserablation erzeugt. Falls die Folie 25 aus einem
Photoresistmaterial besteht, können die Löcher 26
auch durch Photostrukturierung erzeugt werden. Eine
anschließende Vernetzung, zum Beispiel durch
Erhitzen, macht das Material unempfindlich gegen
spätere Photostrukturierungsschritte an darüber
aufgebrachten Schichten.
Zur Erzeugung der zweiten Lage der Spule werden die
gleichen Prozeßschritte wie für die erste
angewandt. Durch galvanische Abscheidung von Metall
im Loch 26 entsteht ein leitender Übergang von
einer Spulenlage zur nächsten.
Durch Wiederholen dieses Prozesses lassen sich
Spulen mit einer großen Zahl von in dielektrische
Schichten 25 eingebetteten Wicklungen 7 und einer
entsprechend hohen Güte erzeugen, die für genaue
Messungen geeignet sind.
Nachdem die gewünschte Zahl von planaren
Spulenwicklungen erzeugt ist, wird durch die Mitte
dieser Wicklungen hindurch ein Fenster 27 bis
hinunter zur Bodenschicht 2 vorgetrieben, das den
Spulenkern aufnehmen soll. Dieses Fenster wird
durch Trockenätzen oder Laserablation erzeugt.
Anschließend läßt man auf der freigelegten
Bodenschicht 2 durch galvanische Abscheidung einen
Spulenkern 3 aufwachsen, bis dieser mit der
Oberfläche der obersten Folie 25 bündig abschließt.
Auf dieser glatten Oberfläche kann, wenn gewünscht,
leicht eine Passivierungsschicht angebracht werden.
Für den letzten Schritt des Verfahrens ist in Fig.
2G eine Anordnung von mehreren Spulen 5, 6 in
Draufsicht gezeigt. Diese auf einer vollflächig
durchgehenden weichmagnetischen Bodenschicht 2
aufgebauten Spulen werden nun entlang der
gestrichelten Linien 28 auseinandergeschnitten, um
jeweils einzelne Sensoren 1 mit einer zentralen
Erregerspule 5 und vier darum herum angeordneten
Meßspulen 6 zu erhalten.
Fig. 3A bis 3E zeigen Schritte der Herstellung
eines miniaturisierten Sensors in
Kreuzkonstruktion. In einem ersten Zyklus der
Herstellung dieses Sensors wird auf dem Substrat
eine Startschicht abgeschieden, eine darauf
auflaminierte Photoresistfolie strukturiert und auf
den durch die Strukturierung freigelegten Bereichen
der Startschicht eine weichmagnetische Bodenschicht
2 aufgebracht, wie oben mit Bezug auf Fig. 2A
bis 2C erläutert. Diese erste weichmagnetische
Bodenschicht 2 hat eine Dicke von 10 bis 20 µm und
umfaßt für einen Sensor vier quadratische und in
einem Quadrat mit einer Kantenlänge von zum
Beispiel 10 mm angeordnete Felder 30, 31, von denen
zwei sich diagonal gegenüberliegende 31 durch einen
Steg 32 verbunden sind. Auf diese Felder wird eine
Folie in Art der in Fig. 2 der gezeigten Folie 25
aufgebracht, und die Folie wird strukturiert durch
Erzeugen von vier Fenstern jeweils oberhalb der
Felder 30, 31. Der Steg 32 bleibt durch die Folie
verdeckt. Auf die freigelegten Felder 30, 31 wird
eine zweite Schicht 33 des gleichen
weichmagnetischen Materials galvanisch aufgebracht,
was den in Fig. 3B dargestellten Aufbau ergibt.
Es folgt ein Schritt des Aufbringens einer
metallischen Startschicht und eines Photoresists,
wie bereits beschrieben, wobei die
Photoresistschicht strukturiert wird, um die vier
Felder und einen Verbindungsstreifen zwischen den
zwei Feldern 30 freizulegen. Durch einen weiteren
Schritt des galvanischen Abscheidens erhält man den
in Fig. 3C gezeigten dreischichtigen Aufbau, in
der die Felder 31 und 30 jeweils paarweise durch
den Steg 32 beziehungsweise den auf dem
Verbindungsstreifen aufgewachsenen Steg 34
magnetisch verbunden sind und zwei voneinander
magnetisch isolierte, sich kreuzende
Schichtstrukturen bilden.
Die Erzeugung von Spulen über den Feldern 30, 31
umfaßt die gleichen Schritte wie oben mit Bezug auf
Fig. 2B bis 2E erläutert. Dabei sind die Spulen
5 über den Feldern 30 und 6 über den Feldern 31
jeweils durch eine Brücke 35, 36 in Reihe
geschaltet. Durch Ätzen eines Fensters im
Mittelbereich der Spulen bis hinunter auf die
Felder 30, 31 und Auffüllen der Fenster durch
galvanisches Abscheiden von weichmagnetischem
Material wie etwa Nickeleisenlegierung wird der in
Fig. 4 dargestellte fertige Sensor erhalten. Die
in Reihe geschalteten Spulen S beziehungsweise 6
bilden jeweils eine Erreger- beziehungsweise
Meßspule, und die Spulenkerne 3 beziehungsweise 4,
die Felder 30 beziehungsweise 31 und die Stege 32
beziehungsweise 34 jeweils rechtwinklig zueinander
orientierte Joche.
Der komplette Sensor kann mit einer Gesamtdicke von
nicht mehr als 0.1 mm hergestellt werden. Bei
Verwendung eines flexiblen Trägersubstrats kann
daher der gesamte Sensor flexibel ausgebildet sein
und eignet sich daher ausgezeichnet zur
berührungslosen Überwachung von Wellen mit sehr
geringem Durchmesser oder zum Anbringen an zu
überwachenden Körpern von weitgehend beliebiger
Gestalt.
Claims (15)
1. Verfahren zum Herstellen eines magnetoelastischen Sensors
(1), der wenigstens eine Erregerspule (5) und wenigstens eine
Messspule (6) mit Spulenkern (3, 4) umfasst, gekennzeichnet
durch die Schritte
- - Aufbringen wenigstens einer weichmagnetischen Schicht (2) auf einem Trägersubstrat (20);
- - Erzeugen der Spulen (5, 6) durch Aufbringen jeweils wenigstens einer planaren Spulenwicklung (7) über der weichmagnetischen Schicht (2);
- - Bilden von Spulenkernen (3, 4) durch Auffüllen eines im Zen trum der Spulen mittels Trockenätzen oder Laserablation heraus strukturierten Fensters (27) mit einem weichmagnetischen Materi al.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
das Fenster (27) durch Strukturieren einer auf die planaren Spu
lenwicklungen (7) aufgebrachten dielektrischen Schicht (25) er
zeugt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
das Aufbringen der weichmagnetischen Schicht (2) und/oder das
Aufbringen der Spulenwicklungen (7) und/oder das Auffüllen des
Fensters (27) galvanisch erfolgt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass
das Aufbringen der weichmagnetischen Schicht (2) und/oder das
Aufbringen der Spulenwicklungen (7) und/oder das Auffüllen des
Fensters (27) wenigstens einen Zyklus des Erzeugens einer metal
lischen Startschicht (2), des Auftragens einer Photore
sistschicht (23) auf der Startschicht (22), des
Strukturierens der Photoresistschicht (23) bis hinab auf die
Startschicht (22) und des galvanischen Aufwachens umfasst.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass
das Erzeugen der metallischen Startschicht (22) und das Auftra
gen der Photoresistschicht (23) durch Auflaminieren einer metal
lisierten Folie erfolgen.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, da
durch gekennzeichnet, dass das Aufbringen der weichmagnetischen
Schicht (30, 31) drei Zyklen umfasst, wobei vier an den Ecken
einer Raute angeordnete Felder (30, 31) aus weichmagnetischem
Material erzeugt werden und im ersten Zyklus ein Verbindungssteg
(32) zwischen zwei an einer ersten Diagonalen der Raute angeord
neten Felder (30) und im dritten Zyklus ein Verbindungssteg (34)
zwischen den zwei anderen Feldern (31) erzeugt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass
über jedem Feld (30, 31) eine Spule (5, 6) erzeugt wird, und
dass über durch einen Steg (32, 34) verbundenen Feldern (30, 31)
angeordnete Spulen (5, 6) elektrisch in Reihe verbunden werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge
kennzeichnet, dass über der weichmagnetischen Sicht (2) fünf
Spulen (5, 6) entsprechend den Ecken einer Rauten und dem
Schnittpunkt der zwei Diagonalen der Raute angeordnet werden.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass
die weichmagnetische Schicht (2) kreuzförmig aufgebracht wird.
10. Verfahren zum Herstellen einer Mehrzahl von magnetoela
stischen Sensoren, dadurch gekennzeichnet, dass die Sensoren (1)
nach einem Verfahren nach Anspruch 8 auf einem gemeinsamen Trä
gersubstrat (20) hergestellt werden, auf dem die weichmagneti
sche Schicht (2) vollflächig aufgebracht worden ist, und dass
die weichmagnetischen Schichten (2) der einzelnen Sensoren (1)
durch Zerlegen des Substrats in einzelne Sensoren vereinzelt
werden.
11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, ge
kennzeichnet durch einen Schritt des Passivierens der Oberfläche
des Sensors (1).
12. Magnetoelastischer Sensor, dadurch gekennzeichnet, dass
er nach dem Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche
hergestellt ist.
13. Magnetoelastischer Sensor nach Anspruch 12, dadurch ge
kennzeichnet, dass das Trägersubstrat (20) flexibel ist.
14. Magnetischer Sensor nach einem der Ansprüche 12 oder 13,
dadurch gekennzeichnet, dass er eine Ausdehnung in der Ebene des
Trägersubstrats von 2 bis 10 mm und senkrecht zur Ebene des Trä
gersubstrats von nicht mehr als 0,1 mm hat.
15. Magnetoelastischer Sensor nach einem der Ansprüche 12 bis
14, dadurch gekennzeichnet, dass er zwei voneinander magnetisch
isolierte weichmagnetische Schichten (2) aufweist, die sich
kreuzende Strukturen (30, 32; 31, 34) bilden, wobei Felder (30)
einer der zwei Strukturen die Kerne (3) von zwei Erregerspulen
(5) und Felder (31) der anderen Struktur die Kerne (4) von zwei
Messspulen (6) tragen.
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DE1999119031 DE19919031C2 (de) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | Magnetoelastischer Sensor und Verfahren zu dessen Herstellung |
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