DE19860671A1 - Verfahren zur Herstellung einer farbigen Fotomaske sowie Fotomaske mit nebeneinanderliegenden unterschiedlichen Farbfilterbereichen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer farbigen Fotomaske sowie Fotomaske mit nebeneinanderliegenden unterschiedlichen FarbfilterbereichenInfo
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- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
Abstract
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer farbigen Fotomaske zur Belichtung von Fotoemulsionsschichten für Farbbilder von Flüssigkristallanzeigen vorgeschlagen, bei welchem erfindungsgemäß zur Strukturierung von unterschiedlichen nebeneinanderliegenden Farbfilterbereichen auf der Fotomaske nacheinander dichroitische Schichten mit entsprechenden Farbfiltereigenschaften aufgebracht und strukturiert werden. Im Weiteren wird eine Fotomaske vorgeschlagen, die nebeneinanderliegende unterschiedliche Farbfilterbereiche zur Belichtung von Fotoemulsionsschichten aufweist und erfindungsgemäß dadurch ausgezeichnet ist, dass die Farbfilterbereiche aus dichroitischen Schichten bestehen.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer
farbigen Fotomaske sowie eine Fotomaske mit
nebeneinanderliegenden unterschiedlichen Farbfilterbereichen
zur Belichtung von Fotoemulsionsschichten für Farbfilter von
Flüssigkristallanzeigen.
Eine Flüssigkristallanzeige besteht im Wesentlichen aus zwei
planparallelen Substraten (z. B. Glassubstrate) mit einem
dazwischen angeordneten, als Lichtventil dienenden
Flüssigkristallmaterial. Im Allgemeinen trägt das in
Betrachtungsrichtung hintere Substrat Leiterbahnen und
gegebenenfalls Halbleiterstrukturen. Auf dem vorderen
Substrat sind bei farbfähigen Anzeigen Farbfilter
aufgebracht, die regelmäßig bei Matrixanzeigen von einer
lichtundurchlässigen Abdeckmatrize (Black-Matrix) umgeben
sind. Der Hauptzweck der Black-Matrix besteht darin, eine
optisch aktive Fläche eindeutig zu definieren.
Zur Erzeugung der Farbfilter und auch der Black-Matrix werden
bei einer Ausführungsform Fotoemulsionsschichten eingesetzt.
Dazu werden beispielsweise auf eine Glasplatte drei
Fotoemulsionsschichten aufgebracht, die in unterschiedlichen
Spektralbereichen fotoempfindlich sind und sich bei
Belichtung mit einer Farbe und anschließendem Entwickeln in
deren Komplementärfarbe einfärben.
Um zu vermeiden, dass bei der Erzeugung von jeder
Farbfilterplatte für eine Flüssigkristallanzeige drei
Belichtungsschritte mit unterschiedlichen Belichtungsfarben
erforderlich sind, können Fotomasken eingesetzt werden, die
entsprechende Farbfilterbereiche in den Komplementärfarben
der Filterbereiche des eigentlichen
Flüssigkristallfarbfilters aufweisen. Auf diese Weise kann
der Belichtungsschritt der Fotoemulsionsschichten in einem
einzigen Belichtungsschritt durchgeführt werden. Dabei ist
lediglich darauf zu achten, dass die verwendete Lichtquelle
die gewünschten Farbanteile enthält.
In "SIMPLEST PROCESS COLOR TFT-LCDs", A. Prolonge et al.,
Asia Display '95, Seite 697 ist ein Verfahren zur Herstellung
einer farbigen Fotomaske für die Belichtung von Farb-
Fotoemulsionsschichten als Farbfilter in einer
Flüssigkristallanzeige beschrieben.
Diese Fotomaske wird ihrerseits aus Farb-
Fotoemulsionsschichten hergestellt, wobei jedoch die
entsprechenden Filterbereiche die Komplementärfarben der
eigentlichen Flüssigkristall-Farbfilterbereiche aufweisen.
Zur Erzeugung der farbigen Fotomaske werden drei
Fotoemulsionsschichten übereinander angeordnet und durch
nacheinander folgende Belichtung durch blaues, grünes und
rotes Licht über eine Chrommaske, die nur ein Drittel der
Bildpunkte aufweist und nach jedem Belichtungsschritt
verschoben wird, Farbfilterbereiche in den Farben "Gelb",
"Magenta" und "Cyan" erzeugt. Die nach der dreimaligen
Belichtung unbelichteten Bereiche zwischen den Bildpunkten
werden nach dem Entwickeln transparent. Mit dieser farbigen
Fotomaske werden dann die Farb-Fotoemulsionsschichten zur
Erzeugung der Farbfilter auf einem Flüssigkristallsubstrat
belichtet, wobei die transparenten Bereiche der Fotomarke auf
dem Farbfilter zu schwarzen Bereichen führen und deshalb als
Black Matrix verwendet werden können.
Eine solche farbige Fotomaske weist jedoch Nachteile auf. Die
Standzeit einer farbigen Fotomaske aus Farbemulsionen ist
begrenzt, da die Schichten bei vielen aufeinanderfolgenden
Belichtungsschritten verschleißen.
Des Weiteren ist eine intensive Reinigung dieser Fotomasken
nur schwer beziehungsweise gar nicht möglich. Darüber hinaus
sind die Filtereigenschaften von Fotoemulsionsschichten für
den Einsatz in einer Fotomaske unzureichend. Das Resultat
sind bleiche Farben.
Schließlich ist durch den Herstellungsprozess der Fotomaske,
bei welchem eine Chrommaske dreifach verschoben wird, der
Zwischenraum zwischen den Farbfilterbereichen für die Farben
"Gelb", "Magenta" und "Cyan" unterschiedlich groß, so dass
hohe Toleranzen in der Flüssigkristallanzeige über einen
entsprechenden geometrischen Vorhalt ausgeglichen werden
müssen, die wiederum einen Aperturverlust der
Flüssigkristallanzeige zur Folge haben.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine farbige
Fotomaske zur Belichtung von Farbemulsionen für Farbfilter
von Flüssigkristallanzeigen bereitzustellen, die eine hohe
Langzeitstabilität aufweist, unproblematisch zu reinigen ist
und verbesserte Farbfiltereigenschaften mit vergleichsweise
steilen Filterflanken besitzt.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 sowie
durch die Merkmale des nebengeordneten Anspruchs 8 gelöst. In
den Unteransprüchen sind vorteilhafte und zweckmäßige
Weiterbildungen der Erfindung angegeben.
Die Erfindung geht von einem Verfahren zur Herstellung einer
farbigen Fotomaske zur Belichtung von Fotoemulsionsschichten
für Farbfilter von Flüssigkristallanzeigen aus. Der
Kerngedanke der Erfindung liegt nun darin, dass zur Erzeugung
von unterschiedlichen nebeneinanderliegenden
Farbfilterbereichen auf der Fotomaske nacheinander
dichroitische Schichten mit entsprechenden
Farbfiltereigenschaften aufgebracht, z. B. aufgedampft oder
aufgesputtert, und strukturiert werden. Mit dichroitischen
Schichten lassen sich Farbfilter mit steilen Filterflanken
erzeugen, wodurch eine hohe Farbtreue erreicht werden kann.
Des Weiteren weisen dichroitische Farbfilterschichten eine
hohe Langzeitstabilität auf und sie lassen sich vergleichs
weise einfach reinigen. Dichroitische Farbfilter bestehen
regelmäßig aus einer Vielzahl dielektrischer Schichten mit
unterschiedlich großen Brechungsindizies, zum Beispiel
Schichten aus SiO2 oder TiO2. Durch die Anzahl der Schichten
und das Verhältnis der Schichtdicken zueinander läßt sich der
spektrale Durchlaßbereich des Filters einstellen.
Um eine sichere Strukturierung der schwer selektiv zueinander
ätzbaren dichroitischen Farbfilterbereiche zu gewährleisten,
wird vorgeschlagen, dass bei der Strukturierung wenigstens
einer dichroitischen Schicht zunächst auf diese dichroitische
Schicht eine Ätzstoppschicht, die selektiv zu den
dichroitischen Schichten geätzt werden kann, vorzugsweise
eine Chromschicht, aufgebracht wird, dass anschließend eine
fotoempfindliche Lackschicht aufgebracht und nach einem
Belichtungsschritt, vorzugsweise Maskenbelichtungsschritt,
strukturiert wird, dass im Weiteren mit der strukturierten
Fotolackschicht die Strukturierung der Ätzstoppschicht und
darauffolgend die Strukturierung der wenigstens einen
dichroitischen Schicht vorgenommen wird, und dass
anschließend die Fotolackschicht entfernt wird. In diesem
Zusammenhang ist es ebenso vorteilhaft, wenn bei der
Strukturierung der letzten dichroitischen Schicht die
fotoempfindliche Lackschicht direkt auf die dichroitische
Schicht ohne Aufbringen einer Ätzstoppschicht aufgebracht
wird. Dies ist möglich, da die letzte dichroitische Schicht
nicht mehr bezüglich einer nachfolgenden dichroitischen
Schicht geätzt werden muß. Vorzugsweise werden nach
Strukturierung aller dichroitischen Schichten die auf den
Farbfilterbereichen befindlichen Ätzstopschichten entfernt.
Bei einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung
werden die dichroitischen Schichten derart vorstrukturiert,
dass größere Bereiche, als die endgültigen Farbfilterbereiche
verbleiben, und dass in einem einzigen abschließenden
Prozessschritt die endgültige Struktur aller
nebeneinanderliegenden dichroitischen Farbfilterbereiche
erzeugt wird. Durch diese Maßnahme kann sichergestellt
werden, dass die Abstände zwischen den Farbfilterbereichen
gleichbleibend sind und somit enge Toleranzen bei der
Gestaltung einer Black-Matrix einer Farbfilterplatte für eine
Flüssigkristallanzeige eingehalten werden können. Auf diese
Weise wird die Apertur der Flüssigkristallanzeige verbessert.
Im Weiteren ist es günstig, wenn der abschließende
Prozessschritt ein fotolithographischer Prozessschritt ist,
bei welchem zunächst eine fotoempfindliche Lackschicht
aufgebracht wird, anschließend die Fotolackschicht in einem
Belichtungsschritt, vorzugsweise Maskenschritt, strukturiert
wird und im Weiteren mit der strukturierten Fotolackschicht
die Strukturierung der dichroitischen Farbfilterbereiche auf
ihre endgültige Größe vorgenommen wird. Dieser Prozessschritt
ist vor allem dann bevorzugt, wenn die Bereiche zwischen den
Farbfilterbereichen lichtdurchlässig bleiben sollen, um damit
die Black-Matrix in einem Farbemulsionschichtsystem der
Farbfilter der Flüssigkristallanzeige zu erzeugen. Denn
sofern drei übereinanderliegende Fotoemulsionsschichten für
die Farben "Gelb", "Magenta" und "Cyan" einer
Farbfilterplatte für eine Flüssigkristallanzeige mit "weißem
Licht" belichtet werden, werden alle drei Farbschichten im
jeweiligen Spektralbereich "aktiviert", so dass am Ende kein
Licht durchdringt und die Dreierschicht schwarz erscheint.
Bei einer alternativen Verfahrensweise kann die farbige
Fotomaske nicht für einen Durchlichteinsatz, sondern reflexiv
eingesetzt werden. In diesem Fall ist es zur Erzeugung einer
exakten Beabstandung der Farbfilterbereiche vorteilhaft, wenn
der abschließende Prozessschritt zunächst eine Beschichtung
mit einer reflektierenden Schicht, aus z. B. Chrom oder
Aluminium, umfaßt und dass aus dieser reflektierenden
Schicht über den bereits vorstrukturierten
Farbfilterbereichen angeordnete Fenster mittels eines
Fotolackschritts erzeugt werden, um die nun an dieser Stelle
freiliegende reflektive Schicht zu entfernen. Beispielsweise
läßt sich eine reflexive Chromschicht in einem nasschemischen
Ätzschritt abätzen. Bei der Verwendung als reflexive Maske
müssen die Farbfiltereigenschaften der dichroitischen
Farbfilterbereiche entsprechend angepaßt werden. Das heißt im
Vergleich zu den Farbfiltereigenschaften bei Durchlicht wird
nunmehr die komplementäre Farbe von den Farbfilterbereichen
reflektiert.
Zwei Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den
Zeichnungen dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung
unter Angabe weiterer Vorteile und Einzelheiten näher
erläutert.
Es zeigen
Fig. 1a-1f einen Ausschnitt einer farbigen
Fotomaske zur Belichtung von
Fotoemulsionen für Farbfilter von
Flüssigkristallanzeigen im Querschnitt in
verschiedenen Prozessstadien bei der
Durchführung eines ersten
erfindungsgemäßen Herstellungsverfahrens
und
Fig. 2a-2g einen Ausschnitt einer weiteren farbigen
Fotomaske zur Belichtung von
Farbemulsionsschichten für Farbfilter von
Flüssigkristallanzeigen im Querschnitt
und in verschiedenen Prozessstadien bei
der Durchführung eines zweiten
erfindungsgemäßen Herstellungsverfahrens.
Die Fig. 1a-1f zeigen einen Ausschnitt einer farbigen
Fotomaske 1 zur Belichtung von Fotoemulsionsschichten für
Farbfilter von Flüssigkristallanzeigen in verschiedenen
Prozessstadien bei der Durchführung eines ersten
erfindungsgemäßen Herstellungsverfahrens. Die Fotomaske wird
auf einem Glassubstrat 2 aufgebaut. Nacheinander werden die
folgenden Prozessschritte durchgeführt:
- 1. Zunächst wird eine erste dichroitische Schicht z. B. mit Farbfiltereigenschaften für die Farbe "Cyan" aufgedampft. Darauf wird ein fotoempfindlicher Lack aufgebracht und über einen fotolithographischen Prozess mit vorzugsweise einer Maskenbelichtung belichtet und zu Inseln 4 strukturiert, die den gewünschten vorstrukturierten Farbfilterbereichen für die Farbe "Cyan" entsprechen (Fig. 1a).
- 2. Mit dieser Maskierung wird die dichroitische Schicht geätzt, so dass die gewünschten Farbfilterbereiche 5 verbleiben. Anschließend wird die Fotolackmaskierung entfernt (Fig. 1b).
- 3. Diese Prozessschritte werden in gleicher Weise zur Herstellung der Farbfilterbereiche 6, 7 für die Farben "Magenta" und "Gelb" wiederholt. Dabei ist es nicht notwendig, dass die Farbfilterbereiche 5, 6, 7 exakt zueinander justiert werden müssen. Vielmehr sind Justiertoleranzen zulässig, da die Struktur der Farbfilterbereiche in diesem Prozessstadium größer ist, als die endgültige Farbfilterstruktur (Fig. 1c).
- 4. Die endgültige Farbfilterstruktur wird durch einen fotolithographischen Prozess erzeugt, bei welchem zunächst eine fotoempfindliche Schicht aufgebracht wird und dann diese Fotolackschicht mittels eines Belichtungs- und Entwicklungsschrittes so strukturiert wird, dass Fotolackinseln 5 verbleiben, die der endgültigen Größe der Farbfilterbereiche entsprechen und die vor allem exakt zueinander beabstandet sind. Bei diesem Prozessschritt ist nur darauf zu achten, dass die vorstrukturierten Farbfilterbereiche so groß sind, dass die endgültige Struktur ohne Überlappung darauf Platz findet (Fig. 1d).
- 5. Gemäß der aufgebrachten Fotolackstruktur werden alle Farbfilterbereiche 5, 6, 7 in einem Prozessschritt geätzt (Fig. 1e).
- 6. Im Ergebnis verbleiben Farbfilterbereiche für die Farben "Cyan", "Magenta" und "Gelb", die durch den abschließenden fotolithographischen Prozess exakt zueinander beabstandet sind. Zwischen den Farbfilterbereichen kann ungehindert z. B. weißes Licht passieren, mit welchem in einer Farbfilteranordnung für eine Flüssigkristallanzeige aus Fotoemulsionsschichten sich die "Black-Matrix" erzeugen läßt.
In den Fig. 2a-2g ist ein Ausschnitt einer farbigen Fotomaske
1' zur Belichtung von Farb-Fotoemulsionsschichten in
verschiedenen Prozessstadien bei der Durchführung eines
weiteren erfindungsgemäßen Herstellungsverfahrens
dargestellt. Das dort veranschaulichte Verfahren entspricht
im Wesentlichen dem durch die Fig. 1a-1c dargestelltem
Verfahren mit dem einzigen Unterschied, dass die
Strukturierung der dichroitischen Farbfilterschichten bis zur
vorletzten dichroitischen Schicht jeweils eine
Ätzstoppschicht eingesetzt wird.
Dieses Herstellungsverfahren gliedert sich wie folgt auf:
- 1. Wiederum wird eine erste dichroitische Schicht 3' auf ein Glassubstrat 2' aufgedampft. Jedoch wird auf diese Schicht eine Chromschicht 9 als Ätzstoppschicht aufgedampft oder aufgesputtert. Anschließend folgt wie zu Fig. 1a beschrieben die Strukturierung einer Fotolackschicht zu Fotolackinseln 4' (Fig. 2a).
- 2. Die Chromschicht wird daraufhin nasschemisch geätzt (z. B. in einer Ätzlösung aus Ammoniumcernitrat, Essigsäure und Wasser). Die darunter angeordnete dichroitische Schicht wird trockenchemisch geätzt (z. B. mit Fluorchemie). Nach Entfernen des Fotolacks verbleiben Farbfilterbereiche 5' für z. B. die Farbe "Cyan", die von einer Chromschicht überdeckt sind (Fig. 2b).
- 3. Ein entsprechender Prozess wird zur Erzeugung der Farbfilterbereiche 6' für die Farbe "Magenta" durchgeführt. Auch diese Farbfilterbereiche 6' sind mit einer Chromschicht überdeckt (Fig. 2c und d).
- 4. Schließlich wird eine dritte dichroitische Schicht 10 aufgebracht. Auf diese Schicht wird jedoch keine Chromätzstoppschicht abgeschieden, sondern direkt eine Strukturierung über eine Fotolackmaskierung vorgenommen, so dass nach Entfernen der Fotolackmaskierung Farbfilterbereiche 7' für die Farbe "Gelb" verbleiben (Fig. 2e und f).
- 5. Schließlich wird die Chromschicht auf den Farbfilterbereichen 5' und 6' entfernt, so dass eine Struktur gemäß Fig. 1c verbleibt (Fig. 2 g).
Auf diese Struktur läßt sich selbstverständlich das Verfahren
gemäß der Fig. 1d-1f anwenden, um exakt beabstandete
Farbfilterbereiche zu erhalten.
Der Einsatz der Chromschicht hat den Vorteil, dass sich die
dichroitischen Schichten problemlos ohne Beeinflussung der
vorhergehend erzeugten dichroitischen Farbfilterbereiche (z.
B. 4' und 5') ätzen lassen.
Bei der Auswahl der Ätzstoppschicht ist darauf zu achten,
dass sich diese selektiv zu den dichroitischen Schichten
ätzen läßt. Dies ist bei einer Chromschicht der Fall.
Claims (8)
1. Verfahren zur Herstellung einer farbigen Fotomaske zur
Belichtung von Fotoemulsionsschichten für Farbfilter von
Flüssigkristallanzeigen, dadurch gekennzeichnet, dass zur
Erzeugung von unterschiedlichen nebeneinanderliegenden
Farbfilterbereichen (5, 5', 6, 6', 7, 7') nacheinander
dichroitische Schichten mit entsprechenden
Farbfiltereigenschaften aufgebracht und strukturiert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
bei der Strukturierung wenigstens einer dichroitischen
Schicht (3, 3') zunächst auf diese dichroitische Schicht eine
Ätzstoppschicht (9), die selektiv zu den dichroitischen
Schichten geätzt werden kann, aufgebracht wird, dass
anschließend eine fotoempfindliche Lackschicht aufgebracht
und nach einem Belichtungsschritt strukturiert wird, dass im
Weiteren mit der strukturierten Fotolackschicht (4, 4') die
Strukturierung der Ätzstoppschicht (9) und darauf folgend die
Strukturierung der wenigstens einen dichroitischen Schicht
(3, 3') vorgenommen wird, und dass anschließend die
Fotolackschicht entfernt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass
bei der Strukturierung der letzten dichroitischen Schicht die
fotoempfindliche Lackschicht direkt auf die dichroitische
Schicht ohne Aufbringen einer Ätzstoppschicht aufgebracht
wird.
4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch
gekennzeichnet, dass nach der Strukturierung aller
dichroitischen Schichten die auf den Farbfilterbereichen (5',
6') befindlichen Ätzstoppschichten entfernt werden.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
die dichroitischen Schichten derart vorstrukturiert werden,
dass größere Bereiche wie die endgültigen Farbfilterbereiche
(15, 16, 17) verbleiben und dass in einem einzigen
abschließenden Prozessschritt die endgültige Struktur aller
dichroitischen Farbfilterbereiche (15, 16, 17) erzeugt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass
der abschließende Prozessschritt ein fotolithographischer
Prozessschritt ist, bei welchem zunächst eine
fotoempfindliche Lackschicht aufgebracht wird, anschließend
die Fotolackschicht in einem Belichtungsschritt strukturiert
wird und im Weiteren mit der strukturierten Fotolackschicht
(8) die Strukturierung der dichroitischen Farbfilterbereiche
auf ihre endgültige Größe (15, 16, 17) vorgenommen wird.
7. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass
der abschließende Prozessschritt zunächst eine Beschichtung
mit einer reflektierenden Schicht umfaßt und dass aus dieser
reflektierenden Schicht über den bereits vorstrukturierten
Farbfilterbereichen (5, 6, 7) angeordnete Fenster mittels
eines Fotolackschrittes entfernt werden.
8. Fotomaske mit nebeneinanderliegenden unterschiedlichen
Farbfilterbereichen zur Belichtung von Fotoemulsionsschichten
für Farbfilter von Flüssigkristallanzeigen, dadurch
gekennzeichnet, dass die Farbfilterbereiche aus
dichroitischen Schichten bestehen.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1998160671 DE19860671A1 (de) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | Verfahren zur Herstellung einer farbigen Fotomaske sowie Fotomaske mit nebeneinanderliegenden unterschiedlichen Farbfilterbereichen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1998160671 DE19860671A1 (de) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | Verfahren zur Herstellung einer farbigen Fotomaske sowie Fotomaske mit nebeneinanderliegenden unterschiedlichen Farbfilterbereichen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19860671A1 true DE19860671A1 (de) | 2000-07-13 |
Family
ID=7893085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1998160671 Withdrawn DE19860671A1 (de) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | Verfahren zur Herstellung einer farbigen Fotomaske sowie Fotomaske mit nebeneinanderliegenden unterschiedlichen Farbfilterbereichen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19860671A1 (de) |
-
1998
- 1998-12-29 DE DE1998160671 patent/DE19860671A1/de not_active Withdrawn
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Legal Events
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8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |