DE19841771C1 - Vorrichtung zur Stabilisierung eines Plasmas - Google Patents

Abstract

Bei Vakuumschaltern oder bei Gasentladungsschaltern wird häufig dem Schaltlichtbogen ein in Richtung der Entladung im wesentlichen paralleles Magnetfeld (Axialfeld) überlagert. Dafür sind Mittel zur Generierung des Magnetfeldes bekannt, die beispielsweise als Schlitzungen in den stromführenden Bereichen unmittelbar den Kontakten zugeordnet sind. Gemäß der Erfindung umfassen die Mittel zur Generierung des dem Plasma überlagerten Magnetfeldes eine magnetische Übertragungsstrecke (10-12; 31-33; 41-43; 51-53), mit der das Magnetfeld von einem Erzeugungsort (20, 30, 40, 50) bis zum Plasma (8, 28) übertragen wird. Damit kann die Magnetfeldquelle (20, 30, 40, 50) außerhalb der Schaltröhre (1, 13) angeordnet sein.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Stabili­ sierung eines Plasmas, vorzugsweise eines Schaltlichtbogens bei Vakuumschaltern oder Gasentladungsschaltern, wobei dem Plasma ein in Richtung seines Entladungsstromes im wesent­ lichen paralleles Magnetfeld (Axialfeld) überlagert wird, wozu Mittel zur Generierung des Magnetfeldes vorhanden sind.

Speziell Plasmaschalter spielen eine große Rolle für das Ein- bzw. Ausschalten von Schaltströmen. Ihr Anwendungsgebiet reicht von der Energietechnik (50/60 Hz-Technologie) bis hin zur Leistungsimpulstechnik, wo Strompulse mit Pulsdauern von wenigen Mikrosekunden geschaltet werden. In der Energie­ technik werden neben SF6- und Luftschaltern Vakuumschalter bzw. Vakuumschütze eingesetzt. Schaltelemente der Leistungs­ impulstechnik sind dagegen die Thyratrons, Ignitrons, Funken­ strecken in verschiedenen Druckbereichen sowie modernere Kaltkathoden-Gasentladungsschalter. Dabei wird von unter­ schiedlichen Hohlkathodengeometrien Gebrauch gemacht.

Die Lebensdauer von Plasmaschaltern ist wesentlich bestimmt durch die Größe der akkumulativ geschalteten Ladungsmenge. Die Lebensdauer kann drastisch absinken, wenn im Elektroden­ zwischenraum kontrahierte Entladungsformen auftreten, die zu einer stark erhöhten Materialerosion von den Elektroden füh­ ren. Dies ist beim Überschreiten einer elektrodentypischen Stromgrenze der Fall und geht meist einher mit einer massiven Materialverdampfung von der Anode beim Entladungsvorgang.

Man kann Maßnahmen vorsehen, mit denen bei Plasmaabschaltern letzteres Überschreiten zu höheren Strömen verschoben wird. Diese sind:

• - Ein paralleler Betrieb mehrerer Entladungskanäle in einer Schaltröhre
• - Eine Überlagerung von radialen Magnetfeldern, womit eine Bewegung des Plasmas bewirkt wird
• - Eine Überlagerung von axialen Magnetfeldern, was eine Vergrößerung des Plasmaquerschnitts zur Folge hat.

Vom Stand der Technik ist bekannt, daß axiale Magnetfelder erfolgreich eingesetzt werden, um ein Plasma - und zwar vor­ wiegend Niederdruckplasmen bzw. Vakuumlichtbögen - in einem diffusen Entladungsmodus zu stabilisieren. Diese Entladungs­ form ist beispielsweise bei Vakuumschaltern erforderlich, um Schaltröhren zu bauen, die bei kompakter Baugröße die markt­ technischen Anforderungen erfüllen.

Darüber hinaus ist es bereits bekannt, daß die erforderlichen axialen Magnetfelder auf unterschiedliche Arten generiert werden können und zwar:

• 1. Durch Schlitzung der Kontaktstücke, wobei in diesem Fall von Axialfeldkontakten gesprochen wird,
• 2. durch stromerregte Feldspulen
• 3. durch Permanentmagnete.

Die Anwendung eines axialen Magnetfeldes führt speziell bei Vakuumschaltern, insbesondere bei Mittel- und Hochspannungs­ vakuumschalter, zu einer deutlichen Verbesserung der Schalt­ leistung und einer Verlängerung der Lebensdauer. Als Mittel zur Generierung des axialen Magnetfeldes wird häufig die Schlitzung der Kontaktstücke gewählt. Beispielsweise werden in der DE 34 07 088 A1 algebraische Abhängigkeiten zur Geo­ metrie von Schlitzungen in Topfkontakten angegeben, mit denen die wirksamen Axialmagnetfelder optimiert werden können. Entsprechende Vorschläge für Gasentladungsschalter werden in der US 5 585 696 A gemacht.

Die Generierung eines axialen Magnetfeldes durch Ausbildung von entsprechenden Kontaktgeometrien erfordert aber einen besonderen fertigungstechnischen Aufwand.

Aufgabe der Erfindung ist es demgegenüber, eine Vorrichtung anzugeben, mit der in einfacher Weise ein zur Richtung des Plasmas überwiegend parallel verlaufendes Magnetfeld (Axial­ feld) am benötigten Ort wirksam werden kann.

Die Aufgabe ist erfindungsgemäß bei einer Vorrichtung der eingangs genannten Art dadurch gelöst, daß die Mittel zur Generierung des dem Plasma überlagerten Magnetfeldes eine magnetische Übertragungsstrecke, mit der das Magnetfeld von einem Erzeugungsort bis zum Plasma übertragen wird, umfassen. Für eine derartige Übertragungsstrecke werden magnetisierbare Materialien, vorzugsweise ferromagnetische oder ferrimagne­ tische Materialien, mit einer hohen Permeabilitätszahl (µ_r << 1) verwendet. Die Übertragungsstrecke kann vorzugs­ weise einen geschlossenen Magnetkreis oder aber einen offenen Magnetkreis bilden. Das Magnetfeld kann durch Permanentmagne­ te oder durch stromdurchflossene Spulen erzeugt werden.

Die Erfindung eignet sich in vorteilhafter Weise für solche Anordnungen, die als Vakuumschalter mit einem definierten Restdruck oder als Gasentladungsschalter mit einem definier­ ten Entladungsgas betrieben werden. Solche Anordnungen be­ stehen üblicherweise aus einer Schaltröhre, wobei sich nun­ mehr die Mittel zur Generierung des Magnetfeldes außerhalb der Röhre befinden können.

Wenn das magnetische Feld außerhalb der Schaltkammer erzeugt wird, kann vorteilhafterweise auf fertigungstechnisch be­ sonders aufwendige Methoden und insbesondere auf die in bezug dielektrische Spannungsfestigkeit besonders kritische Schlit­ zung von stromführenden Elementen verzichtet werden. Speziell zur Realisierung eines Vakuumschalters mit radialem Magnet­ feld wird zwar bereits in der DE 41 39 834 A1 vorgeschlagen, ein Magnetsystem außerhalb des Vakuumschaltergehäuses anzu­ ordnen und zwar unterhalb des Festkontaktes derart, daß die ein toroidales Gewölbe bildenden Magnetfeldlinien im wesent­ lichen radialsymmetrisch im Schaltspalt verlaufen. Die Über­ tragungsstrecke wird dabei durch die Hintereinanderschaltung einer scheibenförmigen Flußplatte sowie eines ringförmigen Flußkonzentrators um einen Permanentmagneten realisiert.

Bei der Erfindung wird das Magnetfeld mit Hilfe eines offenen oder geschlossenen magnetischen Kreises zum Entladungsraum übertragen. Dabei kann eine dauerhafte Magnetisierung des magnetischen Kreises gezielt eingesetzt werden, so daß die Quellen des Magnetfeldes nach erfolgter Magnetisierung entfernt werden können.

Besonders einfach und kostengünstig kann ein offener Magnet­ kreis dadurch realisiert werden, daß nur eine einzige magne­ tische Quelle, z. B. ein Permanentmagnet, verwendet wird. Ein "Gegenpol" aus ferromagnetischem Material kann dann verwendet werden, um den Feldverlauf im Entladungsraum zu homogenisie­ ren. Ein solcher Gegenpol wird in der Praxis häufig auch als Eisenschluß bezeichnet.

Im Rahmen der Erfindung wurde mit Hilfe von Simulations­ rechnungen einerseits und zugehörigen Magnetfeldmessungen andererseits nachgewiesen, daß im Entladungszwischenraum eines Plasmaschalters auf die in den Patentansprüchen be­ schriebene Weise ein ausreichend großes sowie sehr homogenes axiales Magnetfeld erzeugt werden kann.

Man erhält eine besonders vorteilhafte Integration des magne­ tischen Gegenpols in die Schaltkammer, wenn dieser zusätzli­ che Aufgaben übernimmt. Diese Aufgaben können beispielsweise dadurch gegeben sein, daß der Gegenpol die Aufgabe der Elek­ trodenplatte in Vakuumschaltern oder die Aufgabe der käfig­ artigen Umrandung eines Hohlkathodenhinterraums (sog. "Hüt­ chen") in Niederdruck-Gasentladungsschaltern übernimmt.

Die oben genannten Vorteile ermöglichen die Herstellung von Schaltröhren mit höherer Leistung und/oder kleinerer Bauform. Aus der wesentlich vereinfachten Kontaktgeometrie, beispiels­ weise Plattenkontakte sowie der direkten Übertragbarkeit auf einen bereits vorhandenen Schaltröhrenaufbau resultiert eine deutliche Verringerung des fertigungstechnischen Aufwandes, was zu erheblichen Einsparungen bei den Produktionskosten führt.

Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Zeichnung in Verbindung mit weiteren Unteransprü­ chen. Es zeigen jeweils in Schnittdarstellung

Fig. 1 einen Niederdruck-Gasentladungsschalter mit zugehöri­ gen Mitteln zur Erzeugung eines dem Entladungsplasma überlagerten axialen Magnetfeldes, wobei ein ge­ schlossener Magnetkreis verwendet wird,

Fig. 2 einen Fig. 1 entsprechenden Gasentladungsschalter, bei dem ein offener Magnetkreis zum Einsatz kommt,

Fig. 3 einen Vakuumschalter mit Mitteln zum Erzeugen und Übertragen des axialen Magnetfeldes,

Fig. 4 und Fig. 5 einen besonderen Gasentladungsschalter, wobei speziell in Fig. 5 der spezifische Verlauf der magnetischen Feldlinien verdeutlicht ist, und

Fig. 6 eine Vakuumschaltröhre mit spezifischer Übertragung des Magnetfeldes.

Gleiche bzw. sich entsprechende Einheiten haben in den Fi­ guren sich entsprechende Bezugszeichen. Die Figuren werden teilweise gemeinsam beschrieben.

In den Fig. 1, 2 und 4 bedeutet 1 eine Röhre eines Gas­ entladungsschalters. Eine solche Röhre besteht zumindest teilweise aus elektrisch isolierendem Material, beispiels­ weise einem Keramikrohr, das an seinen Stirnseiten vakuum­ dicht abgeschlossen und mit einem Entladungsgas vorgegebenen Druckes gefüllt ist. Solche Entladungsschalter sind vom Stand der Technik hinreichend bekannt.

Derartige Röhren für Gasentladungsschalter weisen wenigstens zwei Elektroden 2 und 3 auf, welche die Funktion einer Katho­ de und einer Anode für die Gasentladung haben. Beide Elek­ troden 2 und 3 haben in der beschriebenen Ausführungsform wenigstens eine Öffnung, vorzugsweise bei symmetrischer Aus­ bildung des Gasentladungsschalters einander fluchtende Öff­ nungen 4 und 5. Die Öffnungen 4 und 5 dienen zur Definition einer Entladungsstrecke der Gasentladung, wozu in Fig. 1 ein Schaltplasma 8 angedeutet ist.

Die Elektroden 2 und 3 als Anode und als Kathode für die Gas­ entladung sind vorzugsweise topf- bzw. hutförmig als Hohl­ elektroden ausgebildet. Dabei sind die Strukturen einander spiegelbildlich zugeordnet, so daß die Stirnflächen 2a und 3a der Entladungselektroden 2 und 3 jeweils mit den fluchtenden Öffnungen 4 und 5 einander gegenüberstehen und einen Entla­ dungszwischenraum 9 begrenzen.

In experimentellen Untersuchungen wurde gezeigt, daß für die Lebensdaueroptimierung eines Gasentladungsschalters vorteil­ haft das Entladungsplasma 8 mit einem Axialfeld überlagert werden kann. In Fig. 1 ist dafür eine Magnetfeldquelle 20 vorhanden, die sich seitlich neben der Röhre 1 befindet, von der ein Magnetfeld mittels einer Übertragungsstrecke 10 an den Wirkungsort und den Entladungszwischenraum 9 der Elek­ troden 2 und 3 gebracht wird.

Zur Übertragung des Magnetfeldes wird in Fig. 1 ein ge­ schlossener Magnetkreis als Übertragungsstrecke 10 verwendet. Dazu besteht der Magnetkreis im einzelnen aus einem jocharti­ gen Gebilde mit sich anschließenden Elementen 11 und 12, die beidseitig in die hohlelektrodenartigen Strukturen des Gas­ entladungsschalters 1 eingreifen. Dafür sind die wirksamen Elemente 11 und 12 der Entladungsstrecke mit entsprechenden, nicht weiterbezeichneten Dichtungen zum Gasentladungsschalter 1 versehen.

Die magnetische Übertragungsstrecke 10 besteht aus ferro­ magnetischen oder ferrimagnetischen Materialien, die eine Permeabilitätszahl µ_r << 1 haben, beispielsweise Eisen, Nickel, Mu-Metall oder Ferrite. Über Übertragungsstrecken aus solchen magnetisierbaren Materialien wird erreicht, daß das Magnetfeld im Entladungsraum 9 wirksam wird und dem Plasma 8 axial überlagert ist.

Eine entsprechende Struktur wie in Fig. 1 ist für den Gas­ entladungsschalter in Fig. 2 dargestellt. In diesem Fall sind jedoch zwei Magnetfeldquellen 30 und 30' vorhanden, die an den Stirnflächen der Entladungsröhre 1 angeordnet sind. Von den Magnetfeldquellen 30 und 30' wird wiederum über die in die Hohlelektroden 2 und 3 des Gasentladungsschalters eintauchenden Elemente 11 und 12 als Übertragungsstrecke ge­ währleistet, daß das Magnetfeld in den Entladungsraum 9 und an den Funktionsort des Plasmas 8 gelangt.

In den Fig. 3 und 6 ist eine Röhre mit 13 bezeichnet, die als Vakuumschaltröhre ausgebildet ist und eine Vakuumschal­ ter-Kontaktanordnung 15 aufnimmt. In der Röhre 13 ist die Kontaktanordnung 15 aus einem Festkontakt 15a und einem Bewegkontakt 15b gebildet, zwischen denen sich ein diffuser Lichtbogen 28 ausbilden soll. Die Kontakte 15a und 15b sind jeweils Stromzuführungsbolzen 17 und 18 zugeordnet, wobei der Stromzuführungsbolzen 18 für den Bewegkontakt 15b über einen Faltenbalg 24 beweglich führbar ist.

Speziell in Fig. 3 ist eine einzige Magnetfeldquelle 30 ent­ sprechend der Magnetfeldquelle 30 aus Fig. 2 vorhanden, die sich an der unteren Stirnfläche der Vakuumschaltröhre 13 be­ findet. Es ist eine Übertragungsstrecke 31 realisiert, die innerhalb des Stromzuführungsbolzens 18 geführt wird und sich innerhalb des Festkontaktes 15a zu einer Platte 32 erweitert. Bei dieser Anordnung, bei welcher die einzige Magnetfeld­ quelle 30 einen offenen Magnetfeldkreis realisiert, ist im Bewegkontakt 15b ein Gegenstück 33 vorhanden, das einen so­ genannten Eisenschluß gewährleistet. Auch bei Gasentladungs­ schaltern kann bei einer entsprechenden Übertragungsstrecke der Eisenschluß durch ein entsprechendes Gegenstück reali­ siert werden.

Bei derartigen Anordnungen mit einer einzigen Magnetfeld­ quelle und einem Element als Gegenstück für den Eisenschluß kann ein solches Element Zusatzfunktionen erfüllen. Bei­ spielsweise bei einem Gasentladungsschalter gemäß Fig. 4, der mit dem Keramikrohr 1 und den zugehörigen Hohlelektroden 2 und 3 im wesentlichen gemäß Fig. 1 ausgebildet ist und in diesem Fall eine einzige Magnetfeldquelle 40 und zugehörige magnetische Übertragungsstrecke 41 innerhalb des als Anode wirkenden Hohlelektrodentopfes 2 hat, kann das Gegenelement speziell zur käfigartigen Begrenzung des Kathodenhinterraumes dienen und so die Funktion des sogenannten bisher üblicher­ weise vorhandenen Hütchens übernehmen. Ein solches mit Öff­ nungen 42a versehenes Hütchen ist mit 42 bezeichnet und be­ wirkt durch das geeignete ferromagnetische Material eine Führung der magnetischen Feldlinien entsprechend Fig. 5. Es ergibt sich somit in vorteilhafter Weise, daß im Entladungs­ zwischenraum 9 die magnetischen Feldlinien im erwünschten Maße zum Stromfluß im Plasma parallel verlaufen.

In entsprechender Weise kann in den Fig. 3 und 6 ein Gegenstück im Bewegkontakt 15b des Vakuumschalters außer der Realisierung des Eisenschlusses ebenfalls Zusatzfunktionen haben. Durch eine Profilgebung insbesondere des Gegenstückes, ggfs. auch weiterer Elemente, kann eine Profilgebung des magnetischen Feldes erfolgen.

Speziell in Fig. 6 ist als magnetische Übertragungsstrecke eine rohrartige Umhüllung 51 des Stromzuführungsbolzens 19 gewählt, wobei jeweils in den kontaktgebenden Elektroden 15a und 15b ferromagnetische Elemente 52, 53 angeordnet sind. Durch eine Strukturierung dieser Elemente oder spezifische Ausbildung, beispielsweise als Ringscheibe mit U-förmigem Querschnitt, kann das magnetische Feld im gewünschten Maße geformt werden, so daß im Entladungsraum der Schaltlichtbogen in erwünschter Weise als diffuser Lichtbogen ausgebildet wird.

Bei allen vorstehenden Beispielen ermöglicht die axiale Magnetisierung der Schaltplasmen in bekannter Weise eine deutliche Steigerung der Leistungsfähigkeit und der Lebens­ dauer gegenüber dem Schalter mit unmagnetisierten Plasmen. Dabei sind die einzelnen, anhand der Beispiele beschriebenen Anordnungen für die Übertragungsstrecke besonders kostengün­ stig. Solche Anordnungen können gleichermaßen bei Gasent­ ladungsschaltern der Leistungsimpulstechnik, wie beispiels­ weise Thyratrons oder Kaltkathodenniederdruckschaltern, oder aber auch für Leistungsschalter der Energietechnik, für Vakuumleistungsschalter oder Vakuumschütze für unterschied­ liche Spannungsebenen, realisiert werden.

Im Rahmen von experimentellen Untersuchungen wurden Messungen und Berechnungen zur Wirkung der beschriebenen Magnetfeld­ generierung und Übertragung durchgeführt. Dabei wurde die Wirksamkeit des beschriebenen Prinzips nachgewiesen. Weiterer Vorteil ist, daß die beschriebenen Anordnungen mit überschau­ barem Aufwand in bekannte Röhrentypen von Gasentladungs­ schaltern einerseits und Vakuumschaltern andererseits inte­ griert werden können. Eine aufwendige Nebenkonstruktion der Schaltröhren ist nunmehr nicht mehr notwendig.

Claims (16)

1. Vorrichtung zur Stabilisierung eines Plasmas, vorzugsweise eines Schaltlichtbogens bei Vakuumschaltern oder Gasent­ ladungsschaltern, wobei dem Plasma ein in Richtung seines Entladungsstroms im wesentlichen paralleles Magnetfeld (Axialfeld) überlagert wird, wozu Mittel zur Generierung des Magnetfeldes vorhanden sind, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Mittel zur Generierung des dem Plasma (8, 18) überlagerten Magnetfeldes eine magnetische Über­ tragungsstrecke (10, 11, 12; 31, 32, 33; 41, 42, 43), mit denen das Magnetfeld von einem Erzeugungsort (20, 30, 40, 50) bis zum Plasma (8, 18) übertragen wird, umfassen.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Übertragungsstrecke einen geschlossenen Magnetkreis (10, 11, 12) bildet (Fig. 1).

3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Übertragungsstrecke einen offenen Magnetkreis bildet (Fig. 2, Fig. 3 bis 5).

4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Magnetfeld durch einen Permanentmagneten (20a) erzeugt wird.

5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Magnetfeld durch eine elektrisch durchflossene Spule (20b) erzeugt wird.

6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Plasma sich als Schaltlichtbogen innerhalb einer Röhre befindet, die vakuumtechnisch mit definiertem Restdruck (Vakuumschalter) oder einem definierten Entladungsgas (Gas­ entladungsschalter) betrieben wird, dadurch ge­ kennzeichnet, daß sich die Mittel zur Generie­ rung des Magnetfeldes außerhalb der Röhre (1-13) befinden.

7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Mittel zur Erzeugung des Magnetfeldes als magnetische Quelle (20, 30, 40) seitlich neben der Röhre (1) angeordnet sind und daß die magnetische Übertragungsstrecke (10, 11, 22) ein Joch bildet.

8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Mittel zur Generierung des Magnetfeldes als magnetische Quelle (20, 30, 40) an wenigstens einer der beiden Stirnflächen (1a, 1b) der Röhre (1) angebracht sind.

9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch ge­ kennzeichnet, daß eine einzige elektrisch durchflossene Spule (40b) oder ein einziger Permanentmagnet (40a) an einer der Stirnflächen (1a, 1b) der Röhre (1) zur Generierung des Magnetfeldes vorhanden ist.

10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch ge­ kennzeichnet, daß zur Unterstützung der bevorzugten axialen Richtung und/oder Homogenisierung des Magnetfeldes wenigstens ein weiteres Element aus magneti­ sierbarem Material vorhanden ist, das mit der Übertragungs­ strecke (32, 41) einen sogenannten Eisenschluß bildet.

11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Element (32, 41) in Vakuumschaltern und/oder Gasentladungsschalter Zusatz­ funktionen hat.

12. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der magnetische Übertragungskreis (10) an seinen Wirkenden (11, 12) hartmagnetische Elemente aufweist, die den Entladungsraum innerhalb der Röhre (1) begrenzen.

13. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Röhre einen Gasentladungsschalter enthält, der topfartige Hohlelektroden miteinander an den Stirnseiten gegenüberliegenden Öffnungen zur Definition der Gasent­ ladungsstrecke beinhaltet, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die magnetische Übertragungsstrecke (10) von der magnetischen Quelle (20, 30, 40) in die topf­ artigen Ausformungen (2a, 3a) der Hohlelektroden (2, 3) ein­ dringt.

14. Vorrichtung nach Anspruch 11 und Anspruch 13, da­ durch gekennzeichnet, daß im Gasent­ ladungsschalter das Element (42) den Rückraum der als Kathode (2) wirkenden Elektrode (2) umschließt.

15. Vorrichtung nach Anspruch 11, wobei die Röhre einen Vakuumschalter enthält, der zwei relativ zueinander beweglich ausgebildete Elektroden aus Festkontakt und Bewegkontakt enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetische Übertragungsstrecke im Stromzuführungs­ bolzen (19) für den Festkontakt (15b) geführt ist und daß das Element (33, 53) zur Gewährleistung des Eisenschlusses in den Bewegkontakt (15a) eingelassen ist.

16. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das dem Plasma zugewandte Ende der Übertragungsstrecke und/oder das Gegenelement (33, 53) applikationsseitig zur Beeinflussung des Magnetfeldverlaufes ausgeformt ist, beispielsweise als Ring.