DE19826681A1 - Getter-Werkstoffe in Form dünner Schichten auf der Basis gassorbierender Metalle oder fullerenartiger Kohlenstoff-Nanostrukturen, Verfahren zur Herstellung dieser Schichten und Verwendung derselben zur Hochvakuumerzeugung und Gasspeicherung - Google Patents
Getter-Werkstoffe in Form dünner Schichten auf der Basis gassorbierender Metalle oder fullerenartiger Kohlenstoff-Nanostrukturen, Verfahren zur Herstellung dieser Schichten und Verwendung derselben zur Hochvakuumerzeugung und GasspeicherungInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft Getterwerkstoff in neuer Form, nämlich als großflächige dünne Schichten mit einer Fläche bis mehrere hundert cm·2· und einer Schichtdicke von etwa 20 bis 100 mum auf der Basis gassorbierender Metalle, Metall-Legierungen, Metall-Nichtmetall-Zwischenschicht-Verbindungen und besonders von nanostrukturierten Kohlenstoffmodifikationen wie Fullerenen, C-Fasern oder bevorzugt C-Nanoröhrchen, die sämtlich extrem hohe Getter- bzw. Speicherkapazität haben, und auf den wärmebeständiges Trägermaterial gegebenenfalls mit einer Zwischenschicht aus Metall-, Metallcarbid, -nitrid, -oxid und/oder Graphit aufgebracht sind. Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung dieser Schichten benutzt im Fall der metallischen Werkstoffe das bekannte VPS-Verfahren mit feinkörnigen Ausgangsmaterialpulvern in einer Inertgasatmosphäre unter verringertem Druck und im Fall der kohlenstoffhaltigen Getter das an sich bekannte DC-Plasmajet-CVD-Verfahren mit Synthesegasgemischen aus Wasserstoff und niedrigen Kohlenwasserstoffen mit Zusatz von Edelgasen und in Gegenwart von Katalysatoren. DOLLAR A Die so hergestellten Getterschichten eignen sich hervorragend als Innenbeschichtung einer Vakuumkammer oder zum Einbau in dieselbe, sowie auch zur Sorption von Wasserstoff, radioaktiven Gasen und Edelgasen in Gasspeicherbehältern, die innenseitig damit beschichtet sind und/oder in die ein mit solchen Gettern beschichtetes Substrat eingebaut ist.
Description
Die Erfindung betrifft Getterwerkstoffe in Form dünner Schichten auf der Ba
sis gassorbierender Metalle oder fullerenartiger Kohlenstoff-Nanostrukturen,
Verfahren zur Herstellung dieser Schichten und deren Verwendung zur Hoch
vakuumerzeugung und Gasspeicherung.
Gassorbierende metallische Getterwerkstoffe zum reversiblen Sorbieren von
Aktivgasen sind an sich bekannt. Neuerdings sind auch hochaktive gassorbie
rende Kohlenstoffgetter bekannt, die in Form von fullerenartigen Kohlenstoff
modifikationen, C-Nanotubes und C-Fasern vorliegen und Aktiv- und Edelgase
sorbieren.
Für die praktische Verwendung von diesen Gettermaterialien zur Hochvakuu
merzeugung in sogenannten selbstpumpenden Vakuumsystemen und auch
zur Speicherung von Gasen, besonders Wasserstoff, aber auch Edelgasen,
radioaktiven und giftigen Gasen, müssen die Getterwerkstoffe auf geeigneten
wärmebeständigen Trägermaterialien (Substraten) aufgebracht sein, was bis
her große Schwierigkeiten bereitete, indem sich nur äußerst dünne Schichten
kleinstflächig durch sehr langwierige Verfahren erzeugen ließen. Im Fall der
metallischen Getterwerkstoffe lassen sich durch mechanisches Aufpressen
von feinkörnigem Getterpulver nur schlecht haftende Schichten erzeugen,
während das Magnetron-Sputtern sehr langwierig ist und nur kleine Flächen
äußerst dünner Schichten liefert. Kohlenstoffhaltige nanostrukturierte Getter
werkstoffe werden durch Verdampfen von Graphit in einer Bogenentladung
oder durch Laserbeschuß oder durch chemisches Beschichten aus der Dampf
oder Gasphase (sog. chemical vapor deposition CVD) eines Plasmas
(Gleichstrom-, Hochfrequenz- oder Mikrowellen-Plasmaanregung) unter Ver
wendung von gasförmigen Kohlenwasserstoffen ("precursor") erhalten, wo
durch bisher nur ganz dünne Schichten von wenigen µm Dicke auf pulverför
migen Trägern kleinflächig herstellbar waren (vgl. Carbon Nanotubes, Prepara
tion and Properties, Ed. T.W. Ebbesen, Editor CRC Press, Inc., New York,
1997 und Patent US-A-5 653 951 vom 5.8.1997).
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, diese an sich bekannten Get
ter-Werkstoffe mit ihren wertvollen Eigenschaften hoher reversibler Gassorp
tion in einer Form bereitzustellen, welche die technische Nutzung dieser Ei
genschaften ermöglicht, und ein Verfahren zu schaffen, das in wesentlich
kürzerer Zeit und mit höherem Wirkungsgrad (Ausbeute) wie die bisher an
gewandten Verfahren diese Getterwerkstoffe auf wärmebeständigen Träger
materialien großflächig (mehrere 100 cm2 Fläche), mit hoher Haftfestigkeit
und in erheblich größerer Schichtdicke als bisher möglich, nämlich bis etwa
100 µm Schichtdicke, liefern kann.
Es wurde gefunden, daß sich diese Aufgabe der Erfindung mit Hilfe der an
sich bekannten Verfahren der Vakuum-Plasma-Spritz-Technologie (VPS) bzw.
mit dem diesen verwandten DC-(Gleichstrom)-Plasmajet-Chemical Vapor De
position (CVD)-Verfahren realisieren läßt.
Die Aufgabe der Erfindung wird also gelöst durch die Patentansprüche 1 bis
10 und die nebengeordneten Verfahrensansprüche 11 bis 13, sowie Verwen
dungsansprüche 14 und 15.
Die Erfindung wird im folgenden weiter erläutert, wobei auch auf die beige
fugte Abbildung Bezug genommen wird, die schematisch eine Vorrichtung zur
Durchführung des bekannten DC-Plasmajet-CVD-Verfahrens zeigt.
Beim bekannten VPS-Verfahren werden metallische, keramische oder metall
keramische Werkstoffe in Pulverform in der Förderleitung in einen erzeugten
Argon-Wasserstoff-Plasmastrahl eingebracht, dort aufgeschmolzen, und mit
den hohen Geschwindigkeiten im Plasmastrahl auf die zu beschichtende
Werkstoff-Oberfläche gespritzt, auf der sie beim Erstarren die Schicht bilden.
Dieser Vorgang findet in Inertgasatmosphäre bei Prozeßdrücken zwischen 20
und 200 hPa statt. Typische Anwendungsbeispiele sind das Beschichten von
Turbinenschaufeln mit Korrosionsschutzschichten oder das Aufbringen von
Schutzschichten aus Titan, Tantal usw.
Das an sich bekannte VPS-Verfahren wird nun erfindungsgemäß zur Herstel
lung dünner Schichten von gassorbierenden unverdampfbaren Getterwerk
stoffen aus Metall auf wärmebeständigen Trägermaterialien verwendet.
Die besonderen Vorteile dieses Beschichtungsverfahrens liegen einerseits in
dem relativ schnellen und damit kostengünstigen Aufbau von Schichten hoher
Haftfestigkeit gegenüber den bisher üblichen Verfahren des mechanischen
Aufpressens von feinkörnigem Getterpulver oder des Magnetron-Sputterns.
Andererseits bietet das VPS-Verfahren in der besonderen Form des
DC-Plasmajet-Chemical-Vapor-Deposition-(CVD)-Verfahrens, das bereits zur Bil
dung künstlicher Diamantschichten bekannt ist, überraschenderweise die
Möglichkeit der direkten Synthese von Fullerenen und der Erzeugung von
C-Nanotubes und C-Fasern, wobei statt wie beim VPS-Verfahren pulverförmige
Spritzzusätze hier Synthesegase (precursor) definierter Menge in geeignetem
Mischungsverhältnis in den Plasmastrahl geleitet werden. Dort kommt es zu
dem für die Fulleren- bzw. Nanomaterial-Schichtabscheidung notwendigen
Aktivieren der zugegebenen Synthesegase Methan, Kohlenmonoxid und Was
serstoff. Dabei werden hochaktive Radikale, z. B. Methyl CH3 oder CH2 gebil
det, die zur gekühlten Substrat-Oberfläche diffundieren und dort zur chemi
schen Abscheidung und zur Schichtbildung führen. Eine wichtige Rolle spielen
bei diesem Kondensationsprozess geringe Mengen von Helium als Träger oder
Kühlgas, bzw. von Katalysatoren, wie Eisen, Nickel oder, Kobalt. Substrat
oberflächentemperatur sowie alle anderen Prozeß-Parameter (Druck, Tempera
tur, Gasmischungs- und Strömungsverhältnisse, elektrische Eingangsleistung,
Proßeßdauer, Düse, Substrat, Abstand usw.) müssen dabei geeignet und kon
trolliert eingestellt werden.
Erfindungsgemäß wird bei einem DC-Plasmajet-CVD-Verfahren mittels kon
ventioneller Vakuum-Plasma-Spritz(VPS)-Technologie ein hochenergetischer
Plasmastrahl erzeugt, in dem ein oder mehrere Synthesegase bei hoher Tem
peratur aktiviert und mitgeführt werden (siehe Abbildung). Beim Auftreffen
des aktivierten Gases bzw. der Gasmoleküle und gebildeten Radikale hoher
kinetischer Energie auf die homogen temperierte gekühlte Substratoberfläche
kommt es zum Kondensieren und Abscheiden der Spritzschichten. Der Plas
mastrahl wird mit Hilfe sogenannter Plasmatrons oder Plasmabrenner erzeugt,
die im wesentlichen zwei mit Gleichstrom versorgte Elektroden darstellen,
zwischen denen eine Bogenentladung gezündet wird. Beim Durchströmen der
Gase durch diesen Lichtbogen kommt es zur Anregung durch Stoßprozesse
unter Dissoziation und Ionisation der Gase (Gasentladung) unter Bildung teil
weise äußerst reaktiver Radikale. Infolge der hohen Gasdurchflußraten (15 bis
200 l/min) bildet sich ein Plasmafreistrahl, der lanzenförmig aus dem Brenner
austritt. Das Verfahren läßt sich an sich bei Atmosphärendruck oder subat
mosphärisch durchführen, wobei für die Herstellung- der beschriebenen Getter
jedoch nur das Vakuumverfahren in Frage kommt. Wesentliche Vorteile der
DC-Piasmajet-Schichtabscheidung aus der heißen Gasphase sind, verglichen
mit anderen CVD-Verfahren, die erzielbaren sehr hohen Abscheideraten von
teilweise bis zu 1 mm pro Stunde und die Verwendung der aus der thermi
schen Spritztechnik bekannten VPS-Anlagen, wobei durch Verwenden höhe
rer Wasserstoffgehalte und hoher elektrischer Eingangsleistungen (80 bis 100
kW) sowie nicht zu großer Abstände zwischen Substratoberfläche und Plas
matron die besten Syntheseergebnisse erzielt werden.
Beim konventionellen VPS-Verfahren werden metallische oder metallkerami
sche Schichtwerkstoffe in Pulverform (5 bis 80 µm Partikelgröße) durch die
Förderleitungen in den erzeugten Argon-Wasserstoff-Plasmastrahl eingeleitet,
darin aufgeschmolzen und aufgrund der gerichteten hohen kinetischen Ener
gie der Gasmoleküle und -atome im Plasmastrahl auf die Substratoberfläche
geschossen. Dabei kommt es gleichzeitig mit dem Wärmetransport zum
Substrat zur Kondensation und zum Erstarren, Verfestigen und zum Schicht
aufbau auf dem Substrat (mit hohen Abkühlraten). Die Abkühlgeschwindigkeit
ist entscheidend für die Bildung der Nanostrukturen und die Art der Porosität
der Getterschichten. Die für die erzeugte Inertgasatmosphäre (Ar, He, H2 und
N2 oder deren Mischungen) verwendeten Prozeßdrücke liegen zwischen 20
und 200 hPa, wobei maximale Temperaturen im Plasma-Freistrahl von bis zu
15000 K auftreten. Die heißen Gase verlassen die als Düse geformte Anode
mit Geschwindigkeiten von bis zu 3000 m/s. Der reduzierte Umgebungsdruck
führt beim VPS-Verfahren zu einer erheblichen Vergrößerung des Plas
mastrahls, der Längen von 400 bis 500 mm erreicht.
Beim DC-Plasmajet-CVD-Verfahren werden statt der Pulver die Synthesegase
Methan und Wasserstoff in genau definierter Menge und Zusammensetzung
zusammen mit einer genau dosierten geringen Menge der erforderlichen Ka
talysator-Metalle (Co, Ni, Fe) in Pulverform und des Edelgases Helium als
"Kühlgas" in den Plasmastrahl geleitet. Nach bisherigen Modellvorstellungen
hält Helium dabei die zuerst gebildeten kleinen graphitähnlichen Kohlenstoff
plättchen so lange in der Nähe des heißen Lichtbogens, daß sie hinreichend
langsam abkühlen, sich wölben und zu Käfigen schließen können.
Ähnlich wie bei der Erzeugung von Fullerenschichten wird bei der Herstellung
von Schichten von Metall-Kohlenstoff-Mischgettern verfahren, wobei hier zu
sammen mit den Synthesegasen die speziellen Gettermetalle, bzw. metalli
schen Getterlegierungen, insbesondere Zirkonium und Titan, zum Einsatz
kommen, die dann die Zwischenschicht-Verbindungen von Gettermetallen und
Kohlenstoff-Nanostrukturen bilden (Intercalation compound). Die intermole
kularen Zwischenräume bei dem verschiedenen, überwiegend kristallinen
Kohlenstoff-Nanostrukturen, bevorzugt C-Nanoröhrchen, bzw. die gekrümm
ten Graphit-Plättchen der fullerenartigen C-Nanostrukturen können so durch
Einlagerung von Metallatomen zur Erreichung einer möglichst hohen Sorpti
onskapazität geeignet modifiziert werden und liegen im Bereich von 0,3 bis
1,2 nm. Damit eignen sie sich sowohl zur Speicherung von aktiven Gasen,
insbesondere Wasserstoff, als auch von Edelgasen, insbesondere Helium.
Besonders hohe Sorptionsfähigkeit besitzen die C-Nanoröhrchen, das sind
röhrenförmige oder zylindrische Riesen-Fullerene, mit Durchmessern von 2 bis
30 nm. Die bei der Bildung anfangs geschlossenen Röhrchen können durch
ehe chemische Nachbehandlung "geöffnet" werden. Dabei werden sie mittels
Kohlendioxid oder Sauerstoff oberhalb von 700°C oder durch Kochen in kon
zentrierter Salpetersäure (24 Stunden bei 140°C) selektiv oxidiert. Im allge
meinen bilden rund 100 Millionen dicht gepackter solcher Röhrchen ganze
Faserbündel oder -stränge, die dann 50 nm Durchmesser und Längen bis zu
10 mm haben und eine enorm große Speicherkapazität für alle aktiven Gase,
besonders Wasserstoff, aber auch für Edelgase besitzen.
Die auf wärmebeständigen Substraten aufgebrachten großflächigen dünnen
Getterschichten eignen sich, wie erwähnt, besonders zur Speicherung großer
Mengen von Wasserstoff, radioaktiven Gasen oder Edelgasen, sowie zur
Verwendung in einem selbstpumpenden Vakuumsystem, wo sie in einer Va
kuumkammer angeordnet sind und durch Ausheizen auf etwa 100 bis 400°C
gereinigt und gleichzeitig aktiviert werden.
Claims (15)
1. Dünne Schichten gassorbierender, nichtverdampfender Getterwerkstoffe
mit großer chemisch und physikalisch aktiver, hochporöser Oberfläche auf
wärmebeständigen Trägermaterialien (Substraten).
2. Dünne Schichten von Getterwerkstoffen nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß der gassorbierende, nichtverdampfende Getterwerkstoff
eine nichtverdampfende Metall-Legierung mit extrem hoher Getter- bzw.
Speicherkapazität ist.
3. Dünne Schichten von Getterwerkstoffen nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnete daß der gassorbierende, nicht verdampfende Getterwerkstoffe
ein kohlenstoffhaltiges Material mit extrem hoher Getter- bzw. Speicherka
pazität ist.
4. Dünne Schichten von Getterwerkstoffen nach Anspruch 1 und 2, dadurch
gekennzeichnet, daß der gassorbierende, nichtverdampfende Getterwerk
stoff eine binäre oder ternäre Metall-Legierung (insbesondere auf der Basis
von Titan und Zirkonium mit oder ohne Zusatz von anderen Metallen) oder
eine Nichtmetall-Metall-Zwischenschichtverbindung ("Inter-calation Com
pound") mit demgegenüber noch weiter vergrößerter aktiver sorbierender
Oberfläche ist.
5. Dünne Schichten von Getterwerkstoffen nach einem der Ansprüche 1 oder 3,
dadurch gekennzeichnet, daß der gassorbierende, nichtverdampfende
Getterwerkstoff ein nichtmetallisches Material ist, das aus wenigstens einer
Art oder aus Gemischen mehrerer Arten nanostrukturierter, fullerenartiger
Kohlenstoffmodifikationen (Fullerene, Kohlenstoff-Nanoröhrchen oder Koh
lestoff-Fasern) besteht oder diese enthält, wobei Schichten aus reinen
Kohlenstoff-Nanoröhrchen (Carbon Nanotubes) ohne Beimischungen ande
rer Kohlenstoff-Modifikationen bevorzugt sind.
6. Dünne Schichten von Getterwerkstoffen auf wärmebeständigen Trägerma
terialien nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß
der gassorbierende, nichtverdampfende Getterwerkstoff als ca. 20 bis 100
µm dünne Schicht mit hoher und offener Porosität großflächig aufgebracht
ist.
7. Dünne Schichten von Getterwerkstoffen auf wärmebeständigen Trägerma
terialien (Substraten) nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß die dünnen Schichten der Gettermaterialien entweder direkt
auf das Substrat oder auf einer dünnen Zwischenschicht, welche die Haf
tung der Getterschicht auf dem Substrat verbessert, aufgebracht sind.
8. Dünne Schichten von Getterwerkstoffen nach einem der Ansprüche 1 bis
7, dadurch gekennzeichnet, daß das wärmebeständige Trägermaterial ein
großflächiger Körper aus Metall oder Metall-Legierungen, z. B. ein Blech aus
Edelstahl, Titan, Kupfer, Aluminium, oder aus Glas oder Keramik ist.
9. Dünne Schichten von Getterwerkstoffen nach einem der Ansprüche 7 oder
8, dadurch gekennzeichnet, daß sie auf einer dünneren auf dem Substrat
aufgebrachten Zwischenschicht von etwa 1 µm Dicke aus einem Metall
(z. B. W, Mo), einer Metall-Legierung (z. B. Ti-Zr), einem Metallcarbid, -nitrid,
-oxid und/oder Graphit, die durch VPS erzeugt ist, aufgebracht sind.
10. Dünne Schichten von Getterwerkstoffen nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß der gassorbierende, nichtverdampfende
Getterwerkstoff durch Tempern im Bereich von ca. 100-400°C im Hoch
vakuum und/oder chemische Behandlung aktiviert ist.
11. Verfahren zur Herstellung dünner Schichten metallischer nicht verdamp
fender Getterwerkstoffe auf wärmebeständigen Substraten, dadurch ge
kennzeichnet, daß auf das Substrat durch Vakuum-Plasma-Spritzen (VPS)
in einer Inertgasatmosphäre unter verringertem Druck aus vorlegierten pul
verförmigen Ausgangsmaterialien von wenigen Mikrometern Korngröße ei
ne Schicht der gewünschten Dicke mit hoher Speicherkapazität aufge
bracht wird
12. Verfahren zur Herstellung dünner Schichten aus nichtmetallischen kohlen
stoffhaltigen Getterwerkstoffen oder aus Metall/Nichtmetall-
Mischgetterwerkstoffen auf wärmebeständigen Substraten durch das
DC-Plasmajet-CVD-Verfahren aus Synthesegasgemischen aus Wasserstoff und
niedrigen Kohlenwasserstoffen unter Zusatz geringer Mengen von Edelga
sen und in Gegenwart von Nickel und/oder Eisen und/oder Kobalt oder auf
ihnen basierenden Legierungen als Katalysatoren und im Fall der Mischget
ter vorlegierten pulverförmigen Ausgangsmaterialien von wenigen Mikrome
ter Korngröße dünne Schichten aus mindestens einer hochsorptionsfähigen
Kohlenstoffmodifikation (Fullerene, Kohlenstoff-Nanoröhrchen oder Kohlen
stoff-Fasern, bzw. "Carbon-Whiskers"), bzw. dünne Schichten der Me
tall/Nichtmetall-Mischgetter hergestellt werden.
13. Verfahren zur Herstellung dünner Schichten von metallischen und nicht
metallischen nichtverdampfenden Gettern auf wärmebeständigen Substra
ten nach Anspruch 11 oder 1 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Verbes
serung der Haftfähigkeit der Schicht auf dem wärmebeständigen Substrat
zunächst eine dünnere Zwischenschicht aus Metall, Metallcarbid, -nitrid,
-oxid und/oder Graphit durch VPS aufgebracht wird.
14. Selbstpumpendes Vakuumsystem bestehend aus einer Vakuumkammer,
deren Innenwände als wärmebeständiges Trägermaterial (Substrat) dienen
und mit einer dünnen Schicht gassorbierender nichtverdampfender Getter
werkstoffe und gegebenenfalls einer dünneren Zwischenschicht nach einem
der Ansprüche 1-10 beschichtet sind und/oder in die ein solches mit Get
ter beschichtetes Substrat eingebaut ist, wobei diese selbstpumpenden Va
kuumsysteme vor Inbetriebnahme durch Ausheizen gereinigt werden, wo
bei ihre Getterschichten im gleichen Heiz-Arbeitsgang aktiviert werden.
15. Gasspeicherbehälter, vor allem für Wasserstoff, aber auch für radioaktive
Gase, z. B. Tritium, UF-6, Emanation, oder für Edelgase, besonders Helium,
dessen Innenwände mit einer dünnen Schicht gassorbierender nicht ver
dampfender Getterwerkstoffe und gegebenenfalls einer dünneren Zwi
schenschicht nach einem der Ansprüche 1 bis 10 beschichtet sind
und/oder in den ein mit solchen Gettern beschichtetes Substrat eingebaut
ist.
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002053797A1 (en) * | 2000-12-29 | 2002-07-11 | Lam Research Corporation | Fullerene coated component of semiconductor processing equipment |
WO2002088593A1 (de) * | 2001-04-25 | 2002-11-07 | Eva Maria Moser | Gasdichter behälter |
WO2002094712A1 (de) * | 2001-05-21 | 2002-11-28 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Material zum speichern von wasserstoff |
WO2002100775A2 (en) * | 2001-06-13 | 2002-12-19 | The Regents Of The University Of California | Carbon nanotube coatings as chemical absorbers |
DE10149487A1 (de) * | 2001-10-08 | 2003-04-10 | Daimler Chrysler Ag | Gasbehälter |
EP1426804A2 (de) * | 2002-12-04 | 2004-06-09 | Alcatel | Wasserstoff-absorbierende Verbindung und optische Kabel mit derartigen Verbindungen |
WO2008095515A1 (de) * | 2007-02-05 | 2008-08-14 | Hydrodivide Ag | Behälter zur lagerung von wasserstoffhaltigen zusammensetzungen |
WO2010034634A1 (de) * | 2008-09-24 | 2010-04-01 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | Kältevorrichtung |
US7718239B2 (en) | 2005-10-12 | 2010-05-18 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Gas tight vessel with a diffusion barrier layer of metal hydrides |
EP2902692A1 (de) * | 2013-12-06 | 2015-08-05 | MAGNA STEYR Engineering AG & Co KG | Bauteil eines Tanksystems |
EP3406768A4 (de) * | 2016-01-22 | 2019-08-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Einkristalldiamant, verfahren zur herstellung eines einkristalldiamanten und cvd-vorrichtung dafür |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1009546B (it) * | 1974-01-07 | 1976-12-20 | Getters Spa | Struttura di parete per involucri sotto vuoto particolarmente per val vole termoioniche e acceleratori di particell |
US4328257A (en) * | 1979-11-26 | 1982-05-04 | Electro-Plasma, Inc. | System and method for plasma coating |
DE3630418C1 (de) * | 1986-09-06 | 1987-12-17 | Kernforschungsanlage Juelich | Verfahren zur Beschichtung von Werkstuecken mit amorphem,wasserstoffhaltigem Kohlenstoff |
DE3814389A1 (de) * | 1988-04-28 | 1989-11-09 | Kernforschungsanlage Juelich | Verfahren zur restgasminderung in hochvakuumanlagen durch getterschichten und deren erzeugung sowie entsprechend beschichtete hochvakuumanlagen |
US5458784A (en) * | 1990-10-23 | 1995-10-17 | Catalytic Materials Limited | Removal of contaminants from aqueous and gaseous streams using graphic filaments |
US5385876A (en) * | 1993-01-27 | 1995-01-31 | Syracuse University | Activated carbons molecularly engineered |
-
1998
- 1998-06-16 DE DE19826681A patent/DE19826681B4/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002053797A1 (en) * | 2000-12-29 | 2002-07-11 | Lam Research Corporation | Fullerene coated component of semiconductor processing equipment |
WO2002088593A1 (de) * | 2001-04-25 | 2002-11-07 | Eva Maria Moser | Gasdichter behälter |
WO2002094712A1 (de) * | 2001-05-21 | 2002-11-28 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Material zum speichern von wasserstoff |
WO2002100775A2 (en) * | 2001-06-13 | 2002-12-19 | The Regents Of The University Of California | Carbon nanotube coatings as chemical absorbers |
WO2002100775A3 (en) * | 2001-06-13 | 2003-02-20 | Univ California | Carbon nanotube coatings as chemical absorbers |
DE10149487A1 (de) * | 2001-10-08 | 2003-04-10 | Daimler Chrysler Ag | Gasbehälter |
EP1426804A2 (de) * | 2002-12-04 | 2004-06-09 | Alcatel | Wasserstoff-absorbierende Verbindung und optische Kabel mit derartigen Verbindungen |
EP1426804A3 (de) * | 2002-12-04 | 2004-06-30 | Alcatel | Wasserstoff-absorbierende Verbindung und optische Kabel mit derartigen Verbindungen |
US7718239B2 (en) | 2005-10-12 | 2010-05-18 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Gas tight vessel with a diffusion barrier layer of metal hydrides |
WO2008095515A1 (de) * | 2007-02-05 | 2008-08-14 | Hydrodivide Ag | Behälter zur lagerung von wasserstoffhaltigen zusammensetzungen |
WO2010034634A1 (de) * | 2008-09-24 | 2010-04-01 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | Kältevorrichtung |
EP2902692A1 (de) * | 2013-12-06 | 2015-08-05 | MAGNA STEYR Engineering AG & Co KG | Bauteil eines Tanksystems |
EP3406768A4 (de) * | 2016-01-22 | 2019-08-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Einkristalldiamant, verfahren zur herstellung eines einkristalldiamanten und cvd-vorrichtung dafür |
US10737943B2 (en) | 2016-01-22 | 2020-08-11 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Single-crystal diamond, method for manufacturing single-crystal diamond, and chemical vapor deposition device used in same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19826681B4 (de) | 2004-02-12 |
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